JPS62207741A - 多孔質硝子用組成物並びにクロマトグラフ用多孔質体の製造法 - Google Patents
多孔質硝子用組成物並びにクロマトグラフ用多孔質体の製造法Info
- Publication number
- JPS62207741A JPS62207741A JP61047302A JP4730286A JPS62207741A JP S62207741 A JPS62207741 A JP S62207741A JP 61047302 A JP61047302 A JP 61047302A JP 4730286 A JP4730286 A JP 4730286A JP S62207741 A JPS62207741 A JP S62207741A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- porous
- cao
- composition
- phase
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 11
- 229910011255 B2O3 Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 3
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 5
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthene Chemical compound C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 5
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 3
- WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N chrysene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=C21 WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000012050 conventional carrier Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 102220043690 rs1049562 Human genes 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
［産業上の利用分野］
本発明は多孔質硝子用組成物並びにクロマトグラフ用多
孔質体の製造方法に関するものである。
孔質体の製造方法に関するものである。
［従来の技術］
多孔質硝子をクロマトグラフ用等に用いることは知られ
ているが次の欠点があった。
ているが次の欠点があった。
（１）従来の多孔質硝子は、その組成が原因て硬いが脆
く、粉砕過程で微粉となり易く、クロマト充填剤として
適当な３〜１０ＩＬあるいはメッシュサイズの粒径のも
のを歩留り良く得るのは困難であった。
く、粉砕過程で微粉となり易く、クロマト充填剤として
適当な３〜１０ＩＬあるいはメッシュサイズの粒径のも
のを歩留り良く得るのは困難であった。
（２）最近は、シリカゲル系の担体或は充填材において
細孔径の大きいものか要望されてきているが、従来の多
孔質硝子、又シリカゲル系の担体或は充填材において細
孔径を大きくすることは（３０００Ａ以上の細孔径）粒
子の耐圧強度に大きく影響し、使用に耐えつるものは実
際にはいまた開発されていない。
細孔径の大きいものか要望されてきているが、従来の多
孔質硝子、又シリカゲル系の担体或は充填材において細
孔径を大きくすることは（３０００Ａ以上の細孔径）粒
子の耐圧強度に大きく影響し、使用に耐えつるものは実
際にはいまた開発されていない。
（３）細孔の径を所定値に制御し難いこと。
硝子な分相せしめる際の熱処理条件を制御することによ
り細孔の平均径は制御することができるが、径のバラツ
キが大きく、均一な、所定の大きさの径を有する細孔を
形成させることは困難である。
り細孔の平均径は制御することができるが、径のバラツ
