JPS62200734A - 半導体バリ取り装置の半導体供給装置 - Google Patents

半導体バリ取り装置の半導体供給装置

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JPS62200734A
JPS62200734A JP4182586A JP4182586A JPS62200734A JP S62200734 A JPS62200734 A JP S62200734A JP 4182586 A JP4182586 A JP 4182586A JP 4182586 A JP4182586 A JP 4182586A JP S62200734 A JPS62200734 A JP S62200734A
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JP
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work
semiconductor
shutter
mounting table
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Hideo Kano
鹿野 英男
Ryuichiro Sakai
酒井 隆一郎
Akio Nadamura
灘村 昭夫
Tamotsu Kamoshita
鴨志田 保
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Hitachi Setsubi Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Hitachi Setsubi Engineering Co Ltd
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  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は半導体バリ取り装置の半導体供給装置に係り、
特に、!f−導体を超高圧に加圧された水の噴射部に案
内する搬送レール上に、該半導体を載置するに好適な半
導体バリ取り装置の半導体供給装置に関する。
〔発明の背景〕
周知のように,各種半導体は,リードフレームと呼ばれ
る金属製の板状体上に、所定のチップを接続・固着し、
そして該チップの周囲をレジンモールドすることにより
製作される。そして通常は、前記リードフレームは、半
導体複数個分が連なるように成型されていて、前記チッ
プの接続・固着およびレジンモールドも、−リードフレ
ームごとに行なわれる。
ところで、前記レジ/モールドを行なうと、該モールド
部とリードフレームとの境界部に、レジンによりバリが
形成されるのが普通である。こCバリの除去法には種々
の方法があるが、近年、も月技研株式会社展「ウルトラ
バリエース」 (商品名)K見られるように、超高圧に
加圧された水(以下、超高圧水という)を1リードフレ
ーム上に形成された半導体素子(以下、ワークという)
K噴射して、その衝撃力によりバリを除去する方法が提
案されているう この方法による半導体バリ取り装置は、主に。
田高王水を得るための加圧ポンプと、超高圧水を噴射す
る噴射ノズルと、該噴射ノズルの正面にワークを搬送す
るワーク搬送手段と、該ワーク搬送手段の搬送路上にワ
ークを一枚ずつ連続的に供給するワーク供給装置と、バ
リ取りが行なわれたワークを前記搬送路から取出すワー
ク回収装置とより成る。
このうち、前記ワーク供給装置は、あらかじめワークを
カセット状のマガジン内に整列収納しておき、その上部
からワークを一枚ずつ機械的に取出して、前記搬送路上
に供給するように構成されている。
しかし、この手法によると、マガジンの上部からワーク
を一枚ずつ取出して、搬送路上に供給する為の手段の構
成が複雑となり、その製作費が増大する。
また、あらかじめ多数のマガジン内にワークを整列して
収納し、かつそれらを当該半導体バリ取シ装置の所定の
位置に設置しておかなければならないので1面倒である
〔発明の目的〕
本発明の目的は、比較的簡単な構成で、かつマガジンを
用いることなく、連続的に駆動されているワーク搬送手
段にワークを一枚ずつ分離・供給することのできる半導
体バリ取シ装置の半導体供給装置を提供することにある
〔発明の概要〕
連続的に移動をしている搬送手段に完全に同調してワー
クを供給するには、大別して二通りの方法がある。
′ その一つはワークの供給機構をある一定時間、搬送
手段と同期して移動させ、その同期期間内にワークを供
給完了する方法であり、もう一つは搬送手段、すなわち
送り爪の間隔とワークの長さとの差に該当する限定され
た供給可能範囲を利用して1強制的・瞬時的に7レーム
を送り込む方法である。
後者の方法は、比較的ワークの供給機構を簡単に構成す
ることができるので1本発明は後者の方法を採用し、前
述の目的を達成した。すなわち。
