JPS62224635A - 表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents
表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法Info
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- JPS62224635A JPS62224635A JP61066849A JP6684986A JPS62224635A JP S62224635 A JPS62224635 A JP S62224635A JP 61066849 A JP61066849 A JP 61066849A JP 6684986 A JP6684986 A JP 6684986A JP S62224635 A JPS62224635 A JP S62224635A
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- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
低鉄損一方向性珪素鋼板、それもと(に薄手である場合
における表面性状改善と、さらに2次再結晶集合組織の
制御による磁束密度の向上に関連してこの明細書で述べ
る技術内容は、上記珪素鋼板の安定した工程における製
造を可能ならしめることについての開発研究の成果を提
案することにある。
における表面性状改善と、さらに2次再結晶集合組織の
制御による磁束密度の向上に関連してこの明細書で述べ
る技術内容は、上記珪素鋼板の安定した工程における製
造を可能ならしめることについての開発研究の成果を提
案することにある。
(従来の技術)
一方向性珪素鋼板は変圧器、電気機器の鉄心材料として
利用できるもので磁束密度(B、。値で代表される。)
が高く、鉄損(Wlff/S。値で代表される。)の低
いことが要求されている。
利用できるもので磁束密度(B、。値で代表される。)
が高く、鉄損(Wlff/S。値で代表される。)の低
いことが要求されている。
この目的の達成のために今までにおびただしい数の改善
がなされ、今日では磁束密度B1゜値1.89T以上で
、鉄損W + 1750値1.05W/kg以下の低鉄
損を有する一方向性珪素鋼板が製造されるようになった
。
がなされ、今日では磁束密度B1゜値1.89T以上で
、鉄損W + 1750値1.05W/kg以下の低鉄
損を有する一方向性珪素鋼板が製造されるようになった
。
しかしながらエネルギー危機を境にしてより鉄損の低い
一方向性珪素鋼板の製造が急務の問題となり、今日では
欧米を中心にして超低鉄損珪素鋼板についてはボーナス
を附するという制度(Loss−evalution
system)が普及して来ている。
一方向性珪素鋼板の製造が急務の問題となり、今日では
欧米を中心にして超低鉄損珪素鋼板についてはボーナス
を附するという制度(Loss−evalution
system)が普及して来ている。
このように鉄損値を著しく低くした一方向性珪素鋼板の
製造方法としては、最近に至り次のような方法が提案さ
れている。
製造方法としては、最近に至り次のような方法が提案さ
れている。
すなわち、特公昭57−2252号、特公昭57−53
419号、特公昭58−5968号、特公昭58−26
405号、特公昭58−26406号、特公昭5g−2
6407号ふよび特公昭58−36051号各公報に記
載されているように、最終仕上焼鈍における不適当な方
位の結晶粒の成長を抑制するためのインヒビターとして
AIN析出相を利用し、かつ製品の一方向性珪素鋼板の
表面に圧延方向に対しほぼ直角にレーザービームを数m
m間隔で照射することによって鋼板表面に人工粒界を導
入し、この人工粒界によって鉄損を小さくする方法であ
る。
419号、特公昭58−5968号、特公昭58−26
405号、特公昭58−26406号、特公昭5g−2
6407号ふよび特公昭58−36051号各公報に記
載されているように、最終仕上焼鈍における不適当な方
位の結晶粒の成長を抑制するためのインヒビターとして
AIN析出相を利用し、かつ製品の一方向性珪素鋼板の
表面に圧延方向に対しほぼ直角にレーザービームを数m
m間隔で照射することによって鋼板表面に人工粒界を導
入し、この人工粒界によって鉄損を小さくする方法であ
る。
しかなからこの提案の人工粒界導入方法では局部的に高
転位密度領域を形成させであるため、このような処理を
行った製品は350℃程度以下の低温でしか安定に使用
できない問題がある。
転位密度領域を形成させであるため、このような処理を
行った製品は350℃程度以下の低温でしか安定に使用
できない問題がある。
止揚引用の如きAIN析出相を利用した一方向性珪素鋼
板の製造方法においては、インヒビターとしてAINと
共存させるMnSを解離固溶させるために、熱間圧延前
のスラブ加熱を通常の鋼の場合よりも高温で行う必要が
あるが、このような高温でのスラブ加熱を施せば、スラ
ブ加熱時あるいは熱間圧延時に熱間割れを生じて製品に
表面欠陥が発生し易く、特に熱間加工性を阻害するSi
の含有量が3,0%を越えれば製品の表面性状が著しく
劣化する。
板の製造方法においては、インヒビターとしてAINと
共存させるMnSを解離固溶させるために、熱間圧延前
のスラブ加熱を通常の鋼の場合よりも高温で行う必要が
あるが、このような高温でのスラブ加熱を施せば、スラ
ブ加熱時あるいは熱間圧延時に熱間割れを生じて製品に
表面欠陥が発生し易く、特に熱間加工性を阻害するSi
の含有量が3,0%を越えれば製品の表面性状が著しく
劣化する。
この点、先に発明者らが特開昭59−85820号公報
に開示したように、AIN析出相を利用した場合にSi
含有量の高いSi3.1〜4.5%の珪素鋼素材が、本
質的に高磁束密度で低鉄損の製品を得るに適した素材で
あることに着目し、その場合の欠点である表面性状の劣
化を解決する手段として熱延前の素材表面層にMOを濃
化させることにより、高Si含有量でも表面性状を良好
になし得る。しかしこの新しい手法により製品の表面性
状は以前に比べて大幅に改善されたが、最近、低鉄損を
得るためとくに0.23〜0.17mm厚に薄手化した
製品に関しては、表面性状の向上効果が少なく大きな問
題として残されている。
に開示したように、AIN析出相を利用した場合にSi
含有量の高いSi3.1〜4.5%の珪素鋼素材が、本
質的に高磁束密度で低鉄損の製品を得るに適した素材で
あることに着目し、その場合の欠点である表面性状の劣
化を解決する手段として熱延前の素材表面層にMOを濃
化させることにより、高Si含有量でも表面性状を良好
になし得る。しかしこの新しい手法により製品の表面性
状は以前に比べて大幅に改善されたが、最近、低鉄損を
得るためとくに0.23〜0.17mm厚に薄手化した
製品に関しては、表面性状の向上効果が少なく大きな問
題として残されている。
これとは別にAIN析出相の利用は、木来強冷延−回法
によっているため、薄手化した製品を製造しようとする
と、二次再結晶粒が極めて不安定になり、Goss方位
に強く集積した2次再結晶粒を発達させることが困難で
あるという問題もあった。
によっているため、薄手化した製品を製造しようとする
と、二次再結晶粒が極めて不安定になり、Goss方位
に強く集積した2次再結晶粒を発達させることが困難で
あるという問題もあった。
ごく最近特開昭59−126722号公報において、高
Si含有量の下でAIN析出相を利用して薄手化した製
品を安定製造するためには、従来の一回の強冷延性を大
幅に変えた2回の冷間圧延をとくにAINのほかに小景
のCuとSnとを複合添加した組成の熱延素材に適用す
ることが開示された。
Si含有量の下でAIN析出相を利用して薄手化した製
品を安定製造するためには、従来の一回の強冷延性を大
幅に変えた2回の冷間圧延をとくにAINのほかに小景
のCuとSnとを複合添加した組成の熱延素材に適用す
ることが開示された。
この手法は薄手化した製品の鉄損を安定して低下させる
のに効果的ではあるが、通常S1を増量した状況下では
スラブの高温加熱を必要とするので、やはり表面性状の
優れた製品を得ることが困難であるとと、さらに2次再
結晶粒の安定化のために小量のSnとCuを添加するた
め製品が大幅にコスト高となることのように、まだ解決
されるべき問題が多く残されている。
のに効果的ではあるが、通常S1を増量した状況下では
スラブの高温加熱を必要とするので、やはり表面性状の
優れた製品を得ることが困難であるとと、さらに2次再
結晶粒の安定化のために小量のSnとCuを添加するた
め製品が大幅にコスト高となることのように、まだ解決
されるべき問題が多く残されている。
(発明が解決しようとする問題点)
ところで一方向性珪素鋼板の鉄損を低下させる方法とし
ては、 ■珪素鋼中のSi含有量を高めること、■製品板厚を薄
くする。
ては、 ■珪素鋼中のSi含有量を高めること、■製品板厚を薄
くする。
■鋼板の純度を高めること、
■製品の2次再結晶粒のGoss方位集積度を低下させ
ないで細粒の2次再結晶粒を発達させることなどが基本
的に考えられている。
ないで細粒の2次再結晶粒を発達させることなどが基本