キが大きく、均一な、所定の大きさの径を有する細孔を
形成させることは困難である。
［発明か解決しようとする閤題点］
本発明は従来技術か有していた前述の欠点を解消するこ
とを目的とするものである。
とを目的とするものである。
発明の構成
［問題点を解決するための手段］
本発明は前述の問題点を解決すべくなされたものであり
、 ５ｉ０２４５〜７０ｗｔ％、Ｒ，０，８〜３０ｗｔ
％、 Ｃ：ａ０８〜２５ｗｔ％、 ＡＭ２０３ ５
〜 ｉｓｗｔ％、 Ｎａ２Ｏ３〜８ｗｔ％、 Ｋ２Ｏ
１〜５ｗｔ％、Ｎａ２Ｏ＋に２０４〜ｌ ３ ｗｔ％、
ＭｇＯＯ〜８ｗｔ％からなる多孔質硝子用組成物並びに
上記組成を有する硝子な熱処理してＣａｂ、 Ｂ２０
．を−を体とする相を分相せしめ、この相を溶解除去す
ることを特徴とするクロマトグラフ用多孔質体の製造法
を提供するものである。本発明においては上述した組成
を有する硝子カレットを使用する。これらの成分のうち
ＳｉＯ□は分相、除去によって得られる多孔質硝子の骨
格を形成するための基幹成分であり。
、 ５ｉ０２４５〜７０ｗｔ％、Ｒ，０，８〜３０ｗｔ
％、 Ｃ：ａ０８〜２５ｗｔ％、 ＡＭ２０３ ５
〜 ｉｓｗｔ％、 Ｎａ２Ｏ３〜８ｗｔ％、 Ｋ２Ｏ
１〜５ｗｔ％、Ｎａ２Ｏ＋に２０４〜ｌ ３ ｗｔ％、
ＭｇＯＯ〜８ｗｔ％からなる多孔質硝子用組成物並びに
上記組成を有する硝子な熱処理してＣａｂ、 Ｂ２０
．を−を体とする相を分相せしめ、この相を溶解除去す
ることを特徴とするクロマトグラフ用多孔質体の製造法
を提供するものである。本発明においては上述した組成
を有する硝子カレットを使用する。これらの成分のうち
ＳｉＯ□は分相、除去によって得られる多孔質硝子の骨
格を形成するための基幹成分であり。
Ａｉ２Ｏユは補助成分として得られた多孔硝子の脆さを
減少させる作用を有する。 ８．０１は一方において
多孔質硝子の骨格を形成する補助成分としてａ悌するが
、他方ＣａＯ、ＭｇＯと共同して、熱処理によって微少
な分相な生成する作用を有する。
減少させる作用を有する。 ８．０１は一方において
多孔質硝子の骨格を形成する補助成分としてａ悌するが
、他方ＣａＯ、ＭｇＯと共同して、熱処理によって微少
な分相な生成する作用を有する。
Ｂ２Ｏ．は上述の説明からも首肯しつるように細孔の大
きさを決定する重要な因子であり、分相中に移行して除
去されるＢ２Ｏ３の量、或は逆に多孔質硝子中に残存す
るＢ２Ｏ３の量は、細孔の径の均一性と密接な関係を有
することが判明した。
きさを決定する重要な因子であり、分相中に移行して除
去されるＢ２Ｏ３の量、或は逆に多孔質硝子中に残存す
るＢ２Ｏ３の量は、細孔の径の均一性と密接な関係を有
することが判明した。
Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏは硝子調合原料（バッチ）を加熱溶融
してカレットとする際の溶融を促進する作用を有し、
Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏの添加量が大きい程溶融が容易となり
、均質なカレットが得やすくなり、【Ｌつクロマトグラ
フ用担体として使用するのに適した粒度に効率よく微粉
砕することが回部となるが、この量をあまり多くすると
、得られた多孔硝子の機械的強度か劣化し易い。
してカレットとする際の溶融を促進する作用を有し、
Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏの添加量が大きい程溶融が容易となり
、均質なカレットが得やすくなり、【Ｌつクロマトグラ
フ用担体として使用するのに適した粒度に効率よく微粉
砕することが回部となるが、この量をあまり多くすると
、得られた多孔硝子の機械的強度か劣化し易い。
本発明の目的を達成するためには上記成分を前述の範囲
内に保つことが肝要である。
内に保つことが肝要である。
本発明において使用するカレットは、常法に従い調合原
料を溶融することによって製造されるが、溶融中にＢ２
Ｏ３の一部が揮発逸散するので、この逸散ψを考慮して
バッチ中の８２０：Ｉ量を定めることが必要である。
料を溶融することによって製造されるが、溶融中にＢ２
Ｏ３の一部が揮発逸散するので、この逸散ψを考慮して
