JPS62204554A - ハイブリツドｉｃ - Google Patents
ハイブリツドｉｃInfo
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- JPS62204554A JPS62204554A JP4760586A JP4760586A JPS62204554A JP S62204554 A JPS62204554 A JP S62204554A JP 4760586 A JP4760586 A JP 4760586A JP 4760586 A JP4760586 A JP 4760586A JP S62204554 A JPS62204554 A JP S62204554A
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- conductive insulating
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 8
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 abstract description 16
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L23/367—Cooling facilitated by shape of device
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- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
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- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16152—Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
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- H01L2924/19105—Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
-
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K1/02—Details
- H05K1/0201—Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/284—Applying non-metallic protective coatings for encapsulating mounted components
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電子回路で電力を処理する部分を有するハイブ
リッドＩＣに関するものである。
リッドＩＣに関するものである。
従来の技術
近年、電子機器の分野において回路基板上にはＩＣ，Ｌ
ＳＩ、パワートランジスタ、抵抗等の多種多量の部品が
搭載されており、しかも発明部品と熱の影響を好まぬ部
品とが混在している。これらをいかに効果的に組み合わ
せ高密度に実装するかが大きな問題となっている。そこ
で従来例として電子回路で電力を処理する部分を有する
オーディオアンプ等のハイブリッドＩＣを説明する。第
２図は単層構造のアルミ基板を用いたパワーモジュ、−
ル用ＨＩＣを＾１の放熱板に取り付けた構成の断面図で
ある。ＡＩの銅張り板上に、パワートランジスタ、チッ
プ抵抗、チップコンデンサ等の部品を基板上に形成後、
この回路基板の被覆保護用の成型ケースを装着し、この
モジュール熱放散の為、適切な放熱フィンを装着する。
ＳＩ、パワートランジスタ、抵抗等の多種多量の部品が
搭載されており、しかも発明部品と熱の影響を好まぬ部
品とが混在している。これらをいかに効果的に組み合わ
せ高密度に実装するかが大きな問題となっている。そこ
で従来例として電子回路で電力を処理する部分を有する
オーディオアンプ等のハイブリッドＩＣを説明する。第
２図は単層構造のアルミ基板を用いたパワーモジュ、−
ル用ＨＩＣを＾１の放熱板に取り付けた構成の断面図で
ある。ＡＩの銅張り板上に、パワートランジスタ、チッ
プ抵抗、チップコンデンサ等の部品を基板上に形成後、
この回路基板の被覆保護用の成型ケースを装着し、この
モジュール熱放散の為、適切な放熱フィンを装着する。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記の様な構成では、ＡＩの回路基板とＡ
Ｉの放熱フィンの装着、あるいは回路形成部の一被覆用
ケースとＡＩの回路基板との接着が必要となり、それに
伴う製造行程の複雑化とコストアップにつながる。また
放熱を考えた場合、従来例では、回路形成面側は熱伝導
の悪い空気媒体であり、下方の金属板から放熱フィンに
流れるルートのみである。
Ｉの放熱フィンの装着、あるいは回路形成部の一被覆用
ケースとＡＩの回路基板との接着が必要となり、それに
伴う製造行程の複雑化とコストアップにつながる。また
放熱を考えた場合、従来例では、回路形成面側は熱伝導
の悪い空気媒体であり、下方の金属板から放熱フィンに
流れるルートのみである。
本発明は上記問題点に鑑み、従来の回路形成面の被覆保
護用成型ケースと、放熱の為に回路基板の下方にＡ１等
の金属により放熱フィンを装着していたが、この保護用
ケースと放熱フィンの両方の役目を、高熱伝導性絶縁材