的に考えられている。
まず■に関してSi含有量を通常の3.0%より増加し
たり、■に関して通常製品板厚0.35.0.30 m
mより薄い0.23.0.20a+mにすることが試み
られたが、いずれも2次再結晶組織が不均一となり、G
oss方位集積度が低下する問題が生じる。
たり、■に関して通常製品板厚0.35.0.30 m
mより薄い0.23.0.20a+mにすることが試み
られたが、いずれも2次再結晶組織が不均一となり、G
oss方位集積度が低下する問題が生じる。
加え■に従い通常よりもSi含有量を増加させた場合、
熱間ぜい化が顕著となり、スラブ加熱あるいは熱間圧延
途中で熱間割れを生じ、製品の表面性状が著しく劣化し
てしまうことはすでに述べた。
熱間ぜい化が顕著となり、スラブ加熱あるいは熱間圧延
途中で熱間割れを生じ、製品の表面性状が著しく劣化し
てしまうことはすでに述べた。
一方において■の鋼板の純度向上又は■の方向性の改善
に関しては、現在極限と考えられる所まで来ている。例
えば現行製品の2次再結晶粒のGoss方位はすでに圧
延方向に平均3°〜4°以内に集積していて、このよう
に高度に集積した状況で結晶粒径をさらに小さくするこ
とは冶金学上きわめて困難とされている。
に関しては、現在極限と考えられる所まで来ている。例
えば現行製品の2次再結晶粒のGoss方位はすでに圧
延方向に平均3°〜4°以内に集積していて、このよう
に高度に集積した状況で結晶粒径をさらに小さくするこ
とは冶金学上きわめて困難とされている。
この発明は以上の事情を背景としすでに述べた従来技術
の最近の動向に鑑み、表面性状が極めて優れしかも鉄損
が著しく小さく、またさらに高磁束密度の薄手一方向性
珪素鋼板を工業的に安定してとくに有利に製造し得る方
法を提供することを目的とするものである。
の最近の動向に鑑み、表面性状が極めて優れしかも鉄損
が著しく小さく、またさらに高磁束密度の薄手一方向性
珪素鋼板を工業的に安定してとくに有利に製造し得る方
法を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段)
上記の目的は次のように成就される。
Si 3.1〜4.5 wt%、
Mo 0.003〜(1,1wt%、
酸可溶AI 0.005〜0.06wt%、モしてSお
よびSeのいずれか1種または2種を合計量 で0.0
05〜0.1wt%、を含有するスラブを熱間圧延して
熱延板とした後、圧下率10〜60%の1次冷間圧延を
施し、ついで中間焼鈍を経て、圧下率75〜90%の2
次冷間圧延を施し0.1〜0.25mm厚の最終板厚に
仕上げ、この薄手冷延板を湿水素中で脱炭・1次再結晶
焼鈍するに際し、引続く高温仕上焼鈍を経た鋼板表面上
に異質微小領域区画の形成をもらたす処理を予め施して
おいて、高温仕上焼鈍に供することを特徴とする表面性
状の優れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板の製造方法(第
1発明〉。
よびSeのいずれか1種または2種を合計量 で0.0
05〜0.1wt%、を含有するスラブを熱間圧延して
熱延板とした後、圧下率10〜60%の1次冷間圧延を
施し、ついで中間焼鈍を経て、圧下率75〜90%の2
次冷間圧延を施し0.1〜0.25mm厚の最終板厚に
仕上げ、この薄手冷延板を湿水素中で脱炭・1次再結晶
焼鈍するに際し、引続く高温仕上焼鈍を経た鋼板表面上
に異質微小領域区画の形成をもらたす処理を予め施して
おいて、高温仕上焼鈍に供することを特徴とする表面性
状の優れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板の製造方法(第
1発明〉。
Si3.1〜4.5wt%、
Mo 0.003〜0.1wt%、
酸可溶AI 0.005〜0.06 wt%、そしてS
およびSeのいずれか1種または2種を合計量で0.0
05〜0.1wt%、を含有するスラブを熱間圧延して
熱延板とした後、圧下率10〜60%の1次冷間圧延を
施し、ついで中間焼鈍を経て、圧下率75〜90%の2
次冷間圧延を施し0.1〜0.25mm厚の最終板厚に
仕上げた薄手冷延板を、湿水素中で脱炭・1次再結晶焼
鈍後、高温仕上焼鈍し、さらにこの鋼板表面上に異質微
小領域区画を形成することを特徴とする、表面性状の優
れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板の製造方法である(第
2発明)。
およびSeのいずれか1種または2種を合計量で0.0
05〜0.1wt%、を含有するスラブを熱間圧延して
熱延板とした後、圧下率10〜60%の1次冷間圧延を
施し、ついで中間焼鈍を経て、圧下率75〜90%の2
次冷間圧延を施し0.1〜0.25mm厚の最終板厚に
仕上げた薄手冷延板を、湿水素中で脱炭・1次再結晶焼
鈍後、高温仕上焼鈍し、さらにこの鋼板表面上に異質微
小領域区画を形成することを特徴とする、表面性状の優
れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板の製造方法である(第
2発明)。
なお上記した中間焼鈍については、昇温過程、降温過程
とも500〜900℃間をとくに毎秒5℃以上にて加熱
又は冷却することが実施上好適である。
とも500〜900℃間をとくに毎秒5℃以上にて加熱
又は冷却することが実施上好適である。
発明者らは、3.1〜4.5wt%の高珪素含有量の下
でのAIN析出相の利用による、薄手一方向性珪素鋼板
を製造する際、素材中に小量のMOを添加することによ
って表面性状の優れた製品が得られまた、急熱・急冷の
中間焼鈍を含む2回の冷間圧延法の採用によってきわめ
て安定した工程で低鉄損を有する一方向性珪素鋼板の製
造が可能であることを発見し、上記各発明を完成するに
至った。
でのAIN析出相の利用による、薄手一方向性珪素鋼板
を製造する際、素材中に小量のMOを添加することによ
って表面性状の優れた製品が得られまた、急熱・急冷の
中間焼鈍を含む2回の冷間圧延法の採用によってきわめ
て安定した工程で低鉄損を有する一方向性珪素鋼板の製
造が可能であることを発見し、上記各発明を完成するに
至った。
まず、第1発明の完成を導いた実験的事例につき具体的
に説明する。
に説明する。
C0,047wt%、Si 3,43wt%、Mo 0
.022wt%、酸可溶AI 0.028wt%、お
よびS 0.025wt%を含有する鋼塊(供試鋼I)
およびC0,055wt%、S13.45wt%、酸可
溶AI 0.026wt%、S 0.025wt%、S
n 0.12wt%およびCu 0.08wt%を含有
する鋼塊(比較鋼■)を何れも1420℃で4時間加熱
してインヒビターを解離・固溶した後、熱間圧延して2
.2mm厚の熱延板とした。
.022wt%、酸可溶AI 0.028wt%、お
よびS 0.025wt%を含有する鋼塊(供試鋼I)
およびC0,055wt%、S13.45wt%、酸可
溶AI 0.026wt%、S 0.025wt%、S
n 0.12wt%およびCu 0.08wt%を含有
する鋼塊(比較鋼■)を何れも1420℃で4時間加熱
してインヒビターを解離・固溶した後、熱間圧延して2
.2mm厚の熱延板とした。
その後70%以下の圧下率で1次冷間圧延を行った後、
1070℃で3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍
の際には500℃から900℃までの昇温は10℃/S
の急熱処理を施し、また中間焼鈍後900℃から500
℃まで15℃/Sの急冷処理を施した。
1070℃で3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍
の際には500℃から900℃までの昇温は10℃/S
の急熱処理を施し、また中間焼鈍後900℃から500
℃まで15℃/Sの急冷処理を施した。
その後70%〜91%の圧下率で2法論間圧延を施して
0.20mm厚の最終板厚の冷延板としてのち、840
℃の湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施した。
0.20mm厚の最終板厚の冷延板としてのち、840
℃の湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施した。
その後鋼板表面上にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を
塗布して、とくに850℃〜1100℃までの間を7℃
/hrで昇温しで2次再結晶させた後、1200℃で1
2時間乾水素中で純化焼鈍を施した。
塗布して、とくに850℃〜1100℃までの間を7℃
/hrで昇温しで2次再結晶させた後、1200℃で1
2時間乾水素中で純化焼鈍を施した。
そのときの製品の磁気特性および表面欠陥発生率(鋼板
表面上に存在する表面キズのブロック発生率を%で表示
)を第1図に示す。
表面上に存在する表面キズのブロック発生率を%で表示
)を第1図に示す。
第1図の・印に示すプロットから明らかなように素材中
にMoを含有する供試鋼■による製品は1次冷間圧延の
圧下率が10〜60% (特に20〜40%)において
磁気特性が良好で、しかも製品の表面欠陥発生率が1.