バッチ中の８２０：Ｉ量を定めることが必要である。
カレットを熱処理してＣａＯ、Ｂ２０ｚを主体とする相
（以下ＣａＯ１Ｒ２Ｏ３相という）を分相せしめる。加
熱処理温度が高い程、又処理時間が長い程ＣａＯ１Ｂ２
０３相は大きくなり、従って得られる多孔質硝子の細孔
の径は大きくなる傾向を有し、熱処理条件を選択するこ
とによって細孔の径を所望の値とすることができる。本
発明によるときは５【）〜５０，０ＯＯＡ径の細孔を得
ることができ、これは前述した技術上の要請に充分応え
るものである。
（以下ＣａＯ１Ｒ２Ｏ３相という）を分相せしめる。加
熱処理温度が高い程、又処理時間が長い程ＣａＯ１Ｂ２
０３相は大きくなり、従って得られる多孔質硝子の細孔
の径は大きくなる傾向を有し、熱処理条件を選択するこ
とによって細孔の径を所望の値とすることができる。本
発明によるときは５【）〜５０，０ＯＯＡ径の細孔を得
ることができ、これは前述した技術上の要請に充分応え
るものである。
加熱処理を行った硝子をＩＣ見、１畳２Ｓ０４、 ＩＩ
Ｎ Ｏ。
Ｎ Ｏ。
等の酸中に浸漬してＣａＯ１Ｂ２Ｏ３相を溶解除去する
。なお酸処理を行なうに先立ち、ＨＦ溶液で短時間その
表面をエツチング処理するのが望ましい。
。なお酸処理を行なうに先立ち、ＨＦ溶液で短時間その
表面をエツチング処理するのが望ましい。
前述したように熱処理の条件によって、得られる多孔硝
子の細孔の径を制御することができるが、細孔の径は多
孔質硝子中に残存する８２０：ｌの量に応じて変化する
こと及びこのＢ２Ｏ３の量は熱処理、酸処理の条件によ
っても左右されることが判明した。そしてＢ２Ｏ３が望
ましくは０．５ ｗｔ％以上残存するようこれらの条件
を定めることにより多孔質硝子をクロマトグラフ用担体
或は充填材として使用した場合特に好適な結果の得られ
ることが判明した。
子の細孔の径を制御することができるが、細孔の径は多
孔質硝子中に残存する８２０：ｌの量に応じて変化する
こと及びこのＢ２Ｏ３の量は熱処理、酸処理の条件によ
っても左右されることが判明した。そしてＢ２Ｏ３が望
ましくは０．５ ｗｔ％以上残存するようこれらの条件
を定めることにより多孔質硝子をクロマトグラフ用担体
或は充填材として使用した場合特に好適な結果の得られ
ることが判明した。
望ましい処理条件は次の通りである。
加熱温度 ６００〜９０ロ０Ｃ１
加熱時間 ２〜４８ｈｒ、望ましくは１２〜２４ｈｒ、
酸の種類 １１ｃ見、１１□ＳＯ４、ＨＮＯユ、酸の濃
度 ０．０１〜２．ＯＮ、望ましくは０．１〜１、ＯＮ
、 処理時間 ２〜２０ｈｒ、望ましくは４〜１６ｂｒ。
酸の種類 １１ｃ見、１１□ＳＯ４、ＨＮＯユ、酸の濃
度 ０．０１〜２．ＯＮ、望ましくは０．１〜１、ＯＮ
、 処理時間 ２〜２０ｈｒ、望ましくは４〜１６ｂｒ。
温 度 ５０〜９５℃、望ましくは８０〜９０℃。
なお得られた多孔質硝子をクロマトグラフ用に使用する
ためには所定粒度に粉砕、分級する必要がある。粉砕は
加熱処理を行なう前或は酸処理を行なう前に行なうのが
適当である。
ためには所定粒度に粉砕、分級する必要がある。粉砕は
加熱処理を行なう前或は酸処理を行なう前に行なうのが
適当である。
このようにして得られた粒状の多孔硝子はそのままクロ
マトグラフ用充填材として使用することもできるが、現
在使用されているシリカゲルの様に分離する物質に合わ
せて表面に化学処理を施こし、使用することは可能であ
る。
マトグラフ用充填材として使用することもできるが、現
在使用されているシリカゲルの様に分離する物質に合わ
せて表面に化学処理を施こし、使用することは可能であ
る。
一般的な表面化学処理としては１例えばオクタデシルト
リクロルシランを使用し、表面に−１１゜■３７基を結
合させ、或いは、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシランを使用し、表面に物質を結合させるなどの方法
。シリカゲルの処理方法をそのまま使用することができ
る。
リクロルシランを使用し、表面に−１１゜■３７基を結
合させ、或いは、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシランを使用し、表面に物質を結合させるなどの方法
