JPS62230812A - 不透明なバインダ−系の調製方法 - Google Patents
不透明なバインダ−系の調製方法Info
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- JPS62230812A JPS62230812A JP61302757A JP30275786A JPS62230812A JP S62230812 A JPS62230812 A JP S62230812A JP 61302757 A JP61302757 A JP 61302757A JP 30275786 A JP30275786 A JP 30275786A JP S62230812 A JPS62230812 A JP S62230812A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
1)発明の属する分野
本発明は、ラテックス塗料に配合した際に、優れた特性
を有する不透明皮膜の製造を可能にする高分子バインダ
ーに関するものである。
を有する不透明皮膜の製造を可能にする高分子バインダ
ーに関するものである。
2)従来技術の記載
ラテックスペイント組成物(latex paint
compositions)は、一般に、顔料を含むか
気孔を含むことにより不透明性を与え、かつ皮膜を形成
する高分子バインダーを含むことにより下層基質を保護
し、かつ被覆するものである。
compositions)は、一般に、顔料を含むか
気孔を含むことにより不透明性を与え、かつ皮膜を形成
する高分子バインダーを含むことにより下層基質を保護
し、かつ被覆するものである。
各種の無機顔料粒子、例えば酸化チタン、硫酸バリウム
、炭酸カルシウムおよびカーボンブラックが従来、製紙
およびペイント組成物に使用されてきた。前記無機顔料
粒子は一般に、約0.1〜1ミクロン程度の粒度を有し
ている。前記顔料粒子による不透明化効果は、粒度およ
び高屈折率の結果生じる高い光散乱係数によって得られ
る。
、炭酸カルシウムおよびカーボンブラックが従来、製紙
およびペイント組成物に使用されてきた。前記無機顔料
粒子は一般に、約0.1〜1ミクロン程度の粒度を有し
ている。前記顔料粒子による不透明化効果は、粒度およ
び高屈折率の結果生じる高い光散乱係数によって得られ
る。
また、不透明化は、ペイント皮膜中に空隙を与える目的
で、皮膜を形成する高分子バインダー中に空気を閘じ込
めることにより達成されてきた。
で、皮膜を形成する高分子バインダー中に空気を閘じ込
めることにより達成されてきた。
この空隙は光散乱にに寄与し、ラテックスフィルムが所
定の不透明性を達成するのに役立つ。
定の不透明性を達成するのに役立つ。
ヘルマン(11e r m a n )等による米国特
許第4.391,928号においては、ラテックスペイ
ント組成物において有用なカプセル型不透明剤系が開示
されている。この系は固体の硬質コア−と固体の軟質の
シェルを有し、これらはそれぞれペイント組成物中にお
ける無機顔料と皮膜形成剤で置き換えることができる。
許第4.391,928号においては、ラテックスペイ
ント組成物において有用なカプセル型不透明剤系が開示
されている。この系は固体の硬質コア−と固体の軟質の
シェルを有し、これらはそれぞれペイント組成物中にお
ける無機顔料と皮膜形成剤で置き換えることができる。
封入可能な前記高分子コア材料は、約80℃より高いガ
ラス転位温度T。
ラス転位温度T。
を有するべきであり、一方前記シエル材料(she I
I+*aterials)は約45℃より低いTgを
有するべきである。このカプセル型不透明系は、バイン
ダーと共に物理的に混合され、水性ラテックス分散ペイ
ント組成物中に配合される。
I+*aterials)は約45℃より低いTgを
有するべきである。このカプセル型不透明系は、バイン
ダーと共に物理的に混合され、水性ラテックス分散ペイ
ント組成物中に配合される。
ビンセント(Vincent)による米国特許第3.8
39.064号は、固体高分子コア−および固体高分子
シェルを有する、酸化チタンを添加しなマイクロカプセ
ル型不透明化顔料生成物を開示している。前記コア−は
、その中に分散された酸化チタンのよつな無機顔料を含
んでいる。
39.064号は、固体高分子コア−および固体高分子
シェルを有する、酸化チタンを添加しなマイクロカプセ
ル型不透明化顔料生成物を開示している。前記コア−は
、その中に分散された酸化チタンのよつな無機顔料を含
んでいる。
この封入シェル(encapsulatiB 5hel
l)を製造するために使用する材料はエチレン系不飽和
モノマーである。ラミッ2(Ra+sig)による米国
特許第4,069,186号は、大部分が1000人よ
り大きな粒径を有するポリマー粒子および、約1000
〜10,000人の平均粒径を有する固体の非皮膜形成
ポリマー粒子を含む、不透明ラテックスペイントを開示
している。
l)を製造するために使用する材料はエチレン系不飽和
モノマーである。ラミッ2(Ra+sig)による米国
特許第4,069,186号は、大部分が1000人よ
り大きな粒径を有するポリマー粒子および、約1000
〜10,000人の平均粒径を有する固体の非皮膜形成
ポリマー粒子を含む、不透明ラテックスペイントを開示
している。
また、その他ピアース(Pierce)等による米国特
許第3,423,351号、バイザー(Heiser)
による米国特許第3,779,800、第3,853,
579号および第3,949,138号、エリクソン(
Erickson)等による米国特許第4,226,7
52号、アブソン(llpson)等による米国特許第