本発明は、ワークを積載するための傾斜したワーク載置
台と、前記ワークをその下側から取出すプッシャと、ワ
ークの搬送路に形成された凹部と。
前記搬送路および前記凹部の間に配置されたシャッタと
を備え、前記プッシャにより取出されたワークを前記凹
部とシャッタとにより規定される待機領域に一時的に落
下させ、保持し、そして予定のタイミングで前記シャッ
タをあげてワークを前記搬送路へ移動させるという手段
を講じ、この結果、マガジンを用い゛ることなく当該半
導体バリ取り装置の半導体供給装置を構成することがで
きるようにし、そして該半導体供給装置の構成を簡単に
して、その製作費を抑えることができるという作用効果
を生じさせた点に特徴がある。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を、第1図ないし87図により
説明する。
第1図は本発明の一実施例の概略側面図、第2図は本発
明の一実施例に適用されるワーク搬送手段の要部を示す
概略正面図であり、第1図において、第1の搬送レール
21、ワーク載置台3A等を取去り、第2の搬送レール
22を矢印B方向から見た因である。また、第3図ない
し第7図は本発明の一実施例の動作を説明するだめの$
J1図の要部を示す漿略図、第8図は噴射ノズルから噴
出される超高圧水の水流の中心線で切断した第1および
第2の搬送レール21.22の概略断面図である。
なお、第1図においては、シャツタフの一部。
チェーン11.第1および@2の搬送レール21゜22
等はIfr面で示されている。、また、第3図ないし第
7図においては、Iii斜台3およびワーク載置台3A
も断面で示されている。
まず、第1図において、当該半導体バリ取り装置の基盤
100には、第1および第2の搬送レール21.22が
固着されている。前記第1および第2の搬送レール21
.22の詳細は、fE3図および第8図に関して後述す
る。
前記第1の搬送レール21には1図示されるようにワー
ク載置台3Aが傾斜するように取付けられている。そし
て、前記ワーク載置台3Aには、該ワーク載置台3Aと
ほぼ垂直に傾斜台3が固着されている。
前記ワーク載置台3Aには、その上面が該ワーク載置台
3Aの表面よりも突出するように、かつ矢印入方向に摺
動可能となるように、グツシャ2が配置されている。前
記プッシャ2の後端には。
エアシリンダ1のピストンロッドが固着されている。
前記第1および第2の搬送レール21.22の上方には
、スプロケット9に巻装されたチェーン11が、該第1
および第2の搬送レール21゜22と平行となるように
配置されているう前記チェーン11には、所定の間IJ
P(第2図)で爪10が固着されている、前記爪10の
間隔Pは、ワーク41の長さLよりも大きく設定されて
いる。
つぎに、第3図において、前記第2の搬送レール22と
対向する第1の搬送V−ル21の側面には、凹部が形成
されている。そして、前記凹部の下面21Aは、前記第
2の搬送レール22に接近するにつれて低くなるように
傾斜している。また。
前記下面21Aの表面は、摩擦が小さくなるように処理
が施されている。
また、前記第1の搬送レール21と対向する第2の搬送
レール22の側面にも、凹部が形成されている。前記凹
部の下面22Aは、はぼ水平に形成されている。この第
2の搬送レール22に形成された凹部は、ワークの搬送
路を構成する。
前記第4および第2の搬送レール21.22に形成され
た凹部の中央には、シャッタ7の先端部が挿入されてい
る。前記シャッタ7は1図示されない手段により上下移
動が可能である。なお、以下の説明においては、#記第
1の搬送レール21の側面と前記シャッタ7と:Cより
規定される領域を待機領域6.前記第2の搬送レール2
2の側面と前記シャッタ7とによυ規定される領域を準
備領域8とよぶ。
前記準備領域8には、チェーン11に固着された爪10
の先端が配置される。
前記第1の搬送レール21の内部には、前記待機領域6
から準備領域8に向って加圧空気を噴出することができ
るように、エアノズル5が配置されている。前記エアノ
ズル5は1図示されない加圧空気吐出手段に接続されて
いる。
つぎに、4.発明の一実施例の動作を説明する。
まず、前述した構成を有する半導体バリ取り装置のチェ
ーン11を回動(第2図、矢印R方向)させ、爪10を
前記第1および第2の搬送レール21.22と平行に連
続的に移動(第2図、矢印V方向)させておく。
そして、第1.3図に示されるように、バリ取りを行な
うワーク4をワーク載置台3人に載置する。前記載置は
、ワーク4のリード部分が上方を向くように、換言すれ
ば、ワーク4のモールド部分が傾斜台3と当接するよう
に行なう。なお、この実施例の動作を理解し易くするた
めに、ワーク載置台3人に載置されるワークのうち、最
も下側に配置されるものに符号41を付し、その他のワ
ーク4は二点鎖線で示して、ある。
つぎに、エアシリンダl(第1図)をna圧して。