。シリカゲルの処理方法をそのまま使用することができ
る。
本発明の多孔質体は分析用或は工業用の液体クロマトグ
ラフ又はガスクロマトグラフ用担体或は充填材として極
めて有用なものである。
ラフ又はガスクロマトグラフ用担体或は充填材として極
めて有用なものである。
実施例１
Ｓｉｎ□４７ ｗｔ％、 ＡＭ ２０３１２ ｗｔ％、
Ｂ２Ｏ゜１４ｗｔ％、 Ｎａ２Ｏ＋にＪ９ｗｔ％、Ｃ
ａ０１３ｗｔ％、ＭｇＯ５ｗｔ％なる組成を有するカレ
ットを６８０℃に２４ｈｒ加熱して分相せしめ、１〜２
０ＩＬ程度に粉砕し、 （Ｌ５ Ｎ ＨＣｆＬ中に８０
℃で１６ｈｒ浸漬して次の組成を有する平均細孔径７０
０Ａのクロマトグラフ用多孔質体を得た。この多孔質体
は１７０ｋｇ／ｃｒｎ’以上の圧力で使用可能であった
。
Ｂ２Ｏ゜１４ｗｔ％、 Ｎａ２Ｏ＋にＪ９ｗｔ％、Ｃ
ａ０１３ｗｔ％、ＭｇＯ５ｗｔ％なる組成を有するカレ
ットを６８０℃に２４ｈｒ加熱して分相せしめ、１〜２
０ＩＬ程度に粉砕し、 （Ｌ５ Ｎ ＨＣｆＬ中に８０
℃で１６ｈｒ浸漬して次の組成を有する平均細孔径７０
０Ａのクロマトグラフ用多孔質体を得た。この多孔質体
は１７０ｋｇ／ｃｒｎ’以上の圧力で使用可能であった
。
Ｓｉｎ、 ８ ５ｗｔ％、 Ａｎ ｚＯｉ ２
ｗｔ％、 Ｂ２０ｉ １ｗｔ％、 Ｎａ２Ｏ＋
Ｋ２Ｏ １ ｗｔ％、 Ｃａｏｌｗｔ％、 ＭｇＯ
０．５ｗｔ％。公知の方法を使用しオクタデシルトリク
ロルシランてシリル化したものをクロマトグラフ用充填
材として使用し、下記条件で第１図のクロマトグラムを
得た。
ｗｔ％、 Ｂ２０ｉ １ｗｔ％、 Ｎａ２Ｏ＋
Ｋ２Ｏ １ ｗｔ％、 Ｃａｏｌｗｔ％、 ＭｇＯ
０．５ｗｔ％。公知の方法を使用しオクタデシルトリク
ロルシランてシリル化したものをクロマトグラフ用充填
材として使用し、下記条件で第１図のクロマトグラムを
得た。
同条件で重版のシリカゲル−〇Ｏ３を使用した場合のク
ロマトグラムは第２図の通りであった。
ロマトグラムは第２図の通りであった。
カラム ４Ｘ１５０＋ｕ＋
溶離液 ＣＨ３ＣＮ／Ｈ２０＝ ７／３流量
１．０ ｍｆＬ ／ｗｉｎ測定圧力 ５０ｋｇ／
ｃゴ 試料 （１） Ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ（２） Ｂｉｐ
ｈｅｎｙｌ （３） Ｐｈｅｎａｎｔｈｒｅｎｅ （４） Ｆｌｕｏｒａｎｔｈｒｅｎｅ （５） Ｐｙｒｅｎｅ （６） Ｃｈｒｙｓｅｎｅ （７） Ｂｃｎｚｏ （ａ ） Ｐｙｒｅｎｅ注入量
ｌ終臆見 ［発明の効果］ 木発、明多孔質体はクロマトグラフ用担体或は充填材と
して次のような優れた特性を有する。
１．０ ｍｆＬ ／ｗｉｎ測定圧力 ５０ｋｇ／
ｃゴ 試料 （１） Ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ（２） Ｂｉｐ
ｈｅｎｙｌ （３） Ｐｈｅｎａｎｔｈｒｅｎｅ （４） Ｆｌｕｏｒａｎｔｈｒｅｎｅ （５） Ｐｙｒｅｎｅ （６） Ｃｈｒｙｓｅｎｅ （７） Ｂｃｎｚｏ （ａ ） Ｐｙｒｅｎｅ注入量
ｌ終臆見 ［発明の効果］ 木発、明多孔質体はクロマトグラフ用担体或は充填材と
して次のような優れた特性を有する。
＜１）耐圧性か大きく、機械的強度も大きい。
（２）耐薬品性が大きく、Ｐ！１１〜ｌＯの範囲で使用
可能である。
可能である。
（３）分離速度が大きく、分析所要時間を短縮でき、従
って溶離液の使用着を減少できる。
って溶離液の使用着を減少できる。
（４）細孔径の制御が容易で且つ均一な細孔を有する多
孔質体が得らえ、又細孔径５０〜５００００ Ａのもの
をうることができる。
孔質体が得らえ、又細孔径５０〜５００００ Ａのもの
をうることができる。
（５）通常の破砕機により、所望の粒度に歩留りよく粉
砕することができる。
砕することができる。
第１図は本発明の担体を使用して得られたクロマトグラ
ム、第２図は従来の担体を使用して得られたクロマトグ
ラムである。 （・イ・５ｊニー圭：ｊ 第１図 第２図
ム、第２図は従来の担体を使用して得られたクロマトグ
ラムである。 （・イ・５ｊニー圭：ｊ 第１図 第２図
Claims (5)
- （１）ＳｉＯ＿２ ４５〜７０ｗｔ％、Ｂ＿２Ｏ＿３
８〜３０ｗｔ％、ＣａＯ ８〜２５ｗｔ％、Ａｌ＿２Ｏ
＿３ ５〜１５ｗｔ％、Ｈａ＿２Ｏ ３〜８ｗｔ％、Ｋ