5%以下(1次冷間圧延の圧下率が20〜50%の範囲
において0.5%以下となる)であることが注目される
。
にMoを含有する供試鋼■による製品は1次冷間圧延の
圧下率が10〜60% (特に20〜40%)において
磁気特性が良好で、しかも製品の表面欠陥発生率が1.
5%以下(1次冷間圧延の圧下率が20〜50%の範囲
において0.5%以下となる)であることが注目される
。
これに対して従来通りの組成の比較鋼■による製品の磁
気特性は同図○印のプロットに明らかなようにB10値
、W I ff/S O値共に供試鋼Iによる場合より
も若干悪く、とくに製品の表面欠陥発生率は6〜18%
と極端に高い。
気特性は同図○印のプロットに明らかなようにB10値
、W I ff/S O値共に供試鋼Iによる場合より
も若干悪く、とくに製品の表面欠陥発生率は6〜18%
と極端に高い。
次にC0,053%、Si 3.44%、Mo0.02
5%、酸可溶Al0.030%、80.021%を含有
する鋼塊(供試鋼■)を1440℃で3時間加熱してイ
ンヒビターを解離・固溶した後、熱間圧延して2.2+
nm厚の熱延板とした。
5%、酸可溶Al0.030%、80.021%を含有
する鋼塊(供試鋼■)を1440℃で3時間加熱してイ
ンヒビターを解離・固溶した後、熱間圧延して2.2+
nm厚の熱延板とした。
その後圧下率約40%の1次冷間圧延を施した後105
0℃で3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍の際に
は500℃から900℃までの昇温速度、中間焼鈍後の
900℃から500℃のでの冷却速度を何れも1℃〜1
00℃までの範囲で実験を行った。
0℃で3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍の際に
は500℃から900℃までの昇温速度、中間焼鈍後の
900℃から500℃のでの冷却速度を何れも1℃〜1
00℃までの範囲で実験を行った。
中間焼鈍後の鋼板は圧下率約83%の2法論間圧延を施
して0.23mm厚の最終冷延板とし、その後850℃
の湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施した後、鋼板表
面上にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後8
50℃から1100℃まで10℃/hrで昇温しで2次
再結晶させた後、1200℃で10時間乾水素中で純化
焼鈍を行った。そのときの製品の磁気特性を第2図に示
す。
して0.23mm厚の最終冷延板とし、その後850℃
の湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施した後、鋼板表
面上にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後8
50℃から1100℃まで10℃/hrで昇温しで2次
再結晶させた後、1200℃で10時間乾水素中で純化
焼鈍を行った。そのときの製品の磁気特性を第2図に示
す。
第2図から明らかなように中間焼鈍時に500℃から9
00℃までの昇温速度及び中間焼鈍後の900℃から5
00℃までの冷却速度を5℃/S以上なかでも10℃/
S以上とした場合において著しく磁気特性の優れた製品
を得ることができる。
00℃までの昇温速度及び中間焼鈍後の900℃から5
00℃までの冷却速度を5℃/S以上なかでも10℃/
S以上とした場合において著しく磁気特性の優れた製品
を得ることができる。
このような中間焼鈍時の急熱・急冷処理による特性向上
の理由は発明者らが既に特開昭59−35625号公報
(前出)に開示したと同じように(110)<001>
方位の集合組織を優先的に発達させるのに有利なためと
考えられる。なお、さきに触れたように特開昭59−1
26722号公報における、冷延2回法のAIN析出相
利用による薄手一方向性珪素鋼板の製造方法では、従来
の強冷延1回法の際における均−化焼鈍後の急冷処理に
よるAINの微細析出処理を、1次冷間圧延後の中間焼
鈍後の冷却過程に援用するにすぎないのに反してこの発
明では、中間焼鈍後の急冷のみならず、中間焼鈍の昇温
過程における急熱との組合せにつき、とくにMoを含有
する場合に限ってすぐれた磁気特性が得られることを新
たに解明したものである。
の理由は発明者らが既に特開昭59−35625号公報
(前出)に開示したと同じように(110)<001>
方位の集合組織を優先的に発達させるのに有利なためと
考えられる。なお、さきに触れたように特開昭59−1
26722号公報における、冷延2回法のAIN析出相
利用による薄手一方向性珪素鋼板の製造方法では、従来
の強冷延1回法の際における均−化焼鈍後の急冷処理に
よるAINの微細析出処理を、1次冷間圧延後の中間焼
鈍後の冷却過程に援用するにすぎないのに反してこの発
明では、中間焼鈍後の急冷のみならず、中間焼鈍の昇温
過程における急熱との組合せにつき、とくにMoを含有
する場合に限ってすぐれた磁気特性が得られることを新
たに解明したものである。
更に上記条件を考慮して以下のような実験を行った。
C0,049%、Si 3.42%、Mo 0.025
%、酸可溶AI0、025%、30.025%を含有す
る鋼塊(供試鋼■)、C0,049%、Si 3.46
%、酸可溶AI 0.025%、S0.025%、Sn
0.05%、Cu0.1%を含有する鋼塊(供試鋼IV
) 、C0.048%、Si 3.43%、酸可溶AI
0、026%、30.024%を含有する鋼塊(供試鋼
V)を何れも1420℃で4時間加熱してインヒビクー
を解離・固溶した後、熱間圧延して2.0m[[l厚の
熱延板とした。
%、酸可溶AI0、025%、30.025%を含有す
る鋼塊(供試鋼■)、C0,049%、Si 3.46
%、酸可溶AI 0.025%、S0.025%、Sn
0.05%、Cu0.1%を含有する鋼塊(供試鋼IV
) 、C0.048%、Si 3.43%、酸可溶AI
0、026%、30.024%を含有する鋼塊(供試鋼
V)を何れも1420℃で4時間加熱してインヒビクー
を解離・固溶した後、熱間圧延して2.0m[[l厚の
熱延板とした。
その後約50%の圧下率で1法論間圧延を行った後、1
050℃で3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍の
際には500℃から900℃までの昇温は加熱速度11
℃/Sで急熱処理し、また中間焼鈍後900℃から50
0℃まで冷却速度15℃/Sで急冷処理した。
050℃で3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍の
際には500℃から900℃までの昇温は加熱速度11
℃/Sで急熱処理し、また中間焼鈍後900℃から50
0℃まで冷却速度15℃/Sで急冷処理した。
その後約80%の圧下率で2法論間圧延を施し0゜20
mm厚の最終冷延板としたが、冷間圧延の途中で約30
0℃の温間圧延を施した。
mm厚の最終冷延板としたが、冷間圧延の途中で約30
0℃の温間圧延を施した。
その後鋼板表面を脱脂した後840℃の湿水素中で脱炭
・1次再結晶焼鈍を施した。その後鋼板表面上にMgS
O2の希薄水溶液(80℃で0. (l1mol/l)
