JPS62207876A - ポリ塩化ビニリデン成形体の金属めつき方法 - Google Patents
ポリ塩化ビニリデン成形体の金属めつき方法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/22—Roughening, e.g. by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
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- C23C18/28—Sensitising or activating
- C23C18/30—Activating or accelerating or sensitising with palladium or other noble metal
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はポリ塩化ビニリデン成形体の金属めっき方法に
関するものであり、詳しくは、ポリ塩化ビニリデン成形
体(これを、以下、車にpvoc成形体という。)の表
面に一定の高い触゛媒活性を存するパラジウムコロイド
を付与し、次いで、化学めっきすることにより、上記p
vnc成形体の表面に面華な操作で密着性の優れた金属
めっき被膜を再現良(形成することを可能とした金属め
っき方法に関するものである。
関するものであり、詳しくは、ポリ塩化ビニリデン成形
体(これを、以下、車にpvoc成形体という。)の表
面に一定の高い触゛媒活性を存するパラジウムコロイド
を付与し、次いで、化学めっきすることにより、上記p
vnc成形体の表面に面華な操作で密着性の優れた金属
めっき被膜を再現良(形成することを可能とした金属め
っき方法に関するものである。
本発明に係る金属被膜が形成されたPVDC成形体の主
な用途は、装飾用材料、形成される金属被膜の種類によ
り4電性や磁気的な機能を生じることからEMI対策用
電磁シールド材、コンデンサー材料等であ゛る。
な用途は、装飾用材料、形成される金属被膜の種類によ
り4電性や磁気的な機能を生じることからEMI対策用
電磁シールド材、コンデンサー材料等であ゛る。
pvoc成形体表面は一般に不活性であるので、化学め
っきにより、PVDC成形体表面に金属被膜を形成させ
るためには、あらかじめpvoc成形体表面をエンチン
グ処理した後、金属イオンの還元反応を起こすための触
媒としてパラジウムをpvoc成形体表面に付与するこ
とが必要である。
っきにより、PVDC成形体表面に金属被膜を形成させ
るためには、あらかじめpvoc成形体表面をエンチン
グ処理した後、金属イオンの還元反応を起こすための触
媒としてパラジウムをpvoc成形体表面に付与するこ
とが必要である。
従来、金属を付与する方法として、例えば、米国特許第
2705523号公報及び米国特許第3011920号
公報に記載の方法がある。
2705523号公報及び米国特許第3011920号
公報に記載の方法がある。
米国特許第2702253号公報に記載の方法は、被め
っき物を強酸性塩化第一錫溶液に浸漬した後水洗し、次
いで、強酸性塩化パラジウム溶液に浸漬することにより
、被めっき物表面にパラジウムを析出させ、該パラジウ
ムを化学めっきする方法である。
っき物を強酸性塩化第一錫溶液に浸漬した後水洗し、次
いで、強酸性塩化パラジウム溶液に浸漬することにより
、被めっき物表面にパラジウムを析出させ、該パラジウ
ムを化学めっきする方法である。
米国特許第3011920号公報に記載の方法は、基板
を強酸性パラジウム−錫コロイド溶液に接触させ、化学
めっきのための触媒作用を行うパラジウムを付与するも
のである。この強酸性のパラジウム−錫コロイ ド溶液
は、例えば、トランザクションオブジインスチイチュー
