JPS59126722A - 鉄損の優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents

鉄損の優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法

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JPS59126722A
JPS59126722A JP169383A JP169383A JPS59126722A JP S59126722 A JPS59126722 A JP S59126722A JP 169383 A JP169383 A JP 169383A JP 169383 A JP169383 A JP 169383A JP S59126722 A JPS59126722 A JP S59126722A
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JP
Japan
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cold rolling
thickness
iron loss
steel sheet
magnetic flux
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Application number
JP169383A
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Tomohiko Sakai
酒井 知彦
Takahide Shimazu
高英 島津
Toshio Nishiyama
西山 敏夫
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Publication of JPS59126722A publication Critical patent/JPS59126722A/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D8/00Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
    • C21D8/12Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は(tlo)(oox)方位の結晶粒からなる一
方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。
一方向性電磁鋼板の分野(トランス)では、近年、エネ
ルギーロスの少ない優れた磁気特性を有するものが、省
エネルギーの観点から強い市場要求がある。このため従
来の電磁見学として公知の渦電流損を下げる方法、即ち
、高電気抵抗を狙うSt増量及び成品厚の薄手化は、こ
の時代の趨勢となっている。
成品厚を薄くすればする程、鉄損が良くなることは古典
的電磁気宇で計算されているが、最近でも原子スピンを
勘案したモデルで説明されている。
これらのモデルは、通常の0.30″+m又は0.35
″′″!厚の(11(J)(001)方位結晶群からな
る成品板に対して、例えは化学研磨によシ順次、減厚後
、張力コーティングを施し、鉄損を測定すればほぼ合う
ようである。
しかしながら、化学研磨によシ薄くすることは、工業的
には、著しく歩留が低下するため、いかにして冷間圧延
によシ減厚して工業化するかが主眼点となってくる。従
来、0.26 ”未満の板厚になると、二次再結晶が極
めて不安定になシ、(110)(OOIJ配列が得られ
ないため薄くすればする程、鉄損が悪くなるのが実際で
あったため、At含有高磁束密度一方向性電磁鋼板にお
いて0.26 ”を限界としてそれ以下の板厚のものを
、販売することが、出来なかった。
本発明は、鉄損の浸れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼
板を工業的に生産する技術を提供するものであシ、とく
に製造のノロセスと冷延圧下率に革新的な考え方を導入
したものである。
まず、本発明の概略製造方法を説明する。
鋼はSlを2〜4%含有し、(110)(001〕方位
の選択成長を積極的に行なわせ、高磁束密度を狙うため
、At及びNを含む。またその他のインヒビターとして
公知の析出型(MnS 、 Cu2Sなど)や粒界偏析
型(Snなど)を含んで良い。かかる化学成分からなる
熱延板を、まず冷延率15〜40%の範凹内で予備冷延
を実施する。次いで特公昭40−15664号公報に示
されるような950〜1200℃で、30秒〜30分間
の焼鈍を行ない急冷によJ AtNの析出を微細化する
。次に冷延率80〜90チで最終冷延を行ない、0.1
5〜0.25”に仕上げるっこの時、特公昭54−13
866号公報による複数パス間に、50〜600°の時
効処理を行なうと一段と磁気特性が改善される。以下、
通常の脱炭焼鈍、高温仕上焼鈍、張力コーティングを尻
し、成品となす。
本発明における要点は3つある。1つは、冷間圧延を2
回に分けること、2つ目に、予備圧延工程をAtN微細
析出処理工程の前にもってくること、また3つ目には、
予備冷延と最終冷延の各々の冷延率と、そのバランスで
ある。
以下に本発明者達の行った実験結果について説明する。
供試利け、第1表に示すAt含有一方向性電磁鋼である
第  1  表 これを、第2表に示す工程で成品とした。
第2表 また本発明プロセスでの実験を、第3表で行ない、供試
材は第1表と同一のものを使用した。
第  3  表 註)冷延率配分 ホットコイル厚  予備冷延仕上厚(冷延率) 最終冷
延仕上厚(冷延率)2.2”   −+   2.00
”(9,0%) → 0.28”(86,0%)2.2
m″  →  1.86”(15,4%)−)  0.