をスプレーで圧延方向に直角方向に7胴間隔で0.7m
m幅で塗布乾燥した後、鋼板表面上にMg[lを主成分
とする焼鈍分離剤を塗布した後840℃から1050℃
まで8℃/hrで昇温しで2次再結晶させた後、120
0℃で10時間乾水素中で純化焼鈍を施した。また比較
のために脱炭・1次再結晶焼鈍後鋼板表面にiA g
Oを主成分とする焼鈍分離剤を塗布したあと、2次再結
晶および純化焼鈍を施す通常工程材も同時に実験を行っ
た。
・1次再結晶焼鈍を施した。その後鋼板表面上にMgS
O2の希薄水溶液(80℃で0. (l1mol/l)
をスプレーで圧延方向に直角方向に7胴間隔で0.7m
m幅で塗布乾燥した後、鋼板表面上にMg[lを主成分
とする焼鈍分離剤を塗布した後840℃から1050℃
まで8℃/hrで昇温しで2次再結晶させた後、120
0℃で10時間乾水素中で純化焼鈍を施した。また比較
のために脱炭・1次再結晶焼鈍後鋼板表面にiA g
Oを主成分とする焼鈍分離剤を塗布したあと、2次再結
晶および純化焼鈍を施す通常工程材も同時に実験を行っ
た。
そのときの製品の磁気特性および表面欠陥発生率(鋼板
表面上に存在する表面キズのブロック発生率を%で表示
)表1に示す。
表面上に存在する表面キズのブロック発生率を%で表示
)表1に示す。
表1から明らかなように素材中にMoを添加した供試鋼
■による製品の磁気特性は、eta値が1、94j 、
L tlso値が0.77〜0.85W/kgと良好
で、製品の表面欠陥発生率も0.6%〜0.9%である
。これに対して従来組成の供試鋼■およびVの製品の磁
気特性はB+o値1.93T、 L7/so値0.83
〜0.9211i/kgで、MO添加材よりも悪く、か
つ製品の表面欠陥発生率は8.7〜11.2%と極端に
高い。
■による製品の磁気特性は、eta値が1、94j 、
L tlso値が0.77〜0.85W/kgと良好
で、製品の表面欠陥発生率も0.6%〜0.9%である
。これに対して従来組成の供試鋼■およびVの製品の磁
気特性はB+o値1.93T、 L7/so値0.83
〜0.9211i/kgで、MO添加材よりも悪く、か
つ製品の表面欠陥発生率は8.7〜11.2%と極端に
高い。
次に脱炭1次再結晶焼鈍板表面上にMgSO4の希薄水
溶液をスプレーで圧延方向に直角に7mm間隔に0.7
mm幅で塗布したときの磁気特性はMoを添加した供試
鋼■の場合において鉄損はW + 7/S O値で0、
77W/kgと極端に良好である。また、従来組成の供
試鋼■および■の製品の磁気特性にふいてもMgSO4
の希薄水溶液を塗布した工程では通常工程(比較材)に
比較して鉄損が0.06〜0.09W/kg程度良好で
ある。
溶液をスプレーで圧延方向に直角に7mm間隔に0.7
mm幅で塗布したときの磁気特性はMoを添加した供試
鋼■の場合において鉄損はW + 7/S O値で0、
77W/kgと極端に良好である。また、従来組成の供
試鋼■および■の製品の磁気特性にふいてもMgSO4
の希薄水溶液を塗布した工程では通常工程(比較材)に
比較して鉄損が0.06〜0.09W/kg程度良好で
ある。
これらの実験例から製品の磁気特性と表面性状が共に優
れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板を製造するには高珪素
材中に小量のAIとMoとsbの複合添加を行うこと、
冷延2回法を採用すること、そして最終冷延板表面上に
特定した元素を含有する希薄水溶液又は懸濁液塗布で区
画形成することの結合によって達成されることを示して
いる。
れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板を製造するには高珪素
材中に小量のAIとMoとsbの複合添加を行うこと、
冷延2回法を採用すること、そして最終冷延板表面上に
特定した元素を含有する希薄水溶液又は懸濁液塗布で区
画形成することの結合によって達成されることを示して
いる。
これらの一部の構成はすでに特開昭60−89521号
公報に開示したように脱炭・1次再結晶焼鈍後の鋼板表
面上に、圧延方向とほぼ直角に脱炭促進領域あるいは脱
炭遅滞領域とを交互区画して不均質の2次再結晶粒を発
達させることによる鉄損の低い一方向性珪素鋼板の製造
方法として発明者らが提案しているところであるが、こ
れを最終冷延板表面塗布前に急熱・急冷の中間焼鈍を含
む冷延2回法を用いることにより、とくに2次再結晶粒
の安定成長を図ることができる。
公報に開示したように脱炭・1次再結晶焼鈍後の鋼板表
面上に、圧延方向とほぼ直角に脱炭促進領域あるいは脱
炭遅滞領域とを交互区画して不均質の2次再結晶粒を発
達させることによる鉄損の低い一方向性珪素鋼板の製造
方法として発明者らが提案しているところであるが、こ
れを最終冷延板表面塗布前に急熱・急冷の中間焼鈍を含
む冷延2回法を用いることにより、とくに2次再結晶粒
の安定成長を図ることができる。
次にC0,053%、Si 3.39%、Mo0.02
6%、酸可溶Al 0.023%、S 0.023%を
含有する鋼塊を1380℃で6時間加熱してインヒビタ
ーを解離・固溶した後、熱間圧延して2.010111
厚の熱延板とした。
6%、酸可溶Al 0.023%、S 0.023%を
含有する鋼塊を1380℃で6時間加熱してインヒビタ
ーを解離・固溶した後、熱間圧延して2.010111
厚の熱延板とした。
その後970℃で3分間の中間焼鈍をはさんで2回の冷
間圧延(1法論間圧下率は50%、2次冷間圧下率80
%)で0.20mm厚の最終冷延板とした。この中間焼
鈍の際には500℃から900℃までの昇温は加熱速度
12℃/Sで急熱処理し、また中間焼鈍後900℃から
500℃まで冷却速度13℃/Sで処理した。
間圧延(1法論間圧下率は50%、2次冷間圧下率80
%)で0.20mm厚の最終冷延板とした。この中間焼
鈍の際には500℃から900℃までの昇温は加熱速度
12℃/Sで急熱処理し、また中間焼鈍後900℃から
500℃まで冷却速度13℃/Sで処理した。
その後835℃の湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施
した後、MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後
、850℃から10℃/hrで昇温しで2次再結晶させ
た後1200℃で8時間水氷素中で純化焼鈍を施した。
した後、MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後
、850℃から10℃/hrで昇温しで2次再結晶させ
た後1200℃で8時間水氷素中で純化焼鈍を施した。
その後パルスレーザ−を用いて圧延方向に直角方向に線
状(線幅0.3mm幅)にgmm間隔で照射した後酸洗
処理してレーザー照射位置の地鉄の1部を除去した後5
bC1aの溶液(80℃、0.O1mol/1)中に浸
漬後、リン酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁
被膜を形成させた後800℃で3時間の歪み取り焼鈍を
兼ねた回復・再結晶焼鈍を行った。
状(線幅0.3mm幅)にgmm間隔で照射した後酸洗
処理してレーザー照射位置の地鉄の1部を除去した後5
