JPS62190462A - 電子部品の洗浄効果評価方法 - Google Patents
電子部品の洗浄効果評価方法Info
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- JPS62190462A JPS62190462A JP61030811A JP3081186A JPS62190462A JP S62190462 A JPS62190462 A JP S62190462A JP 61030811 A JP61030811 A JP 61030811A JP 3081186 A JP3081186 A JP 3081186A JP S62190462 A JPS62190462 A JP S62190462A
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Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子管、Ｎ子デバイス等に使用される構成部
品の清浄化および清浄後の構成部品の清浄度の評価に好
適な液中異物の計測システムに関するものである。
品の清浄化および清浄後の構成部品の清浄度の評価に好
適な液中異物の計測システムに関するものである。
従来、この独の液中異物の計測装置には、断続方式によ
る粒径５〜１００μｍ程度の異物を計測する超音波照射
形の異物計測方式と、粒径０．５〜６０μｍ程度の異物
を計測するレーザ光線照射形の異物計測方式とが用いら
れていた。
る粒径５〜１００μｍ程度の異物を計測する超音波照射
形の異物計測方式と、粒径０．５〜６０μｍ程度の異物
を計測するレーザ光線照射形の異物計測方式とが用いら
れていた。
なお、このような液中異物の計測装置の構造は、例えば
昭和５９年２月「第３回空気清浄とコンタミネーション
コントロールに関する技術研究大会」において発表され
た「液体中機粒子のオンライン測定」等に記載されてい
る。
昭和５９年２月「第３回空気清浄とコンタミネーション
コントロールに関する技術研究大会」において発表され
た「液体中機粒子のオンライン測定」等に記載されてい
る。
この種の液中異物の計測装置は、構成部品を洗浄した被
検液中に気泡、ガス等の混在気体が存在すると、異物計
測時に異物センサ部の表面に気泡が付着したシ、また液
中の気泡をも同時に計測するために計測値が大きくなシ
、誤差が大きくなるため、連続してかつ液中の異物の大
きさおよび数を正確に計測し、その結果をプリントアウ
ト−ｈたはグラフ表示することができなかった。
検液中に気泡、ガス等の混在気体が存在すると、異物計
測時に異物センサ部の表面に気泡が付着したシ、また液
中の気泡をも同時に計測するために計測値が大きくなシ
、誤差が大きくなるため、連続してかつ液中の異物の大
きさおよび数を正確に計測し、その結果をプリントアウ
ト−ｈたはグラフ表示することができなかった。
本発明は、被検液中の気泡を除去し、連続かつ高精度で
被検液中の異物の計測を可能にした液中異物の計測シス
テムを提供することを目的としている。
被検液中の異物の計測を可能にした液中異物の計測シス
テムを提供することを目的としている。
本発明に係る液中異物の計測システムは、被検液から異
物を検知する異物計測センサ部の前段に真空脱気装置を
取り付けたものである。
物を検知する異物計測センサ部の前段に真空脱気装置を
取り付けたものである。
被検液が異物センサ部に到達する以前に被検液中の混在
気体が脱気され、液中異物のみが計測される。
気体が脱気され、液中異物のみが計測される。
次に図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明による液中異物の計測システムの一実施
例を示す構成図である。同図において、１はサンプリン
グ部であシ、２は内部に電子管。
例を示す構成図である。同図において、１はサンプリン
グ部であシ、２は内部に電子管。
電子デバイス等に用いられる構成部品としての被検処理
体を浸漬し洗浄処理した洗浄液２ａを収容する洗浄槽、