ト 才ブ メタル フィニイシインク(Transac
tion of theInstitute or
Metal Finishing)第51巻(197
3年)第63頁に記載されている通り、ABS樹脂など
の活性化処理に用いられているが、PVDC成形体には
用いられていない。
を強酸性パラジウム−錫コロイド溶液に接触させ、化学
めっきのための触媒作用を行うパラジウムを付与するも
のである。この強酸性のパラジウム−錫コロイ ド溶液
は、例えば、トランザクションオブジインスチイチュー
ト 才ブ メタル フィニイシインク(Transac
tion of theInstitute or
Metal Finishing)第51巻(197
3年)第63頁に記載されている通り、ABS樹脂など
の活性化処理に用いられているが、PVDC成形体には
用いられていない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
前出米国特許第2702253号公報に記載の方法によ
る場合には、塩化第一錫と塩化パラジウムの二つの浴を
必要とし、お互いの液が混入するのを防ぐだめに、各処
理毎に水洗をしなければならないので工程が非常に複雑
である。しかも、化学めっきのための触媒活性が低いの
で、2〜3度同じ処理を繰り返さなければ金属イオンの
還元反応を惹起させるに充分なパラジウムが付与出来な
いという欠点を有する。
る場合には、塩化第一錫と塩化パラジウムの二つの浴を
必要とし、お互いの液が混入するのを防ぐだめに、各処
理毎に水洗をしなければならないので工程が非常に複雑
である。しかも、化学めっきのための触媒活性が低いの
で、2〜3度同じ処理を繰り返さなければ金属イオンの
還元反応を惹起させるに充分なパラジウムが付与出来な
いという欠点を有する。
前出米国特許第3011920号公報に記載の方法によ
る場合には、化学めっきのための触媒作用を行うパラジ
ウム以外に錫水酸化物なども多量に基板に付与されるの
で、これらの不純物が化学めっきにおける還元反応の妨
げとなり、また、形成された金属被膜と基板との密着強
度を弱める原因となる。従って、パラジウム以外の不純
物を取り除くため強酸性パラジウム−錫コロイド溶液に
基板を接触させた後、更に、酸やアルカリ溶液中に基板
を浸漬する(促進化処理)等の工程が必要となる。
る場合には、化学めっきのための触媒作用を行うパラジ
ウム以外に錫水酸化物なども多量に基板に付与されるの
で、これらの不純物が化学めっきにおける還元反応の妨
げとなり、また、形成された金属被膜と基板との密着強
度を弱める原因となる。従って、パラジウム以外の不純
物を取り除くため強酸性パラジウム−錫コロイド溶液に
基板を接触させた後、更に、酸やアルカリ溶液中に基板
を浸漬する(促進化処理)等の工程が必要となる。
またこの強酸性パラジウム−錫コロイド溶液は経時変化
をし、調製して3〜4力月後から沈澱しはじめ、安定性
、再現性に欠けるという欠点がある。
をし、調製して3〜4力月後から沈澱しはじめ、安定性
、再現性に欠けるという欠点がある。
上述した通り、PVDC成形体の表面に簡単な操作で一
定の扁い触媒活性を存するパラジウムを付与し、次いで
化学めっきすることにより、密着性に優れた金属めっき
被膜を再現良く形成する方法の確立は現在量も要求され
ているところである。
定の扁い触媒活性を存するパラジウムを付与し、次いで
化学めっきすることにより、密着性に優れた金属めっき
被膜を再現良く形成する方法の確立は現在量も要求され
ているところである。
本発明者は、PVDC成形体の表面に簡単な操作で一定
の高い触媒活性を有するパラジウムを付与する方法につ
いて種々検討を重ねた結果、本発明に到達したのである
。
の高い触媒活性を有するパラジウムを付与する方法につ
いて種々検討を重ねた結果、本発明に到達したのである
。
即ち、本発明は、対象とするPVDC成形体の表面をア