26”(86,0%)2.21+1   →  1.7
1” (22,3%)→ 0.24″” (s 6.o
チ)ホットコイル厚 予備冷延仕上厚(冷延率) 最終
冷延仕上厚(冷延率)2.2”″ −+  1.57”
(28,6%)−+  0.22”(86,0%)2.
2”  −)  1.43”(35,0%)  → 0
.20”(86,0%)2.2″l → 1.29 ”
 (41,4%)→ 0.18”’ (86,0%)2
.2”  → 1.14”(48,2%)  → 0.
16”(86,0%)2.2 III   → 1.0
0 ” (54,5%)→ 0.14” (86,0%
)本実験の品質結果について第1図に示す。第1図から
明らかなように、第2表の工程、即ち従来の強圧下1回
冷延法で製造した場合、成品厚0.25關よシ厚いと、
良い特性結果が得られるが、0.25朋よシも薄くなっ
た場合、2次再結晶不良による著しい、劣化が認められ
る。一方、本発明プロセスで製造した成品は、0.25
”以下の薄物で特に浸れた鉄損特性を示す。
本発明者達は、更に本発明プロセスにおける予備圧延と
最終圧延の各々の冷延率バランス最適化のため、ホット
コイル厚1.6 Ig〜5.4amまで振らせて実験し
たので、以下に記述する。なお、ホットコイル厚1.5
1111以下を対象としなかったのは、1、57118
以下では、熱延仕上温度が低下し、AtNの析出が熱延
段階で起き、ホットコイル素材そのものが異常となシ、
後工程を通板しても、二次再結晶しないためである。
供試材の成分を第4表に示す。B成分については、第1
表と同一の累月である。
第  4  表 化学成分(wt%) 製造工程は、第3表と同じで、成品厚を0.25” 。
015″+iの2極類を造シ、第2図の結果を得た。
A成分、B成分とも品質結果にほとんど差がなかったの
で、平均値で1点のみをグロットした。第2図で明らか
なように冷延率によって磁気特性が大きく異な勺、良好
範囲が予備冷延率15〜4゜チ、最終冷延率80〜90
%の内にある。なお、0.20 成品でも実験は行なっ
たが同じ良好範囲が得られた。
良好範囲の外の特性について説明すると以下の如くであ
る。
予備冷延率が15チ未満では線状細粒の異常が多く、鉄
損が劣化し、また40%を超えると磁束密度が低下する
ため鉄損劣化が起きる。最終冷延率が90チよフ大きい
と脱炭焼鈍後の集合組織において(110)面強度が低
下し細粒異常となシ、鉄損の劣化をまねく。また80%
より小さいと磁束密度が低下し、鉄損が増加する。
なおその他の条件の限定理由を、次にのべる。
Cは、0.02%未満の場合、二次再結晶が不良となシ
、0.12 %を超えると脱炭性、磁気特性の点から好
ましくない。
siが2%未満では良好な鉄損が得られず4%を超える
と冷延性が著しく劣化する。
Mn及びSは、MnSを形成させるために必要な元素で
あジインヒビターの作用を奏するためにMnの適量は、
0.03〜0.15%が良い。
Sは0.05%を超えると純化焼鈍での脱硫が困難とな
シ好ましくない。一方、0.01%未満ではインヒビタ
ーとしてMnS量が不足するからSは0.01〜0.0
5%とする。
At及びNはインヒビターAtNを形成するため必要で
あり、Atの適量は0.01〜0.05%、好ましくは
、0.02〜0,03%の範囲が良い。Atが低過ぎる
と磁束密度が低く、高過ぎると二次再結晶が不安定にな
る。Nの適量は0.004〜0.012チである。
低過ぎるとktNが不足し、高過ぎると製品にブリスタ
ーが発生する。
その他、Sn 、 Cuを単独又は複合添加することに
よシ、二次再結晶の安定化、グラスフィルムの向上が達
成され、適量範囲は各々0,02〜03%である。少な
過ぎると効果がなく、多すぎるとコスト上の問題がある
スラブの製造に関しては、連続鋳造法又は分塊圧延法の
いづれを採用しても良い。
熱間圧延後のホットコイル厚みは、1.6 ml″〜3
.51が好ましい。1.6″″″未満では、熱延中の冷
却が早いためAtNの析出が生じ易く、二次再結晶不良