bC1aの溶液(80℃、0.O1mol/1)中に浸
漬後、リン酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁
被膜を形成させた後800℃で3時間の歪み取り焼鈍を
兼ねた回復・再結晶焼鈍を行った。
そのときの製品の磁気特性はB1o値1.94T。
W + 7/S O値0.78W/kgで、表面欠陥発
生率CR1fi表面上に存在する表面キズのブロック発
生率を%で表示)は1.3%と非常に良好であった。
生率CR1fi表面上に存在する表面キズのブロック発
生率を%で表示)は1.3%と非常に良好であった。
これらの一部の構成はすでに特開昭60−255926
号公報に開示しであるように、仕上焼鈍あるいは仕上焼
鈍後絶縁被膜を施した一方向性珪素鋼板の一部を除去し
て不均質な領域を区画形成させることによって鉄損の優
れた一方向性珪素鋼板を安定して製造することができる
。
号公報に開示しであるように、仕上焼鈍あるいは仕上焼
鈍後絶縁被膜を施した一方向性珪素鋼板の一部を除去し
て不均質な領域を区画形成させることによって鉄損の優
れた一方向性珪素鋼板を安定して製造することができる
。
以上のようにこの発明は、素材中にMoを添加すること
、冷延2回法を採用すること、中間焼鈍において昇温・
降温速度に制限を加えること、そして脱炭・1次再結晶
焼鈍後あるいは仕上焼鈍後の鋼板上に異質微小領域区画
を形成させることによって、安定した工程で良好な鉄損
と表面性状とを有する一方向性珪素鋼板の製造が可能で
あることを見出した点で前掲した先行技術とは発想の基
本を異にし、またそれらの工程の採用によって得られる
効果も従来に比べてはるかにすぐれている。
、冷延2回法を採用すること、中間焼鈍において昇温・
降温速度に制限を加えること、そして脱炭・1次再結晶
焼鈍後あるいは仕上焼鈍後の鋼板上に異質微小領域区画
を形成させることによって、安定した工程で良好な鉄損
と表面性状とを有する一方向性珪素鋼板の製造が可能で
あることを見出した点で前掲した先行技術とは発想の基
本を異にし、またそれらの工程の採用によって得られる
効果も従来に比べてはるかにすぐれている。
(作 用)
各発明において、Siは前述したとあり珪素鋼板の電気
抵抗を高めて過電流損を減少させるのに有効な元素で、
とくに薄手製品の鉄損を減少させるため3.1wt%以
上とする必要がある。しかしSi含有量が4.5wt%
を越えると冷間圧延の際の脆性割れが生じ易くなるから
、S1含有量を3.1〜4.5wt%の範囲とした。な
お従来のAINをインヒビターとして利用する通常の一
方向性珪素鋼板のSi含有量は2.8〜3.Qwt%程
度であり、またSiを増加させた場合、第1図に示した
供試鋼I、■のように製品の表面性状が著しく劣化する
が、第1.第2各発明において素材中に0.003〜0
.1wt%のMOを添加することによって表面欠陥発生
防止が可能となったものである。
抵抗を高めて過電流損を減少させるのに有効な元素で、
とくに薄手製品の鉄損を減少させるため3.1wt%以
上とする必要がある。しかしSi含有量が4.5wt%
を越えると冷間圧延の際の脆性割れが生じ易くなるから
、S1含有量を3.1〜4.5wt%の範囲とした。な
お従来のAINをインヒビターとして利用する通常の一
方向性珪素鋼板のSi含有量は2.8〜3.Qwt%程
度であり、またSiを増加させた場合、第1図に示した
供試鋼I、■のように製品の表面性状が著しく劣化する
が、第1.第2各発明において素材中に0.003〜0
.1wt%のMOを添加することによって表面欠陥発生
防止が可能となったものである。
この素材中に添加するMO量は0.003wt%未満で
は磁気特性向上ならびに表面欠陥発生の防止力が弱く、
また0、1%をこえると脱炭時に鋼中の脱炭を遅らせる
ため0.003〜0. 1wt%の範囲に限定すべきで
ある。
は磁気特性向上ならびに表面欠陥発生の防止力が弱く、
また0、1%をこえると脱炭時に鋼中の脱炭を遅らせる
ため0.003〜0. 1wt%の範囲に限定すべきで
ある。
AIは鋼中に含まれるNと結合してAINの微細析出物
を形成し、強力なインヒビターとして作用する。と(に
薄手一方向性珪素鋼板の製造においてGa55方位に強
く集積した2次再結晶粒を発達させるためには0.00
5〜0.06wt%の範囲の酸可溶AIが必要である。
を形成し、強力なインヒビターとして作用する。と(に
薄手一方向性珪素鋼板の製造においてGa55方位に強
く集積した2次再結晶粒を発達させるためには0.00
5〜0.06wt%の範囲の酸可溶AIが必要である。
酸可溶式lが0.005wt%未満ではインヒビクーと
してのAIN微細析出物の析出量が不足し、(110)
<001>方位の2次再結晶粒の発達が不充分となり、
一方0. Q(3wt%を越えれば再び(110) <
001>方位の2次再結晶粒の発達が著しく悪くなる。
してのAIN微細析出物の析出量が不足し、(110)
<001>方位の2次再結晶粒の発達が不充分となり、
一方0. Q(3wt%を越えれば再び(110) <
001>方位の2次再結晶粒の発達が著しく悪くなる。
S、 SeはAINとともにM n S もしくはMn
Seの分散析出相を形成してインヒビター効果を増進さ
せる。
Seの分散析出相を形成してインヒビター効果を増進さ
せる。
SまたはSeは合計量で0.005wt%よりも少なけ
ればMnSまたはMnSeによるインヒビター効果が弱
く、一方今計量で0. 1wt%を越えれば熱間および
冷間加工性が著しく劣化するから、S、 Seの1種ま
たは2種は合計量で0.005〜0. 1wt%の範囲
内とする必要がある。なおこのような合計量範囲内にお
いても、Sが0.005wt%より少ない場合もしくは
Seが0、003wt%より少ない場合にはそれぞれイ
ンヒビター効果が不足し、一方それぞれ0.Q5wt%
を越えれば熱間および冷間加工性が劣化するから、Sは
0.005〜0.05wt%の範囲内、Seは0.00
3〜0.05wt%の範囲内とすることが望ましい。
ればMnSまたはMnSeによるインヒビター効果が弱
く、一方今計量で0. 1wt%を越えれば熱間および
冷間加工性が著しく劣化するから、S、 Seの1種ま
たは2種は合計量で0.005〜0. 1wt%の範囲
内とする必要がある。なおこのような合計量範囲内にお
いても、Sが0.005wt%より少ない場合もしくは
Seが0、003wt%より少ない場合にはそれぞれイ
ンヒビター効果が不足し、一方それぞれ0.Q5wt%
を越えれば熱間および冷間加工性が劣化するから、Sは
0.005〜0.05wt%の範囲内、Seは0.00
3〜0.05wt%の範囲内とすることが望ましい。
各発明の方法に適合する素材としては、上述のように3
.1〜4.5%の81を含有しかつ小量のMoとAIと
SおよびSeを含有している必要があるが、その他通常
の珪素鋼中に添加される公知の元素の存在を妨げるもの
ではない。
.1〜4.5%の81を含有しかつ小量のMoとAIと
SおよびSeを含有している必要があるが、その他通常
の珪素鋼中に添加される公知の元素の存在を妨げるもの
ではない。
例えばMnは0.02〜2wt%程度含有されているこ
とが好ましい。
とが好ましい。
またCはAINの微細析出に関連して、熱延板焼鈍中に
鋼板の一部にT変態を生ぜしめるために必要であり、こ