３は攪拌器を有しかつ内部に粒径０．５〜４．９ ａ
ｍの異物が６００００個／１００ｍｔおよび粒径５〜１
００μｍの異物が５１６６ ／ １００ ｍ ｌの割合
で含むモニタ校正用の標準液３ａを収容した標準液貯水
槽、４は清浄部品評価洗浄液４ａを収容した洗浄液槽、
５は清浄部品、６は清浄部品５の清浄評価容器、Ｔは清
浄部品評価被検液、８は内部に評価容器６および洗浄水
８ａを収容し外部に超音波発生装置８ｂを有する超音波
洗浄槽、９は洗浄液２亀のサンプリングチューブ、１０
は標準液３ａのサンプリングチューブ、１１は洗浄液４
ａのサンプリングチューブ、１３は各チューブ９゜１０
．１２内に流れる各液測定用切換弁である。
体を浸漬し洗浄処理した洗浄液２ａを収容する洗浄槽、
３は攪拌器を有しかつ内部に粒径０．５〜４．９ ａ
ｍの異物が６００００個／１００ｍｔおよび粒径５〜１
００μｍの異物が５１６６ ／ １００ ｍ ｌの割合
で含むモニタ校正用の標準液３ａを収容した標準液貯水
槽、４は清浄部品評価洗浄液４ａを収容した洗浄液槽、
５は清浄部品、６は清浄部品５の清浄評価容器、Ｔは清
浄部品評価被検液、８は内部に評価容器６および洗浄水
８ａを収容し外部に超音波発生装置８ｂを有する超音波
洗浄槽、９は洗浄液２亀のサンプリングチューブ、１０
は標準液３ａのサンプリングチューブ、１１は洗浄液４
ａのサンプリングチューブ、１３は各チューブ９゜１０
．１２内に流れる各液測定用切換弁である。
なお、これらの各液は０．１〜０．１５ｔ／ｍの流速で
順次送流されている。
順次送流されている。
また、２０は超音波異物計測部であυ、２１は被検液中
の混在気体を脱気する真空脱気装置、２２は被検液中の
粒径５〜１００μｍの異物を検知する超音波異物センサ
、２３は電源、２４はマイコン、２５はディスプレイ、
２６はプリンタ、２７は被検液を２０〜１０１００Ｏの
流速で吸引する吸引ポンプ、２８は検液後の排液チュー
ブである。
の混在気体を脱気する真空脱気装置、２２は被検液中の
粒径５〜１００μｍの異物を検知する超音波異物センサ
、２３は電源、２４はマイコン、２５はディスプレイ、
２６はプリンタ、２７は被検液を２０〜１０１００Ｏの
流速で吸引する吸引ポンプ、２８は検液後の排液チュー
ブである。
また、３０はレーザ異物計測部であシ、このレーザ異物
計測部３０は、被検液中の粒径０．５〜２５μｍの異物
を検知するレーザ光異物センサ３１を有し、残部は前述
した超音波異物計測部２０と同様に構成されている。
計測部３０は、被検液中の粒径０．５〜２５μｍの異物
を検知するレーザ光異物センサ３１を有し、残部は前述
した超音波異物計測部２０と同様に構成されている。
なお、前述した真空脱気装置２１は、有機膜室内に有機
物からなるチューブを通し、この有機膜室内を真空とし
、この部分に被検液が通過する際、有機チューブ内の被
検液中の混在気体を除去する有機膜製真空脱気装置また
は低真空中で被検液を衝突板に噴霧し、低真空吸引によ
る液中混在気体を脱気する真空スプレー脱気装置が使用
でき、これらの脱気装置は、毎分２０〜１０００ ｍ
Ａの速度で送液される被検液中の混在気体１〜１１００
ｐｐを脱気する機能を有している。
物からなるチューブを通し、この有機膜室内を真空とし
、この部分に被検液が通過する際、有機チューブ内の被
検液中の混在気体を除去する有機膜製真空脱気装置また
は低真空中で被検液を衝突板に噴霧し、低真空吸引によ
る液中混在気体を脱気する真空スプレー脱気装置が使用
でき、これらの脱気装置は、毎分２０〜１０００ ｍ
Ａの速度で送液される被検液中の混在気体１〜１１００
ｐｐを脱気する機能を有している。
また、前述した超音波異物センサ２２は、第２図に示す
ようにチューブ２２１内に連続して流れる被検液２２ｂ
の流路測面よシフオーツクリスタル素子２２ｅに印加し
た約４００ｖの高周波電圧を約１５ＭＨｚ超音波音圧に
変換した超音波パルス２２ｄを１秒間に２００回（２μ
ｓｅｃ／回）連続して繰返し照射する。その超音波エネ
ルギーは音響レンズ２２ｅで集束させ、円錐状に焦点を
結ばせると、被検液２２ｂ中に超音波が伝波するため、
その密度が最も高くなる領域２２ｆ 、 ２２ｇでの異