4,497,917号、ホヤツク(Boyack)等に
よる米国特許第4,385,152号、バーン()!u
l+n)等による米国特許第4.267.094号、ギ
ャラガー(にallagher)等による米国°特許第
3.657,172号およびバックハウス(Backh
ouse)等による米国特許第4,419,465号も
重要である。
許第3,423,351号、バイザー(Heiser)
による米国特許第3,779,800、第3,853,
579号および第3,949,138号、エリクソン(
Erickson)等による米国特許第4,226,7
52号、アブソン(llpson)等による米国特許第
4,497,917号、ホヤツク(Boyack)等に
よる米国特許第4,385,152号、バーン()!u
l+n)等による米国特許第4.267.094号、ギ
ャラガー(にallagher)等による米国°特許第
3.657,172号およびバックハウス(Backh
ouse)等による米国特許第4,419,465号も
重要である。
九匪凶l免
本発明は、コア−−シェル型ポリマーおよび高分子バイ
ンダーを含む不透明バインダー系に関するものである。
ンダーを含む不透明バインダー系に関するものである。
前記系はその場で調製かつ混合され、対応する組成物以
上のコントラスト比および擦り洗浄特性を有するように
改良されたものであり、該対応する組成物においては、
前記コア−−シェル型ポリマーは別に製造した後にバイ
ンダーポリマーと混合される。
上のコントラスト比および擦り洗浄特性を有するように
改良されたものであり、該対応する組成物においては、
前記コア−−シェル型ポリマーは別に製造した後にバイ
ンダーポリマーと混合される。
ましい、 の4
本発明によれば、均質な皮膜形成高分子粒子および不均
質なコア−−シェル(core−she l l )型
高分子粒子の混合物を含む不透明高分子バインダー系が
製造される。該混合物は単一の重合工程でその場におい
て形成しうる0本発明の利点は、ペイント配合者が皮膜
性能に悪影響を与えずににラテックスペイント中の無機
顔料の含量を減少させ、それによってペイントの原価を
減少させることができるという点にある。
質なコア−−シェル(core−she l l )型
高分子粒子の混合物を含む不透明高分子バインダー系が
製造される。該混合物は単一の重合工程でその場におい
て形成しうる0本発明の利点は、ペイント配合者が皮膜
性能に悪影響を与えずににラテックスペイント中の無機
顔料の含量を減少させ、それによってペイントの原価を
減少させることができるという点にある。
前記均質な皮膜形成粒子は約45℃より低い「ガラス転
移温度J (Tg)を有する適当な高分子材料から製
造させる。該ガラス転移温度は、ポリマーがガラス機能
からゴム状態に、またはその逆に転移する温度として定
義される。皮膜形成粒子に用いる好ましい高分子材料と
しては、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、エ
チルへキシルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリ
レート、メタクリル酸、アクリル酸、スチレン、酢酸ビ
ニルおよび約45℃より低いTgを与えるような比率で
使用されるこれらの混合物等から誘導されるポリマーお
よび/またはコポリマーが挙げられる。
移温度J (Tg)を有する適当な高分子材料から製
造させる。該ガラス転移温度は、ポリマーがガラス機能
からゴム状態に、またはその逆に転移する温度として定
義される。皮膜形成粒子に用いる好ましい高分子材料と
しては、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、エ
チルへキシルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリ
レート、メタクリル酸、アクリル酸、スチレン、酢酸ビ
ニルおよび約45℃より低いTgを与えるような比率で
使用されるこれらの混合物等から誘導されるポリマーお
よび/またはコポリマーが挙げられる。
前記硬質非皮膜形成コア−を含む粒子は約80℃より高
い1゛gを有している。該高分子コア−はいかなる無機
顔料もなしに製造される。適当なモノマー材料としては
、例えばメチルメタクリレート、ブチルメタクリレート
、イソプロピルメタクリレート等のアクリル酸エステル
のようなエチレン系不飽和モノマ−1並びに、塩化ビニ
リデン、スチレン、ジビニルベンゼン、アクリロニトリ
ル、塩化ビニルのような他のビニルポリマーまたはこれ
らの混合物が挙げられる。好ましい高分子コア−材料と
しては、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルおよびポリメチ
ルメタクリレート等が挙げられる。
い1゛gを有している。該高分子コア−はいかなる無機
顔料もなしに製造される。適当なモノマー材料としては
、例えばメチルメタクリレート、ブチルメタクリレート
、イソプロピルメタクリレート等のアクリル酸エステル
のようなエチレン系不飽和モノマ−1並びに、塩化ビニ
リデン、スチレン、ジビニルベンゼン、アクリロニトリ
ル、塩化ビニルのような他のビニルポリマーまたはこれ
らの混合物が挙げられる。好ましい高分子コア−材料と
しては、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルおよびポリメチ
ルメタクリレート等が挙げられる。
前記コア−はまた約70℃より高いTgを有する架橋ポ
リマー材料から製造し得る。特に好ましいコア−材料と
しては、単分散性粒子製造の容易さおよび低原価の点か
