JPS62205652A - Icパツケ−ジ - Google Patents
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- JPS62205652A JPS62205652A JP61048054A JP4805486A JPS62205652A JP S62205652 A JPS62205652 A JP S62205652A JP 61048054 A JP61048054 A JP 61048054A JP 4805486 A JP4805486 A JP 4805486A JP S62205652 A JPS62205652 A JP S62205652A
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 63
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 63
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 9
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 8
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、リードフレーム上に搭載された半導体集積回
路(rc)素子を樹脂により封+hしたレジンモールド
タイプのICパッケージに関する。
路(rc)素子を樹脂により封+hしたレジンモールド
タイプのICパッケージに関する。
〈従来の技術〉
IC,5f−5LSIJ7’−1超LSI!71)実装
においては、これらを環境から物理的、化学的に保護す
るためにパッケージングが行われている。
においては、これらを環境から物理的、化学的に保護す
るためにパッケージングが行われている。
このパッケージングの内でIC素f等の樹脂モールドタ
イプは生産性の向F、ローコスト化の目的や外形構造の
複雑化に伴って、近年急速に増加してきている。特に樹
脂モールドによるパッケージングは、一度に大量の成形
ができ、成形時間も短いので量産品を安価に製造するこ
とができるという利点がある。
イプは生産性の向F、ローコスト化の目的や外形構造の
複雑化に伴って、近年急速に増加してきている。特に樹
脂モールドによるパッケージングは、一度に大量の成形
ができ、成形時間も短いので量産品を安価に製造するこ
とができるという利点がある。
第3図は、従来のレジンモールドタイプのICパッケー
ジの断面図である。同図に示すように、従来のtCパッ
ケージ1′は、リードフレーム2のIC素f搭載台3上
にt導体集禎回路素−f(IC素f・、LSI素子、超
LSI素子等があり、以トこわらを総称してIC索−f
という)5を搭載し、このICAf5にの電極とリード
フレーム2のリード4の先端とを金線等のワイヤ6によ
りワイヤボンディングして電気的に接続し、これを工ボ
キシ等の樹脂7により封止(レジンモールド)した構造
となっている。
ジの断面図である。同図に示すように、従来のtCパッ
ケージ1′は、リードフレーム2のIC素f搭載台3上
にt導体集禎回路素−f(IC素f・、LSI素子、超
LSI素子等があり、以トこわらを総称してIC索−f
という)5を搭載し、このICAf5にの電極とリード
フレーム2のリード4の先端とを金線等のワイヤ6によ
りワイヤボンディングして電気的に接続し、これを工ボ
キシ等の樹脂7により封止(レジンモールド)した構造
となっている。
一=般に、リードフレーム2をレジンモールドする際、
樹脂7は約170〜180℃程度に加熱された溶融状態
から、冷却硬化されるが、その際樹脂内部に熱的残留応
力が発生する。また、モールド樹脂は、リードフレーム
材料(例えば42合金、Gu)に比較して熱膨張率か大
きいため、その後のIC便用時に発生する温度サイクル
によっても樹脂内部に応力が発生する。これらの応力は
、IC素子5.搭載台3またはり−ド4端部の角部や、
リードフレーム打ち抜き時に発生したパリ等のRが小さ
くとがった部分に集中し易く、そのため第3図に示すよ
うに、その部分から樹脂7内にクラック9が発生する。
樹脂7は約170〜180℃程度に加熱された溶融状態
から、冷却硬化されるが、その際樹脂内部に熱的残留応
力が発生する。また、モールド樹脂は、リードフレーム
材料(例えば42合金、Gu)に比較して熱膨張率か大
きいため、その後のIC便用時に発生する温度サイクル
によっても樹脂内部に応力が発生する。これらの応力は
、IC素子5.搭載台3またはり−ド4端部の角部や、
リードフレーム打ち抜き時に発生したパリ等のRが小さ
くとがった部分に集中し易く、そのため第3図に示すよ