とな勺、また、3.5w111以上では、ホットコイル
酸洗ラインなどで、通板中、曲げ変形を受ける部分で破
断が生じ易いためである。
最終冷延厚みは、0.15〜0.25″lIl′である
が、0、15 ”未満では、本発明プロセスでも二次再
結晶が不安定である。0.25 ”を超えると従来法の
強圧下1回冷延法で製造が可能である。最終冷延時は、
複数/4’ス間に特公昭54−13866号公報あるい
は特公昭54−29182号公報による50〜600′
cの時効処理が好ましい。
脱炭焼鈍は800〜900 で30秒〜10分間、湿水
素・窒素の混合雰囲気中で行なう。
仕上焼鈍後の張力コーティングは、コーティングしない
ときに比較し、Wl、75oで0.1 W/Ic9 (
0,22”厚)向上するので重要である。張力コーティ
ングはコロイダルシリカ、無水クロム酸、リン酸アルミ
ニウムを主成分とするコーテイング液を塗布し、乾燥す
る。
以下に本発明の実施例について説明する。
実施例1 成分を各種変更(第5表参照)した珪素鋼の連続鋳造K
 ヨル250”スフ 7’ ヲ、1400” K加熱し
、2.2“のホットコイルにした。ホットコイルを15
〜40%の予備冷延率をとり、次いで1120”X4分
 焼鈍した後、急冷した。その後80〜90%冷延率で
最終冷延を行なった。次に得られた冷延板に水素20チ
、窒素80%、露点40′cの雰囲気中で840′cX
a分の脱炭焼鈍を施し、更にMgOとTlO2を混合し
た焼鈍分離剤を塗布し水素気流中で1200  X20
時間仕上焼鈍を実施した。かくして得られた鋼板にその
後コロイダルシリカ、無水クロム酸、リン酸アルミニウ
ムを主成分とするコーテイング液を塗布(張力コーティ
ング)し平板化焼鈍を行なった。得られた成品から試料
を切出し歪取後の磁気特性を測定した一覧を第5表に示
す。
いづれも、本発明法によシ優れた磁気特性を有する成品
が得られたが、sitを増加させた素材にも良い結果が
得られた。
【図面の簡単な説明】
第1図は薄手成品を造る場合の、従来の強圧下1回冷′
iA法と本発明の2回冷処法による磁気特性の差を示す
図、第2図は本発明法における最適な冷延率バランスを
示す図である。 17150 第2図:凡例 Uo、92〜1.00W/kg・ 1.
01〜1.10 W/に9 X  1.11 W/kliL以上 17150 第3図:凡例 0080〜0.95 W/に9・ 0.
96〜1.10 W/確 × 1.11W/kg以上 第1図 族晶厚 (/77/77) 第2 図 6θ 予備〕令砥幸(%) θ15MIn) 友品 手続補正書(自発) 昭和59年1 月25日 特許庁長官若杉和夫殿 1、 事件の表示 昭和58年手持願第001693号 2、 発明の名称 鉄損の優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方
法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都千代田区大手町二丁目6番3号 (665)新日本製鐵株式會社 代表者 武  1)   豊 6 補正の対象 (1ン明細書全文を別紙の通り補正する。 (2〕第2図を別紙の通り補正する。 (3)第3図及び第4図を別紙の通り補充する。 明    細    省 1、発明の名称 鉄損の優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方
法 2、特許請求の範囲 Sl 2〜4 % 、 5olAl 0.02〜0.0
4 %を含有する熱延板を15〜40%の冷延率で予備
冷延を行なった後、焼鈍し次いで80〜90チの冷延率
で最終冷延を行ない、0.15mW〜0.25 關の板
厚とした後、脱炭焼鈍及び高温仕上焼鈍することを特徴
とする鉄損の優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼板の
製造方法。 3、発明の詳細な説明 る一方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。 一方向性電磁鋼板の分野(トランス)では、近年、エネ