料で部分的あるいは全体に突起物をもった形状に全体を
一体モールドすることに１度に果たすことができるハイ
ブリッド上記問題点を解決する為に本発明のハイブリッ
ドｔＣは、下方の主面に高熱伝導性絶縁層と回路導体層
を交互にそれぞれ２層以上積層した多層型金属ベース基
板において、放熱の目的から従来は回路基板の下方に金
属の放熱フィンを装着してあったが、この目的に対して
金属の変わりに高熱伝導性絶縁材料で部分的あるいは全
体に突起物をもった形状に全体を一体モールドするとい
う構成を備えたものである。
護用成型ケースと、放熱の為に回路基板の下方にＡ１等
の金属により放熱フィンを装着していたが、この保護用
ケースと放熱フィンの両方の役目を、高熱伝導性絶縁材
料で部分的あるいは全体に突起物をもった形状に全体を
一体モールドすることに１度に果たすことができるハイ
ブリッド上記問題点を解決する為に本発明のハイブリッ
ドｔＣは、下方の主面に高熱伝導性絶縁層と回路導体層
を交互にそれぞれ２層以上積層した多層型金属ベース基
板において、放熱の目的から従来は回路基板の下方に金
属の放熱フィンを装着してあったが、この目的に対して
金属の変わりに高熱伝導性絶縁材料で部分的あるいは全
体に突起物をもった形状に全体を一体モールドするとい
う構成を備えたものである。
作用
本発明は上記した構成によって、従来の様な保護用ケー
スと放熱フィンの両方の役目を、高熱伝導性絶縁材料で
部分的あるいは全体に突起物をもった形状に全体を一体
モールドすることにより、目的に果たすことができる。
スと放熱フィンの両方の役目を、高熱伝導性絶縁材料で
部分的あるいは全体に突起物をもった形状に全体を一体
モールドすることにより、目的に果たすことができる。
これにより、従来の様な回路基板と保護用ケースまた回
路基板と放熱フィンの接着という複雑な行程はなくなり
製造行程が簡単になる。加えてモジュールの絶縁性も向
上する。尚モジュール全体の放熱を考えた場合、従来例
では回路形成面側は熱伝導の悪い空気媒体であり、下方
の金属板から放熱フィンに流れるルートのみである。し
かし本発明、のモジュールは高熱伝導性絶縁材料で全体
をモールドしである為、モジュール全体からの放熱が可
能となる。
路基板と放熱フィンの接着という複雑な行程はなくなり
製造行程が簡単になる。加えてモジュールの絶縁性も向
上する。尚モジュール全体の放熱を考えた場合、従来例
では回路形成面側は熱伝導の悪い空気媒体であり、下方
の金属板から放熱フィンに流れるルートのみである。し
かし本発明、のモジュールは高熱伝導性絶縁材料で全体
をモールドしである為、モジュール全体からの放熱が可
能となる。
実施例
以下本発明の実施例のハイブリッドＩＣについて図面を
参照しながら説明する。第１図は本発明の実施例におけ
るハイブリッドＩＣの断面図を示すものである。第１図
においてｌは多層配線型アルミ基板、５はスルーホール
と内層導体２と外層導体２′を接続している。９は高熱
伝導性絶縁材料からなる封止体である。
参照しながら説明する。第１図は本発明の実施例におけ
るハイブリッドＩＣの断面図を示すものである。第１図
においてｌは多層配線型アルミ基板、５はスルーホール
と内層導体２と外層導体２′を接続している。９は高熱
伝導性絶縁材料からなる封止体である。
以上の様に本実施例の様に１方の主面に高熱伝導性絶縁
層と回路導体層を交互にそれぞれ２層以上積層した多層
型金属ベース基板において、従来の様な保護用ケースと
放熱フィンの両方の役目を、高熱伝導性絶縁材料で部分
的あるいは全体に突起物をもった形状に全体を一体モー
ルドすることにより同時に果たすことができる。これに
より回路基板と保護用ケースまたは回路基板と放熱フィ
ンの接着という複雑な工程はなくなり製造工程が簡単に
なる。加えて絶縁性も向上する。尚モジュール全体の放
熱を考えた場合もモジュール全体からの放熱か可能で従
来に比べ放熱効果が上がる。
層と回路導体層を交互にそれぞれ２層以上積層した多層
型金属ベース基板において、従来の様な保護用ケースと
放熱フィンの両方の役目を、高熱伝導性絶縁材料で部分
的あるいは全体に突起物をもった形状に全体を一体モー
ルドすることにより同時に果たすことができる。これに
より回路基板と保護用ケースまたは回路基板と放熱フィ
ンの接着という複雑な工程はなくなり製造工程が簡単に
なる。加えて絶縁性も向上する。尚モジュール全体の放
熱を考えた場合もモジュール全体からの放熱か可能で従
来に比べ放熱効果が上がる。
発明の効果
以上の様に本発明は、１方の主面に高熱伝導性絶縁層と
回路導体層を交互にそれぞれ２層以上積層した多層型金
属ヘース基板において、従来は放熱の目的から回路基板
の下方に金属の放熱フィンを装着してあったが、この金
属フィンの変わりに高熱伝導性絶縁材料で部分的あるい
は全体に突起物をもった形状に全体を一体モールドした
もので、これにより従来の様な回路基板と保護用ケース
または回路基板と放熱フィンの接着という複雑な工程は
なくなり製造工程が簡単になる。加えてモジュールの絶
縁性も向上する。尚モジュール全体の放熱を考えた場合
、従来例では回路形成面側は熱伝導の悪い空気媒体であ
り、下方の金属板から放熱フィンに流れるルートのみで
ある。しかし本発明のモジュールは高熱伝導性絶縁材料
で全体をモールドしである為、モジュール全体からの放
熱が可能となる。
回路導体層を交互にそれぞれ２層以上積層した多層型金
属ヘース基板において、従来は放熱の目的から回路基板
の下方に金属の放熱フィンを装着してあったが、この金
属フィンの変わりに高熱伝導性絶縁材料で部分的あるい
は全体に突起物をもった形状に全体を一体モールドした
もので、これにより従来の様な回路基板と保護用ケース
