JPS62218550A - 硬質黒色性酸化物薄膜の製造方法 - Google Patents
硬質黒色性酸化物薄膜の製造方法Info
- Publication number
- JPS62218550A JPS62218550A JP5984886A JP5984886A JPS62218550A JP S62218550 A JPS62218550 A JP S62218550A JP 5984886 A JP5984886 A JP 5984886A JP 5984886 A JP5984886 A JP 5984886A JP S62218550 A JPS62218550 A JP S62218550A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- gas pressure
- gas
- hard
- black
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims abstract description 13
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 10
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- -1 reflective mirrors Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003863 physical function Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、硬質の黒色性薄膜を製造する方法に関する。
さらに詳しくは、反応性イオンプレーディング法によっ
て、適宜な基板の表面に硬質で、光沢の優れた黒色性の
酸化物薄膜を製造する方法に関する。
て、適宜な基板の表面に硬質で、光沢の優れた黒色性の
酸化物薄膜を製造する方法に関する。
金属、ガラス、セラミックス、プラスチック等の基板の
表面に、金属、無機物、おるいは有機ポリマーなどの蒸
着薄膜を形成する方法のひとつとして、蒸発源から蒸発
した成分粒子、またはガスをグロー放電によってプラズ
マ・イオン化して行う、いわゆるイオンプレーティング
と呼ばれている方法が知られている。このイオンプレー
ティング法は、絶縁膜、反射鏡、光学フィルム、装飾、
ざらには表示素子、電子デバイスなどの多様な分野に応
用されており、機能性薄膜の製造技術として今後一層の
発展が期待されているものである。
表面に、金属、無機物、おるいは有機ポリマーなどの蒸
着薄膜を形成する方法のひとつとして、蒸発源から蒸発
した成分粒子、またはガスをグロー放電によってプラズ
マ・イオン化して行う、いわゆるイオンプレーティング
と呼ばれている方法が知られている。このイオンプレー
ティング法は、絶縁膜、反射鏡、光学フィルム、装飾、
ざらには表示素子、電子デバイスなどの多様な分野に応
用されており、機能性薄膜の製造技術として今後一層の
発展が期待されているものである。
しかしながら、このイオンプレーティング技術について
は、所望の物性、機能を持った薄膜を製造するためには
、反応装置、反応プロセスにいまだ多くの改善すべき課
題があり、また、その応用については様々な見地からの
検討が必要とされている現状にある。
は、所望の物性、機能を持った薄膜を製造するためには
、反応装置、反応プロセスにいまだ多くの改善すべき課
題があり、また、その応用については様々な見地からの
検討が必要とされている現状にある。
このような課題のひとつとして、これまでの技術、方法
によっては、硬質の、優れた光沢の黒色薄膜を製造する
ことができなかったことがある。
によっては、硬質の、優れた光沢の黒色薄膜を製造する
ことができなかったことがある。
装飾用、あるいは太陽エネルギーの集熱板、熱幅射板、
その他分野への応用に、硬質の黒色薄膜が期待されてい
たが、これまでのイオンプレーティング技術では、この
ような黒色性薄膜を製造することは不可能であると考え
られていた。透明膜、黄色、金色、白色などについては
様々の物質を蒸発源とすることによって薄膜化されてぎ
ていたが、有機上ツマーガスを原料成分とする場合以外
には、黒色の薄膜を得ることはできなかった。しかも、
この有機上ツマーガスを用いる場合には、グラフ１イト
が生成するだけで、硬質で、光沢に優れ、耐久性に優れ
た黒色薄膜を形成することはできなかった。
その他分野への応用に、硬質の黒色薄膜が期待されてい
たが、これまでのイオンプレーティング技術では、この
ような黒色性薄膜を製造することは不可能であると考え
られていた。透明膜、黄色、金色、白色などについては
様々の物質を蒸発源とすることによって薄膜化されてぎ
ていたが、有機上ツマーガスを原料成分とする場合以外
には、黒色の薄膜を得ることはできなかった。しかも、
この有機上ツマーガスを用いる場合には、グラフ１イト
が生成するだけで、硬質で、光沢に優れ、耐久性に優れ
た黒色薄膜を形成することはできなかった。
本発明は、このようにこれまでの技術によっては実現す
ることのできなかった良質の黒色性薄膜を製造する方法
を掟供することを目的としている。
ることのできなかった良質の黒色性薄膜を製造する方法
を掟供することを目的としている。
さらに詳しくは、反応性イオンプレーティング法によっ
