JPS62192310A - 美爪料 - Google Patents
美爪料Info
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- JPS62192310A JPS62192310A JP3359686A JP3359686A JPS62192310A JP S62192310 A JPS62192310 A JP S62192310A JP 3359686 A JP3359686 A JP 3359686A JP 3359686 A JP3359686 A JP 3359686A JP S62192310 A JPS62192310 A JP S62192310A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ネールエナメル(ネールエナメルオーバーコ
ートを含む)の乾燥時の塗膜表面の仕上り状態を美しく
保つための美爪料に関する。
ートを含む)の乾燥時の塗膜表面の仕上り状態を美しく
保つための美爪料に関する。
さらに詳しくは、ネールエナメル塗布直後、その上に重
ね塗りする事により、ネールエナメル乾燥過程で塗膜表
面に傷や指紋あるいは衣類の跡等をつきに<<シ、ネー
ルエナメルの仕上りを美しく保つ、IOB値が0〜0.
5の液状油分を主な構成成分とする事を特長とする美爪
料に関する。
ね塗りする事により、ネールエナメル乾燥過程で塗膜表
面に傷や指紋あるいは衣類の跡等をつきに<<シ、ネー
ルエナメルの仕上りを美しく保つ、IOB値が0〜0.
5の液状油分を主な構成成分とする事を特長とする美爪
料に関する。
近年、ネールエナメルは特にニトロセルローズラッカー
の技術の進歩によって、その品質は著しく向上し、色幅
、質感も多種多様となり、メイクアップ化粧料のひとつ
として欠くべからざるものになって来ているが、その品
質特性の中で乾燥性は特に重要なものである。
の技術の進歩によって、その品質は著しく向上し、色幅
、質感も多種多様となり、メイクアップ化粧料のひとつ
として欠くべからざるものになって来ているが、その品
質特性の中で乾燥性は特に重要なものである。
従来、ネールエナメルに必要とされる分離安定性、塗り
易さ、乾燥性、塗膜の光沢、はがれ特性、爪に対する安
全性等の緒特性のうち、ネールエナメル使用者がエナメ
ルを爪に塗布後、通常極めて短時間の内に日常行動に移
る事から、乾燥性は特に重要である。
易さ、乾燥性、塗膜の光沢、はがれ特性、爪に対する安
全性等の緒特性のうち、ネールエナメル使用者がエナメ
ルを爪に塗布後、通常極めて短時間の内に日常行動に移
る事から、乾燥性は特に重要である。
通常の溶剤型ネールエナメルにおいて、この乾燥性を速
くし、乾燥途中でのエナメル塗膜表面に傷や指紋、衣類
の跡をつかないようにするため、たとえば酢酸エチルの
ような蒸発速度の速い溶剤をネールエナメル処方中に比
較的多量に用いているが、乾燥速度を速くすると筆でネ
ールエナメルを爪上に塗布する際、すじむらになったり
、ピンホールができたりして仕上りが美しくなったりし
、また連用によりネールエナメル容器の口元から溶剤が
揮散し、中身の粘度が上昇し、筆できれいに塗りにくく
なってしまう。従って、溶剤として酢酸エチルよりも蒸
発速度の遅い酢酸ブチル等を併用して乾燥速度を適度に
遅くし、前記のすじむら、ピンホール、中身の粘度上昇
が起こらないようにしているのが現状であった。しかし
、これらのすじむら、ピンホール、連用による中身の粘
度上昇の特性を良好にする事はネールエナメル塗布時の
乾燥性を結果的に遅くする事であり、この事は、ネール
エナメル使用者が塗布後、比較的短時間のうちに日常行
動に移る事がら、ネールエナメル塗膜表面に傷や指紋、
衣類の跡等がついてしまい仕上りが美しくなくなってし
まうという欠点となっていた。そしてこれ迄、この欠点
を解決するための美爪料は開示されていなかった。
くし、乾燥途中でのエナメル塗膜表面に傷や指紋、衣類
の跡をつかないようにするため、たとえば酢酸エチルの
ような蒸発速度の速い溶剤をネールエナメル処方中に比
較的多量に用いているが、乾燥速度を速くすると筆でネ
ールエナメルを爪上に塗布する際、すじむらになったり
、ピンホールができたりして仕上りが美しくなったりし
、また連用によりネールエナメル容器の口元から溶剤が
揮散し、中身の粘度が上昇し、筆できれいに塗りにくく
なってしまう。従って、溶剤として酢酸エチルよりも蒸
発速度の遅い酢酸ブチル等を併用して乾燥速度を適度に
遅くし、前記のすじむら、ピンホール、中身の粘度上昇
が起こらないようにしているのが現状であった。しかし
、これらのすじむら、ピンホール、連用による中身の粘
度上昇の特性を良好にする事はネールエナメル塗布時の
乾燥性を結果的に遅くする事であり、この事は、ネール
エナメル使用者が塗布後、比較的短時間のうちに日常行
動に移る事がら、ネールエナメル塗膜表面に傷や指紋、