の発明のSi含有量3.1〜4.5’wt%の範囲では
C含有量は0.030〜0.080wt%程度が適当で
。
鋼板の一部にT変態を生ぜしめるために必要であり、こ
の発明のSi含有量3.1〜4.5’wt%の範囲では
C含有量は0.030〜0.080wt%程度が適当で
。
ある。
さらに通常の珪素鋼中に添加さることのある公知の一次
再結晶粒成長抑制剤としてのSn、 Cu、 Bのいず
れか1種あるいは2種以上を合計量で0.2wt%以下
含有しても良い。その他Cr、 Ti、 V、 Zr。
再結晶粒成長抑制剤としてのSn、 Cu、 Bのいず
れか1種あるいは2種以上を合計量で0.2wt%以下
含有しても良い。その他Cr、 Ti、 V、 Zr。
Nb、 Ta、 Co、 Ni、 P、 As等の一般
的な不可避的元素が微量含有されることは許容される。
的な不可避的元素が微量含有されることは許容される。
次にこの発明の一連の製造工程について説明する。
先ずこの発明の方法に使用される素材を溶製する手段と
しては、LD転炉、平炉その他の公知の製鋼方法を用い
ることができ、また真空処理、真空溶解を併用しても良
いことは勿論である。
しては、LD転炉、平炉その他の公知の製鋼方法を用い
ることができ、また真空処理、真空溶解を併用しても良
いことは勿論である。
またスラブ作成の手段としても、通常の造塊−分塊圧延
法のほか、連続鋳造も好適に用いることができる。
法のほか、連続鋳造も好適に用いることができる。
上述のようにして得られた珪素鋼スラブは公知の方法に
より加熱後、熱間圧延に附される。この熱間圧延によっ
て得られる熱延板の厚みは後続の冷延工程における圧下
率によっても異なるが、通常1.5〜3.0++on程
度が望ましい。
より加熱後、熱間圧延に附される。この熱間圧延によっ
て得られる熱延板の厚みは後続の冷延工程における圧下
率によっても異なるが、通常1.5〜3.0++on程
度が望ましい。
この発明では表面性状の良好な珪素鋼板を得るために素
材中に小量のMaを添加することを必要条件とするが、
その他発明者らが特開昭59−85820号公報で開示
したように熱延終了後までに表面にMO化合物を塗布す
る等の手段によって鋼板表面層にMoを濃化させる手段
の併用も勿論可能である。
材中に小量のMaを添加することを必要条件とするが、
その他発明者らが特開昭59−85820号公報で開示
したように熱延終了後までに表面にMO化合物を塗布す
る等の手段によって鋼板表面層にMoを濃化させる手段
の併用も勿論可能である。
熱間圧延を終了した熱延板には、次に1法論間圧延が施
されるが、1次冷延の前に場合によっては熱延板中のC
の微細均一化分散を図るため900〜1200℃の温度
範囲で均一化焼鈍を行った後急冷処理を施される。
されるが、1次冷延の前に場合によっては熱延板中のC
の微細均一化分散を図るため900〜1200℃の温度
範囲で均一化焼鈍を行った後急冷処理を施される。
1法論間圧延の際の圧下率は、製品板厚によって若干異
なるが、この発明で良好な特性を有する薄手製品を得る
には第1図から明らかなように10〜60% (望まし
くは20〜50%)に限定される。
なるが、この発明で良好な特性を有する薄手製品を得る
には第1図から明らかなように10〜60% (望まし
くは20〜50%)に限定される。
次の中間焼鈍は900〜1100℃の温度で30秒〜3
0分間程度の焼鈍を施すが、良好な磁気特性を安定して
得るためには、500℃から900℃の昇温そして中間
焼鈍後の900℃から500℃の降温を5℃/S以上な
かでも10℃/S以上にすることが望ましい。この急熱
急冷処理は通常の連続炉あるいはバッチ炉等公知の手法
を用いて良い。
0分間程度の焼鈍を施すが、良好な磁気特性を安定して
得るためには、500℃から900℃の昇温そして中間
焼鈍後の900℃から500℃の降温を5℃/S以上な
かでも10℃/S以上にすることが望ましい。この急熱
急冷処理は通常の連続炉あるいはバッチ炉等公知の手法
を用いて良い。
次の2法論間圧延は第1図、第3図から明らかなように
75〜90%の圧下率で適合し、最終冷延板厚0.1〜
0.25胴厚に仕上げる。
75〜90%の圧下率で適合し、最終冷延板厚0.1〜
0.25胴厚に仕上げる。
各発明では薄手高磁束密度電磁鋼板の製造を目的とした
ものであり、熱延板の板厚1.5〜3.On+m厚程度
で、第1図、第3図に示す冷間圧延および2法論間圧延
の各圧下率において0.1〜0.25+nm厚の薄手最
終冷延板に仕上げることにより、特性の良好な鋼板が得
られる。
ものであり、熱延板の板厚1.5〜3.On+m厚程度
で、第1図、第3図に示す冷間圧延および2法論間圧延
の各圧下率において0.1〜0.25+nm厚の薄手最
終冷延板に仕上げることにより、特性の良好な鋼板が得
られる。
この時、特公昭54−13866号公報に開示されてい
るように複数パス間に50〜600℃の時効処理を行っ
てもよい。
るように複数パス間に50〜600℃の時効処理を行っ
てもよい。
このようにして0.1〜0.25mmの薄手の板厚とさ
れた冷間板に対しては、750〜870℃程度の温度範
囲において一次再結晶を兼ねる脱炭焼鈍を施す。
れた冷間板に対しては、750〜870℃程度の温度範
囲において一次再結晶を兼ねる脱炭焼鈍を施す。
この脱炭焼鈍は通常は露点+30〜65℃程度の湿水素
ガス雰囲気あるいは水素・窒素混合ガス雰囲気中で数分
間行えば良い。
ガス雰囲気あるいは水素・窒素混合ガス雰囲気中で数分
間行えば良い。
次いで脱炭焼鈍後の鋼板に対しMgOを主成分とする焼
鈍分離剤を塗布し、仕上焼鈍を施して(110) <0
01>方位の2次再結晶粒を発達させる。
鈍分離剤を塗布し、仕上焼鈍を施して(110) <0
01>方位の2次再結晶粒を発達させる。
この仕上焼鈍の具体的条件は従来公知のものと同様であ
れば良いが、通常は1150〜1250℃まで3〜b 達させた後、乾水素中で5〜20時間の純化焼鈍を行う
ことが望ましい。
れば良いが、通常は1150〜1250℃まで3〜b 達させた後、乾水素中で5〜20時間の純化焼鈍を行う
ことが望ましい。
ついで最終冷延を終えて、製品板厚に仕上げた鋼板につ
き、表面脱脂後、脱炭・1次再結晶焼鈍処理が施される
が、第1発明ですべにのべたように、脱炭・1次回結晶
焼鈍後鋼板表面上に異質微小領域の区画を形成すること
によって低鉄損の一方向性珪素鋼板を製造することがで
きる。
き、表面脱脂後、脱炭・1次再結晶焼鈍処理が施される
が、第1発明ですべにのべたように、脱炭・1次回結晶
焼鈍後鋼板表面上に異質微小領域の区画を形成すること
によって低鉄損の一方向性珪素鋼板を製造することがで
きる。
この鋼板表面上に異質微小領域の区画を形成する方法は
■鋼板表面上にレーザー、放電加工、ケガキあるいはボ
ールペン状の小球による局所位置に微小歪を導入あるい
は異張力の働く領域(特公昭54−23647号、特公
昭58−2968号、特開昭60−89545号、特願
昭59−261740号および特開昭57−18810
号公報参照) ■鋼板表面上に局所位置に熱処理による鋼板表面上で温
度ムラを作る(特開昭59−100221号、特開昭6
0−114519号 、特開昭60−103120号お
よび特開昭60−103132号公報参 照)等を用い
ることができる。