て、黒色性の酸化物薄膜を製造する方法を提供するもの
である。
て、黒色性の酸化物薄膜を製造する方法を提供するもの
である。
本発明の構成について説明すると、金属、合金、ガラス
、セラミック、プラスチック等の適宜な基板材料の表面
に、反応性イオンプレーティングによって、金属の酸化
物からなる硬質黒色性薄膜を形成することからなる。
、セラミック、プラスチック等の適宜な基板材料の表面
に、反応性イオンプレーティングによって、金属の酸化
物からなる硬質黒色性薄膜を形成することからなる。
本発明の方法にｄ５いては、金属酸化物薄膜の形成のた
めに、蒸発源として１種以上の金属、または最大原子価
の状態よりも低原子価の状態にある金属の酸化物を用い
る。金属としては、チタン、ジルコニウム、アルミニウ
ム、亜鉛、スズ、ニッケル、銅、もしくはその他の適宜
なものを１種または２種以上、もしくは、これらの酸化
物を蒸発源物質として用いることができる。
めに、蒸発源として１種以上の金属、または最大原子価
の状態よりも低原子価の状態にある金属の酸化物を用い
る。金属としては、チタン、ジルコニウム、アルミニウ
ム、亜鉛、スズ、ニッケル、銅、もしくはその他の適宜
なものを１種または２種以上、もしくは、これらの酸化
物を蒸発源物質として用いることができる。
もちろ゛ん、これらの金属元素は、その種類が限定的な
ものではない。
ものではない。
蒸発は、抵抗加熱、電子ビーム、もしくは高周波誘導加
熱等の適宜な手段によって行なうことができる。
熱等の適宜な手段によって行なうことができる。
蒸発させた金属成分は、真空反応装置内に導入した、主
として酸素ガスからなるガスの存在下においてグロー放
電によって励起し、プラズマ・イオン化する。この際の
プラズマ・イオン化の手段としては、ホロカソード方式
、高周波励起方式、あるいはその伯の通常のイオンプレ
ーティングに用いる手段のいずれであってもよい。
として酸素ガスからなるガスの存在下においてグロー放
電によって励起し、プラズマ・イオン化する。この際の
プラズマ・イオン化の手段としては、ホロカソード方式
、高周波励起方式、あるいはその伯の通常のイオンプレ
ーティングに用いる手段のいずれであってもよい。
プラズマ・イオン化した金属成分は、励起された酸素と
反応させて酸化物の状態で基板表面上に蒸着させるが、
このような反応性イオンプレーティングに用いる真空反
応器内のガス圧については、酸素ガスの導入前は１０−
５Ｔｏｒｒ以下とし、酸素ガスの導入によって、ガス圧
を３Ｘ１０’〜１ｘ１０’Ｔｏｒｒの範囲に調整する。
反応させて酸化物の状態で基板表面上に蒸着させるが、
このような反応性イオンプレーティングに用いる真空反
応器内のガス圧については、酸素ガスの導入前は１０−
５Ｔｏｒｒ以下とし、酸素ガスの導入によって、ガス圧
を３Ｘ１０’〜１ｘ１０’Ｔｏｒｒの範囲に調整する。
他にアセチレン、アルゴン等のガスを導入してもよい。
基板の温度は、室温〜２００℃の範囲とすることができ
る。
る。
温度が高いほど生成した薄膜の硬度は、一般的にはより
大きなものとなる。
大きなものとなる。
このような構成からなる本発明の方法を行う場合には、
所望とする黒色薄膜の硬度、光沢、基板との密着性、膜
厚、薄膜の形成速度等を考慮して、蒸発物質の蒸発速度
、酸素ガス導入による反応系のガス圧、放電電力等を適
宜に制御する。この際に、薄膜が安定した酸化物の状態
として形成される場合には、薄膜が透明なものになるこ
とがある。
所望とする黒色薄膜の硬度、光沢、基板との密着性、膜
厚、薄膜の形成速度等を考慮して、蒸発物質の蒸発速度
、酸素ガス導入による反応系のガス圧、放電電力等を適
宜に制御する。この際に、薄膜が安定した酸化物の状態
として形成される場合には、薄膜が透明なものになるこ
とがある。
このため、黒色薄膜の形成のためには、上記の３ｘ １
０ 〜１ ｘ １０−２Ｔｏｒｒの酸素ガス導入後のガ
ス圧条件において、金属成分の種類に苅応した反応条件
の微調整が必要になる。
０ 〜１ ｘ １０−２Ｔｏｒｒの酸素ガス導入後のガ
ス圧条件において、金属成分の種類に苅応した反応条件
の微調整が必要になる。
本発明の方法によって、良質な、硬質黒色性酸化物薄膜
を製造することが司能となる。このようなことは、これ
までの技術からは全く予期しえなかったことである。
を製造することが司能となる。このようなことは、これ
までの技術からは全く予期しえなかったことである。
以下、本発明の実施例を示す。当然にも、本発明は、こ
の実施例に限定されるものではない。
の実施例に限定されるものではない。
実施例 １
高周波励起方法によるイオンプレーティング装置を用い
て薄膜の製造を行った。基板としては２０ｍＸ６０ｍｍ
のステンレス板、およびガラスを用いた。
て薄膜の製造を行った。基板としては２０ｍＸ６０ｍｍ
のステンレス板、およびガラスを用いた。
蒸発物質として、チタンを用い、酸素ガス導入前の圧力
を９ ｘ １０’Ｔｏｒｒ、 Ｍ素ガス導入後のガス圧
を８ Ｘ ’Ｉ ０−４Ｔｏｒｒ、放電電力３００Ｗ、
基板温度１００℃で反応性イオンル−ティングを行った
。なお、チタンの蒸発は抵抗加熱によって行った。
を９ ｘ １０’Ｔｏｒｒ、 Ｍ素ガス導入後のガス圧
を８ Ｘ ’Ｉ ０−４Ｔｏｒｒ、放電電力３００Ｗ、
基板温度１００℃で反応性イオンル−ティングを行った
。なお、チタンの蒸発は抵抗加熱によって行った。
約３分後、膜厚０．５μ７ｎの光沢のめる黒色薄膜を得
た。
た。
同様の方法を、酸素導入後のガス圧を２×１０’Ｔｏｒ
ｒで行ったところ、薄膜は透明になり、黒色薄膜は製造
できなかった。
ｒで行ったところ、薄膜は透明になり、黒色薄膜は製造
できなかった。
Ｘ線分析、ＥＳＣＡ等によって評価したところ、黒色薄
膜の場合には、Ｔｉ０−ＴｉＯ２の複合状態にあるが、
透明薄膜の場合には、丁１０２の安定した酸化物状態に
あることを確認した。
膜の場合には、Ｔｉ０−ＴｉＯ２の複合状態にあるが、
透明薄膜の場合には、丁１０２の安定した酸化物状態に
あることを確認した。
実施例 ２
実施例１と同様にして、チタンとアルミニウムを用いて
反応性イオンプレーティングを行った。
反応性イオンプレーティングを行った。
酸素ガス導入後のガス圧は、７ 、５ Ｘ １０’Ｔｏ
ｒｒとした。
ｒｒとした。
硬質の黒色酸化物薄膜を得た。またさらに、シルコニ【
クムを蒸発源として用いても、黒色酸化物薄膜を得た。
クムを蒸発源として用いても、黒色酸化物薄膜を得た。
Claims (1)
- 蒸発源から蒸発させた１種以上の金属成分を用い、酸素
ガスの導入下に、必要により炭化水素、アルゴン等のガ
スを混入して３×１０＾−＾５〜１×１０＾−＾２Ｔｏ
ｒｒのガス圧で反応性イオンプレーティングを行い、主
として酸化物からなる黒色性薄膜を形成することからな
る硬質黒色性酸化物薄膜の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61059848A JPH0639685B2 (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 硬質黒色性酸化物薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61059848A JPH0639685B2 (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 硬質黒色性酸化物薄膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62218550A true JPS62218550A (ja) | 1987-09-25 |
| JPH0639685B2 JPH0639685B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=13125028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61059848A Expired - Lifetime JPH0639685B2 (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 硬質黒色性酸化物薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0639685B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0417702A2 (en) * | 1989-09-11 | 1991-03-20 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Suspension control system |
| US5629884A (en) * | 1995-07-28 | 1997-05-13 | Motorola, Inc. | Log converter utilizing offset and method of use thereof |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5633475A (en) * | 1979-08-24 | 1981-04-03 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Manufacture of exterior ornamental parts |
| JPS6213567A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-22 | Citizen Watch Co Ltd | 装飾部品の製造方法 |
| JPS6296665A (ja) * | 1985-10-22 | 1987-05-06 | Seiko Epson Corp | 時計用外装部品 |
-
1986
- 1986-03-18 JP JP61059848A patent/JPH0639685B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5633475A (en) * | 1979-08-24 | 1981-04-03 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Manufacture of exterior ornamental parts |
| JPS6213567A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-22 | Citizen Watch Co Ltd | 装飾部品の製造方法 |