＿２Ｏ １〜５ｗｔ％、Ｎａ＿２Ｏ＋Ｋ＿２Ｏ ４〜１
３ｗｔ％、ＭｇＯ ０〜８ｗｔ％からなる多孔質硝子用
組成物。 - （２）ＳｉＯ＿２ ４５〜７０ｗｔ％、Ｂ＿２Ｏ＿３
８〜３０ｗｔ％、ＣａＯ ８〜２５ｗｔ％、Ａｌ＿２Ｏ
＿３ ５〜１５％、Ｎａ＿２Ｏ ３〜８％、Ｋ＿２Ｏ
１〜５％、Ｎａ＿２Ｏ＋Ｋ＿２Ｏ４〜１３ｗｔ％、Ｍｇ
Ｏ ０〜８ｗｔ％なる組成を有する硝子を熱処理してＣ
ａＯ、Ｂ＿２Ｏ＿３を主体とする相を分相せしめ、この
相を溶解除去することを特徴とするクロマトグラフ用多
孔質体の製造法。 - （３）ＣａＯ、Ｂ＿２Ｏ＿３を主体とする相の除去をＢ
＿２Ｏ＿３が残存する条件下に行なうことを特徴とする
特許請求の範囲第２項記載のクロマトグラフ用多孔質体
の製造方法。 - （４）Ｂ＿２Ｏ＿３の残存量が０．５ｗｔ％以上である
ことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載のクロマト
グラフ用多孔質体の製造法。 - （５）ＣａＯ、Ｂ＿２Ｏ＿３を主体とする相の溶解除去
後、多孔質体をシリル化することを特徴とする特許請求
の範囲第２、３、又は４項記載のクロマトグラフ用多孔
質体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61047302A JPS62207741A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | 多孔質硝子用組成物並びにクロマトグラフ用多孔質体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61047302A JPS62207741A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | 多孔質硝子用組成物並びにクロマトグラフ用多孔質体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62207741A true JPS62207741A (ja) | 1987-09-12 |
Family
ID=12771487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61047302A Pending JPS62207741A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | 多孔質硝子用組成物並びにクロマトグラフ用多孔質体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62207741A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0627097A (ja) * | 1992-05-19 | 1994-02-04 | Fuji Shirishia Kagaku Kk | シリカーマグネシア複合酸化物クロマトグラフィー充填剤 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6140841A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-27 | Miyazakiken | 多孔質ガラス成形物及びその製造方法 |
| JPS62167239A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 多孔体用ガラス組成物 |
-
1986
- 1986-03-06 JP JP61047302A patent/JPS62207741A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6140841A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-27 | Miyazakiken | 多孔質ガラス成形物及びその製造方法 |