物２２ｈからの後方反射する反射エネルギー（粒子の大
きさに比例する）を利用し、粒子１個からの１個の反射
波をエコーとして返してくるため、反射パルス受信ゲー
ト２２ｉの約１．４ｍφ内の反射のみをセンサ２２ｊで
受ける。なお、２２には超音波ビームである。そして、
１０００回の発射パルス２２ｄによって返って来た反射
パルス計測値２２ｔ、 ２２ｍ 、 ２２ｎをカウント
パルスに変換することによシ、粒径５〜１００μｍの異
物の連続計測を行なう。
ようにチューブ２２１内に連続して流れる被検液２２ｂ
の流路測面よシフオーツクリスタル素子２２ｅに印加し
た約４００ｖの高周波電圧を約１５ＭＨｚ超音波音圧に
変換した超音波パルス２２ｄを１秒間に２００回（２μ
ｓｅｃ／回）連続して繰返し照射する。その超音波エネ
ルギーは音響レンズ２２ｅで集束させ、円錐状に焦点を
結ばせると、被検液２２ｂ中に超音波が伝波するため、
その密度が最も高くなる領域２２ｆ 、 ２２ｇでの異
物２２ｈからの後方反射する反射エネルギー（粒子の大
きさに比例する）を利用し、粒子１個からの１個の反射
波をエコーとして返してくるため、反射パルス受信ゲー
ト２２ｉの約１．４ｍφ内の反射のみをセンサ２２ｊで
受ける。なお、２２には超音波ビームである。そして、
１０００回の発射パルス２２ｄによって返って来た反射
パルス計測値２２ｔ、 ２２ｍ 、 ２２ｎをカウント
パルスに変換することによシ、粒径５〜１００μｍの異
物の連続計測を行なう。
また、前述したレーザ光異物センサ３１は、第３図に示
すようにセンサセル３１ａ内に連続して流れる被検液３
１ｂの流路測面よυ、Ｈｅ−Ｎｏレーザ３１ｃをプリズ
ム３１ｄで反射させ集束レンズ３１４で集光しだレーザ
光３１ｅを照射し、被検液３Ｉｂ中の異物（粒径０．５
〜６０μｍ）によシ散乱された光を集光レンズ３１ｆ′
で集め、高感度のフォトダイオード３１ｇでその大きさ
および数量を検出することによ）、粒径０５〜２５μｍ
の異物の連続計測を行なう。なお、非散乱はプＩＪズム
３１ｈで反射させ、フォトダイオード３１ｇに入射され
ない。
すようにセンサセル３１ａ内に連続して流れる被検液３
１ｂの流路測面よυ、Ｈｅ−Ｎｏレーザ３１ｃをプリズ
ム３１ｄで反射させ集束レンズ３１４で集光しだレーザ
光３１ｅを照射し、被検液３Ｉｂ中の異物（粒径０．５
〜６０μｍ）によシ散乱された光を集光レンズ３１ｆ′
で集め、高感度のフォトダイオード３１ｇでその大きさ
および数量を検出することによ）、粒径０５〜２５μｍ
の異物の連続計測を行なう。なお、非散乱はプＩＪズム
３１ｈで反射させ、フォトダイオード３１ｇに入射され
ない。
このような構成において、まず、製作された図示しない
例えば電子銃構体等の被検処理体を、洗浄槽２内に純水
を収容してその中に浸漬し、洗浄処理する。この場合、
この純水中には被検処理体の表面に付着していた各種粒
径の異物が除去され含有された洗浄液２ａとなる。次に
洗浄処理された被検処理体は清浄部品として評価容器６
内に収容し、洗浄液槽４からサンプリングチューブ１１
を通して例えば純水等の洗浄液４ｚを供給し、超音波発
生装置７により超音波を連続的に照射して再洗浄し、清
浄部品５に付着残存していた異物をさらに除去して含有
させて清浄品評価被検液７とする。次にこの清浄品評価
被検液７およびモニタ校正用標準液３ａは、それぞれサ
ンプリングチューブ１２．１０を通して各液測定用切換
弁１３によυ切換えられ、超音波異物計測部２０および
レーザ異物計測部３０の各吸引ポンプ２７に↓り約１０
０ｍｔ／分の流速で各真空脱気装置２１に導入され、被
検液Ｔおよび標準液３１内に含有されている気泡、ガス
等の混在気体を脱気させた後、超音波異物計測部２０で
は、被検液７および標準液３ａが超音波異物センサ２２
に導入され、第２図で説明したように粒径５〜１００μ
ｍの液中異物のみが計測される。一方、レーザ異物計測
部３０では、同様に脱気した被検液７および標準液３ａ
がレーザ光異物センサ３１にそれぞれ導入され、第３図
で説明したように粒径０．５〜４．９μｍの液中異物の