または回路基板と放熱フィンの接着という複雑な工程は
なくなり製造工程が簡単になる。加えてモジュールの絶
縁性も向上する。尚モジュール全体の放熱を考えた場合
、従来例では回路形成面側は熱伝導の悪い空気媒体であ
り、下方の金属板から放熱フィンに流れるルートのみで
ある。しかし本発明のモジュールは高熱伝導性絶縁材料
で全体をモールドしである為、モジュール全体からの放
熱が可能となる。
第１図は本発明の実施例における断面図、第２図は従来
の断面図である。 １・・・・・・多層構造型アルミ基板、２・・・・・・
絶縁性接着剤、３・・・・・・絶縁材料、４・・・・・
・内層導体、４′・・・・・・外層導体、５・・・・・
・スルーホール、６・・・・・・半田、７・・・・・・
チップ砥抗、８・・・・・・パワートランジスタ、９・
・・・・・高熱伝導性絶縁材料、ＩＬＩＩ’・・・・・
・接着剤、１２・・・・・・保護用ケース、１３・・・
・・・放熱フィン。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名窮１図 第２１！１ 一一表１１１ｔアル？Ｕ −・スルー不−ｌし ・−υす導）封酬樹料
の断面図である。 １・・・・・・多層構造型アルミ基板、２・・・・・・
絶縁性接着剤、３・・・・・・絶縁材料、４・・・・・
・内層導体、４′・・・・・・外層導体、５・・・・・
・スルーホール、６・・・・・・半田、７・・・・・・
チップ砥抗、８・・・・・・パワートランジスタ、９・
・・・・・高熱伝導性絶縁材料、ＩＬＩＩ’・・・・・
・接着剤、１２・・・・・・保護用ケース、１３・・・
・・・放熱フィン。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名窮１図 第２１！１ 一一表１１１ｔアル？Ｕ −・スルー不−ｌし ・−υす導）封酬樹料
Claims (1)
- １方の主面に、高熱伝導性絶縁層と回路導体層を交互に
それぞれ２層以上積層した多層型金属ベース基板を有す
るハイブリッドＩＣであって、高熱伝導性絶縁材料で部
分的扱いは全体に突起物をもった形状に全体を一体モー
ルドしてなることを特徴とするハイブリッドＩＣ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4760586A JPS62204554A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | ハイブリツドｉｃ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4760586A JPS62204554A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | ハイブリツドｉｃ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62204554A true JPS62204554A (ja) | 1987-09-09 |
Family
ID=12779867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4760586A Pending JPS62204554A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | ハイブリツドｉｃ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62204554A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000074137A1 (de) * | 1999-05-31 | 2000-12-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung zur kühlung von halbleiterbauelementen |
| DE10244791A1 (de) * | 2002-09-26 | 2004-04-15 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zur Kühlung von elektronischen Bauelementen |
-
1986
- 1986-03-05 JP JP4760586A patent/JPS62204554A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000074137A1 (de) * | 1999-05-31 | 2000-12-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung zur kühlung von halbleiterbauelementen |
| DE10244791A1 (de) * | 2002-09-26 | 2004-04-15 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zur Kühlung von elektronischen Bauelementen |
| DE10244791B4 (de) * | 2002-09-26 | 2009-03-26 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zur Kühlung von elektronischen Bauelementen |
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