ルカリ金属水酸化物の水溶液でエツチング処理した後、
陽イオン性界面活性剤を含むパラジウムヒドロゾル(コ
ロイド溶液)中に浸漬することにより、当該pvoc成
形体の表面にパラジウムコロイドを付与し、次いで、化
学めっきすることよりなるPVDC成形体の金属めっき
方法である。
ルカリ金属水酸化物の水溶液でエツチング処理した後、
陽イオン性界面活性剤を含むパラジウムヒドロゾル(コ
ロイド溶液)中に浸漬することにより、当該pvoc成
形体の表面にパラジウムコロイドを付与し、次いで、化
学めっきすることよりなるPVDC成形体の金属めっき
方法である。
先ず、本発明において最も重要な点は、あらかじめアル
カリ金属水酸化物の水溶液でエツチング処理したPVD
C成形体の表面に化学めっきの為の触媒作用を行うパラ
ジウムコロイドを付与するにあたり、陽イオン性界面活
性剤を含むパラジウムヒドロゾルを用いる点にある。
カリ金属水酸化物の水溶液でエツチング処理したPVD
C成形体の表面に化学めっきの為の触媒作用を行うパラ
ジウムコロイドを付与するにあたり、陽イオン性界面活
性剤を含むパラジウムヒドロゾルを用いる点にある。
本発明においては、陽イオン性界面活性剤を含むパラジ
ウムヒドロゾルが極めて安定であることに起因して長期
に亘り保存可能で随時使用できるものであり、また、触
媒作用の妨げとなるような不純物を含有していないので
従来法のような促進化処理を必要としないものである為
陽イオン性界面活性剤を含むパラジウムヒドロゾル中に
浸漬するという簡単なIt作で一定の高い触媒活性を有
するパラジウムコロイドを付与することができる。
ウムヒドロゾルが極めて安定であることに起因して長期
に亘り保存可能で随時使用できるものであり、また、触
媒作用の妨げとなるような不純物を含有していないので
従来法のような促進化処理を必要としないものである為
陽イオン性界面活性剤を含むパラジウムヒドロゾル中に
浸漬するという簡単なIt作で一定の高い触媒活性を有
するパラジウムコロイドを付与することができる。
次に、本発明方法実施にあたっての諸条件について述べ
る。
る。
本発明におけるPVDC成形体は、シート状、粉末状、
ベレット状、糸状など各種のPVDC成形体が使用でき
る。
ベレット状、糸状など各種のPVDC成形体が使用でき
る。
本発明におけるy’vpc成’lf成体lft体ング処
理は、PVDC成形体をアルカリ金属水酸化物水溶液中
に、室温から沸点の範囲、好ましくは50〜90℃の温
度で10分間以上浸漬させることにより行う。尚、用い
るpvoc成形体は、あらかじめエタノールなどで脱脂
後水洗し乾燥させであることが好ましい。
理は、PVDC成形体をアルカリ金属水酸化物水溶液中
に、室温から沸点の範囲、好ましくは50〜90℃の温
度で10分間以上浸漬させることにより行う。尚、用い
るpvoc成形体は、あらかじめエタノールなどで脱脂
後水洗し乾燥させであることが好ましい。
本発明におけるエツチング処理に用いるアルカリ金属水
酸化物水溶液としては、水酸化す) IJウムや水酸化
カリウム水溶液が適し、その濃度は1〜10mol/
Itが望まシイ。
酸化物水溶液としては、水酸化す) IJウムや水酸化
カリウム水溶液が適し、その濃度は1〜10mol/
Itが望まシイ。
本発明における陽イオン性界面活性剤を含むパラジウム
ヒドロゾルは、塩化パラジウム(至)などのパラジウム
塩水溶液を、保護剤である陽イオン性界面活性剤の存在
下で、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジンなどの水溶
性還元剤で還元処理することにより、又は、陽イオン性
界面活性剤の不存在下で生成したパラジウムヒドロゾル
中に陽イオン性界面活性剤を添加混合することにより得
ることができる(Nえば特開昭59−120249号公
報)。