プッシャ2′t−矢印入方向(第3図)に摺動させる。
前記摺動により、第4図に示されるように、ワ−り41
がワーク載置台3A上を摺動し、該ワーク載置台3Aの
最前端に達する。そして、その後、ワーク41はそのリ
ード部分が下を向くように、待機領域6内に落下する(
第5図)。
ワーク41がワーク載置台3Aから落下したら、プッシ
ャ2を元の位11trこ復帰させる。この復帰により、
#記ワーク41の上側に配置されていたワーク4は、ワ
ーク載置台3A上に矢印C方向に落下する。
さて、前述したように、チェーン11に等間隔ごとに固
着された爪10の先端部は、準備領域8内を、該Jkg
1碩域8と平行に移動しているが、前記待機領域6に配
置されたワーク41が、互いに隣り合う爪10の間に位
置した時に、シャッタ7をすばやく上方(矢印り方向)
に移動させ、そしてエアノズル5から、リロ圧空気を噴
出させる。
これにより、ワーク41は、第6図に示されるように、
第1の搬送レール21に形成された凹部の下面21Aを
、矢印E方向に滑り、第2の搬送レール22に形成され
た凹部に移動する。このとき、ワーク41のそ一ルド部
の下面は、前記第2の搬送レール22に形成された凹部
の下面22A上に載置される。
つぎに、シャッタ7を矢印F方向(第6図)に下降させ
、エアノズル5からの加圧空気の噴出を停止させる。こ
れにより、前記ワーク41の、準備領域8内への移動が
完了する。
そして、準備領域8内に配置されたワーク41は、該準
備領域8内を移動する爪10に押されて。
第2の搬送レール22上全摺動する。なお、前記シャッ
タ7の両側面、すなわち、第7図の紙面に対して手前側
およびその反対側の面よりも外側においては、第1の1
般送レール21の、前記第2の搬送レール22と対向す
る面は1例えば、第8図に示されるように前記シャッタ
7の、J2の搬送レール22と対向する面と面一となる
ように形成されているので、ワーク41が、爪Lot/
こ押されてシャッタ7と第2の搬送ノール22との間の
準備領域8を脱しても、該ワーク41は、第1および第
2の搬送レール21.22間を良好に搬送される。
このように、プッシャ2を用いて、ワーク全待機領域6
内に落丁させ、その後、タイミング良くシャック7t−
上げてエアノズルから加圧空気を噴射すれば、ワークは
準備領域8内で、2つの爪10の間に配置されることが
できる。そして、この動作?続けて行なえば、爪10の
移動により。
ワークを第1および第2の搬送レール21.22の間に
、連続的に@送させることができる。
つぎに、第8図において、第1および第2の搬送レール
21.22の外側には、超高圧水の噴射ノズル33が配
置されている。前記噴射ノズル33の先端から噴出する
超高圧水の水流の直径は。
例えば0.2(m〕程度である。そして、前記第1およ
び第2の搬送レール21.22には、前記爪10により
搬送されるワーク41に対して前記噴射ノズル33から
超高圧水f、噴射(矢印G方向)することができるよう
に、窓31.32が形成されている。
前記超高圧水の噴射により、ワーク41に形成されたバ
リが除去される。なお、第8図においては、ワーク41
のリード部分に超高圧水を噴射することができるように
、窓31.32の形成および噴射ノズル33の配置が行
なわれているが、ワーク41のモールド部分にバリが形
成されていれば1.該モールド部分に超高圧水を噴射す
ることができるように当該半導体バリ取り装置を構成し
ても良い。
さて、前述の説明においては、ワークは、2個の爪10
の間に1個だけ供給されるものとしたが。
″第2図に示したように、爪10の間隔Pがワークの長
さLの0倍(nは2以上の整数)よりも大きければ、爪
10の間にn個のワークを供給しても良い。
また、前述の説明では、本発明の一実施例は、ワークが
垂直に搬送される方式の半導体バリ取り装置に適用され
るものとしたが、特にこれのみに限定されることはなく
、水平に搬送される方式の半導体バリ取り装置に適用さ
れても良い。すなわち、待機領域6.シャッタ7、準備
領域8等を水平に設け、ワーク采送用の爪10も、前記
準備領域8に応じて水平に移動するように構成しても良
い。
さらに、待機領域6に配置されたワークを準備領域8に
移動させるための手段は、カロ圧空気を噴射させるエア
ノズルであるものとして説明したが。
本発明は特にこれのみに限定されることはなく、機械的
にワークを押出す手段であっても良いことは当然である
なお、本発明の特徴の一つは、ワークを一旦待機領域6
に配置させ、所定のタイミングで該ワーク分準備領域8
に移動させる点にある。これは、待機領域6を設けずに
直接ワーク載置台3Aからワークを準備領域8に投入し
ようとすると、ワークがワ〜り載置台3A上で摺動を開
始してから。
準備領域8に到達するまでに比較的時間がかかるために
、正確なタイミングで爪10間にワークを供給するのが
むずかしいからであり、また準備領域8でワークを安定