みが計測される。この結果、標準液３ａは、前述した標
準値（粒径０．５〜４．９μｍの異物粒子数６００００
個／１００ｍｔ、粒径５〜１００μｍの異物粒子数５１
６６／１００ｍｔ）に対して変動係数が±１５１５内で
計測され、かつ前述した被検処理体を全体の水流量を０
．１〜０．１５ｔ／分で洗浄した場合、評価容器６内の
清浄品評価被検液７中の異物は１３０００〜１６０００
個／１００ｍｔであった。また、製作後の被検処理体１
０本をサンプリング部１で評価容器６内での超音波洗浄
による再洗浄を行なわないで、初期の洗浄槽２のみによ
る洗浄後、超音波異物計測部２０で真空脱気装置２１を
通して計測した結果、粒径５〜１００μｍの付着異物の
合計が３００００〜５００００個／本（Ｘ＝４６０００
個／本）であったのに対して本実施例の如き評価容器６
内での超音波洗浄による再洗浄を行なった場合には３１
００〜６２００個／本（Ｘ＝ ３７００個／本）となり
、連続的な異物の計測が可能となる。ここで真空脱気装
置２１を用いて液中異物を連続計測する場合、予め測定
筒の異物の粒子数および大きさの判明している既知試料
を用い、異物の大きさとその数の両者に対する照射超音
波の反射エネルギーとの関係曲線を作成し、マイコン２
４に記憶させ、これと被検液中の異物によるそれぞれの
超音波異物センサ２２による計測数を演算し、異物の数
と大きさとをグラフ表示および作表し、同時にプリンタ
２６にプリントアウトおよびディスプレイ２５に表示す
ることにより、液中異物が連続計測される。
例えば電子銃構体等の被検処理体を、洗浄槽２内に純水
を収容してその中に浸漬し、洗浄処理する。この場合、
この純水中には被検処理体の表面に付着していた各種粒
径の異物が除去され含有された洗浄液２ａとなる。次に
洗浄処理された被検処理体は清浄部品として評価容器６
内に収容し、洗浄液槽４からサンプリングチューブ１１
を通して例えば純水等の洗浄液４ｚを供給し、超音波発
生装置７により超音波を連続的に照射して再洗浄し、清
浄部品５に付着残存していた異物をさらに除去して含有
させて清浄品評価被検液７とする。次にこの清浄品評価
被検液７およびモニタ校正用標準液３ａは、それぞれサ
ンプリングチューブ１２．１０を通して各液測定用切換
弁１３によυ切換えられ、超音波異物計測部２０および
レーザ異物計測部３０の各吸引ポンプ２７に↓り約１０
０ｍｔ／分の流速で各真空脱気装置２１に導入され、被
検液Ｔおよび標準液３１内に含有されている気泡、ガス
等の混在気体を脱気させた後、超音波異物計測部２０で
は、被検液７および標準液３ａが超音波異物センサ２２
に導入され、第２図で説明したように粒径５〜１００μ
ｍの液中異物のみが計測される。一方、レーザ異物計測
部３０では、同様に脱気した被検液７および標準液３ａ
がレーザ光異物センサ３１にそれぞれ導入され、第３図
で説明したように粒径０．５〜４．９μｍの液中異物の
みが計測される。この結果、標準液３ａは、前述した標
準値（粒径０．５〜４．９μｍの異物粒子数６００００
個／１００ｍｔ、粒径５〜１００μｍの異物粒子数５１
６６／１００ｍｔ）に対して変動係数が±１５１５内で
計測され、かつ前述した被検処理体を全体の水流量を０
．１〜０．１５ｔ／分で洗浄した場合、評価容器６内の
清浄品評価被検液７中の異物は１３０００〜１６０００
個／１００ｍｔであった。また、製作後の被検処理体１
０本をサンプリング部１で評価容器６内での超音波洗浄
による再洗浄を行なわないで、初期の洗浄槽２のみによ
る洗浄後、超音波異物計測部２０で真空脱気装置２１を
通して計測した結果、粒径５〜１００μｍの付着異物の
合計が３００００〜５００００個／本（Ｘ＝４６０００
個／本）であったのに対して本実施例の如き評価容器６
内での超音波洗浄による再洗浄を行なった場合には３１
００〜６２００個／本（Ｘ＝ ３７００個／本）となり
、連続的な異物の計測が可能となる。ここで真空脱気装
置２１を用いて液中異物を連続計測する場合、予め測定
筒の異物の粒子数および大きさの判明している既知試料
を用い、異物の大きさとその数の両者に対する照射超音
波の反射エネルギーとの関係曲線を作成し、マイコン２