らポリスチレンが挙げられる。
リマー材料から製造し得る。特に好ましいコア−材料と
しては、単分散性粒子製造の容易さおよび低原価の点か
らポリスチレンが挙げられる。
前記硬質非皮膜形成コア−コア−粒子は約0.1ないし
1.0ミクロン、好ましくは0.2ないし0.5ミクロ
ンの範囲の平均粒径を有し、例えばウッズ(Hoods
)等の「ジャーナル・オプ・ペイントテクノロジーJ
((J、I’aint Technology)
。
1.0ミクロン、好ましくは0.2ないし0.5ミクロ
ンの範囲の平均粒径を有し、例えばウッズ(Hoods
)等の「ジャーナル・オプ・ペイントテクノロジーJ
((J、I’aint Technology)
。
1968年、40巻、541頁〕に記載されているよう
な、任意の適当なqL化重重合法使用して、別の工程で
製造される。
な、任意の適当なqL化重重合法使用して、別の工程で
製造される。
前記コア−粒子を封入するため用いる高分子シエル材料
は、一般には、前記均質な皮膜形成粒子を得るため用い
るのと同じ高分子材料である。前記均質な皮膜形成粒子
を製造し、前記コア−材料を封入するために使用される
高分子材料の、前記コア−粒子を製造するために使用さ
れる高分子材料に対する比は、約1:、9〜9:1、好
ましくは1:2ないし2:1のの範囲で変化する。
は、一般には、前記均質な皮膜形成粒子を得るため用い
るのと同じ高分子材料である。前記均質な皮膜形成粒子
を製造し、前記コア−材料を封入するために使用される
高分子材料の、前記コア−粒子を製造するために使用さ
れる高分子材料に対する比は、約1:、9〜9:1、好
ましくは1:2ないし2:1のの範囲で変化する。
前記均質な高分子粒子と不均質なコア−−シェル型高分
子粒子との混合物を得るため使用される前記乳化重合法
では、ナトリウム、カリウムおよびアンモニウムそれぞ
れの過硫酸塩および過酸化物のような従来の開始剤系お
よび還元/酸化触媒系を使用している。tた、ジェー・
アール・エリクソン(J 、R,Er1ckson )
等の「界面活性剤の高い表面被覆率の下でのラテックス
種粒子の成長」、エマルジジンボリマーおよび乳化重合
、ACSシンポジウム第165集、イー・アール・バセ
ットとニー・イー・ハミエレック編、483〜504頁
、(アメリカン ケミカル ソサイエティー1981)
((“1.aLex 5eed Particle g
rowth atfligh SurイacLant
5urface Coverage” Emul
sionPoly++crs and ε+自ul
sion I’olymerization、^CS
SympoC55y 5eries 165.Ed
ited by E、R,Ba5settanc1
^、E、lIamielec、(Δm−erical
Chemical 5ociety1981)
)に記載されているように、非イオン系界面活性剤とア
ニオン系界面活性剤を重量比的2:1ないし約20:1
、好、ましくは約5−1〜約10:1で混合した混合物
は、ラテックスのコア−/シェル型構造および安定性を
制御するのに必須であることは公知である。
子粒子との混合物を得るため使用される前記乳化重合法
では、ナトリウム、カリウムおよびアンモニウムそれぞ
れの過硫酸塩および過酸化物のような従来の開始剤系お
よび還元/酸化触媒系を使用している。tた、ジェー・
アール・エリクソン(J 、R,Er1ckson )
等の「界面活性剤の高い表面被覆率の下でのラテックス
種粒子の成長」、エマルジジンボリマーおよび乳化重合
、ACSシンポジウム第165集、イー・アール・バセ
ットとニー・イー・ハミエレック編、483〜504頁
、(アメリカン ケミカル ソサイエティー1981)
((“1.aLex 5eed Particle g
rowth atfligh SurイacLant
5urface Coverage” Emul
sionPoly++crs and ε+自ul
sion I’olymerization、^CS
SympoC55y 5eries 165.Ed
ited by E、R,Ba5settanc1
^、E、lIamielec、(Δm−erical
Chemical 5ociety1981)
)に記載されているように、非イオン系界面活性剤とア
ニオン系界面活性剤を重量比的2:1ないし約20:1
、好、ましくは約5−1〜約10:1で混合した混合物
は、ラテックスのコア−/シェル型構造および安定性を
制御するのに必須であることは公知である。
アニオン系界面活性剤のamは、ポリマ一種の表面を飽
和させるに必要な聚以上であってはならない、過剰量の
使用により新しいミセルが形成され、これから新しい粒
子を成長することが可能である。不十分な濃度の界面活
性剤の使用により、最終的な重合ラテックスの安定性は
乏しくなる。
和させるに必要な聚以上であってはならない、過剰量の
使用により新しいミセルが形成され、これから新しい粒
子を成長することが可能である。不十分な濃度の界面活
性剤の使用により、最終的な重合ラテックスの安定性は
乏しくなる。
前記重合に有用なアニオン系界面活性剤は、スルフェー
ト類およびスルホネ−1・類を含む、有用な非イオン系
界面活性剤はアルキルアリールフェノールのポリエチレ
ンエーテル誘導体を含んでいる。 ゛ 前記不透明バインダー系の製造は、約5〜95重量%、
好ましくは25〜501量%の、約45℃より低いTg
を有する均質な皮膜形成高分子材料の製造に適したモノ
マー材料の乳化重合をもって開始する。これらは、メチ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、エチルへキシル
