JPS62235057A - ベ−スと熱交換流体の通路とを備えた丸底のビンおよびビンのためのベ−ス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はベースを備えた丸底部をもつビンに関し、更に
詳しくいえば、熱交換流体を用いる殺菌、深冷凍結など
の処理の行なわれるようになったビンに関するものであ
る。

このようなビンは特に、食品、薬学、工業などの諸分野
での使用に合わせて設計されている。

〔従来の技術〕

通常、丸底のビンと関連して使用されるベースは、ビン
を支持体の上に立てたとき、ビンを安定した状態に保つ
ことができる。

しかしながら、この種のビンが低温殺菌すべき流体を含
む場合には、低温殺菌処理する際にベース上方のビン部
分内の液体と、該ベースによって包囲されたビン部分内
の液体との間には温度差が生じることに気付く。事実、
該ベースは容器の底部で断熱体として作用し、かつこの
レベルの流体は、ベース上方のビン部分内の流体の受は
得る熱交換流体からの熱量と同一の熱量は受は取らない
。

このことは主としてこの種のビンの低温殺菌の際に大き
な欠点となり、従って所定の温度を得るために、加熱期
間および／または冷却期間を延長する必要が生じる。こ
のために、エネルギーがさらに必要とされ、そのための
操作全体の費用を大ｒｌに増大させる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明の目的はこれら従来の欠点を解決することにあり
、ビンとそのためのベースとの間に熱交換流体の通路を
設けたビンを提供し、それによって熱交換流体と、該ビ
ン内に含まれる液体および、特に上記ベースによって包
囲されたビン部分内の液体との間の熱伝達特性を向上さ
せることを目的とするものである。

〔問題点を解決するだめの手段〕

かくして、本発明の第１の目的によれば、ビンに取付け
られたベースを含む型式の低温殺菌用ビンであって、該
ベースと該ビン本体との間の下部に熱交換流体用通路を
有し、該通路は外部と連通しており、かつ入口領域と出
口領域とを有することを特徴とする上記ビンが提供され
る。

また、本発明の第２の目的に従えば、側壁を有しかつベ
ースを備え、該ベースがビンの丸底部を包囲する側壁を
有し、かつ該ビンの上記側壁の下方部分に固定されてお
り、該ベースはまた環状の支持用張出部および上記ビン
の底部を支持する支持領域を含む底部を存する丸底ビン
であって、該ビンがこれと上記ベースとの間に位置する
熱媒流体用通路を備えており、該通路が入口領域と出口
領域とを経て外部と連通しており、流体は前記通路を流
れるときに上記ビンの底部の一部を通ることを特徴とす
る上記ビンが提供される。

更に、第３の本発明の目的に従えば、丸底の、側壁を含
む型の容器を支持するためのベースであって、該容器の
上記側壁の下方部分を包囲しかつそこに固定される側壁
と、環状の支持用張出部と、上記容器の底部を支持する
ための領域を含む底部とを有するベースが提供され、そ
の特徴は該ベースが熱交換流体用の入口領域と出口領域
とを備え、該ベース内の該流体の流れが上記容器の底部
に沿っていることにある。

これらの構成によって、ビンまたはそのためのベースは
ビンの下部と接触している熱交換流体の循環を容易にし
、その結果として熱交換流体と該ビン内に収容された物
質との間の熱伝達を高めることが可能となる。このよう
にして、低温殺菌、深冷凍結などの任意の処理を行う際
に、上記容器を所定の温度に維持するための時間を短縮
することが可能となる。

本発明の他の目的、特徴並びに利点は、添付図を参照し
つつ記載される、実施例として与えられる以下の記載に
より、より一層明らかとなるであろう。

スＪ１阻 以下に記載される２つの実施例の各々は、ビンとそのベ
ースとの間に熱交換流体通路を形成する。

第１図〜第４図に示された実施例によれば、容器または
ビン１０はベース１１を備えている。このピン１０自体
は公知のものであって、殺菌すべき任意の液体１２を収
容し、かつ丸底部１３および円筒状の側壁１４を有して
いる。このベースは、底部、支持用張出部１７および円
筒状の側壁１６を持つカップ形状を有している。該底部
は、ビン１０の底部から離れている中央部１５により構
成され、この中央部１５は容器１０の丸底部１３を支持
しかつその心出しを行うための領域を画成する環状湾曲
領域２３により包囲されている。

環状の支持用張出部１７には、その端部に流体出口を構
成する複数のオリフィス１８が設けられている。これら
のオリフィスは周方向に分配されていて、しかも上記張
出部の支承領域３０から間隔をへだてている。