ヒドロゾルは、塩化パラジウム(至)などのパラジウム
塩水溶液を、保護剤である陽イオン性界面活性剤の存在
下で、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジンなどの水溶
性還元剤で還元処理することにより、又は、陽イオン性
界面活性剤の不存在下で生成したパラジウムヒドロゾル
中に陽イオン性界面活性剤を添加混合することにより得
ることができる(Nえば特開昭59−120249号公
報)。
陽イオン性界面活性剤としては、ステアリルトリメチル
アンモニウムクロライドなどの四級アンモニウム塩型の
界面活性剤が適し、その添加時期は還元処理の前でも後
でも良く、しかも還元の前にはポリエチレングリコール
型の非イオン性界面活性剤や、ポリビニルピロリドンな
どの水溶性高分子が保護剤として添加してあっても良い
。
アンモニウムクロライドなどの四級アンモニウム塩型の
界面活性剤が適し、その添加時期は還元処理の前でも後
でも良く、しかも還元の前にはポリエチレングリコール
型の非イオン性界面活性剤や、ポリビニルピロリドンな
どの水溶性高分子が保護剤として添加してあっても良い
。
陽イオン性界面活性剤の濃度は、0.002〜0.1%
の範囲が好ましい。
の範囲が好ましい。
本発明において用いるパラジウムヒドロゾル中のパラジ
ウム濃度は、0.1〜10tag−atom/ lの範
囲が好ましい。
ウム濃度は、0.1〜10tag−atom/ lの範
囲が好ましい。
本発明におけるPVDC成形体の陽イオン性界面活性剤
を含むパラジウムヒドロゾル中への浸漬は、室温から1
00℃の範囲の温度下で1分間以上好ましくは10分間
以上の浸漬後、引上げ水洗することにより行うことがで
きる。
を含むパラジウムヒドロゾル中への浸漬は、室温から1
00℃の範囲の温度下で1分間以上好ましくは10分間
以上の浸漬後、引上げ水洗することにより行うことがで
きる。
本発明における化学めっきは、常法により行うことがで
きる。即ち、金属イオン及び還元剤を含む溶液中におい
て、パラジウムコロイド部分で該金属イオンが還元され
ることにより金属が析出するものである。
きる。即ち、金属イオン及び還元剤を含む溶液中におい
て、パラジウムコロイド部分で該金属イオンが還元され
ることにより金属が析出するものである。
本発明における化学めっきの為の金属イオン溶液として
は、電気的、磁気的性質を付与する為に通常使用される
中性又はアルカリ性のニッケル、コバルト、銅、銀等の
一種又は二種以上を使用することができる。
は、電気的、磁気的性質を付与する為に通常使用される
中性又はアルカリ性のニッケル、コバルト、銅、銀等の
一種又は二種以上を使用することができる。
本発明における化学めっきのための還元剤としては、次
亜リン酸ナトリウム、ホルムアルデヒド、ぶどう糖等を
使用することができる。
亜リン酸ナトリウム、ホルムアルデヒド、ぶどう糖等を
使用することができる。
次に、実施例並びに比較例により本発明を説明する。
尚、表面抵抗は、MCP−Tl!ST[!R−LORE
STA低抵抗表面抵抗計(三菱油化■製)により測定し
たものである。
STA低抵抗表面抵抗計(三菱油化■製)により測定し
たものである。
めっきの密着性は、めっき終了1時間後にスコッチメン
ディングテープ(住友スリーエム■製)をめっき物上に
強く貼り付け、引きはがすことにより調べた。
ディングテープ(住友スリーエム■製)をめっき物上に
強く貼り付け、引きはがすことにより調べた。
実施例1
エタノールで10分間洗浄した後、水洗、乾燥したpv
oc繊維成形物(中足フィルターエ業Ia製、厚さ1.
25mm、 2.5cmX1.5cn+)を3.Om
ol/ lの水酸化カリウムを含む90℃の水溶液中に
浸漬し、60分後に引き上げ水洗することによりエツチ
ング処理を行った。
oc繊維成形物(中足フィルターエ業Ia製、厚さ1.