うに、その部分から樹脂7内にクラック9が発生する。
このクラック9は温度サイクル、振動その他の影ツによ
り進行して大きくなり、場合によっては樹脂7の外表面
にまで達する。このような事態が生じると、ICパッケ
ージ1′の内部かクラック9により外気と連通し、IC
パッケージ1′内に湿気が侵入するため、金属部分の腐
食、劣化、短絡事故等によりICバ・7ケーシの信頼性
が好しく低下するという欠点があった。
り進行して大きくなり、場合によっては樹脂7の外表面
にまで達する。このような事態が生じると、ICパッケ
ージ1′の内部かクラック9により外気と連通し、IC
パッケージ1′内に湿気が侵入するため、金属部分の腐
食、劣化、短絡事故等によりICバ・7ケーシの信頼性
が好しく低下するという欠点があった。
特に近年、搭載するIC素子の大型化に伴う搭載台の大
きいリードフレームにおいては、熱応力′の発生に関1
pする部分の面積が大きいので、クラック9がより発生
し易く、ト記欠点が顕著となる。
きいリードフレームにおいては、熱応力′の発生に関1
pする部分の面積が大きいので、クラック9がより発生
し易く、ト記欠点が顕著となる。
このような問題点に鑑みて、現在、リードフレーム打ち
抜き時に発生するパリを化学研磨によって除去する方法
や、リードフレームとモールド樹脂との密着性を向上さ
せることにより樹脂内のクラック発生を減少させる旨の
研究が行われているが、未だ、ICパッケージの信頼性
を充分に獲得するには至っていない。
抜き時に発生するパリを化学研磨によって除去する方法
や、リードフレームとモールド樹脂との密着性を向上さ
せることにより樹脂内のクラック発生を減少させる旨の
研究が行われているが、未だ、ICパッケージの信頼性
を充分に獲得するには至っていない。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明の目的は、前述した従来技術の欠点を解消し、樹
脂内部のクラックの発生を防止し、あるいは発生したク
ラックの進行を防止することができるICパッケージを
提供することにある。
脂内部のクラックの発生を防止し、あるいは発生したク
ラックの進行を防止することができるICパッケージを
提供することにある。
〈問題点を解決するための手段〉
このような目的は、以ドの本発明によって達成される。
即ち、本発明は、半導体集積回路素子を搭載したリード
フレームに所定の配線をし、これを樹脂モールドしたI
Cパッケージにおいて、前記モールド樹脂中に少なくと
も前記半導体集積回路素子を包囲する弾性体層を設けた
ことを特徴とするICパッケージを提供するものである
。
フレームに所定の配線をし、これを樹脂モールドしたI
Cパッケージにおいて、前記モールド樹脂中に少なくと
も前記半導体集積回路素子を包囲する弾性体層を設けた
ことを特徴とするICパッケージを提供するものである
。
また、前記弾性体層は、許容歪限界が前記モールド樹脂
のそれの10倍以七の材料で構成されるのか好ましい。
のそれの10倍以七の材料で構成されるのか好ましい。
以下、本発明のICパッケージを添付図面に示す好適実
施例について詳細に説明する。
施例について詳細に説明する。
第1図および第2UAは、各々本発明のICパッケージ
の構成例を示す断面図である。これらの図中、従来のI
Cパッケージ(第3図)と同様の部分は同一の数字を用
いて示す。
の構成例を示す断面図である。これらの図中、従来のI
Cパッケージ(第3図)と同様の部分は同一の数字を用
いて示す。
第1図および第2図に示すように、本発明のICパッケ
ージ1は、リードフレーム2のIC素子−搭載台31:
、にIC素子5を搭載し、このIC素子−51=の電極
とり−ド4の先端とを金線等のワイヤ6によりワイヤボ
ンディングして電気的に接続し、これを樹脂7により封
止(レジンモールド)した構成となっている。
ージ1は、リードフレーム2のIC素子−搭載台31:
、にIC素子5を搭載し、このIC素子−51=の電極
とり−ド4の先端とを金線等のワイヤ6によりワイヤボ
ンディングして電気的に接続し、これを樹脂7により封
止(レジンモールド)した構成となっている。
本発明のICパッケージ1では、リードフレーム2の形
状はいかなるものでよく、従来のものを用いればよい。
状はいかなるものでよく、従来のものを用いればよい。
また、モールドする樹脂7も例えばエポキシ樹脂、シリ
コーン樹脂等の従来から用いられているものを用いれば
よい。
コーン樹脂等の従来から用いられているものを用いれば
よい。
本発明の特徴は、樹脂7中に少なくともIC素子5を包
囲する弾性体層8を設けることにある。
囲する弾性体層8を設けることにある。
樹脂7中では、搭載台3の端部、IC素子5の端部、リ