アクリレート、ヒドロキシルメタクリレート、メタクリ
ル酸、アクリル酸、スチレン、酢酸ビニルおよびこれら
の混合物等から誘導されるポリマーおよび/またはコポ
リマーを含む、かくして、所定量の前記モノマー材料は
、その必要量の界面活性剤および触媒を含む水相成分が
入っている反応器に装入されるか、または連続的に添加
される。同様に、前記界面活性剤および触媒も、反応器
に一度で完全に装入するか、または一定の時間に亘って
、連続的に計量供給できるが、これは、前記プロセスを
実施するうえにおいて、選択的かつ便宜的な問題である
。この段階において重合されるモノマーの量は、最終的
ラテックスにおけるモノマーの総量の約5〜95重量%
、好ましくは25〜50重量%である。
ト類およびスルホネ−1・類を含む、有用な非イオン系
界面活性剤はアルキルアリールフェノールのポリエチレ
ンエーテル誘導体を含んでいる。 ゛ 前記不透明バインダー系の製造は、約5〜95重量%、
好ましくは25〜501量%の、約45℃より低いTg
を有する均質な皮膜形成高分子材料の製造に適したモノ
マー材料の乳化重合をもって開始する。これらは、メチ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、エチルへキシル
アクリレート、ヒドロキシルメタクリレート、メタクリ
ル酸、アクリル酸、スチレン、酢酸ビニルおよびこれら
の混合物等から誘導されるポリマーおよび/またはコポ
リマーを含む、かくして、所定量の前記モノマー材料は
、その必要量の界面活性剤および触媒を含む水相成分が
入っている反応器に装入されるか、または連続的に添加
される。同様に、前記界面活性剤および触媒も、反応器
に一度で完全に装入するか、または一定の時間に亘って
、連続的に計量供給できるが、これは、前記プロセスを
実施するうえにおいて、選択的かつ便宜的な問題である
。この段階において重合されるモノマーの量は、最終的
ラテックスにおけるモノマーの総量の約5〜95重量%
、好ましくは25〜50重量%である。
所定の重合度を達成した後、80℃より高いTgを有す
る硬質の非皮膜形成高分子コア−粒子の存在下で、上記
重合を継続せしめる。既に形成されていた高分子コア−
粒子を、均質高分子粒子の製造に使用されたモノマーの
残量と共に前記重合反応に徐々に添加す・る。
る硬質の非皮膜形成高分子コア−粒子の存在下で、上記
重合を継続せしめる。既に形成されていた高分子コア−
粒子を、均質高分子粒子の製造に使用されたモノマーの
残量と共に前記重合反応に徐々に添加す・る。
この重合の継続により、均質ポリマーによるコア−粒子
の封入(encapsulation)が同時におこり
、同様に均質皮膜形成高分子材料の製造が継続しておこ
る。
の封入(encapsulation)が同時におこり
、同様に均質皮膜形成高分子材料の製造が継続しておこ
る。
得られた高分子ラテックスは前記不透明高分子バインダ
ー系を構成するコア−−シェル型ポリマーと皮膜形成ポ
リマーの、その現場で形成された混合物を含んでいる。
ー系を構成するコア−−シェル型ポリマーと皮膜形成ポ
リマーの、その現場で形成された混合物を含んでいる。
該バインダー系は約40〜70重盪%、好ましくは50
〜60重量%の範囲内で変化する固形分含量を有するこ
とができる。
〜60重量%の範囲内で変化する固形分含量を有するこ
とができる。
硬質コア−粒子の量は最終的なラテックスの固形分含量
の約10〜90%、好ましくは約20〜50%の範囲内
で変えうる。基質に塗布した場合、前記高分子ラテック
スは室温で乾燥すると柔軟な不透明の連続膜を生成する
。該ラテックスは、他の高分子バインダーの添加なしに
、従来の塗料配合物に使用しうる。これにより、配合者
は、ペイント配合或は塗料中にお・ける高価な無I!顔
料の消費を減少させ、他方で、優れた皮膜不透明性およ
び擦り洗い性能(scrub performance
)の特性を維持させることができる0本発明の不透明高
分子バインダー系は、実質的に必要な特性を損ねること
なしに、ペイント製造の経済性を向上させることができ
る。
の約10〜90%、好ましくは約20〜50%の範囲内
で変えうる。基質に塗布した場合、前記高分子ラテック
スは室温で乾燥すると柔軟な不透明の連続膜を生成する
。該ラテックスは、他の高分子バインダーの添加なしに
、従来の塗料配合物に使用しうる。これにより、配合者
は、ペイント配合或は塗料中にお・ける高価な無I!顔
料の消費を減少させ、他方で、優れた皮膜不透明性およ
び擦り洗い性能(scrub performance
)の特性を維持させることができる0本発明の不透明高
分子バインダー系は、実質的に必要な特性を損ねること
なしに、ペイント製造の経済性を向上させることができ
る。
本発明を例示するのに役立つ下記実施例において、すべ
ての部およびパーセントは特に示されない限り、重置基
準で表わされるものとする。
ての部およびパーセントは特に示されない限り、重置基
準で表わされるものとする。
火烏贋ユニ」し官 コア−の;7
蒸留水1065N、ダウ77クス(DOHFAX>2A
I〔ドデシルジフェニルオキサイド ジスルフオネート
ーダウケミカル社<D OW Che+*icalCo
mpany ) ) 22y 、ソディウムボリステッ
プ(Sodium Po1ystep) A −15C
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムーステバンケミ
カルズ社(Stepan C1+emicals Co
mpany> ) 9g、固形分含量40%で、平均粒
径0.05ミクロンのポリスチレンの種ラテックス98
.5fI、アクリル酸0.5gおよびスチレン499.