ールペン状の小球による局所位置に微小歪を導入あるい
は異張力の働く領域(特公昭54−23647号、特公
昭58−2968号、特開昭60−89545号、特願
昭59−261740号および特開昭57−18810
号公報参照) ■鋼板表面上に局所位置に熱処理による鋼板表面上で温
度ムラを作る(特開昭59−100221号、特開昭6
0−114519号 、特開昭60−103120号お
よび特開昭60−103132号公報参 照)等を用い
ることができる。
このような処理をした後、鋼板表面上にはMgOを主成
分とする焼鈍分離剤を塗布し、仕上焼鈍を施して(11
0) <001>方位に強く集積した2次再結晶粒を発
達させる。この仕上焼鈍の具体的条件は従来公知の焼鈍
方法と同様であれば良いが、通常は1150〜1250
℃まで3〜b 温しで2次再結晶粒を発達させた後、乾水素中5〜20
hrのは純化焼鈍を行うことが望ましい。
分とする焼鈍分離剤を塗布し、仕上焼鈍を施して(11
0) <001>方位に強く集積した2次再結晶粒を発
達させる。この仕上焼鈍の具体的条件は従来公知の焼鈍
方法と同様であれば良いが、通常は1150〜1250
℃まで3〜b 温しで2次再結晶粒を発達させた後、乾水素中5〜20
hrのは純化焼鈍を行うことが望ましい。
仕上焼鈍後の鋼板表面上のフォルステライト質被膜上に
は確実な絶縁を保証するため絶縁被膜が施されるが、第
2発明ですでにのべたように、仕上焼鈍を施した鋼板表
面上に異質微小の区画を形成することによって低鉄損の
一方向性珪素鋼板を製造することができる。
は確実な絶縁を保証するため絶縁被膜が施されるが、第
2発明ですでにのべたように、仕上焼鈍を施した鋼板表
面上に異質微小の区画を形成することによって低鉄損の
一方向性珪素鋼板を製造することができる。
この場合特公昭57−22525号、特公昭57−53
419号、特公昭58−5968号、特公昭58−26
405号、特公昭58−26406号、特公昭58−2
6407号および特公昭58−36051号各公報で開
示されたレーザー照射法による人工粒界導入法では低温
でしか安定使用できないという欠点を有しているため、
高温の歪み取り焼鈍を行っても磁気特性が劣化しない方
法による鋼板表面上に不均質領域を区画形成する方法を
採用する必要がある。
419号、特公昭58−5968号、特公昭58−26
405号、特公昭58−26406号、特公昭58−2
6407号および特公昭58−36051号各公報で開
示されたレーザー照射法による人工粒界導入法では低温
でしか安定使用できないという欠点を有しているため、
高温の歪み取り焼鈍を行っても磁気特性が劣化しない方
法による鋼板表面上に不均質領域を区画形成する方法を
採用する必要がある。
高温焼鈍を施しても磁気特性が劣化しない不均質領域の
区画形成方法は d鋼板表面上のフォルステライト被膜の厚みの異なる領
域を区画形成する(特開昭60−92479号参照)b
フォルステライト被膜の上に異種の張力コーティングを
区画形成する(特開昭60−103182号公報)C上
述したようにレーザー等を用いてフォルステライト被膜
を局部的に除去した後、その局所領域を回復・再結晶さ
せて不均一2次再結晶粒を区画形成する(特開昭59−
100222号公報参照)等を用いることができる。
区画形成方法は d鋼板表面上のフォルステライト被膜の厚みの異なる領
域を区画形成する(特開昭60−92479号参照)b
フォルステライト被膜の上に異種の張力コーティングを
区画形成する(特開昭60−103182号公報)C上
述したようにレーザー等を用いてフォルステライト被膜
を局部的に除去した後、その局所領域を回復・再結晶さ
せて不均一2次再結晶粒を区画形成する(特開昭59−
100222号公報参照)等を用いることができる。
さらにこのような処理した上に確実な絶縁性を保証する
ためにりん酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁
被膜の塗布焼付を行うことが、100万にνAにも上る
大容量トランスの使途において当然に必要であり、この
絶縁性塗布焼付層の形成の如きは従来公知の方法をその
まま用いて良い。
ためにりん酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁
被膜の塗布焼付を行うことが、100万にνAにも上る
大容量トランスの使途において当然に必要であり、この
絶縁性塗布焼付層の形成の如きは従来公知の方法をその
まま用いて良い。
このような絶縁被膜を形成させた後、600℃以上の温
度で歪み取り焼鈍が施され、この発明の上記の製造方法
はこのような高温焼鈍を施しても磁気特性の劣化が起こ
らないのが特徴である。
度で歪み取り焼鈍が施され、この発明の上記の製造方法
はこのような高温焼鈍を施しても磁気特性の劣化が起こ
らないのが特徴である。
実施例I
C0.054%、Si3.36%、 Mo 0.024
%。
%。
、 酸可溶AI 0.025%、 Se 0.020
%を含有する連鋳スラブを1420℃で4時間加熱後、
熱間圧延して2.2胴厚の熱延板とした。その後約40
%の1法論間圧延を施して後、1100℃で2分間の中
間焼鈍を施した。この中間焼鈍の際には500℃から9
00℃までを12℃/Sの急熱処理および中間焼鈍後9
00℃から500℃までを18℃/Sで急冷処理を施し
た。その後約83%の2次冷延を施して0.23+nm
厚の最終冷延板としたのち、840℃の湿水素中で脱炭
・1次再結晶焼鈍を施した。
%を含有する連鋳スラブを1420℃で4時間加熱後、
熱間圧延して2.2胴厚の熱延板とした。その後約40
%の1法論間圧延を施して後、1100℃で2分間の中
間焼鈍を施した。この中間焼鈍の際には500℃から9
00℃までを12℃/Sの急熱処理および中間焼鈍後9
00℃から500℃までを18℃/Sで急冷処理を施し
た。その後約83%の2次冷延を施して0.23+nm
厚の最終冷延板としたのち、840℃の湿水素中で脱炭
・1次再結晶焼鈍を施した。
この後パルスレーザ−を用いて圧延方向に直角方向に線
状(線幅0.3+nm幅)に8mm間隔で照射した後こ
のレーザー照射位置に5nC13(0,01mol/1
.90℃)溶液を塗布した。
状(線幅0.3+nm幅)に8mm間隔で照射した後こ
のレーザー照射位置に5nC13(0,01mol/1
.90℃)溶液を塗布した。
その後鋼板表面上にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を
塗布した後850℃からLot/hrで1100℃まで
昇温しで2次再結晶させた後1200℃で15時間乾水
素中で純化焼鈍した。
塗布した後850℃からLot/hrで1100℃まで
昇温しで2次再結晶させた後1200℃で15時間乾水
素中で純化焼鈍した。
その後リン酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁
被膜を焼付処理した後800℃で2時間の、歪み取、り
焼鈍を施した。そのときの製品の磁気特性および表面性
状は次のようであった。
被膜を焼付処理した後800℃で2時間の、歪み取、り
焼鈍を施した。そのときの製品の磁気特性および表面性
状は次のようであった。
磁気特性はBlo 1.94T 5LI7yso 0.