ルギーロスの少ない優れた磁気特性を有するものが、省
エネルギーの観点から強い市場要求がある。このため従
来の電磁気宇として公知の渦電流損を下げる方法、即ち
、高電気抵抗を狙うSi:t%i及び成品厚の薄手化は
、この時代の趨勢となっている。また最近の需倣家ニー
ズとして、鉄損を1視する傾向があシ、磁束孔度はやや
低目の方が実根トランス特性が良いとされている。 ところで成品厚を薄くすればラ゛る程、鉄損が良くなる
ことは古典的電磁気宇で計算されているが、最近でも原
子ス♂ンを勘案したモデルで説明されている。これらの
モデルは、通常の0. 3 0 mm又は0、 3 5
 mm厚の(tto)l:ooil方位結晶群からなる
成品板に対して、例えば化学研磨によシ順次、減厚後、
張力コーティングを施し、鉄損を測定すれはほぼ合うよ
うである。 しかしながら、化学研磨によシ薄くすることは、工業的
には、著しく歩留が低下するため、いかにして冷間圧延
によシ減厚して工業化するかが主眼点゛となってくる。 従来、0.26朋未満の板厚になると、二次再結晶が極
めて不安定になり、(110)〔001〕配列が得られ
ないため薄くずれはする程、鉄損が悪くなるのが実際で
あったため、At含有高磁束密度一方向性電磁鋼板にお
いて0.26朋を限界としてそれ以下の板厚のものを、
販売することが、出来なかった。 本発明は、鉄損の優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼
板を工業的に生産する技術の提供と同時に需要家ニーズ
の鉄損を重視した素材を提供するもので、とくに製造の
プロセスと冷延圧下率に革新的な考え方を導入したもの
である。 まず、本発明の概略製造方法を説明する。 鋼はSlを2〜4%含廟し、(110)[001:)方
位の選択成長を積極的に行なわせるため、At及びNを
含む。またその他のインヒビターとして公知の析出型(
MnS 、 Cu2Sなど)や粒界偏析型(Snなど)
を含んで良い。かかる化学成分からなる熱延板を、まず
冷延率15〜40%の範囲内で予備冷延を実施する。次
いで特公昭46−23820号公報に示されるような9
50〜1200℃で、30秒〜30分間の焼鈍を行ない
急冷によl) ktNの析出を微細化する。次に冷延率
80〜90%で最終冷延を行ない、0.15〜0.25
 xtnに仕上ける。この時、特公昭54−13846
号公報あるいは特公昭54−29182号公報による複
数パス間に、50〜600℃の時効処理を行なうと一段
と磁気特性が改善される。以下、通常の脱炭焼鈍、高温
仕上焼鈍、張力コーティングを施し、成品となす。 本発明における要点は3つある。1つは、冷間圧延を2
回に分けること、2つ目に、予備圧延工程をAtN微細
析出処理工程の前にもってくること、また3つ目には、
予備冷延と最終冷延の各々の冷延率と、そのバランスで
ある。 以下に本発明者達の行った実験糺果について説明する。 供試料は、第1表に示すAt含有一方向性電磁鋼である
。 第1表 これを、第2表に示す工程で成品とした。 第2表 また本発明プロセスでの実験を、第3表で行ない、供試
材は第1表と同一のものを使用した。 第3表 註)冷延率配分 ホットコイル厚 予侃j冷延仕上厚(冷延率) 最終玲
延仕土浮(冷延率)2.2訂 → 2.00間(9,1
%)→ 0,28關(86,0%)2.2朋  → 1
.86mg(15,4%)  → 0.26mm(86
,0%)2211m  →1.71 mm(22,3%
)−)  0.24mm(86,0%)2.2 myr
t  → 1.57 urn (28,6%)→ 0.
22 mm (86,0%)2.21m  → 1.4
3mm(aり、o%)  → 0.20 Mm (86
,01)ホットコイル厚 予備玲延仕上片(冷延率) 
置載冷延仕上厚(冷延率)2.2gmm  → 1.2
9 vrm (41,4%)→ 0.18mm(86,
0%)2.2悶 → 1,14顛(48,2%)→ 0
.16 gm (86,0%)2.2gm  → 1.