5yを反応器に導入し、脱気した。得られた乳化液を7
0℃に加熱し、0.’5gの過硫酸ナトリウムを添加し
た。この混合物を5時間撹拌し、乳白色ラテックスを形
成した。M終的に得られたラテックスを真空ストリッピ
ング処理して残留スチレンを除去した。更に200メツ
シユのスクリーンで濾過した。得られた生成物は47%
の固形分を含み、ラテックス粒子は0.2ミクロンの平
均粒径を有していた。
I〔ドデシルジフェニルオキサイド ジスルフオネート
ーダウケミカル社<D OW Che+*icalCo
mpany ) ) 22y 、ソディウムボリステッ
プ(Sodium Po1ystep) A −15C
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムーステバンケミ
カルズ社(Stepan C1+emicals Co
mpany> ) 9g、固形分含量40%で、平均粒
径0.05ミクロンのポリスチレンの種ラテックス98
.5fI、アクリル酸0.5gおよびスチレン499.
5yを反応器に導入し、脱気した。得られた乳化液を7
0℃に加熱し、0.’5gの過硫酸ナトリウムを添加し
た。この混合物を5時間撹拌し、乳白色ラテックスを形
成した。M終的に得られたラテックスを真空ストリッピ
ング処理して残留スチレンを除去した。更に200メツ
シユのスクリーンで濾過した。得られた生成物は47%
の固形分を含み、ラテックス粒子は0.2ミクロンの平
均粒径を有していた。
幻LpA2−不透LIJバインダー
蒸留水336g、トリトン(Triton) X −4
05〔工1〜キシ化(ethoxy fated)オク
チルフェノール−ロームアンドハース社(Rohm a
nd HaasCo+*pany ) 〕19.81F
、アリバール(^1ipal)CO−436C硫m化
ノニルフエノキシボリ(エチレンオキシ)エタンールの
アンモニウム塩−ガフ社(GAF Corporati
on )) 3.3g 、および重炭酸ナトリウム0.
6yを凝縮器および撹拌器を備えた2!のフラスコに入
れた。この溶液を脱気し、75℃に加熱しかつこれに1
.2gの過頃酸ナトリウムを添加した。酢酸ビニル42
0gとブチルアクリレート180gを含むモノマー溶液
を脱気し、4時間にわたり連続的に前記フラスコに添加
し7た。全モノマー溶液の25%を添加した後、実施例
1の生成物512g、トリトンX−405非イオン系界
面活性剤9g、アリパールCO−436の1.59およ
び蒸留水65gの混合物を脱気し、】172時間にわた
り連続的に前記フラスコに添加した。これと同時に、別
流で残余のモノマー溶液を添加した。すべての成分を添
加した後、この混合物を172時間79℃で反応させ、
その後冷却し、200メツシユのスクリーンで濾過した
。得られたラテックスは55%の固形分を含み、ブルッ
クフィールド< Brookfipld)粘度3Iで測
定した結果、1200センチボアーズの粘度を有してい
た。
05〔工1〜キシ化(ethoxy fated)オク
チルフェノール−ロームアンドハース社(Rohm a
nd HaasCo+*pany ) 〕19.81F
、アリバール(^1ipal)CO−436C硫m化
ノニルフエノキシボリ(エチレンオキシ)エタンールの
アンモニウム塩−ガフ社(GAF Corporati
on )) 3.3g 、および重炭酸ナトリウム0.
6yを凝縮器および撹拌器を備えた2!のフラスコに入
れた。この溶液を脱気し、75℃に加熱しかつこれに1
.2gの過頃酸ナトリウムを添加した。酢酸ビニル42
0gとブチルアクリレート180gを含むモノマー溶液
を脱気し、4時間にわたり連続的に前記フラスコに添加
し7た。全モノマー溶液の25%を添加した後、実施例
1の生成物512g、トリトンX−405非イオン系界
面活性剤9g、アリパールCO−436の1.59およ
び蒸留水65gの混合物を脱気し、】172時間にわた
り連続的に前記フラスコに添加した。これと同時に、別
流で残余のモノマー溶液を添加した。すべての成分を添
加した後、この混合物を172時間79℃で反応させ、
その後冷却し、200メツシユのスクリーンで濾過した
。得られたラテックスは55%の固形分を含み、ブルッ
クフィールド< Brookfipld)粘度3Iで測
定した結果、1200センチボアーズの粘度を有してい
た。
及旌J(と
実施例2の最終生成物を、50%および70%のM8の
体Mf4度(PvC)で、内部周ツヤ消t。
体Mf4度(PvC)で、内部周ツヤ消t。
ペイント組成物に配合した。ペイント性能(pa i
n Lperformance)はビニルアクリル樹脂
バインダーウオールボーlしくWal Ipol) 4
0−136 Cし・イチホールドケミカルズ社(Rei
chl+old CI+enieals。
n Lperformance)はビニルアクリル樹脂
バインダーウオールボーlしくWal Ipol) 4
0−136 Cし・イチホールドケミカルズ社(Rei
chl+old CI+enieals。
Inc、) Jで調製した対照ペイントに対して評価し
た。この結果は下記の第1表に要約されている。
た。この結果は下記の第1表に要約されている。
(以下余白)
第1表
TiO2(g) 150.0 125.0
150.0 125.0顔料スラリー(g)
782.3 782.3 994.3 9
94.3不透明バインダー −293,0−163,
0水(g) 75.0 75.0
50.0 50.0特性 コントラスト比(C,R,) 0.957 0.
962 0.976 0.978反射率
0.93 0.96 0.918 0.917ギルソ
ナイト汚染性 5.6 14.5 26.