４に記憶させ、これと被検液中の異物によるそれぞれの
超音波異物センサ２２による計測数を演算し、異物の数
と大きさとをグラフ表示および作表し、同時にプリンタ
２６にプリントアウトおよびディスプレイ２５に表示す
ることにより、液中異物が連続計測される。
なお、前述した実施例においては、サンプリング部ｌに
、超音波異物計測部２０とレーザ異物計測部３０とを並
列接続して液中異物の計測を行なったが、本発明はこれ
に限定されるものではなく、第４図に示すように直列接
続して超音波・レーザ異物針１ｔｌ１１部４０として構
成しても前述と全く同様の効果が得られ、この場合は吸
引ポンプ２７が１個省略できるので、システムのコスト
が安価となる。
、超音波異物計測部２０とレーザ異物計測部３０とを並
列接続して液中異物の計測を行なったが、本発明はこれ
に限定されるものではなく、第４図に示すように直列接
続して超音波・レーザ異物針１ｔｌ１１部４０として構
成しても前述と全く同様の効果が得られ、この場合は吸
引ポンプ２７が１個省略できるので、システムのコスト
が安価となる。
なお、前述した真空脱気装置は、内部にらせん状に巻設
させた合成樹脂チューブを挿通した真空チャンバと、こ
の真空チャンバ内を所定の真空度に保持する圧カセンサ
、コントロールボックスおよび真空ポンプからなる真空
装置を具備する構成も のものでないことは勿論である。。
させた合成樹脂チューブを挿通した真空チャンバと、こ
の真空チャンバ内を所定の真空度に保持する圧カセンサ
、コントロールボックスおよび真空ポンプからなる真空
装置を具備する構成も のものでないことは勿論である。。
以上説明したように本発明によれば、被検液中の異物を
検知する異物センサの前段に！ｃ空膜脱気装置設けたこ
とにより、被検液中の混在気体が確実に除去されて液中
異物のみが計測されるので、異物の粒径および数量が連
続して確実に計測できるとともに、付着異物の極めて少
ない構成部品が連続して得られるなどの極めて優れた効
果が得られる。
検知する異物センサの前段に！ｃ空膜脱気装置設けたこ
とにより、被検液中の混在気体が確実に除去されて液中
異物のみが計測されるので、異物の粒径および数量が連
続して確実に計測できるとともに、付着異物の極めて少
ない構成部品が連続して得られるなどの極めて優れた効
果が得られる。
第１図は本発明による液中異物の計測システムの一実施
例を示す構成図、第２図は超音波異物センナを説明する
図、第３図はレーザ光異物センサを説明する図、第４図
は本発明の他の実施例を説明する図である。 ｌ・・・・す７１９７７部、２・・・拳洗浄槽、２ａ
・・・・洗浄液、３・・・・標準液貯水槽、３ａ ・・
・・標準液、４・・・・洗浄液槽、４ａ・・・・清浄部
品評価洗浄液、５・・・・清浄部品、６・・・・清浄評
価容器、７・・・・清浄部品評価被検液、８・・・・超
音波洗浄槽、８ａ・・・１１．１２・・・Φサンプリン
グチニープ、１３・・・・各液測定用切換弁、２０・・
・・超音波異物計測部、２１・・・・真空脱気装置、２
２・・・・超音波異物センサ、２３・・・・電源、２４
・・・Φマイコン、２５−・争畳ディスプレイ、２６・
・・・プリンタ、２７・・・・ポンプ、２８・・・・排
液チューブ、３０・・・・レーザ異物計ｆｆ１ｌＪ部、
３１・・・・レーザ光異物センサ、４゜・・・・超音波
・レーザ異物計測部。
例を示す構成図、第２図は超音波異物センナを説明する
図、第３図はレーザ光異物センサを説明する図、第４図
は本発明の他の実施例を説明する図である。 ｌ・・・・す７１９７７部、２・・・拳洗浄槽、２ａ
・・・・洗浄液、３・・・・標準液貯水槽、３ａ ・・
・・標準液、４・・・・洗浄液槽、４ａ・・・・清浄部
品評価洗浄液、５・・・・清浄部品、６・・・・清浄評
価容器、７・・・・清浄部品評価被検液、８・・・・超
音波洗浄槽、８ａ・・・１１．１２・・・Φサンプリン
グチニープ、１３・・・・各液測定用切換弁、２０・・
・・超音波異物計測部、２１・・・・真空脱気装置、２
２・・・・超音波異物センサ、２３・・・・電源、２４
・・・Φマイコン、２５−・争畳ディスプレイ、２６・