25mm、 2.5cmX1.5cn+)を3.Om
ol/ lの水酸化カリウムを含む90℃の水溶液中に
浸漬し、60分後に引き上げ水洗することによりエツチ
ング処理を行った。
これとは別に、塩化パラジウムaosoμlll01を
、250 μ+molの塩化ナトリウムを含む水溶液2
.5mlに溶解し、次に純水で94a+1に希釈した。
、250 μ+molの塩化ナトリウムを含む水溶液2
.5mlに溶解し、次に純水で94a+1に希釈した。
この溶液を激しく攪拌しながら該溶液中にステアリルト
リメチルアンモニウムクロライド10mgを含む水溶液
1 +slを加え、続いて水素化ホウ素ナトリウム20
0μmo1を含む水溶液51を滴下すると、溶液の色が
急変し、黒褐色透明な陽イオン性界面活性剤を含むパラ
ジウムヒドロゾルが得られた。
リメチルアンモニウムクロライド10mgを含む水溶液
1 +slを加え、続いて水素化ホウ素ナトリウム20
0μmo1を含む水溶液51を滴下すると、溶液の色が
急変し、黒褐色透明な陽イオン性界面活性剤を含むパラ
ジウムヒドロゾルが得られた。
得られた陽イオン性界面活性剤を含むパラジウムヒドロ
ゾル中にエツチング処理をした上記pvoc繊維成形物
を室温下で60分間浸漬した後、引上げ水洗するとpv
oc繊維成形物表面が薄く黒色になっており、化学めっ
きのためのパラジウムコロイドが付与されていた。
ゾル中にエツチング処理をした上記pvoc繊維成形物
を室温下で60分間浸漬した後、引上げ水洗するとpv
oc繊維成形物表面が薄く黒色になっており、化学めっ
きのためのパラジウムコロイドが付与されていた。
次いで、塩化ニッケル(It O,1molを2端o1
/Jのアンモニア水溶液500 mlに溶解し、0.2
mol/Jの次亜リン酸ナトリウム500 mlを加
えた後、濃塩酸によりpHを8.9に調整して得られる
ニッケル化学めっき液中に、上記パラジウムコロイドが
付与されたPVDC繊維成形物を60℃の温度下で浸漬
した。
/Jのアンモニア水溶液500 mlに溶解し、0.2
mol/Jの次亜リン酸ナトリウム500 mlを加
えた後、濃塩酸によりpHを8.9に調整して得られる
ニッケル化学めっき液中に、上記パラジウムコロイドが
付与されたPVDC繊維成形物を60℃の温度下で浸漬
した。
浸漬約10秒後、pvoc繊維成形物の表面全体が黒く
なりニッケルの析出が始まった。10分間経過後、成形
物を引き上げ、水洗、乾燥すると、表面が均一にニッケ
ルで被われた金属光沢を示すPVDC繊維成形物が得ら
れた。めっき前後で基体に対して65%の重量増加があ
った。
なりニッケルの析出が始まった。10分間経過後、成形
物を引き上げ、水洗、乾燥すると、表面が均一にニッケ
ルで被われた金属光沢を示すPVDC繊維成形物が得ら
れた。めっき前後で基体に対して65%の重量増加があ
った。
この表面にメンディングテープを強く押しつけてはがし
ても全くニッケル被膜は剥離しなかった。
ても全くニッケル被膜は剥離しなかった。
また、このPVDC繊維成形物の表面抵抗は19Ωであ
った。
った。
実施例2
エタノールで10分間洗浄した後、水洗、乾燥したpv
ncフィルム (旭化成■製 厚さlOμm4cmx3
cm)を3.0 mol/Jの水酸化ナトリウ゛ムを
含む80℃の水溶液中に浸漬し、60分後に引き上げ水
洗することによりエツチング処理を行った。
ncフィルム (旭化成■製 厚さlOμm4cmx3
cm)を3.0 mol/Jの水酸化ナトリウ゛ムを
含む80℃の水溶液中に浸漬し、60分後に引き上げ水
洗することによりエツチング処理を行った。
これとは別に、塩化パラジウム(1)50μmolを、
250μmolの塩化ナトリウムが含まれている水溶l
&2.5II11に溶解し、次に純水で94m1に希釈
した。
250μmolの塩化ナトリウムが含まれている水溶l
&2.5II11に溶解し、次に純水で94m1に希釈
した。
このン容ン夜を激しく攪拌しながら、ステアリルトリロ
チルアンモニウムクロライドIO+agを含む・水?容
telIn+Jを加え、続いて水素化ホウ素ナトリウム
200μmolを含む水?8液5mlを滴下すると、溶
液の色が急変し、黒褐色透明な陽イオン性界面活性剤を
含むパラジウムヒドロゾルが得られた。
チルアンモニウムクロライドIO+agを含む・水?容
telIn+Jを加え、続いて水素化ホウ素ナトリウム
200μmolを含む水?8液5mlを滴下すると、溶
液の色が急変し、黒褐色透明な陽イオン性界面活性剤を
含むパラジウムヒドロゾルが得られた。
得られた陽イオン性界面活性剤を含むパラジウムヒドロ
ゾル中にエツチング処理をした上記pvocフィルムを
室温下で60分間浸漬した後、引上げ水洗するとpvo
cフィルム表面が均一に薄く灰色となり、パラジウムコ
ロイドが付与されていた。
ゾル中にエツチング処理をした上記pvocフィルムを
室温下で60分間浸漬した後、引上げ水洗するとpvo
cフィルム表面が均一に薄く灰色となり、パラジウムコ