0 29.0(%;損失) 本発明の不透明バインダーは、対照の塗料と比較して、
50%PvC170%PVC双方の塗料において良好な
コントラスト比および擦り洗い性能特性を示し、更にI
’i0□の菫が減少したことを示した。特に、50%P
vC塗料においては、本発明の組成物は、コントラスト のであり、70%PvC塗料においては、本発明組成物
は皮膜除去%の点で該対照に対し改良されたものであっ
た。
150.0 125.0顔料スラリー(g)
782.3 782.3 994.3 9
94.3不透明バインダー −293,0−163,
0水(g) 75.0 75.0
50.0 50.0特性 コントラスト比(C,R,) 0.957 0.
962 0.976 0.978反射率
0.93 0.96 0.918 0.917ギルソ
ナイト汚染性 5.6 14.5 26.
0 29.0(%;損失) 本発明の不透明バインダーは、対照の塗料と比較して、
50%PvC170%PVC双方の塗料において良好な
コントラスト比および擦り洗い性能特性を示し、更にI
’i0□の菫が減少したことを示した。特に、50%P
vC塗料においては、本発明の組成物は、コントラスト のであり、70%PvC塗料においては、本発明組成物
は皮膜除去%の点で該対照に対し改良されたものであっ
た。
及1匠先
蒸留水312.8, 、ポリステップ(Polyste
p) F−9(エトキシ化ノニルフェノールーステバン
ケミカルズ社) 19.8,およびポリステップB−1
(エトキシ化アルキルスルフェート・アンモニウム塩
−ステパンケミカルズ社) 4.5,を凝縮器および撹
拌器を備えた21フラスコに入れた.この溶液を脱気し
、75℃に加熱し、これに0.6gの過硫酸ナトリウム
を添加した.酢酸ビニル420g、ブチルアクリレート
177yおよびアクリル酸3gを含むモノマー溶液を4
時間かけて連続的に添加した。
p) F−9(エトキシ化ノニルフェノールーステバン
ケミカルズ社) 19.8,およびポリステップB−1
(エトキシ化アルキルスルフェート・アンモニウム塩
−ステパンケミカルズ社) 4.5,を凝縮器および撹
拌器を備えた21フラスコに入れた.この溶液を脱気し
、75℃に加熱し、これに0.6gの過硫酸ナトリウム
を添加した.酢酸ビニル420g、ブチルアクリレート
177yおよびアクリル酸3gを含むモノマー溶液を4
時間かけて連続的に添加した。
蒸留水30,中に過硫酸ナトリウム1.38,と重炭酸
ナトリウム0.6gを含む溶液および水30g中にナト
リウムホルムアルデヒドスルホキシレート0、48gを
含む溶液を4,5時間かけて二つの別の流れで添加した
.全モノマー溶液の25%を添加した後、実施例1の生
成物646.8g、ポリステップF−9の24g、ポリ
ステップB−1の6gおよび蒸留水3oFIの混合物を
脱気した後1.5時間かけて連続的に前記フラスコに添
加した.同時に残余のモノマー溶液、開始剤および触媒
を別の流れで添加した。
ナトリウム0.6gを含む溶液および水30g中にナト
リウムホルムアルデヒドスルホキシレート0、48gを
含む溶液を4,5時間かけて二つの別の流れで添加した
.全モノマー溶液の25%を添加した後、実施例1の生
成物646.8g、ポリステップF−9の24g、ポリ
ステップB−1の6gおよび蒸留水3oFIの混合物を
脱気した後1.5時間かけて連続的に前記フラスコに添
加した.同時に残余のモノマー溶液、開始剤および触媒
を別の流れで添加した。
すべての成分を添加した後、前記混合物を75℃で0、
5時間反応させ、冷却した後200メツシユのスクリー
ンで濾過した.得られた「不透明バインダー」ラテック
スは53%の固形分を含み、ブルックフィールド粘度計
で測定した結果625センチボアーズの粘度を有してい
た.該「不透明バインダー」ラテックスは、全ポリマー
組成物の33%を、硬質の非皮膜形成ポリスチレンポリ
マーとして含んでいる.このラテックスの皮膜は、表面
上に延伸させて、乾燥する時に柔軟かつ不透明になる。
5時間反応させ、冷却した後200メツシユのスクリー
ンで濾過した.得られた「不透明バインダー」ラテック
スは53%の固形分を含み、ブルックフィールド粘度計
で測定した結果625センチボアーズの粘度を有してい
た.該「不透明バインダー」ラテックスは、全ポリマー
組成物の33%を、硬質の非皮膜形成ポリスチレンポリ
マーとして含んでいる.このラテックスの皮膜は、表面
上に延伸させて、乾燥する時に柔軟かつ不透明になる。
衷韮ヱ[L
実施例1のラテックス1,266g、ポリステップF−
(1)36.8g、ポリステップIt−1の9 、21
Fおよび蒸留水29.4gを凝縮2;および撹拌機を備
えた21のフラスコに入れた.この溶液を脱気した後7
5°Fに加熱し、これに過硫酸ナトリウム0。4gを添
加した.酢酸ビニル280y,ブチルアクリレート11
8gおよびアクリル酸2gのモノマー混合物を4時間か
けてフラスコに針足添加した。20gの蒸留水中に過硫
酸ナトリウム0.92g,重炭酸ナトリウム0.41F
を含む溶液および2 0 yの蒸留水中にナトリウムホ
ルムアルデヒドスルホキシレート0.32gを含む溶液
を4,5時間かけて二つの別の流れで連続的に添加した
.すべての供給物を添加した後、混合物を75℃で0.
