JPS62190441A - 液中異物の計測システム - Google Patents
液中異物の計測システムInfo
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- JPS62190441A JPS62190441A JP61030858A JP3085886A JPS62190441A JP S62190441 A JPS62190441 A JP S62190441A JP 61030858 A JP61030858 A JP 61030858A JP 3085886 A JP3085886 A JP 3085886A JP S62190441 A JPS62190441 A JP S62190441A
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Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子管、電子デバイス等に使用される構成部
品の清浄化および清浄後の構成部品の清浄度の評価に好
適な液中異物の計測システムに関するものでおる。
品の清浄化および清浄後の構成部品の清浄度の評価に好
適な液中異物の計測システムに関するものでおる。
従来、この種の液中異物の計測装置には、断続方式によ
る粒径５〜１００μｍ程度の異物を計測する超音波照射
形の異物計測方式と、粒径０．５〜６０μｍ程度の異物
を計測するレーザ光線照射形の異物計測方式とが用いら
れていた。
る粒径５〜１００μｍ程度の異物を計測する超音波照射
形の異物計測方式と、粒径０．５〜６０μｍ程度の異物
を計測するレーザ光線照射形の異物計測方式とが用いら
れていた。
なお、このような液中異物の計測装置の構造は、例えば
昭和５９年２月［第３回空気清浄とコンタミネーション
コントロールに関する技術研究大会」において発表され
た「液体中微粒子のオンライン測定」等に記載されてい
る。
昭和５９年２月［第３回空気清浄とコンタミネーション
コントロールに関する技術研究大会」において発表され
た「液体中微粒子のオンライン測定」等に記載されてい
る。
この種の液中異物の計測装置は、構成部品を洗浄した被
検液中に気泡、ガス等の混在気体が存在すると、異物計
測時に異物センサ部の表面に気泡が付着したシ、また液
中の気泡をも同時に計測するために計測値が大きくなシ
、誤差が大きくなるため、連続してかつ液中の異物の大
きさおよび数を正確に計測することができなかった。
検液中に気泡、ガス等の混在気体が存在すると、異物計
測時に異物センサ部の表面に気泡が付着したシ、また液
中の気泡をも同時に計測するために計測値が大きくなシ
、誤差が大きくなるため、連続してかつ液中の異物の大
きさおよび数を正確に計測することができなかった。
本発明は、被検液中の混在気体を除去し、連続かつ高精
度で被検液中の異物の計測を可能にした液中異物の計測
システムを提供することを目的としている。
度で被検液中の異物の計測を可能にした液中異物の計測
システムを提供することを目的としている。
本発明に係る液中異物の計測システムは、被検液から異
物を検知する異物計測センサ部の前段に真空脱気装置を
取シ付けたことを特徴とするものである。
物を検知する異物計測センサ部の前段に真空脱気装置を
取シ付けたことを特徴とするものである。
被検液が異物センサ部に到達する以前に被検液中の混在
気体が脱気され、液中異物のみが計測される。
気体が脱気され、液中異物のみが計測される。
次に図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明による液中異物の計測システムの一実施
例を示す構成図である。同図において、１はサンプリン
グ部であシ、２は内部に電子管。
例を示す構成図である。同図において、１はサンプリン
グ部であシ、２は内部に電子管。
電子デバイス等に用いられる構成部品としての被検処理
体を浸漬し洗浄処理した洗浄液２ａを収容する洗浄槽、
３は攪拌器を有しかつ内部に粒径０．５〜４．９μｍの
異物が６００００個／１００ｍｔおよび粒径５〜１００
μｍの異物が５１６６個／１００ｍｚの割合で含むモニ