衣類の跡等がついてしまい仕上りが美しくなくなってし
まうという欠点となっていた。そしてこれ迄、この欠点
を解決するための美爪料は開示されていなかった。
本発明者らは、こうした事情にかんがみ上記の欠点を解
決すべく鋭意研究を重ねた結果、IOB値が0〜0.5
の範囲内にある液状油分を主な構成成分とする美爪料を
、ネールエナメル塗布直後にエナメル塗膜の上に重ね塗
りすれば、液状油分層の保護効果により、乾燥過程で塗
膜表面に傷や指紋、衣類の跡等がつきにクク、仕上りが
美しく保てる事を見出し、この知見に基づいて本発明を
完成するに至った。
決すべく鋭意研究を重ねた結果、IOB値が0〜0.5
の範囲内にある液状油分を主な構成成分とする美爪料を
、ネールエナメル塗布直後にエナメル塗膜の上に重ね塗
りすれば、液状油分層の保護効果により、乾燥過程で塗
膜表面に傷や指紋、衣類の跡等がつきにクク、仕上りが
美しく保てる事を見出し、この知見に基づいて本発明を
完成するに至った。
(問題点を解決するための手段〕
即ち、本発明は、IOB値が0〜0.5の液状油分を主
な構成成分とする事を特徴とする美爪料であり、ネール
エナメル塗布直後にその塗膜の上に重ね塗りし、エナシ
メル乾燥過程で塗膜表面に傷や指紋、衣類の跡等をつき
にりくシ、エナメル表面を美しく保つ機能を有する美爪
料を提供する。
な構成成分とする事を特徴とする美爪料であり、ネール
エナメル塗布直後にその塗膜の上に重ね塗りし、エナシ
メル乾燥過程で塗膜表面に傷や指紋、衣類の跡等をつき
にりくシ、エナメル表面を美しく保つ機能を有する美爪
料を提供する。
以下、本発明の構成について詳述する。
本発明で用いられるIOB値が0の液状油分としては炭
化水素類を挙げる事ができる。たとえばスクワラン、流
動パラフィン等である。これらの中から1種または2i
以上が任意に選択される。
化水素類を挙げる事ができる。たとえばスクワラン、流
動パラフィン等である。これらの中から1種または2i
以上が任意に選択される。
本発明で用いられるIOB値が0より大きく0.5以下
の液状油分としては、油脂類、ロウ類、合成エステル類
、脂肪酸類、シリコン類等を挙げる事ができる。たとえ
ばツバキ油、オリーブ油、アーモンド油、ホホバ油、ヒ
マシ油、月見草油、ヤシ油、サザンカ油、2−ヘプチル
−ウンデシルパルミテート、ミリスチン酸イソプロピル
、セチル2−エチルヘキサノエート、グリセロール−ジ
ー2−へブチルウンデカノエート、グリセリル−トリー
イソステアレート、イソステアリン酸、オレイン酸、リ
ノール酸、リルン酸、液状ラノリン等である。
の液状油分としては、油脂類、ロウ類、合成エステル類
、脂肪酸類、シリコン類等を挙げる事ができる。たとえ
ばツバキ油、オリーブ油、アーモンド油、ホホバ油、ヒ
マシ油、月見草油、ヤシ油、サザンカ油、2−ヘプチル
−ウンデシルパルミテート、ミリスチン酸イソプロピル
、セチル2−エチルヘキサノエート、グリセロール−ジ
ー2−へブチルウンデカノエート、グリセリル−トリー
イソステアレート、イソステアリン酸、オレイン酸、リ
ノール酸、リルン酸、液状ラノリン等である。
これらの中から1種又は2種以上が任意に選択される。
本発明の美爪料は、上記の必須成分に加えて必要に応じ
て半固型油分、固型油分、IOBが0.5を超える液状
油分、着色剤、香料、酸化防止剤、紫外線吸収剤、薬剤
等が配合される。もちろんこれらは本発明の目的を損わ
ない質的、量的条件下で使用されなければならない。
て半固型油分、固型油分、IOBが0.5を超える液状
油分、着色剤、香料、酸化防止剤、紫外線吸収剤、薬剤
等が配合される。もちろんこれらは本発明の目的を損わ
ない質的、量的条件下で使用されなければならない。
本発明の美爪料は、ネールエナメル塗布直後に重ね塗り
する事により、ネールエナメル塗膜の乾燥過程で、傷や
指紋、衣類の跡等が塗膜につくことを防止し、ネールエ
ナメルの仕上りを美しく保ち、分離安定性、色調安定性
、重ね塗りのし易さ、光沢、匂い等、美爪料として要求
される他の緒特性をも兼備するものである。
する事により、ネールエナメル塗膜の乾燥過程で、傷や
指紋、衣類の跡等が塗膜につくことを防止し、ネールエ
ナメルの仕上りを美しく保ち、分離安定性、色調安定性
、重ね塗りのし易さ、光沢、匂い等、美爪料として要求
される他の緒特性をも兼備するものである。
このような使用方法で、かつ、このような使用効果を有
する美爪料は、これまで全く知られていない。
する美爪料は、これまで全く知られていない。
なお% I OB (inorganic organ
ic balance )値とは、「化学の領域」第1
1巻、第10号、第719頁〜725頁、1957年に
示されている、腰囲による計算方法に従い算出した、無
機性及び有機性の値の比、すなわち次式によって表わさ
れる数値である。
ic balance )値とは、「化学の領域」第1
1巻、第10号、第719頁〜725頁、1957年に
示されている、腰囲による計算方法に従い算出した、無