5時間反応させ、冷却した後200メツシユのスクリー
ンで濾過した。得られたコア−/シェル型ラテックスは
52%の固形分を含んでいた.ポリスチレンコア−を囲
むビニル/アクリル系シェルの足は全ポリマー粒子の4
0%であった。
(1)36.8g、ポリステップIt−1の9 、21
Fおよび蒸留水29.4gを凝縮2;および撹拌機を備
えた21のフラスコに入れた.この溶液を脱気した後7
5°Fに加熱し、これに過硫酸ナトリウム0。4gを添
加した.酢酸ビニル280y,ブチルアクリレート11
8gおよびアクリル酸2gのモノマー混合物を4時間か
けてフラスコに針足添加した。20gの蒸留水中に過硫
酸ナトリウム0.92g,重炭酸ナトリウム0.41F
を含む溶液および2 0 yの蒸留水中にナトリウムホ
ルムアルデヒドスルホキシレート0.32gを含む溶液
を4,5時間かけて二つの別の流れで連続的に添加した
.すべての供給物を添加した後、混合物を75℃で0.
5時間反応させ、冷却した後200メツシユのスクリー
ンで濾過した。得られたコア−/シェル型ラテックスは
52%の固形分を含んでいた.ポリスチレンコア−を囲
むビニル/アクリル系シェルの足は全ポリマー粒子の4
0%であった。
実施例6
蒸留水441y 、ポリステップF−9の26.4gお
よびポリステップB−1の6.6gを凝縮器および撹拌
機を備えた2Iのフラスコに添加した。この溶液を脱気
した後、75℃に加熱し、これに過硫酸ナトリウム0.
69を添加した。酢酸ビニル420FI、ブチルアクリ
レート177gおよびアクリル酸3gを含むモノマー溶
液を4時間かけて前記フラスコに計1供給した。30g
の蒸留水に過硫酸ナトリウム1.38y、重炭酸ナトリ
ウム0.6yを含む溶液を4,5 時間かけて二つの別
の流れで連続的に添加した。すべての成分を添加した後
、この混合物を更に0.5時間反応させ、冷却した後2
00メツシユのスクリーンで濾過した。得られたラテッ
クスは、55%の固形分を含んでおり、表面上に延伸し
、屹燥すると透明かつ柔軟な皮膜を形成した。
よびポリステップB−1の6.6gを凝縮器および撹拌
機を備えた2Iのフラスコに添加した。この溶液を脱気
した後、75℃に加熱し、これに過硫酸ナトリウム0.
69を添加した。酢酸ビニル420FI、ブチルアクリ
レート177gおよびアクリル酸3gを含むモノマー溶
液を4時間かけて前記フラスコに計1供給した。30g
の蒸留水に過硫酸ナトリウム1.38y、重炭酸ナトリ
ウム0.6yを含む溶液を4,5 時間かけて二つの別
の流れで連続的に添加した。すべての成分を添加した後
、この混合物を更に0.5時間反応させ、冷却した後2
00メツシユのスクリーンで濾過した。得られたラテッ
クスは、55%の固形分を含んでおり、表面上に延伸し
、屹燥すると透明かつ柔軟な皮膜を形成した。
及1jAJLL
実施例5のコア−/シェル型ラテックス4009を実施
例6の生成物324gと混合し、全ポリマー組成物の3
3%が硬質非皮膜形成ポリスチレンコア−である配合物
を形成した。52.6%の固形分を含むこの配合物を5
0%PvCの内部つや消しペイント組成物に配合し、実
施例4の「透明バインダー」に基づく同様のペイントと
比較した。この結果は下記の第2表に要約されている。
例6の生成物324gと混合し、全ポリマー組成物の3
3%が硬質非皮膜形成ポリスチレンコア−である配合物
を形成した。52.6%の固形分を含むこの配合物を5
0%PvCの内部つや消しペイント組成物に配合し、実
施例4の「透明バインダー」に基づく同様のペイントと
比較した。この結果は下記の第2表に要約されている。
(以下余白)
第2表
顔料スラリー 782.3
782.3不透明バインダー 304.0
・・・配合物 ゛・・・
306.4水 84.0
61.6−社−作一 コントラスト比(C,R,) 0.9B4
.0.964反射率 0.913
0.914に&N汚染 2121 (%;損失) 76°F(24℃) 7
5 6341°F(5
℃) 69 48不透明バ
インダーに基づくペイントは擦り洗い性能および皮膜保
全性(エナメル有効寿命)において改善が見られた。
782.3不透明バインダー 304.0
・・・配合物 ゛・・・
306.4水 84.0
61.6−社−作一 コントラスト比(C,R,) 0.9B4
.0.964反射率 0.913
0.914に&N汚染 2121 (%;損失) 76°F(24℃) 7
5 6341°F(5
℃) 69 48不透明バ
インダーに基づくペイントは擦り洗い性能および皮膜保
全性(エナメル有効寿命)において改善が見られた。
代 理 人
Claims (10)
- (1)(a)ビニル系誘導体、アクリル系誘導体、メタ
クリル系誘導体およびこれらの混合物よりなる群から選
ばれる少なくとも1つのモノマーの約5ないし95重量
%を乳化重合し、約45℃より低いTgを有する均質な
皮膜形成高分子粒子を製造し、 (b)約0.1ないし1ミクロンの平均粒径と80℃よ
り高いTgを有する非皮膜形成高分子コア−粒子の存在
下に工程(a)の重合を継続せしめ、該高分子コア−粒
子が、(a)とは異なり、かつエチレン系不飽和化合物
、ビニル化合物およびこれらの混合物からなる群から選
ばれる少なくとも1種のモノマーから予め形成され、更
に約2:1ないし20:1の重量比を有する非イオン系
界面活性剤とアニオン系界面活性剤の混合物の存在下に
おいて、前記均質な皮膜形成粒子の重合反応に徐々に添
加され、ここにおいて製造された均質な皮膜形成材料の
一部は前記コア−粒子を囲む封入シェルを形成し、不均
質なコア−シェル型粒子と前記均質な皮膜形成高分子粒
子との混合物を生成し、かつ、前記コア粒子を製造する
ために使用した高分子材料に対する均質な皮膜形成高分
子材料の割合は、夫々、約1:9〜9:1の範囲内で変
化する、工程を本質的に含むことを特徴とする不透明高
分子バインダー系の調製方法。 - (2)前記工程(a)のモノマーがメチルアクリレート
、ブチルアクリレート、エチルヘキシルアクリレート、
ヒドロキシエチルメタクリレート、メタクリル酸、アク
リル酸、スチレン、酢酸ビニルおよびこれらの混合物か
らなる群から選ばれることを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載の不透明高分子バインダー系の調製方法。 - (3)前記高分子コア−粒子がメチルメタクリレート、
ブチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、
塩化ビニリデン、スチレン、ジビニルベンゼン、アクリ
ロニトリル、塩化ビニルおよびこれらの混合物からなる
群から選ばれるモノマーから形成されることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項に記載の不透明高分子バインダ
ー系の調製方法。 - (4)前記割合が約1:2ないし約2:1の範囲内で変
化することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
不透明高分子バインダー系の調製方法。 - (5)前記バインダー系が約40ないし70重量%の固
形含量を有していることを特徴とする特許請求の範囲第
1項に記載の不透明高分子バインダー系の調製方法。 - (6)前記コア粒子の量が前記バインダー系の約10な
いし90重量%の範囲内で変化することを特徴とする特
許請求の範囲第1項に記載の不透明高分子バインダー系
の調製方法。 - (7)前記アニオン系界面活性剤がスルフェート類およ
びスルホネート類からなる群から選ばれることを特徴と
する特許請求の範囲第1項に記載の不透明高分子バイン
ダー系の調製方法。 - (8)前記非イオン系界面活性剤がアルキルアリールフ
ェノールのポリエチレンエーテル誘導体であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項に記載の不透明高分子バ
インダー系の調製方法。 - (9)前記工程(a)の乳化重合が約25ないし50重
量%の範囲内で変化することを特徴とする特許請求の範
囲第1項に記載の不透明高分子バインダー系の調製方法
。 - (10)特許請求の範囲第1項に記載の不透明高分子バ
インダー系の調製方法により形成した生成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US810422 | 1985-12-18 | ||
US06/810,422 US4683269A (en) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | Opaque binder system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62230812A true JPS62230812A (ja) | 1987-10-09 |
Family
ID=25203813
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61302757A Pending JPS62230812A (ja) | 1985-12-18 | 1986-12-18 | 不透明なバインダ−系の調製方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4683269A (ja) |
EP (1) | EP0229466A3 (ja) |
JP (1) | JPS62230812A (ja) |
AU (1) | AU590356B2 (ja) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1306321C (en) * | 1986-03-05 | 1992-08-11 | Rhom And Haas Company | Modified solution polymers for coatings, films, mastics, caulks andadhesives |
US4829102A (en) * | 1987-11-05 | 1989-05-09 | Union Oil Company Of California | Polymeric opaque particles and process for making same |
US5026782A (en) * | 1988-09-23 | 1991-06-25 | Union Oil Company Of California | Polymeric opaque particles and process for making same |
US5053441A (en) * | 1988-09-23 | 1991-10-01 | Union Oil Company Of California | Core/shell particles and process for making same |
US5147940A (en) * | 1988-09-23 | 1992-09-15 | Union Oil Company Of California | Polymeric opaque particles and process for making same |
DE3843965A1 (de) * | 1988-12-24 | 1990-07-12 | Roehm Gmbh | Mehrphasige, waessrige kunststoffdispersion und ihre verwendung in ueberzugsmittel |
KR0134501B1 (ko) * | 1993-04-22 | 1998-04-20 | 최근선 | 광택 조절용수지의 제조방법 |
DE4332012A1 (de) * | 1993-09-21 | 1995-03-23 | Roehm Gmbh | Haftklebedispersionen |
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US5536628A (en) * | 1994-12-08 | 1996-07-16 | Eastman Kodak Company | Aqueous coating compositions containing dye-impregnated polymers |
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- 1985-12-18 US US06/810,422 patent/US4683269A/en not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-11-17 EP EP86308947A patent/EP0229466A3/en not_active Withdrawn
- 1986-11-20 AU AU65528/86A patent/AU590356B2/en not_active Ceased
- 1986-12-18 JP JP61302757A patent/JPS62230812A/ja active Pending
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---|---|
EP0229466A3 (en) | 1989-08-02 |
US4683269A (en) | 1987-07-28 |
AU6552886A (en) | 1987-06-25 |
AU590356B2 (en) | 1989-11-02 |
EP0229466A2 (en) | 1987-07-22 |
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