| JPS62167239A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 多孔体用ガラス組成物 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0627097A (ja) * | 1992-05-19 | 1994-02-04 | Fuji Shirishia Kagaku Kk | シリカーマグネシア複合酸化物クロマトグラフィー充填剤 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0335875B1 (en) | Vitreous silica | |
| JPS6283313A (ja) | シリカの高純度化方法 | |
| US4853198A (en) | Process for producing unsintered cristobalite silica | |
| EP0874786B1 (en) | Purified natural glass product | |
| EP0451818B1 (en) | Method for producing unsintered cristobalite particles | |
| CA1257299A (en) | Chemically durable porous glass and process for the manufacture thereof | |
| Konon et al. | Phase separated and porous glasses in the Na2O–B2O3–SiO2–Fe2O3 glass forming system | |
| CN109174044B (zh) | 一种提高蛋白土比表面积和吸附能力的方法 | |
| JPS62207741A (ja) | 多孔質硝子用組成物並びにクロマトグラフ用多孔質体の製造法 | |
| JPS6225618B2 (ja) | ||
| JP3636666B2 (ja) | 多孔質体及びその製造方法 | |
| JPS62204844A (ja) | クロマトグラフ用担体の製造法並びにクロマトグラフ用充填材 | |
| US4296056A (en) | Method for preparing a filter medium | |
| Gossink et al. | Ultrapure SiO2 and Al2O3 for the preparation of low-loss compound glasses | |
| Kokubo et al. | Effects of Al₂O₃ Addition on Glassy Phase Separation and Crystallization of a PbO-TiO₂-SiO₂ Glass | |
| Dawidowicz et al. | The influence of long additional thermal treatment of controlled porous glasses on the structuralization of their silica network | |
| JPS62148336A (ja) | アルミノリン珪酸系ガラスセラミツクス多孔体およびその製造方法 | |
| SU972394A1 (ru) | Способ получени адсорбента дл газовой хроматографии | |
| JPS59164648A (ja) | 多孔質ガラスの製造方法 | |
| CN106345404A (zh) | 一种净油机的脱色助滤剂 | |
| JP2581612B2 (ja) | ドーピングシリカ粒子の製造方法 | |
| JPH02196035A (ja) | 高強度多孔質ガラス繊維の製造方法 | |
| Lee et al. | Dependence of crystallization behavior and microstructural change in cordierite-based glass-ceramics upon acid-etching on glass frit | |
| JP2878916B2 (ja) | 半導体熱処理用シリカガラス部材およびその製造方法 | |
| JPH02192422A (ja) | 多孔質ガラスの製造方法 |