00 mrn (54,5%)→ 0.1411Im(
86,0%)本実験の品質結果について第1図に示す。 第1図から明らかなように、第2表の工程、即ち従来の
強圧下1回冷延法で製造した場合、成品厚025龍よシ
厚いと、良い特性結果が得られるか、025朋よシも薄
くなった場合、2次再結晶不良による著しい、劣化が認
められる。一方、本発明プロセスで製造した成品は、0
.25群以下の薄物で特に優れた鉄損特性を示す。 本発明者達は、更に本発明プロセスにおける予備圧延と
最終圧延の各々の冷延率・々ランス最適化のため、ホッ
トコイル79.1.6 mm〜5.4 mm ’!で振
らせて実瓢したので、以下に記述する。なお、7jクツ
トコイル厚1.5關以下を対象としなかったのは、1.
5朋以下では、熱延性上温度が低下し、AtNの析出が
熱延段階で起き、ホットコイル素側そのものが異常とな
シ、後工程を通板しても、二次再結晶しないためである
。 供試材の成分を第4表に示す。B成分については、第1
表と同一の累月である。 第4表 化学成分(wt%) 製造工程は、第3表と同じで、成品厚を0.25mmy
O,15mmの2種類を迄シ、第2図の&、朱を得た。 A成分、B成分との品質結果にほとんど差がなかったの
で、平均値で1点のみをプロットした。 第2図、第3図で明らかなように冷延率によって磁気特
性が大きく異なり、良好範囲が予備冷延率15〜40チ
、最終冷延率80〜90%の内にある。なお、0.20
mm成品でも実験は行なったが同じ良好範囲が得られた
。 更に本発明者達は、本発明プロセスの特徴を間離化する
ため、0.30訂と0.20mm成品の2種類を造シ、
それぞれの冷延率配分を変更する下記の実験を行なった
。 供試拐は、2.2朋厚ホツトコイルを使用し、成分は第
5表のとおシである。 第     5     表 製造工程は、第2表、第3表と同じで、予備冷延率と最
終冷延率のバランスを変更し、第4図の結果を得た3、
第4図から明らかなように、0.30龍と0.20 顛
成品では冷延率と磁気特性の相関性に著るしい差異が認
められる。即ち、0.30m+a成品の場合、予備冷延
率の増加に伴なって、磁気特性が徐々に劣化するが、0
.20tnx成品では、所定の予備冷延率範囲にのみ、
鉄損のベストがある。 0、20 tryでは、予備冷延率15チ以下で、線状
細粒異常による磁性のバラツキが大きく、1だ40チ以
上では、最終冷延率の減少による鉄損の劣化が、認めら
れる。 まだとくに、本発明プロセスの特徴としてあげられるこ
とは磁束密度そのものについては、例えは予備冷延しな
い場合のベスト値(0,30mm+0、20 mmいづ
れの場合も)に比較して、若干低下していることである
。これは、最近の需要家ニーズであるトランス実機特性
の改善、即ち磁束密度の向上を抑えて且つ低鉄損を達成
した累月が、提供出来ることを意味している。 良好範囲の外の特性について説明すると以下の如くであ
る。 予備冷延率が15%未満では線状細粒の異常か多く、鉄
損が劣化し、また15チを超えると、磁束密度が漸減す
る傾向があるが、とくに40チを超える高圧延率では、
ホットコイル厚が必然的に厚くなって来るため、曲は変
形時の脆性問題が生じ、生産ラインでの通板性が困難に
なる。最終冷延率が90%よシ大きいと脱炭焼鈍後の集
合組織において(110)面強度か低下し細粒異常とな
シ、鉄損の劣化をまねく。また80%よシ小さいと磁東
密度が低下し、鉄損が増加する。 なおその他の条件の限定理由を、次にのべる。 Cは、0.02%未満の場合、二次再結晶が不良とな’
>、o−x2mを超えると脱炭性、磁気特性の点から好
ましくない。 Siが2チ未満では良好な鉄損が得られず4%を超える
と冷延性が著しく劣化する。 Mn及びSは、MnSを形成させるために必要な元素で
あυインヒビターの作用を奏するためにMnの適量は、
003〜0.15%が良い。 Sは005%を超えると純化焼鈍での脱硫が回前となυ
好ましくない。一方、0.01チ未満ではインヒビター
としてMnSiが不足するからSは0.01〜0.05
%とする。 At及びNはインヒビターAtNを形成するため必要で
あシ、Atの適量は001〜0.05%、好ましくは、
002〜0.03チの範囲が良い。Atが低過きると磁
束f&j度が低く、高過ぎると二次再結晶が不安定にな