ード4の先端部の角の部分からクラックが発生し易い。
ード4の先端部の角の部分からクラックが発生し易い。
従フて、これらの部分すなわちクラック多発部をカバー
するように弾性体層8を設ける。
するように弾性体層8を設ける。
第1図に示す例では、IC素子5および搭載台3を直接
包囲するように弾性体層8が設けられており、さらにそ
の弾性体層8の周囲を樹脂7で封止した構造となってい
る。ここで、第1図に示すのとは異なり、弾性体層8が
リード4の先端部までも包囲するように設けられていて
もよい。
包囲するように弾性体層8が設けられており、さらにそ
の弾性体層8の周囲を樹脂7で封止した構造となってい
る。ここで、第1図に示すのとは異なり、弾性体層8が
リード4の先端部までも包囲するように設けられていて
もよい。
このような構成とすることにより弾性体層8が内部応力
すなわち熱膨張を吸収し、よって樹脂7にクラックの発
生を防止することができる。
すなわち熱膨張を吸収し、よって樹脂7にクラックの発
生を防止することができる。
第2図に示す例では、ICパッケージの耐湿性を向上さ
せるためにIC素f5、搭載台3およびリード4の先端
部(クラック多発部分)を包囲するよう樹脂7で封止し
、その周囲を取り囲むように弾性体層8を設け、さらに
その周囲を樹脂7′で封止した構造となっている。ここ
で弾性体層8の厚さは比較的薄いものでもよく、例えば
塗布法により形成した場合の10〜50μm程度でもよ
い。
せるためにIC素f5、搭載台3およびリード4の先端
部(クラック多発部分)を包囲するよう樹脂7で封止し
、その周囲を取り囲むように弾性体層8を設け、さらに
その周囲を樹脂7′で封止した構造となっている。ここ
で弾性体層8の厚さは比較的薄いものでもよく、例えば
塗布法により形成した場合の10〜50μm程度でもよ
い。
このような構成とすることにより、弾性体層8が内部応
力(熱膨張)を吸収し、クラックの発生を防止しあるい
は弾性体層8の内側の樹脂7にクラック9か発生したと
しても、弾性体層7の存在によりその進行か停止Jニさ
れるので、クラック9は樹脂外表面にまで達することは
ない。
力(熱膨張)を吸収し、クラックの発生を防止しあるい
は弾性体層8の内側の樹脂7にクラック9か発生したと
しても、弾性体層7の存在によりその進行か停止Jニさ
れるので、クラック9は樹脂外表面にまで達することは
ない。
このような弾性体層8を構成する弾性体材料としてはポ
リプロピレン、ポリウレタン、ポリカーボネートなどの
軟質樹脂、シリコーンゴム、アクリルゴム等の名種ゴム
類等を挙げることができる。
リプロピレン、ポリウレタン、ポリカーボネートなどの
軟質樹脂、シリコーンゴム、アクリルゴム等の名種ゴム
類等を挙げることができる。
特に、弾性体材料は、許容士限界がモールド樹脂7のそ
れの10倍以上のものを用いるのが好ましい。
れの10倍以上のものを用いるのが好ましい。
10倍未満であると、モールド樹脂7に熱応力が大きく
作用してしまうからである。
作用してしまうからである。
ここて、許容歪限界とは、所定サイズの材料に一定量の
繰り返し歪を与えたとき、その材料中にマイクロクラッ
クが全く発生しない歪量の限界値をいう。
繰り返し歪を与えたとき、その材料中にマイクロクラッ
クが全く発生しない歪量の限界値をいう。
このような許容歪限界の高い弾性体材料としてはアクリ
ルゴム、シリコーンゴム、ポリウレタン、ポリカーボネ
ート、ポリプロピレン等を挙げることかできる。
ルゴム、シリコーンゴム、ポリウレタン、ポリカーボネ
ート、ポリプロピレン等を挙げることかできる。
以上本発明のICパッケージを第1図および第2図に示
すICパッケージ1について説明したが、弾性体層8の
形成パターンはこれらに限定されるものではなく、樹脂
7の内部応力を吸収または緩和しつるものであればいか
なるものでもよい。
すICパッケージ1について説明したが、弾性体層8の
形成パターンはこれらに限定されるものではなく、樹脂
7の内部応力を吸収または緩和しつるものであればいか
なるものでもよい。
次に、本発明のICパッケージの製造方法の一例につい
て説明する。
て説明する。
第1図に示すICパッケージ1の場合、まず、リードフ
レーム2の搭載台3上にIC素子5を搭載し、IC素f
−h、の芥電棒と対応するり−ド4の先端とをワイヤ6
にてワイヤボンディングして電気的に接続する。
レーム2の搭載台3上にIC素子5を搭載し、IC素f
−h、の芥電棒と対応するり−ド4の先端とをワイヤ6
にてワイヤボンディングして電気的に接続する。
次いで、このリードフレーム2の搭載台3およびIC素
f5を包含(リード4の先端部まで含んでもよい)する
ように、これらを弾性材料で封止する。その方法は、弾