タ校正用の標準液３＆を収容した標準液貯水槽、４は清
浄部品評価洗浄液４ａを収容した洗浄液槽、５は清浄部
品、６は清浄部品５の清浄計画容器、７は清浄部品評価
被検液、８は内部に評価容器６および洗浄水８ａを収容
し外部に超音波発生装置８ｂを有する超音波洗浄槽、９
は洗浄液２ａのサンプリングチューブ、１０は標準液３
ａのサンプリングチューブ、１１は洗浄液４ａのサンプ
リングチューブ、１３は各チューブ９ 、１０゜１２内
に流れる各液測定用切換弁である。なお、これらの６液
は約２０〜１０１００Ｏ／分の流速で順次送流されてい
る。
体を浸漬し洗浄処理した洗浄液２ａを収容する洗浄槽、
３は攪拌器を有しかつ内部に粒径０．５〜４．９μｍの
異物が６００００個／１００ｍｔおよび粒径５〜１００
μｍの異物が５１６６個／１００ｍｚの割合で含むモニ
タ校正用の標準液３＆を収容した標準液貯水槽、４は清
浄部品評価洗浄液４ａを収容した洗浄液槽、５は清浄部
品、６は清浄部品５の清浄計画容器、７は清浄部品評価
被検液、８は内部に評価容器６および洗浄水８ａを収容
し外部に超音波発生装置８ｂを有する超音波洗浄槽、９
は洗浄液２ａのサンプリングチューブ、１０は標準液３
ａのサンプリングチューブ、１１は洗浄液４ａのサンプ
リングチューブ、１３は各チューブ９ 、１０゜１２内
に流れる各液測定用切換弁である。なお、これらの６液
は約２０〜１０１００Ｏ／分の流速で順次送流されてい
る。
まだ、２０は超音波異物計測部であシ、２１は被検液中
の混在気体を脱気する真空脱気装置、２２は被検液中の
粒径５〜１００μｍの異物を検知する超音波異物センサ
、２３は電源、２４はマイコン、２５はディスプレイ、
２６はプリンタ、２Ｔは被検液を２０〜１０００ ｍｌ
１分の流速で吸引する吸引ポンプ、２８は検液後の排液
チューブである。
の混在気体を脱気する真空脱気装置、２２は被検液中の
粒径５〜１００μｍの異物を検知する超音波異物センサ
、２３は電源、２４はマイコン、２５はディスプレイ、
２６はプリンタ、２Ｔは被検液を２０〜１０００ ｍｌ
１分の流速で吸引する吸引ポンプ、２８は検液後の排液
チューブである。
また、３０はレーザ異物計測部であシ、このレーザ異物
計測部３０は、被検液中の粒径０．５〜２５μｍの異物
を検知するレーザ光異物センサ３１を有し、残部は前述
した超音波異物計測部２０と同様に構成されている。
計測部３０は、被検液中の粒径０．５〜２５μｍの異物
を検知するレーザ光異物センサ３１を有し、残部は前述
した超音波異物計測部２０と同様に構成されている。
なお、前述した真空脱気装置２１は、第２図に示すよう
に内部にらせん状に巻設させた合成樹脂チュー７’２１
ｍを挿通した真空チャンバ２１ｂと、この真空チャンバ
２１ｂ内を所定の真空度に保持する圧力センサ２１ｃ、
コントロールボツクス２１ｄおよび真空ポンプ２１ｅか
らなる真空装置２１ｆとから構成されている。
に内部にらせん状に巻設させた合成樹脂チュー７’２１
ｍを挿通した真空チャンバ２１ｂと、この真空チャンバ
２１ｂ内を所定の真空度に保持する圧力センサ２１ｃ、
コントロールボツクス２１ｄおよび真空ポンプ２１ｅか
らなる真空装置２１ｆとから構成されている。
このように構成される真空脱気装置２１は、真空チャン
バ２Ｉｂ内が所定の真空度に保持されるとともに、らせ
ん状の合成樹脂チューブ２１ａ１内に前述した被検液７
を送流させることによシ、真空中に接触する表面積が大
きくなるので、被検液γ中に含有されている混在気体が
極めて良好に脱気される。この場合、被検液７が毎分２
０〜１０００ ｍ ｌの流速で送流されると、被検液７
中の混在気体１〜１１００ｐｐを脱気する。
バ２Ｉｂ内が所定の真空度に保持されるとともに、らせ
ん状の合成樹脂チューブ２１ａ１内に前述した被検液７
を送流させることによシ、真空中に接触する表面積が大
きくなるので、被検液γ中に含有されている混在気体が
極めて良好に脱気される。この場合、被検液７が毎分２
０〜１０００ ｍ ｌの流速で送流されると、被検液７
中の混在気体１〜１１００ｐｐを脱気する。
また、前述した超音波異物センサ２２は、第３図に示す