る。Nの適量は0.004〜0.012%である。低過
きるとAtNが不足し、高過ぎると製品にブリスターが
発生する。 その他、Sn 、 Cuを単独又は複合添加する。こと
によ、il)、Si量を増加(鉄損向上対策)させたと
きの二次再結晶の安定化による低鉄損化、グラスフィル
ムの向上が達成され、適量範囲は各々OO2〜03襲で
ある。少な過ぎると効果がなく、多ずきるとコスト上の
問題がある。 スラブの製造に関しては、連続鋳造法文は分塊圧延法の
いづれを採用しても良い。 熱間圧延後のホットコイル厚みは、1.6mm〜3、5
 z71が好ましい。1.6順未満では、熱延中の冷却
か早いためAtNの析出が生じ易く、二次再結晶不良と
なシ、また、35朋以上では、ホットコイル酸洗ライン
などで、通板中、曲げ変形を受ける部分で破断が生じ易
いためである。 最終冷延厚みは、0.15〜0.25 +nWであるが
、0、15 mm未満では、本発明プロセスでも二次再
結晶が不安定である。0.25 mmを超えると従来法
の強圧下1回冷延法で製造が可能である。最終冷延時は
、複数パス間に%公昭54−13846号公報あるいは
、傷公昭54−29182号公報記載の方法に従った5
0〜600℃の時効処理が好ましい。 脱炭焼鈍は800〜9oo℃で30秒〜lo分間、湿水
素・窒素の混合雰囲気中で行なう。 仕上焼鈍後の張力コーティングは、コーティングしない
ときに比較し、w17150 テ0−1 wAg(0,
22朋厚)向上するので重要である。張力コーティング
はコロイダルシリカ、無水クロム酸、リン酸アルミニウ
ムを主成分とするコーテイング液を塗布し、乾燥する。 以下に本発明の実施例について説明する。 実施例1 成分を各種変更(第5表参照)した珪素鋼の連続鋳造に
よる250+mスラブを、1400℃に加熱シ、2.2
mrnのホットコイルにした。ホットコイルを15〜4
0%の予備冷延率をとシ、次いで1120UX4分焼鈍
した後、急冷した。その後80〜9゜チ冷延率で最終冷
延を行なった。次に得られた冷延板に水素20%、窒素
80%、露点40℃の雰囲気中で840℃×3分の脱炭
焼鈍を施し、更にVとTlO2を混合した焼鈍分離剤を
塗布し水素気流中で1200℃×20時間仕上焼鈍を実
施した。かくして得られた銅板にその後コロイダルシリ
カ、無水クロム酸、リン酸アルミニウムを主成分とする
コーテイング液を塗布(張力コーティング)シ平板化焼
鈍を行なった。肖られた成品から試料を切出し歪取後の
磁気特性を測定した一覧を第6表に示す。 いづれも、本発明法によシ優れた磁気傷性を有する成品
が得られたが、Si量を増加させた累相にも良い結果が
得られた。 4図面の簡単な説明 第1図は薄手成品を造る場合の、従来の強圧下1回冷延
法と本発明の2回冷延法による磁気%性の差を示す図、
第2図及び第3図は本発明法における最適な冷延率バラ
ンスを示す図、第4図は厚手と薄手成品の冷延率バラン
スに対する磁気特性の相関性を示す図である。 17AO 第2図:凡例 00.92〜1.00 W/%・1.0
1〜1.10 W/に9が発生したものXl、11wA
以上が発生したもの 17150 第3図:凡例 0080〜0.95 W/に9・096
〜1.10W/〜が発生したものXl、189〜以上が
発生したもの

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. Si 2〜4%、5olAL O,02〜0.04%を
    含有する熱延板を15〜40チの冷延率で予備冷延を行
    なった後、焼鈍し次いで80〜90%の冷延率で最終冷
    延全行ない、0.154〜0.25”の板厚とした後、
    脱炭焼鈍及び高温仕上焼鈍することを特徴とする鉄損の
    優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法。
JP169383A 1983-01-11 1983-01-11 鉄損の優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 Pending JPS59126722A (ja)

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