79W/kg 1表面性状は表面欠陥のブロック発生率
で0.8%と非常に良好であった。
79W/kg 1表面性状は表面欠陥のブロック発生率
で0.8%と非常に良好であった。
実施例2
C0.056%、Si3,41%、 Mo 0.025
%。
%。
酸可溶AI 01030%、 Se 0.020%、S
n0.1%、Cu0.1%を含有する連鋳スラブを14
30℃で4時間加熱後、熱間圧延して2.2m[11厚
に仕上げた。その後約40%の1法論間圧延を施した後
、1050℃で5分間の中間焼鈍を行った。この中間焼
鈍の際には500℃から900℃までを15℃/Sの急
熱処理および中間焼鈍後900℃から500℃までを2
0℃/Sの急冷処理を施した。次に約85%の2次冷延
を施して0.20印厚の冷延板としたが、この冷間圧延
の際には250℃で温間圧延を施した。その後850℃
の湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施し、次いでMg
Oを主体とする焼鈍分離剤を塗布してから850℃から
1100℃まで8℃/hrで除熱したのち、水素雰囲気
中で1200℃、10時間の純化焼鈍を施した。
n0.1%、Cu0.1%を含有する連鋳スラブを14
30℃で4時間加熱後、熱間圧延して2.2m[11厚
に仕上げた。その後約40%の1法論間圧延を施した後
、1050℃で5分間の中間焼鈍を行った。この中間焼
鈍の際には500℃から900℃までを15℃/Sの急
熱処理および中間焼鈍後900℃から500℃までを2
0℃/Sの急冷処理を施した。次に約85%の2次冷延
を施して0.20印厚の冷延板としたが、この冷間圧延
の際には250℃で温間圧延を施した。その後850℃
の湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施し、次いでMg
Oを主体とする焼鈍分離剤を塗布してから850℃から
1100℃まで8℃/hrで除熱したのち、水素雰囲気
中で1200℃、10時間の純化焼鈍を施した。
その後鋼板表面上に圧延方向に直角方向に0.5mm幅
、3 mm間隔にケガキを導入した後、リン酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜を焼付処理し、8
00℃で5時間の歪み取りと回復・再結晶焼鈍を施した
。
、3 mm間隔にケガキを導入した後、リン酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜を焼付処理し、8
00℃で5時間の歪み取りと回復・再結晶焼鈍を施した
。
得られた製品の磁気特性および表面性状は次のようであ
った。
った。
磁気特性B、o 1.94T 、 L7yso 0.7
6W/kg 、表面性状の表面欠陥のブロック発生率は
1.1%できわめて良好であった。
6W/kg 、表面性状の表面欠陥のブロック発生率は
1.1%できわめて良好であった。
実施例3
001053%、Si3.38%、 Mo 0.026
%。
%。
酸可溶Al 0.030%、 S 0.028%を含有
する連鋳スラブを1400℃で5時間加熱後熱間圧延し
て2.0mm厚に仕上げる。
する連鋳スラブを1400℃で5時間加熱後熱間圧延し
て2.0mm厚に仕上げる。
その後980℃で3分間の中間焼鈍をはさんで2回の冷
間圧延(1法論延率二60%、2次冷延率;75%)を
施して0.23mm厚さの最終冷延板とした。なおこの
中間焼鈍の際には500℃から900℃まで13℃/S
、900℃から500℃まで15℃/Sの急熱冷処理し
た。その後840℃の湿水素中で脱炭を兼ねた1次再結
晶焼鈍を施した後鋼板表面上に圧延方向に直角方向に0
.5mm幅、3mm間隔にケガキを導入した後、その位
置に5bC13(0,01mol/1 、80℃溶液)
を塗布した。その後MgOを主成分とする焼鈍分離剤を
塗布した後850℃から1050℃まで8℃/hrで昇
温しで2次再結晶させた後1200℃で10時間乾水素
中で純化焼鈍を施したのち、絶縁被膜を形成した。その
ときの製品の磁気特性および表面性状は次のようであっ
た。
間圧延(1法論延率二60%、2次冷延率;75%)を
施して0.23mm厚さの最終冷延板とした。なおこの
中間焼鈍の際には500℃から900℃まで13℃/S
、900℃から500℃まで15℃/Sの急熱冷処理し
た。その後840℃の湿水素中で脱炭を兼ねた1次再結
晶焼鈍を施した後鋼板表面上に圧延方向に直角方向に0
.5mm幅、3mm間隔にケガキを導入した後、その位
置に5bC13(0,01mol/1 、80℃溶液)
を塗布した。その後MgOを主成分とする焼鈍分離剤を
塗布した後850℃から1050℃まで8℃/hrで昇
温しで2次再結晶させた後1200℃で10時間乾水素
中で純化焼鈍を施したのち、絶縁被膜を形成した。その
ときの製品の磁気特性および表面性状は次のようであっ
た。
磁気特性B+o’1.94T 、 W+tz5o:0
.77W/kg表面性状の表面欠陥のブロック発生率は
1.3%できわめて良好であった。
.77W/kg表面性状の表面欠陥のブロック発生率は
1.3%できわめて良好であった。
(発明の効果)
以上の説明で明らかなように本発明の方法によれば81
0が1.92T以上で、鉄損が0.85W/kg (0
,23mm厚)以下の鉄損で、しかも製品の表面性状が
極めて優れた薄手一方向性珪素鋼板を工業的に安定して
製造することができる顕著な効果を有するものである。
0が1.92T以上で、鉄損が0.85W/kg (0
,23mm厚)以下の鉄損で、しかも製品の表面性状が
極めて優れた薄手一方向性珪素鋼板を工業的に安定して
製造することができる顕著な効果を有するものである。
またこの発明によれば、素材中にMOとAlとを含有さ
せて冷延2回法で最終冷延板とした後脱炭・1次再結晶
焼鈍後または仕上焼鈍後の鋼板表面上に異質微小領域区
画を形成することにより不均一で而も細粒のGoss方
位2次再結晶組織を発達させて鉄損特性、表面性状がと
もに優れた製品が安定した工程で製造できる。
せて冷延2回法で最終冷延板とした後脱炭・1次再結晶
焼鈍後または仕上焼鈍後の鋼板表面上に異質微小領域区
画を形成することにより不均一で而も細粒のGoss方
位2次再結晶組織を発達させて鉄損特性、表面性状がと
もに優れた製品が安定した工程で製造できる。
第1図は製品の磁気特性と1法論間圧延および2法論間
圧延の圧下率との関係および表面性状の状況を示す図、 第2図は中間焼鈍の際の昇温速度および冷却速度と製品
の磁気特性との関係を示す図である。
圧延の圧下率との関係および表面性状の状況を示す図、 第2図は中間焼鈍の際の昇温速度および冷却速度と製品
の磁気特性との関係を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、Si3.1〜4.5wt%、 Mo0.003〜0.1wt%、 酸可溶Al0.005〜0.06wt%、 そしてSおよびSeのいずれか1種または 2種を合計量で0.005〜0.1wt%、を含有する
スラブを熱間圧延して熱延板とした後、圧下率10〜6
0%の1次冷間圧延を施し、ついで中間焼鈍を経て、圧
下率75〜90%の2次冷間圧延を施し0.1〜0.2
5mm厚の最終板厚に仕上げ、この薄手冷延板を湿水素
中で脱炭・1次再結晶焼鈍後するに際し、引続く高温仕
上焼鈍を経た鋼板表面上に異質微小領域区画の形成をも
らたす処理を予め施しておいて、高温仕上焼鈍に供する
ことを特徴とする表面性状の優れた低鉄損薄手一方向性
珪素鋼板の製造方法。 2、Si3.1〜4.5wt%、 Mo0.003〜0.1wt%、 酸可溶Al0.005〜0.06wt%、 そしてSおよびSeのいずれか1種または2種を合計量
で0.005〜0.1wt%、 を含有するスラブを熱間圧延して熱延板とした後、圧下
率10〜60%の1次冷間圧延を施し、ついで中間焼鈍
を経て、圧下率75〜90%の2次冷間圧延を施し0.
1〜0.25mm厚の最終板厚に仕上げた薄手冷延板を
、湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍後、高温仕上焼鈍し
、さらにこの鋼板表面上に異質微小領域区画を形成する
ことを特徴とする、表面性状の優れた低鉄損薄手一方向
性珪素鋼板の製造方法。 3、中間焼鈍が、500℃から900℃までの温度範囲
の昇温過程における加熱速度毎秒5℃以上、900℃か
ら500℃までの温度範囲の降温過程における冷却速度
毎秒5℃以上の条件である1又は2に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61066849A JPH0657855B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61066849A JPH0657855B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62224635A true JPS62224635A (ja) | 1987-10-02 |
JPH0657855B2 JPH0657855B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=13327705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61066849A Expired - Lifetime JPH0657855B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0657855B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59126722A (ja) * | 1983-01-11 | 1984-07-21 | Nippon Steel Corp | 鉄損の優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 |
JPS59173218A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-01 | Kawasaki Steel Corp | 磁束密度が高く鉄損の低い一方向性けい素鋼板の製造方法 |
JPS602624A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-08 | Kawasaki Steel Corp | 表面性状および磁気特性に優れた一方向性珪素鋼板の製造方法 |
-
1986
- 1986-03-25 JP JP61066849A patent/JPH0657855B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59126722A (ja) * | 1983-01-11 | 1984-07-21 | Nippon Steel Corp | 鉄損の優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 |
JPS59173218A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-01 | Kawasaki Steel Corp | 磁束密度が高く鉄損の低い一方向性けい素鋼板の製造方法 |
JPS602624A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-08 | Kawasaki Steel Corp | 表面性状および磁気特性に優れた一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0657855B2 (ja) | 1994-08-03 |
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