ようにチューブ２２＆内に連続して流れる被検液２２ｂ
の流路測面よシフオーツクリスタル素子２２ｅに印加し
た約４００Ｖの高周波電圧を約１５ＭＨｚ超音波音圧に
変換した超音波パルス２２ｄを１秒間に２００回（２μ
ｓｅｃ／回）連続して繰返し照射する。その超音波エネ
ルギーは音蕃レンズ２２ｅで集束させ、円錐状に焦点を
結ばせると、被検液２２ｂ中に超音波が伝波するため、
その密度が最も高くなる領域２２ｆ 、 ２２ｇでの異
物２２ｈからの後方反射する反射エネルギー（粒子の大
きさに比例する）を利用し、粒子１個からの１個の反射
波をエコーとして返してくるため、反射パルス受信ゲー
ト２２１の約１．４顛φ内の反射のみをセンサ２２ｊで
受ける。なお、２２には超音波ビームである。そして、
１０００回の発射パルス２２ｄによって返って来た反射
パルス計測値２２ｔ 、 ２２ｍ 、 ２２ｎをカウン
トパルスに変換することにより、粒径５〜１００μｍの
異物の連続計測を行なう。
ようにチューブ２２＆内に連続して流れる被検液２２ｂ
の流路測面よシフオーツクリスタル素子２２ｅに印加し
た約４００Ｖの高周波電圧を約１５ＭＨｚ超音波音圧に
変換した超音波パルス２２ｄを１秒間に２００回（２μ
ｓｅｃ／回）連続して繰返し照射する。その超音波エネ
ルギーは音蕃レンズ２２ｅで集束させ、円錐状に焦点を
結ばせると、被検液２２ｂ中に超音波が伝波するため、
その密度が最も高くなる領域２２ｆ 、 ２２ｇでの異
物２２ｈからの後方反射する反射エネルギー（粒子の大
きさに比例する）を利用し、粒子１個からの１個の反射
波をエコーとして返してくるため、反射パルス受信ゲー
ト２２１の約１．４顛φ内の反射のみをセンサ２２ｊで
受ける。なお、２２には超音波ビームである。そして、
１０００回の発射パルス２２ｄによって返って来た反射
パルス計測値２２ｔ 、 ２２ｍ 、 ２２ｎをカウン
トパルスに変換することにより、粒径５〜１００μｍの
異物の連続計測を行なう。
また、前述したレーザ光異物センサ３１は、第４図に示
すようにセンサセル３１ａ内に連続して流れる被検液３
１ｂの流路測面よシ、Ｈｅ−Ｎｅレーザ３１ｃをプリズ
ム３１ｄで反射させ集束レンズ３１）で集光したレーザ
光３１ｅを照射し、被検液３Ｉｂ中の異物（粒径０．５
〜６０μｍ）によシ散乱された光を集光レンズ３１ｆ°
で集め、高感度のフォトダイオード３１ｇでその大きさ
および数量を検出することによシ、粒径０，５〜２５μ
ｍの異物の連続計測を行なう。
すようにセンサセル３１ａ内に連続して流れる被検液３
１ｂの流路測面よシ、Ｈｅ−Ｎｅレーザ３１ｃをプリズ
ム３１ｄで反射させ集束レンズ３１）で集光したレーザ
光３１ｅを照射し、被検液３Ｉｂ中の異物（粒径０．５
〜６０μｍ）によシ散乱された光を集光レンズ３１ｆ°
で集め、高感度のフォトダイオード３１ｇでその大きさ
および数量を検出することによシ、粒径０，５〜２５μ
ｍの異物の連続計測を行なう。
なお、非散乱はプリズム３１ｈで反射させ、フォトダイ
オード３１．に入射されない。
オード３１．に入射されない。
このような構成において、まず、製作された図示しない
例えば電子銃構体等の被検処理体を、洗浄槽２内に純水
を収容してその中に浸漬し、洗浄処理する。この場合、
この純水中には被検処理体の表面に付着していた各種粒
径の異物が除去され含有された洗浄液２＆となる。次に
洗浄処理された被検処理体は清浄部品として評価容器６
内に収容し、洗浄液槽４からサンプリングチューブ１１
を通して例えば純水等の洗浄液４ａを供給し、超音波発
生装置Ｔによシ超音波を連続的に照射して再洗浄し、清
浄部品５に付着残存していた異物をさらに除去して含有
させて清浄品評価被検液Ｔとする。次にこの清浄品評価
被検液Ｔおよびモニタ校正用標準液３ａは、それぞれサ
ンプリングチューブ１２．１０を通して各液測定用切換
弁１３により切換えられ、超音波異物計測部２０および
レーザ異物計測部３０の各吸引ポンプ２Ｔにより約１０
０ｍｔ／分の流速で各真空脱気装置２１に導入され、被
検液７および標準液３ａ内に含有されている気泡、ガス
等の混在気体を十分に脱気させた後、超音波異物計測部
２０では、被検液７および標準液３畠が超音波異物セン