性材料のスプレー塗布、ディップ塗布などの塗布法、ま
たは専用の金型を用いる成型法により封止を行うのかよ
い。
f5を包含(リード4の先端部まで含んでもよい)する
ように、これらを弾性材料で封止する。その方法は、弾
性材料のスプレー塗布、ディップ塗布などの塗布法、ま
たは専用の金型を用いる成型法により封止を行うのかよ
い。
さらに、その周囲を樹脂7で封止する。その方法として
例えば通常のトランスファーモールド法により樹脂の注
入、同化を行えばよい。
例えば通常のトランスファーモールド法により樹脂の注
入、同化を行えばよい。
第2図に示す、ICパッケージ1の場合、まず前記と同
様IC素f5の搭載およびワイヤボンディングを行った
後、そのリードフレーム2のha台3、IC素f5およ
びリート4の先端部(リード4の先端部のみ含まなくて
もよい)を包含するように、これらを樹脂7で封止する
。 ゛次いで、この樹脂7の周囲に液状または半液
状の弾性材料萌駆体を塗布し、乾燥による固化あるいは
、光学的に固化(もしくはキュアー)させて弾性体層8
を形成する。
様IC素f5の搭載およびワイヤボンディングを行った
後、そのリードフレーム2のha台3、IC素f5およ
びリート4の先端部(リード4の先端部のみ含まなくて
もよい)を包含するように、これらを樹脂7で封止する
。 ゛次いで、この樹脂7の周囲に液状または半液
状の弾性材料萌駆体を塗布し、乾燥による固化あるいは
、光学的に固化(もしくはキュアー)させて弾性体層8
を形成する。
さらに、この弾性体層8の周囲を前記と同種または異種
の樹脂7′で封止する。
の樹脂7′で封止する。
なお、I+rf記2度の樹脂封ルーは、例えばトランス
ファーモールド法により行えばよい。
ファーモールド法により行えばよい。
〈作用〉
以上、本発明のICパッケージの作用を説明する。
リードフレーム2を樹脂モールドする際、樹脂は約17
0〜180℃程度に加熱された溶融状態から、冷却硬化
されるが、その際、樹脂7の内部に残留応力が発生する
。また、その後の温度サイクル等、他の要因によっても
樹脂内部に応力が発生する。第3図に示す従来のICパ
ッケージ1′では樹脂内に発生した応力がIC素子5、
搭載台3の端部、リード4の先端部等の角部に集中し、
そのため、これらの部分(クラック多発部分)から樹脂
内にクラック9か発生し易い。
0〜180℃程度に加熱された溶融状態から、冷却硬化
されるが、その際、樹脂7の内部に残留応力が発生する
。また、その後の温度サイクル等、他の要因によっても
樹脂内部に応力が発生する。第3図に示す従来のICパ
ッケージ1′では樹脂内に発生した応力がIC素子5、
搭載台3の端部、リード4の先端部等の角部に集中し、
そのため、これらの部分(クラック多発部分)から樹脂
内にクラック9か発生し易い。
しかし、本発明のICパッケージlでは、モールドする
樹脂7中に設けられた弾性体層8が樹脂7内で発生した
内部応力を吸収または緩和するため、クラックか発生し
難い。
樹脂7中に設けられた弾性体層8が樹脂7内で発生した
内部応力を吸収または緩和するため、クラックか発生し
難い。
即ち、第1図に示すICパッケージでは、前記クラック
多発部分を弾性体で封止しているため、樹脂内にクラッ
クは発生しない(弾性体層8内にはその性質Eクラック
は発生しない)。また、第2図に示すICパッケージで
は、弾性体層8の存在によりクラックの発生し難いこと
はもとより、’j’li性体層8より内側の樹脂7内に
クラック9が発生したとしても、Jail性体層8か前
記クラック多発部分をカバーするよう設けられているた
め、クラック9は弾性体層8を越えて進行し、樹脂7の
外表面にまで達することはない。
多発部分を弾性体で封止しているため、樹脂内にクラッ
クは発生しない(弾性体層8内にはその性質Eクラック
は発生しない)。また、第2図に示すICパッケージで
は、弾性体層8の存在によりクラックの発生し難いこと
はもとより、’j’li性体層8より内側の樹脂7内に
クラック9が発生したとしても、Jail性体層8か前
記クラック多発部分をカバーするよう設けられているた
め、クラック9は弾性体層8を越えて進行し、樹脂7の
外表面にまで達することはない。
〈発明の効果〉
本発明のICパッケージによれば2モールド樹脂中に少
なくともfc素fを包囲する弾性体層を設けたことによ
り、樹脂内のクラックの発生を防l卜シあるいはクラッ
クが発生したとしてもクラック多発部分を取り闇む弾性
体層によりクラックの進行が停止ヒされ、クラックが弾
性体層を越えて樹脂外表面にまで達することがない。
なくともfc素fを包囲する弾性体層を設けたことによ
り、樹脂内のクラックの発生を防l卜シあるいはクラッ
クが発生したとしてもクラック多発部分を取り闇む弾性