・・・プリンタ、２７・・・・ポンプ、２８・・・・排
液チューブ、３０・・・・レーザ異物計ｆｆ１ｌＪ部、
３１・・・・レーザ光異物センサ、４゜・・・・超音波
・レーザ異物計測部。
Claims (1)
- １、粒径および数量が異なる各種の異物を含有する被検
液と前記粒径および数量の既知量を含有する校正用標準
液とを作製するサンプリング手段と、前記両液中に含有
する混在気体を脱気する真空脱気装置と、前記脱気され
た両液中に含有する液中異物を検知する異物計測手段と
を具備したことを特徴とする液中異物の計測システム。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61030811A JPH0760148B2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 電子部品の洗浄効果評価方法 |
| US07/014,787 US4779451A (en) | 1986-02-17 | 1987-02-13 | System for measuring foreign materials in liquid |
| KR1019870001282A KR900001575B1 (ko) | 1986-02-17 | 1987-02-17 | 액중 이물류의 계측방법 |
| US07/226,204 US4890481A (en) | 1986-02-17 | 1988-07-29 | System for measuring foreign materials in liquid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61030811A JPH0760148B2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 電子部品の洗浄効果評価方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62190462A true JPS62190462A (ja) | 1987-08-20 |
| JPH0760148B2 JPH0760148B2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=12314071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61030811A Expired - Lifetime JPH0760148B2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 電子部品の洗浄効果評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0760148B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5728249A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-15 | Toshiba Corp | Measuring apparatus for concentration |
-
1986
- 1986-02-17 JP JP61030811A patent/JPH0760148B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5728249A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-15 | Toshiba Corp | Measuring apparatus for concentration |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0760148B2 (ja) | 1995-06-28 |
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