ロイドが付与されていた。
次いで、0.6抛o1/ Itのロソセル塩、1.25
mol/ 1の水酸化ナトリウム、0.15mol/
ILの硫酸銅(!D5水塩、0.28tsoI/ II
の炭酸ナトリウム及び0.07mol/ 1のエチレン
ジアミン 匹酢酸を純水に溶解して100allとし、
さらに35%ホルムアルデヒド溶液20m Itを混合
させて調製した鋼化学めっき液中に、上記パラジウムコ
ロイドが付与されたpvocフィルムを浸漬した。15
分間の浸漬後、フィルムを引き上げ水洗、乾燥させるこ
とで厚さは1.01μmの赤色光沢を示す密着性の良い
銅金属被膜で被われたpvocフィルムが得られた。
mol/ 1の水酸化ナトリウム、0.15mol/
ILの硫酸銅(!D5水塩、0.28tsoI/ II
の炭酸ナトリウム及び0.07mol/ 1のエチレン
ジアミン 匹酢酸を純水に溶解して100allとし、
さらに35%ホルムアルデヒド溶液20m Itを混合
させて調製した鋼化学めっき液中に、上記パラジウムコ
ロイドが付与されたpvocフィルムを浸漬した。15
分間の浸漬後、フィルムを引き上げ水洗、乾燥させるこ
とで厚さは1.01μmの赤色光沢を示す密着性の良い
銅金属被膜で被われたpvocフィルムが得られた。
このPVDCフィルムの表面抵抗は0.12Ωであった
。
。
実施例3
硝酸1! (AgN(h) 5.8 gとアンモニア水
とを混合溶解し、該溶液に4.2gの水酸化ナトリウム
を添加混合した後lO抛lとなるように水を添加して根
本溶液を調製した。
とを混合溶解し、該溶液に4.2gの水酸化ナトリウム
を添加混合した後lO抛lとなるように水を添加して根
本溶液を調製した。
別に、水100*IlとぶどうIJ! 4.5g及び酒
石酸0.4gとを混合溶解し、10分間魚沸した後常温
まで冷却し、次いで、該溶液にエチルアルコール1OI
lβを添加して還元液を調製した。
石酸0.4gとを混合溶解し、10分間魚沸した後常温
まで冷却し、次いで、該溶液にエチルアルコール1OI
lβを添加して還元液を調製した。
上記根本溶液と上記還元液とを容量比でl:1の割合で
混合することにより銀化学めっき液を作製した。
混合することにより銀化学めっき液を作製した。
この銀化学めっき液中に、水酸化ナトリウムでエツチン
グ処理をした以外は実施例2と同様にして得られたパラ
ジウム触媒コロイドが付与されたpvocフィルム(旭
化成■製 厚さ10/Jm 4cmX3cm)を25℃
の温度下で浸漬した。浸漬5分後に引き上げ、水洗、乾
燥させることで厚さは11.2μmの金属光沢を示す密
着性の良い銀金属被膜で被われたpvocフィルムが得
られた。
グ処理をした以外は実施例2と同様にして得られたパラ
ジウム触媒コロイドが付与されたpvocフィルム(旭
化成■製 厚さ10/Jm 4cmX3cm)を25℃
の温度下で浸漬した。浸漬5分後に引き上げ、水洗、乾
燥させることで厚さは11.2μmの金属光沢を示す密
着性の良い銀金属被膜で被われたpvocフィルムが得
られた。
このPVDCフィルムの表面抵抗は0.11Ωであった
。
。
比較例1
米国特許3011920号明細書の実施例2の操作に従
って強酸性パラジウム−錫コロイド溶液を調製した。実
施例2と同様にしてエタノール洗浄及びエツチング処理
をしたPVDCフィルム (旭化成側製、厚さ10μm
4cmX3cm)を、1!製してすぐの上記パラジウム
−錫コロイド溶液に室゛滴下で浸漬した。
って強酸性パラジウム−錫コロイド溶液を調製した。実
施例2と同様にしてエタノール洗浄及びエツチング処理
をしたPVDCフィルム (旭化成側製、厚さ10μm
4cmX3cm)を、1!製してすぐの上記パラジウム
−錫コロイド溶液に室゛滴下で浸漬した。
60分後、PVDCフィルムを引き上げて、充分水洗を
行い、次にそのPVDCフィルムを1.25 a+ol
/j!の水酸化ナトリウム溶液中に室温下で浸漬した。
行い、次にそのPVDCフィルムを1.25 a+ol
/j!の水酸化ナトリウム溶液中に室温下で浸漬した。
5分間の浸漬後、PVDCフィルムを引き上げて充分水
洗をしてパラジウム以外の不純物を取り除いた後、実施
例2と同様の操作に従って、鋼化学めっき液に浸漬した
が、フィルムの一部に銅膜が形成された程度であった。
洗をしてパラジウム以外の不純物を取り除いた後、実施
例2と同様の操作に従って、鋼化学めっき液に浸漬した
が、フィルムの一部に銅膜が形成された程度であった。
本発明に係るpvoc成形体の金属めっき方法は、前出
実施例に示した通り、本発明において用いられるパラジ
ウムヒドロゾルが化学めっきの触媒作用を妨げる不純物
を含有しておらず、また長期に亘り安定である為、一定
の高い触媒活性を有するパラジウムコロイドを付与する
ことが可能であることに起因して、pvoc成形体表面
に密着性の優れた金属めっき被膜を形成することが可能
である。
実施例に示した通り、本発明において用いられるパラジ
ウムヒドロゾルが化学めっきの触媒作用を妨げる不純物