| JPS6296665A (ja) * | 1985-10-22 | 1987-05-06 | Seiko Epson Corp | 時計用外装部品 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0417702A2 (en) * | 1989-09-11 | 1991-03-20 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Suspension control system |
| EP0417702B1 (en) * | 1989-09-11 | 1997-01-08 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Suspension control system |
| US5629884A (en) * | 1995-07-28 | 1997-05-13 | Motorola, Inc. | Log converter utilizing offset and method of use thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0639685B2 (ja) | 1994-05-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4490229A (en) | Deposition of diamondlike carbon films | |
| US5055319A (en) | Controlled high rate deposition of metal oxide films | |
| US4720401A (en) | Enhanced adhesion between metals and polymers | |
| Choukourov et al. | Structured Ti/hydrocarbon plasma polymer nanocomposites produced by magnetron sputtering with glancing angle deposition | |
| JPH0247253A (ja) | 黒色皮膜の形成方法及びその皮膜 | |
| US4975340A (en) | Process for making a thin molybdenum sulfide film and article | |
| CN100395371C (zh) | 微波等离子体增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺 | |
| JPS62218550A (ja) | 硬質黒色性酸化物薄膜の製造方法 | |
| Sikkens et al. | The development of high performance, low cost solar-selective absorbers | |
| JP2653404B2 (ja) | 導電性重合体‐金属化合物の製法 | |
| JP2794173B2 (ja) | 複合炭素被膜の形成方法 | |
| EP1624087B1 (en) | A method for depositing thin layers of titanium dioxide on support surfaces | |
| US5628882A (en) | Method for sputter deposition of a chromium, carbon and fluorine crystalline films | |
| Yumoto et al. | Properties and surface morphology of indium tin oxide films prepared by electron shower method | |
| Zhang et al. | Dynamic mixing deposition of niobium nitride films by cathodic arc plasma in ambient nitrogen | |
| JPH0211753A (ja) | ＴｉＡｌ系複合部材及びその製造方法 | |
| JPH0784645B2 (ja) | 多層薄膜 | |
| Bewilogua et al. | Microhardness and structure of reactive ion‐plated chromium/carbon films | |
| JPS6350473A (ja) | 連続多段イオンプレ−テイング装置 | |
| JPS6142122A (ja) | 硬質炭素被覆膜の製造方法 | |
| JPH0558068B2 (ja) | ||
| JPS6013244B2 (ja) | 透明導電性被膜を有する成型物の製造方法 | |
| JP2001106585A (ja) | 炭素材料の耐高温酸化処理方法 | |
| JPS60201635A (ja) | 硬質炭素被覆膜の製造方法 | |
| Govindarajan | Physical vapor deposition of thin films for enhancing the oxidation resistance of molybdenum |