して直立状態に保持するのがむずかしいからである。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ワークをマガジン内に整列収納するこ
となく、直接ワーク載置台にセットするので、ワーク残
量が少なくなっても搬送機構を停止することなく次々と
ランダムに該ワークの補充ができる。したがって、バリ
取9作業の効率が良く、当該半導体バリ“取り装置の取
扱いが容易となる。
また、マガジンを製作する必要がないので、当該半導体
供給装置を安価に製作することができる。
さらに、ワーク載置台に積載されたワークを。
下からI ll1iIずつ押出すようにして取出すので
、マガジン内に収納されたワークをその上方からつまみ
取る方式に比べて、半導体供給装置の構成が簡単となり
、その製作費が低下する。
さらにまた、ワークを直接搬送用の爪の間に供給するの
ではなく、櫃<接近した位置で待機させ。
タイミングを見計ってシャッタを開けて短時間で爪の間
に放り込むようにしたので、ワークの供給を確実に行な
うことができ、搬送機構を停止することなく連続的にワ
ークの供給ができる。ま九。
当該半導体供給装置の構成がさらに簡単となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の概略側面図、第2図は本発
明の一実施例に適用されるワーク搬送手段の要部を示す
概略正面図、第3図ないし第7図は本発明の一実施例の
動作を説明するだめの第1図の要部を示す概略図、2g
8図は噴射ノズルから噴出される超高圧水の水流の中心
線で切断した第1および第2の搬送レールの概略断面図
である。 1・・・エアシリンダ、2・・・プッシャ、3・・・傾
斜台。 3A・・・ワーク載置台、4.41・・・ワーク、5・
・・エア、ノズル、6・・・待機領域、7・・・シャッ
タ、8・・・準備領域、9・・・スプロケット、10・
・・爪、11・・・チ香1 口 第2A 第J(I]

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、その前方が上方を向くように傾斜したワーク載置台
    と、その上面が前記ワーク載置台の上面より突出し、か
    つ該ワーク載置台の前方に向つて移動して、前記ワーク
    載置台に積載されたワークを押出すプッシャと、 前記ワーク載置台の前方に配置された半導体素子の搬送
    路に形成された凹部と、 前記凹部および前記搬送路の間にその先端部が配置され
    、かつ前記先端部が退動可能なシャッタと、 前記プッシャの摺動により前記ワーク載置台から落下し
    、前記凹部および前記シャッタにより規定される待機領
    域に配置される半導体素子を、前記シャッタの先端部の
    退動とほぼ同時に前記搬送路に移動させる移動手段とを
    具備したことを特徴とする半導体バリ取り装置の半導体
    供給装置。 2、前記移動手段は、前記待機領域から前記シャッタに
    向つて加圧流体を噴出する手段であることを特徴とする
    前記特許請求の範囲第1項記載の半導体バリ取り装置の
    半導体供給装置。 3、前記凹部は、その底面が前記ワーク載置台から遠ざ
    かるにつれて下降するように形成されたことを特徴とす
    る前記特許請求の範囲第1項あるいは第2項記載の半導
    体バリ取り装置の半導体供給装置。
JP4182586A 1986-02-28 1986-02-28 半導体バリ取り装置の半導体供給装置 Granted JPS62200734A (ja)

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JPH0462455B2 JPH0462455B2 (ja) 1992-10-06

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993000704A1 (en) * 1991-06-20 1993-01-07 Kabushiki Gaisha Ishii Hyoki Method of blasting ic frame and apparatus therefor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993000704A1 (en) * 1991-06-20 1993-01-07 Kabushiki Gaisha Ishii Hyoki Method of blasting ic frame and apparatus therefor
US5415898A (en) * 1991-06-20 1995-05-16 Kabushiki Gaisha Ishii Hyoki Method of blasting IC frames and apparatus therefore

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