ベースの側壁１６はその上部に環状固定領域１９を有し
、この領域１９は複数の軸方向の凹部２０を備えている
。

熱交換流体用の通路５０は、一方では固定領域１９と支
持領域２３との間のビンの壁により、他方では該ビンの
壁と対向するベースの壁によって画成されている。

第２図および第３図を参照すれば更に一層良くわかるよ
うに、凹部２０は側壁１６の一体部を形成する補強部２
１と円周方向に交互に配置されている。

この種のベースはビン１０の下部に嵌込まれて、該ビン
の底部を覆う。

固定領域１９は支持領域２３と協働してビンＩＯを垂直
位置に保ち、かつベースの内部にビンを心出しする。

固定領域１９を補強するために、側壁１６はごの固定領
域においてより厚く、これによって固定領域を機械的に
強くする。

固定領域１９、特に補強部２１０表面２２はビンの側壁
１４と接触するようになっている。この接触は、一般に
接着、溶接、クリップ止め又は締りばめ手段などによっ
て補強される。

本発明による熱交換流体用の通路を備えたビンが、例え
ば低温殺菌工程に使用される場合には、熱交換流体はビ
ンの壁１４に沿って流れ、四部２０によって通路５０に
侵入し、次いで固定領域１９と支持領域２３との間のビ
ンの壁に沿って流れ、最終的にビンの底部１３から離れ
、張出部１７の中へ落下してオリフィス１８を通って通
路５０から排出される。

かくして、固定領域１９と支持領域２３との間にあって
ベースで包囲されたビンの壁１４の部分は熱交換流体と
直接接触し、そのためビンの底部に位置する液体に対す
る熱の伝達を大巾に高めることができる。

上記のベースが中空であり、かつその壁１６がビン１０
の壁１４から離れていることにより、排出個所で妨げら
れない熱交換流体の良好な循環を可能とする。というの
は、出口オリフィス１８が支持用張出部１７の最下部に
設けられているにも拘らず、ビンが支持部に載っている
際にふさがれならないからである。かくして、熱交換流
体の循環は連続的に行うことができる。ビン１０の底部
での効果的な熱交換流体の循環を可能とするために、ベ
ースのオリフィス１８全体の断面積は、凹部２０の全体
の断面積より大きい。

対応するビンを取付けたベースは低温殺菌以外の、例え
ば深冷凍結などの工程に掛けることが可能であることに
注目すべきである。

勿論、上記のベースは、補強部２１の表面２２を介して
、ビンの円筒状壁１４と直接接しているが、この接触領
域近くには著しい断熱効果はない。

なんとなれば、この領域は著しく寸法が小さく、しかも
ビン１０の中に入れた液体の熱の分布に著しく影響を及
ぼさないからである。

本発明による熱交換流体用通路を又ベースにようないで
、以下の本発明の第２の実施例におりるよらにビン自体
の底部によって形成しても良い。

２つの実施例において同じ又は類似の機能をもつ部品に
はこれら参照番号に１（１０の数字を加えて示しである
。

第５図〜第７図に示すように、ビン１（１０にはその下
部に縦方向の凹部１２０が形成しである。

これらの凹部はビンの円筒状の領域１０３とビンの丸い
領域１０４との間に設けられている。また、ベースは環
状領域１１９を介してビンに固定される。

ビンの下部は、更に公知の型のベース１１１用の支承領
域を画成する円周肩部１０１を備えており、該ベースは
ビンの丸底を覆い、かつ環状固定領域１１９を介してビ
ン１（１０に固定されている。

このベース１１１は上記第１の実施例による複数のオリ
フィス１８と同様な複数のオリフィス１１８を有してい
る。この複数のオリフィス１１８は流体出口領域を構成
する。一旦ビンに取付け、かつ適当な手段で固定（特に
接着による固定）されると、凹部１２０はベースとビン
との接合部上方に位置する上部１４０を有することにな
る。

このようにして、熱交換流体用の通路１５０が作られ、
その人口領域は凹部１２０の上部１４０と、凹部１２０
と対向するベースの上縁部１４１との間に画成される。

熱交換流体用通路１５０は入口領域から凹部１２０に沿
って、次いでビンの底部１１３の部分に沿って、出口領
域１１８まで延びる。

ビン１（１０に形成された凹部１２０は、本発明の第１
の実施例におけるベースの環状固定領域の壁に形成する
凹部２０よりも作りやすいあることに注目すべきである
。これは、ビンの吹込み成形の際に凹部１２０が形成さ
れるからである。