機性及び有機性の値の比、すなわち次式によって表わさ
れる数値である。
10B値−Σ無機性/Σ有機性
〔実施例〕
次に実施例および比較例によって本発明を更に詳細に説
明する。本発明はこれによって限定されるものではない
。配合料は重量%である。
明する。本発明はこれによって限定されるものではない
。配合料は重量%である。
表−1
(製法)■〜■を攪拌混合した後、[株]■を添加し、
均一に攪拌溶解して美爪料を得た。
均一に攪拌溶解して美爪料を得た。
(効果)
エナメル塗膜く表面への傷や指紋、衣類の跡等のつきに
くさ 評価方法1(硬貨&ガーゼ法) +11 25℃、湿度50%の室内で透明塩ビ板の上に
ドクターブレード(厚さ0.175mm 、中5.5c
+w )で通常のネールエナメルを塗布し、30℃の金
属プレート上に載せる。
くさ 評価方法1(硬貨&ガーゼ法) +11 25℃、湿度50%の室内で透明塩ビ板の上に
ドクターブレード(厚さ0.175mm 、中5.5c
+w )で通常のネールエナメルを塗布し、30℃の金
属プレート上に載せる。
(2)1分後、試料を注射器でエナメル塗膜上に1条件
1−滴下する。
1−滴下する。
(3) 9 X 9 cmのガーゼに包んだ10塩硬
貨を2〜6分の各時間経過後、ガーゼ面を下に向けて試
料の上に載せる。10分後に取り去り、エナメル塗膜表
面についたガーゼの跡を評価した。評価はガーゼの跡が
全くつかないものを◎(良好)、わずかにつくものを○
(やや良好)、ややつくものをΔ(やや不良)、かなり
つくものを×(不良)とした。
貨を2〜6分の各時間経過後、ガーゼ面を下に向けて試
料の上に載せる。10分後に取り去り、エナメル塗膜表
面についたガーゼの跡を評価した。評価はガーゼの跡が
全くつかないものを◎(良好)、わずかにつくものを○
(やや良好)、ややつくものをΔ(やや不良)、かなり
つくものを×(不良)とした。
評価方法2(使用テスト)25
25℃、湿度50%の室内で通常のネールエナメルを爪
に2度塗りし、1分経過後、その上にネールエナメル用
の筆で試料を1度塗りし、0.5〜1.5分の各時間経
過後、別の指先で試料の上に軽く触れ、指紋のつき具合
を評価した。評価は指紋が全くつかないものを0(良好
)、わずかにつくものをO(やや良好)、ややつくもの
をΔ(やや不良)、かなりつくものを×(不良)とした
。
に2度塗りし、1分経過後、その上にネールエナメル用
の筆で試料を1度塗りし、0.5〜1.5分の各時間経
過後、別の指先で試料の上に軽く触れ、指紋のつき具合
を評価した。評価は指紋が全くつかないものを0(良好
)、わずかにつくものをO(やや良好)、ややつくもの
をΔ(やや不良)、かなりつくものを×(不良)とした
。
なお、評価方法1.2の各条件において試料を塗布しな
いネールエナメル単独の場合も併せて評価した。
いネールエナメル単独の場合も併せて評価した。
1艶1次東に肢見
前記評価方法2の時点での試料のネールエナメル塗膜表
面への塗り易さを評価した。評価は非常になめらかに塗
れるものを◎(良好)、ややなめらかに塗れるものを0
(やや良好)、ややなめらかに塗れないものをΔ(やや
不良)、非常になめらかに塗れないものをΔ(やや不良
)、非常になめらかに塗れないものを×(不良)とした
。
面への塗り易さを評価した。評価は非常になめらかに塗
れるものを◎(良好)、ややなめらかに塗れるものを0
(やや良好)、ややなめらかに塗れないものをΔ(やや
不良)、非常になめらかに塗れないものをΔ(やや不良
)、非常になめらかに塗れないものを×(不良)とした
。
分離安定性
試料を10−のガラスビンに充填し、これを室温、50
℃に1ケ月放置し、分離の状態を評価した。評価は全く
分離しないものを◎(良好)、わずかに分離するものを
○(やや良好)、やや分離するものをΔ(やや不良)、
非常に分離するものを(不良)とした。
℃に1ケ月放置し、分離の状態を評価した。評価は全く
分離しないものを◎(良好)、わずかに分離するものを
○(やや良好)、やや分離するものをΔ(やや不良)、
非常に分離するものを(不良)とした。
実施例1.2.3.4.5.6と比較例!、2.3及び
評価方法1.2の条件において試料を塗布しないネール
エナメル単独の場合の評価結果を表−2に示した。
評価方法1.2の条件において試料を塗布しないネール
エナメル単独の場合の評価結果を表−2に示した。
(以下余白)
表−2
表−2から明らかなように、IOB値が0〜0.5の範
囲内に存在する実施例1.2.3.4.5.6は、ネー
ルエナメル塗膜表面への傷や指紋、衣類の跡等のつきに
くさが、ネールエナメル単独の場合と比較して優れてお
り、重ね塗りのし易さ、分離安定性も良好で総合評価も
優れている事が判る。
囲内に存在する実施例1.2.3.4.5.6は、ネー
ルエナメル塗膜表面への傷や指紋、衣類の跡等のつきに
くさが、ネールエナメル単独の場合と比較して優れてお