サ２２に導入され、第３図で説明したように粒径５〜１
００μｍの液中異物のみが計測される。一方、レーザ異
物計測部３０では、同様に脱気した被検液Ｔおよび標準
液３ａがレーザ光異物センサ３１にそれぞれ導入され、
第４図で説明したように粒径０．５〜４．９μｍの液中
異物のみが計測される。この結果、標準液３＆は、前述
した標準値（粒径０．５〜４．９μｍの異物粒子数６０
０００個／１００ｍｔ、粒径５〜１００μｍの異物粒子
数５１６６／ １００ｍｔ）に対して変動係数が±１５
チ以内で計測され、かつ前述した被検処理体を全体の水
流量を約２０〜１０１００Ｏ／分で洗浄した場合、評価
容器６内の清浄品評価被検液Ｔ中の異物は１３０００〜
１６０００個／１００ｍｚであった。また、製作後の被
検処理体１０本をサンプリング部１で評価容器６内での
超音波洗浄による再洗浄を行なわないで、初期の洗浄槽
２のみによる洗浄後、超音波異物計測部２０で真空脱気
装置２１を通して計測した結果、粒径５〜１００μｍの
付着異物の合計が３００００〜５ｏｏｏｏ個／本（又＝
４６０００個／本）であったのに対して本実施例の如
き評価容器６内での超音波洗浄による再洗浄を行なった
場合には３１００〜６２００個／本（又＝ ３７００個
／本）となシ、連続的な異物の計測が可能となる。ここ
で真空脱気装置２１を用いて液中異物を連続計測する場
合、予め測定済の異物の粒子数および大きさの判明して
いる既知試料を用い、異物の大きさとその数の両者に対
する照射超音波の反射エネルギーとの関係曲線を作成し
、マイコン２４に記憶させ、これと被検液中の異物によ
るそれぞれの超音波異物センサ２２による計測数を演算
し、異物の数と大きさとをグラフ表示および作表し、同
時にプリンタ２６にプリントアウトおよびディスプレイ
２５に表示することにより、液中異物が連続計測される
。
例えば電子銃構体等の被検処理体を、洗浄槽２内に純水
を収容してその中に浸漬し、洗浄処理する。この場合、
この純水中には被検処理体の表面に付着していた各種粒
径の異物が除去され含有された洗浄液２＆となる。次に
洗浄処理された被検処理体は清浄部品として評価容器６
内に収容し、洗浄液槽４からサンプリングチューブ１１
を通して例えば純水等の洗浄液４ａを供給し、超音波発
生装置Ｔによシ超音波を連続的に照射して再洗浄し、清
浄部品５に付着残存していた異物をさらに除去して含有
させて清浄品評価被検液Ｔとする。次にこの清浄品評価
被検液Ｔおよびモニタ校正用標準液３ａは、それぞれサ
ンプリングチューブ１２．１０を通して各液測定用切換
弁１３により切換えられ、超音波異物計測部２０および
レーザ異物計測部３０の各吸引ポンプ２Ｔにより約１０
０ｍｔ／分の流速で各真空脱気装置２１に導入され、被
検液７および標準液３ａ内に含有されている気泡、ガス
等の混在気体を十分に脱気させた後、超音波異物計測部
２０では、被検液７および標準液３畠が超音波異物セン
サ２２に導入され、第３図で説明したように粒径５〜１
００μｍの液中異物のみが計測される。一方、レーザ異
物計測部３０では、同様に脱気した被検液Ｔおよび標準
液３ａがレーザ光異物センサ３１にそれぞれ導入され、
第４図で説明したように粒径０．５〜４．９μｍの液中
異物のみが計測される。この結果、標準液３＆は、前述
した標準値（粒径０．５〜４．９μｍの異物粒子数６０
０００個／１００ｍｔ、粒径５〜１００μｍの異物粒子
数５１６６／ １００ｍｔ）に対して変動係数が±１５
チ以内で計測され、かつ前述した被検処理体を全体の水
流量を約２０〜１０１００Ｏ／分で洗浄した場合、評価
容器６内の清浄品評価被検液Ｔ中の異物は１３０００〜
１６０００個／１００ｍｚであった。また、製作後の被
検処理体１０本をサンプリング部１で評価容器６内での
超音波洗浄による再洗浄を行なわないで、初期の洗浄槽
２のみによる洗浄後、超音波異物計測部２０で真空脱気
装置２１を通して計測した結果、粒径５〜１００μｍの
付着異物の合計が３００００〜５ｏｏｏｏ個／本（又＝
４６０００個／本）であったのに対して本実施例の如
き評価容器６内での超音波洗浄による再洗浄を行なった
場合には３１００〜６２００個／本（又＝ ３７００個