体層によりクラックの進行が停止ヒされ、クラックが弾
性体層を越えて樹脂外表面にまで達することがない。
従って、従来のICパッケージのようにパッケージ内部
かクラックにより外気と連通し、パッケージ内部に湿気
等が侵入するという事態が発生せず、ICパッケージの
イΔ頼性が著しく向上する。
かクラックにより外気と連通し、パッケージ内部に湿気
等が侵入するという事態が発生せず、ICパッケージの
イΔ頼性が著しく向上する。
第1図および7JJ2図は、各々本発明のICパッケー
ジの構成例を示す断面図である。 第3図は、従来のICパッケージの構造およびそのクラ
ックの発生状態を示す断面図である。 符号の説明 1・・・・本発明のICパッケージ、 1′・・・・従来のICパッケージ、 2・・・・リードフレーム、 3・・・・I C:Af搭載台、4・・・・ リード、
5・・・・IC素子、 6・・・・ワイヤ、7.
7′ ・・・・樹脂、 8・・・・弾性体層、9・・
・・クラック 特 許 出 願 人 口立電線株式会社代理人 弁
理上 渡 辺 望 稔 FIG、1
ジの構成例を示す断面図である。 第3図は、従来のICパッケージの構造およびそのクラ
ックの発生状態を示す断面図である。 符号の説明 1・・・・本発明のICパッケージ、 1′・・・・従来のICパッケージ、 2・・・・リードフレーム、 3・・・・I C:Af搭載台、4・・・・ リード、
5・・・・IC素子、 6・・・・ワイヤ、7.
7′ ・・・・樹脂、 8・・・・弾性体層、9・・
・・クラック 特 許 出 願 人 口立電線株式会社代理人 弁
理上 渡 辺 望 稔 FIG、1
Claims (2)
- (1)半導体集積回路素子を搭載したリードフレームに
所定の配線をし、これを樹脂モールドしたICパッケー
ジにおいて、 前記モールド樹脂中に少なくとも前記半導体集積回路素
子を包囲する弾性体層を設けたことを特徴とするICパ
ッケージ。 - (2)前記弾性体層は、許容歪限界が前記モールド樹脂
のそれの10倍以上の材料で構成される特許請求の範囲
第1項に記載のICパッケージ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61048054A JPS62205652A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | Icパツケ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61048054A JPS62205652A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | Icパツケ−ジ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62205652A true JPS62205652A (ja) | 1987-09-10 |
Family
ID=12792627
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61048054A Pending JPS62205652A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | Icパツケ−ジ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62205652A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0878611A (ja) * | 1994-08-31 | 1996-03-22 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP2020525333A (ja) * | 2017-05-19 | 2020-08-27 | エージーシー グラス ユーロップAgc Glass Europe | 車両のための内部ガラストリム要素 |
-
1986
- 1986-03-05 JP JP61048054A patent/JPS62205652A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0878611A (ja) * | 1994-08-31 | 1996-03-22 | Nec Corp | 半導体装置 |
JP2020525333A (ja) * | 2017-05-19 | 2020-08-27 | エージーシー グラス ユーロップAgc Glass Europe | 車両のための内部ガラストリム要素 |
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