更に、熱交換流体用通路の入口領域の全面積は、第１の
実施例におけるよりも、この第２の実施例の方が大きい
ことにも注目すべきである。

事実、ビンの凹部１２０は量大領域を構成し、その領域
の半径方向の寸法は、第１の実施例のベースの厚さの数
倍以上である。第１の実施例におけるベースに形成され
た凹部１２０は、その壁が十分な機械的強度をもら得る
ように、ベースの壁の全厚さの関数に必ず制限されてし
まうので、これらの凹部２０は必然的に、限定された表
面積の入口領域を構成する。

更に、固定領域とビンの側壁の円筒状部分との間の円周
方向の広がりを減じることなしに、半径方向により深い
凹部を設けることによって、人口面積を大きくすること
が可能となる。

又、第２の実施例の人口領域の全面積は第１の実施例の
入口領域の全面積よりもずっと大きいので、熱交換流体
の流量および循環が第２の実施例において増大すること
に注目すべきである。

しかしながら、上記２つの実施例のいずれにおいても、
ビンとベースとの間に熱交換流体用の通路を形成して該
熱交換流体とビンの中に入れた物質との間の熱の伝達を
改善する。

第３の実施例（図示せず）では、熱交換流体用通路は、
ベースに形成された出口領域の他に、固定領域の手前に
おいて、ビンのベースに形成された入口領域を有する。

変形例の一つとして（図示せず）、熱交換流体用の出口
領域をベースの中央部１５に設け、第２の実施例におい
て記載した型の凹部を支持領域１２３と対向する底部１
１３に設けて、熱交換流体が循環し得るようにする。同
様に、これら凹部をベースの支持領域に設けることも可
能である。

これらの変更は上記実施例のいずれにも組込むことがで
き、熱交換流体とビンの底部との接触領域を増大させる
という利点を有する。

本発明は又当業者の技（市の範囲内のあらゆる変更を包
含するものであり、例えば多角形の容器あるいはプラス
チック材料および／または金属物質製の多角形の容器、
樽などに熱交換流体を通すための通路を設けるなどの変
更を包含するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例に従うビンおよびそのベ
ースの正面図であり、該ビンは熱交換流体用の通路を備
えている； 第２図は本発明の第１の実施例によるベースを備えたビ
ンの縦断面の部分拡大図であり、第３図は第２図のライ
ン■−■に沿って切断した部分断面図であり、 第４図は第２図において■で示した細部の拡大図であり
、 第５図は本発明の第２の実施例による、熱交換流体用通
路をもつビンおよびそのベースの部分切取り正面図であ
り、 第６図は第５図に示されたビンおよびベースの一部の拡
大断面図であり、 第７図は第６図のライン■−■に沿って切断した部分断
面図である。 （主な参照番号） １０・・・・・・ビン、１１・・・・・・ベース、１２
・・・・・・液体、１３・・・・・・底部、１４・・・
・・・側壁、１５・・・・・・中央部、１６・・・・・
・側壁、１７・・・・・・張出部、１８・・・・・・オ
リフィス、１９・・・・・・固定領域、２０・・・・・
・凹部、２１・・・・・・補強部、２２・・・・・・表
面、２３・・・・・・支持領域、３０・・・・・・支承
領域、５０・・・・・・通路、１（１０・・・・・・ビ
ン、１０１・・・・・・周辺肩部、１０３・・・・・・
円筒領域、１０４・・・・・・丸い領域、１１１・・・
・・・ベース、１１３・・・・・・底部、１１４・・・
・・・側壁、１１７・・・・・・張出部、１１Ｂ・・・
・・・オリフィス、１１９・・・・・・固定領域、１２
０・・・・・・凹部、１２３・・・・・・支持領域、１
４０・・・・・・上部、１４１・・・・・・縁部、１５
０・・・・・・通路。 手続補正書（方式） １．事件の表示　　　昭和６１年特許願第３０３５６１
号３Ｊｌｔ正をする者 事件との関係　　出願人 名称（氏名）カルノー　ケルプラ ４、代理人