／本）となシ、連続的な異物の計測が可能となる。ここ
で真空脱気装置２１を用いて液中異物を連続計測する場
合、予め測定済の異物の粒子数および大きさの判明して
いる既知試料を用い、異物の大きさとその数の両者に対
する照射超音波の反射エネルギーとの関係曲線を作成し
、マイコン２４に記憶させ、これと被検液中の異物によ
るそれぞれの超音波異物センサ２２による計測数を演算
し、異物の数と大きさとをグラフ表示および作表し、同
時にプリンタ２６にプリントアウトおよびディスプレイ
２５に表示することにより、液中異物が連続計測される
。
以上説明したように本発明によれば、被検液中の異物を
検知する異物センサの前段に真空脱気装置を設けたこと
によシ、被検液中の混在気体が確実に除去されて液中異
物のみが計測されるので、異物の粒径および数量が連続
して確実に計測できるとともに、付着異物の極めて少な
い構成部品が連続して得られるなどの極めて優れた効果
が得られる。
検知する異物センサの前段に真空脱気装置を設けたこと
によシ、被検液中の混在気体が確実に除去されて液中異
物のみが計測されるので、異物の粒径および数量が連続
して確実に計測できるとともに、付着異物の極めて少な
い構成部品が連続して得られるなどの極めて優れた効果
が得られる。
第１図は本発明による液中異物の計測システムの一実施
例を示す構成図、第２図は真空脱気装置を説明する図、
第３図は超音波異物センサを説明する図、第４図はレー
ザ光異物センサを説明する図である。 １・・・・サンプリング部、２・・・・洗浄槽、２ａ
・・・φ洗浄液、３拳・・・標準液貯水槽、３ａ ・・
・・標準液、４・・・・洗浄液槽、４畠・・・拳清浄部
品評価洗浄液、５−・・・清浄部品、６・・・・清浄評
価容器、Ｔ・・・・清浄部品評価被検液、８・・・・超
音波洗浄槽、８ａ・・・・洗浄水、８ｂ・・・・超音波
発生装置、９゜１０．１１．１２・・・・サンプリング
チューブ、１３・・・・各液測定用切換弁、２０拳・・
・超音波異物計測部、２１・・・・真空脱気装置、２１
ｍ・・・・合成樹脂チューブ、２１ｂ・・・・真空チャ
ンバ、２１ｃ・・・・圧力センサ、２１ｄ・・舎・コン
トロールボックス、２１ｅ・・・・真空ポンプ、２１ｆ
・・・・真空装置、２２・・・・超音波異物センサ、２
３・・・・電！、２４φ・・・マイコン、２５・・・・
ディスプレイ、２６−・・・プリンタ、２７惨・・・ポ
ンプ、２８・・・・排液チューブ、３０・・・・レーザ
異物計測部、３１・・・・レーザ光異物センサ。
例を示す構成図、第２図は真空脱気装置を説明する図、
第３図は超音波異物センサを説明する図、第４図はレー
ザ光異物センサを説明する図である。 １・・・・サンプリング部、２・・・・洗浄槽、２ａ
・・・φ洗浄液、３拳・・・標準液貯水槽、３ａ ・・
・・標準液、４・・・・洗浄液槽、４畠・・・拳清浄部
品評価洗浄液、５−・・・清浄部品、６・・・・清浄評
価容器、Ｔ・・・・清浄部品評価被検液、８・・・・超
音波洗浄槽、８ａ・・・・洗浄水、８ｂ・・・・超音波
発生装置、９゜１０．１１．１２・・・・サンプリング
チューブ、１３・・・・各液測定用切換弁、２０拳・・
・超音波異物計測部、２１・・・・真空脱気装置、２１
ｍ・・・・合成樹脂チューブ、２１ｂ・・・・真空チャ
ンバ、２１ｃ・・・・圧力センサ、２１ｄ・・舎・コン
トロールボックス、２１ｅ・・・・真空ポンプ、２１ｆ
・・・・真空装置、２２・・・・超音波異物センサ、２
３・・・・電！、２４φ・・・マイコン、２５・・・・
ディスプレイ、２６−・・・プリンタ、２７惨・・・ポ
ンプ、２８・・・・排液チューブ、３０・・・・レーザ
異物計測部、３１・・・・レーザ光異物センサ。
Claims (1)
- １、粒径および数量が異なる各種の異物を含有する被検
液と前記被検液の既知量を含有する校正用標準液とを作
製するサンプリング手段と、前記被検液中に含有する異
物を計測する異物計測手段と、前記異物計測手段の計測
センサ部前段に配設した真空脱気装置とを備え、前記真
空脱気装置は前記被検液を送流させるらせん状の樹脂チ
ューブと、前記樹脂チューブを真空気密させる真空チャ
ンバとから構成することを特徴とした液中異物の計測シ
ステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61030858A JPH0814529B2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 液中異物の計測システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61030858A JPH0814529B2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 液中異物の計測システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62190441A true JPS62190441A (ja) | 1987-08-20 |
| JPH0814529B2 JPH0814529B2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=12315416
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61030858A Expired - Fee Related JPH0814529B2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 液中異物の計測システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0814529B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010256050A (ja) * | 2009-04-22 | 2010-11-11 | Hitachi High-Technologies Corp | 自動分析装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51130281A (en) * | 1975-05-08 | 1976-11-12 | Anritsu Corp | A device for optical measurement |
| JPS58182549A (ja) * | 1982-04-20 | 1983-10-25 | Toshiba Corp | 超音波濃度測定方法および装置 |
| JPS608734A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-17 | Eruma Kogaku Kk | 超純水中の不純物の測定装置 |
-
1986
- 1986-02-17 JP JP61030858A patent/JPH0814529B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51130281A (en) * | 1975-05-08 | 1976-11-12 | Anritsu Corp | A device for optical measurement |
| JPS58182549A (ja) * | 1982-04-20 | 1983-10-25 | Toshiba Corp | 超音波濃度測定方法および装置 |
| JPS608734A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-17 | Eruma Kogaku Kk | 超純水中の不純物の測定装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010256050A (ja) * | 2009-04-22 | 2010-11-11 | Hitachi High-Technologies Corp | 自動分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0814529B2 (ja) | 1996-02-14 |
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