り、重ね塗りのし易さ、分離安定性も良好で総合評価も
優れている事が判る。
一方、比較例1.2.3はIOB値が0.5よりも大き
い液状油分を配合しているため傷や指紋、衣類の跡がつ
き易〈実施例と比較しても、ネールエナメル単独の場合
と比較しても、その効果は認められず逆に極めて不良の
結果となっており、重ね塗りのし易さ、分離安定性も不
良で好ましくない。
い液状油分を配合しているため傷や指紋、衣類の跡がつ
き易〈実施例と比較しても、ネールエナメル単独の場合
と比較しても、その効果は認められず逆に極めて不良の
結果となっており、重ね塗りのし易さ、分離安定性も不
良で好ましくない。
以上、実施例により本発明の美爪料は、ネールエナメル
塗布直後、その上に重ね塗りする事により、ネールエナ
メルを極めて美しく仕上げる事ができ、しかも重ね塗り
のし易さ、分離安定性等に優れており、美爪料として充
分な機能を有している事が確認された。
塗布直後、その上に重ね塗りする事により、ネールエナ
メルを極めて美しく仕上げる事ができ、しかも重ね塗り
のし易さ、分離安定性等に優れており、美爪料として充
分な機能を有している事が確認された。
Claims (1)
- IOB値が0〜0.5の液状油分からなる事を特徴とす
る美爪料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3359686A JPS62192310A (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 美爪料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3359686A JPS62192310A (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 美爪料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62192310A true JPS62192310A (ja) | 1987-08-22 |
Family
ID=12390869
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3359686A Pending JPS62192310A (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 美爪料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62192310A (ja) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4829137A (ja) * | 1971-08-16 | 1973-04-18 | ||
JPS5224537A (en) * | 1975-08-20 | 1977-02-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Slide preparing device |
JPS5318742A (en) * | 1976-07-31 | 1978-02-21 | Kanebo Ltd | Fingernail polish |
JPS5346894A (en) * | 1976-10-08 | 1978-04-26 | Strapex Ag | Device of band strapping machine for strapping strap band on objective and adding tension |
JPS54160753A (en) * | 1978-06-08 | 1979-12-19 | Shiseido Co Ltd | Nail enamel |
JPS5581811A (en) * | 1978-12-16 | 1980-06-20 | Lion Corp | Manicure composition |
JPS55139316A (en) * | 1979-04-17 | 1980-10-31 | Asanuma Sogyo Kk | Nail polish |
JPS5686112A (en) * | 1979-12-17 | 1981-07-13 | Kanesato Nakaoka | Preparation of manicure |
JPS58144312A (ja) * | 1982-02-24 | 1983-08-27 | Shiseido Co Ltd | 美爪料用ゲル組成物 |
-
1986
- 1986-02-18 JP JP3359686A patent/JPS62192310A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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