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. （１）低温殺菌等の熱交換流体による処理に適したビン
   であって、該ビンに取付けられた別個のベースと、該ベ
   ースと該ビンの下部の本体との間に設けられた熱交換流
   体用通路とを有し、該通路は外部と連通しており、かつ
   入口領域と出口領域とを有していることを特徴とするビ
   ン。
2. （２）丸底及び側壁を有するビンであって、ベースが該
   ビンに取付けられており、該ベースはビンの丸い底部を
   包囲し且つ前記ビンの前記側壁の下部に固定される側壁
   と、環状の支持用張出部と、上記ビンの底部を支持する
   支持領域を有する底部と、を有し、 上記ビンは該ビンの本体と上記ベースとの間に位置する
   、熱交換流体用通路を備えており、該通路が入口領域と
   出口領域とを経て外部と連通しており、該流体は前記通
   路を流れるときに該ビンの底部の一部を流れることを特
   徴とするビン。
3. （３）上記入口領域は複数の周方向に分配され、軸方向
   に差し向けられた凹部を含むことを特徴とする特許請求
   の範囲第（１）項または第（２）項に記載のビン。
4. （４）上記出口領域は前記支持用張出部に設けられた複
   数の周方向に分配されたオリフィスを含むことを特徴と
   する特許請求の範囲第（１）〜（３）項のいずれか１項
   に記載のビン。
5. （５）固定領域をさらに有し、上記ベースの支持用張出
   部は支承領域を有し、前記支持用張出部は上記支持領域
   と固定領域との間に延び、前記複数のオリフィスは前記
   支承領域を越えて延びていることを特徴とする特許請求
   の範囲第（１）〜（４）項のいずれか１項に記載のビン
   。
6. （６）上記軸方向に差し向けられた凹部は全て、前記ベ
   ースの前記側壁内にあり、かつ前記ベースの前記側壁の
   残部の厚さよりも大きな厚さの領域を通していることを
   特徴とする特許請求の範囲第（５）項記載のビン。
7. （７）上記凹部の総横断面積は上記オリフィスの総横断
   面積よりも小さいことを特徴とする特許請求の範囲第（
   ３）〜（６）項のいずれか１項に記載のビン。
8. （８）上記支持領域は上記ビンの底部に当たりかつビン
   を上記ベースに対して心出しするための環状湾曲領域を
   有することを特徴とする特許請求の範囲第（３）〜（６
   ）項のいずれか１項に記載のビン。
9. （９）前記ベースを中空をベースと協働するビンに固定
   することによって環状領域を越えて延びる縦方向凹部を
   さらに有し、前記熱交換流体の通路は前記凹部によって
   形成されることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
   または第（２）項に記載のビン。
10. （１０）前記縦方向凹部は上記ビンの前記側壁の下部内
    にあり、且つ前記ベースの支持領域の近くまで延びてい
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第（９）項記載の
    ビン。
11. （１１）上記出口領域は上記ベースに設けられた複数の
    開口部によって形成されることを特徴とする特許請求の
    範囲第（９）項または第（１０）項記載のビン。
12. （１２）上記入口領域は上記縦方向凹部の上部と、該凹
    部の方に向いた上記ベースのエッジ部とで構成されるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第（９）〜（１１）項の
    いずれか１項に記載のビン。
13. （１３）上記入口領域は完全に上記ベース内にあること
    を特徴とする特許請求の範囲第（１）項または第（２）
    項に記載のビン。
14. （１４）上記出口領域は上記ベースの中央領域内にある
    ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項または第（
    ２）項記載のビン。
15. （１５）丸い底部及び側壁を有し、そして熱交換流体に
    よる処理を受けるようになった容器用のベースであって
    、該容器の側壁の下部を包囲し、かつこれに固定される
    側壁と、環状の支持用張出部と、上記容器の底部を支持
    するようになった領域を含む底部と、該流体の流れが上
    記容器の底部を横切るように配置された熱交換流体用の
    入口領域及び出口領域とを備えることを特徴とするベー
    ス。
16. （１６）上記入口領域は複数の周方向に分配され、軸方
    向に差し向けられた凹部を含むことを特徴とする特許請
    求の範囲第（１５）項記載のベース。
17. （１７）上記出口領域は上記支持用張出部に設けられた
    周方向に分配された複数のオリフィスを含むことを特徴
    とする特許請求の範囲第（１５）項または第（１６）時
    項記載のベース。
18. （１８）固定領域をさらに有し、上記支持用張出部（１
    ７）は支承領域を有し、そして上記支持領域と固定領域
    との間に延び、前記複数のオリフィスは支承領域を越え
    て延びていることを特徴とする特許請求の範囲第（１５
    ）〜（１７）項のいずれか１項に記載のベース。
19. （１９）上記軸方向に差し向けられた凹部は全て前記ベ
    ースの前記側壁内にあり、そして、前記ベースの前記側
    壁の残部よりも大きな厚さの領域を通っていることを特
    徴とする特許請求の範囲第（１５）〜（１８）項のいず
    れか１項に記載のベース。
20. （２０）上記凹部の総横断面積は上記オリフィスの総横
    断面積よりも小さいことを特徴とする特許請求の範囲第
    （１５）〜（１９）項のいずれか１項に記載のベース。
21. （２１）上記支持領域は、上記容器（１０）の底部に当
    たり、そして上記ベースに対して該容器を心出しするよ
    うになった環状の湾曲領域を有することを特徴とする特
    許請求の範囲第（１５）〜（２０）項のいずれか１項に
    記載のベース。