を含有しておらず、また長期に亘り安定である為、一定
の高い触媒活性を有するパラジウムコロイドを付与する
ことが可能であることに起因して、pvoc成形体表面
に密着性の優れた金属めっき被膜を形成することが可能
である。
Claims (1)
- (1)ポリ塩化ビニリデン成形体の表面に化学めっきに
よって金属被膜を形成させるに当たって、対象とするポ
リ塩化ビニリデン成形体をアルカリ金属水酸化物の水溶
液でエッチング処理した後、陽イオン性界面活性剤を含
むパラジウムヒドロゾル中に浸漬することにより、当該
ポリ塩化ビニリデン成形体の表面にパラジウムコロイド
を付与し、次いで、化学めっきすることを特徴とするポ
リ塩化ビニリデン成形体の金属めっき方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5204686A JPS62207876A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | ポリ塩化ビニリデン成形体の金属めつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5204686A JPS62207876A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | ポリ塩化ビニリデン成形体の金属めつき方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62207876A true JPS62207876A (ja) | 1987-09-12 |
JPH0258355B2 JPH0258355B2 (ja) | 1990-12-07 |
Family
ID=12903876
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5204686A Granted JPS62207876A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | ポリ塩化ビニリデン成形体の金属めつき方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62207876A (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52117242A (en) * | 1976-03-25 | 1977-10-01 | Western Electric Co | Metal attaching method |
JPS60140789A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-25 | 富士通株式会社 | 基板の位置決め方法 |
JPS60140790A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-25 | ソニ−ケミカル株式会社 | 連結シ−ト |
JPS60203864A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-15 | Toshiba Corp | 検出装置 |
JPS60203863A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-15 | Toshiba Corp | ガス絶縁3相変流器 |
JPS6152047A (ja) * | 1984-08-16 | 1986-03-14 | エヌ・ベー・フイリツプス・フルーイランペンフアブリケン | データバスシステム |
JPS6152048A (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | デ−タ通信制御方式 |
-
1986
- 1986-03-10 JP JP5204686A patent/JPS62207876A/ja active Granted
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52117242A (en) * | 1976-03-25 | 1977-10-01 | Western Electric Co | Metal attaching method |
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JPS6152048A (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | デ−タ通信制御方式 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0258355B2 (ja) | 1990-12-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |