JPS62188227A - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPS62188227A JPS62188227A JP2958286A JP2958286A JPS62188227A JP S62188227 A JPS62188227 A JP S62188227A JP 2958286 A JP2958286 A JP 2958286A JP 2958286 A JP2958286 A JP 2958286A JP S62188227 A JPS62188227 A JP S62188227A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- resist
- optical fiber
- ultraviolet rays
- wafers
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は半導体製造装置の特に、ウェハー表面にレジス
トを滴下し、ウェハーを回転させ均一にムラなく塗布す
る塗布装置に関するものである。
トを滴下し、ウェハーを回転させ均一にムラなく塗布す
る塗布装置に関するものである。
「従来の技術］
従来、この種の塗布装置は、第２図に示すようにウェハ
ー３をウェハーチャック４の同心円上に偏心なくセット
してバキュームで吸着し、ウェハー３表面に上方のノズ
ル１からレジスト２ａを滴下し、モーター５によりウェ
ハー３を高速回転させ、均一にムラなくウェハー仝面に
塗布する構造になっている。
ー３をウェハーチャック４の同心円上に偏心なくセット
してバキュームで吸着し、ウェハー３表面に上方のノズ
ル１からレジスト２ａを滴下し、モーター５によりウェ
ハー３を高速回転させ、均一にムラなくウェハー仝面に
塗布する構造になっている。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、塗布後の各工程に於いて、ウェハー搬送
の際のウェハーガイド、キャリア溝での接触、及び各種
ウェハーハンドリング装置、ピンセット等の接触により
、ウェハー周辺部のレジストのハガレがゴミの発生源に
なってしまい、ウェハーの歩留りに大きく影響している
。
の際のウェハーガイド、キャリア溝での接触、及び各種
ウェハーハンドリング装置、ピンセット等の接触により
、ウェハー周辺部のレジストのハガレがゴミの発生源に
なってしまい、ウェハーの歩留りに大きく影響している
。
更に、ウェハーに付着したレジストの定期洗浄を行なわ
なければならず、これに費される工数が必要になってく
る。
なければならず、これに費される工数が必要になってく
る。
本発明の目的はウェハーの定期洗浄を不要にするレジス
ト塗布装置を提供することにある。
ト塗布装置を提供することにある。
［問題点を解決するための手段］
本発明は感光剤を塗布された半導体ウェハーの周辺及び
側面に紫外線を照射する光学系ユニットを有することを
特徴とするレジスト塗イ５装置で必る。
側面に紫外線を照射する光学系ユニットを有することを
特徴とするレジスト塗イ５装置で必る。
「実施例］
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図において、本発明はウェハーチャック４の同心円
上に偏心なくセットされたウェハー３の上面周辺部とそ
の側面部に光ファイバー６により紫外線を照射する光学
系ユニット９を有し、ざらに光学系ユニット９の光ファ
イバー６の先にシャッター板７を設け、ウェハー搬送中
、あるいは必要以外のときにはシャッター板を閉じた状
態にし、紫外線を不必要に照射しないようにしたもので
ある。
上に偏心なくセットされたウェハー３の上面周辺部とそ
の側面部に光ファイバー６により紫外線を照射する光学
系ユニット９を有し、ざらに光学系ユニット９の光ファ
イバー６の先にシャッター板７を設け、ウェハー搬送中
、あるいは必要以外のときにはシャッター板を閉じた状
態にし、紫外線を不必要に照射しないようにしたもので
ある。
第１図に示すように本発明は、ウェハー３をセットする
ウェハーチャック４の上方に紫外線照射ビーム８を導く
光ファイバー６を任意の位置にセットし、外側からウェ
ハー側面に向って紫外線８が照射される様に角度を持た
せ、塗布処理を行なわない時は光ファイバー６の先にシ
ャッター板７によって紫外線を遮断する。具体的には、
搬送されたウェハー３をウェハーチャック４の同心円上
に偏心なくバキュームにより吸着セットし、ウェハーチ
ャック４の中心上方にあるノズル１からレジスト２ａを
ウェハー３に滴下し、モーター５によりウェハー３を高
速回転させると同時に、光ファイバー６の先のシャッタ
ー板７を開いて紫外線８をウェハー３の周辺３ａ及び側
面３ｂに照射し、レジスト２ａがウェハー３にムラなく
均一に塗布されたら、モーター５を停止させ、このとき
、シャッター板７も同時に閉じる。尚、レジスト２ａと
してはポジタイプのものを用いる必要がある。
ウェハーチャック４の上方に紫外線照射ビーム８を導く
光ファイバー６を任意の位置にセットし、外側からウェ
ハー側面に向って紫外線８が照射される様に角度を持た
せ、塗布処理を行なわない時は光ファイバー６の先にシ
ャッター板７によって紫外線を遮断する。具体的には、
搬送されたウェハー３をウェハーチャック４の同心円上
に偏心なくバキュームにより吸着セットし、ウェハーチ
ャック４の中心上方にあるノズル１からレジスト２ａを
ウェハー３に滴下し、モーター５によりウェハー３を高
速回転させると同時に、光ファイバー６の先のシャッタ
ー板７を開いて紫外線８をウェハー３の周辺３ａ及び側
面３ｂに照射し、レジスト２ａがウェハー３にムラなく
均一に塗布されたら、モーター５を停止させ、このとき
、シャッター板７も同時に閉じる。尚、レジスト２ａと
してはポジタイプのものを用いる必要がある。
本発明によれば、ウェハー３周辺のレジスト２ｂを感光
させることにより現像処理後それを除去し、ウェハー３
の周辺部にピンセット等にょる把持、取扱いを容易にし
、ウェハー周辺からのレジストクズレによるゴミの発生
をなくしたものである。
させることにより現像処理後それを除去し、ウェハー３
の周辺部にピンセット等にょる把持、取扱いを容易にし
、ウェハー周辺からのレジストクズレによるゴミの発生
をなくしたものである。
塗布工程に続く目合せ露光工程においては、通常作業と
して紫外線をウェハー全面に照射しているが、本発明は
目合せ露光工程よりも前の塗布工程において紫外線を照
射するため、簡単な照射機構となり、かつ回転するウェ
ハーの周辺及び側面の照射が容易になる。
して紫外線をウェハー全面に照射しているが、本発明は
目合せ露光工程よりも前の塗布工程において紫外線を照
射するため、簡単な照射機構となり、かつ回転するウェ
ハーの周辺及び側面の照射が容易になる。
［発明の効果］
本発明は以上説明したようにウェハー周辺及び側面のポ
ジレジストを除去することによって、現像処理工程以降
のウェハー搬送等による接触によってゴミの発生源とな
るレジストクズの発生を防止でき、ウェハーの歩留りを
大幅に向上でき、更に、ウェハー搬送等により接触して
付着したゴミの定期洗浄の頬度を減少させることができ
る効果を有するものである。
ジレジストを除去することによって、現像処理工程以降
のウェハー搬送等による接触によってゴミの発生源とな
るレジストクズの発生を防止でき、ウェハーの歩留りを
大幅に向上でき、更に、ウェハー搬送等により接触して
付着したゴミの定期洗浄の頬度を減少させることができ
る効果を有するものである。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は従来
の塗イＹ１処理部を示す構成図である。
の塗イＹ１処理部を示す構成図である。
Claims (1)
- （１）感光剤を塗布された半導体ウェハーの周辺及び側
面に紫外線を照射する光学系ユニットを有することを特
徴とするレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2958286A JPS62188227A (ja) | 1986-02-13 | 1986-02-13 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2958286A JPS62188227A (ja) | 1986-02-13 | 1986-02-13 | レジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62188227A true JPS62188227A (ja) | 1987-08-17 |
Family
ID=12280084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2958286A Pending JPS62188227A (ja) | 1986-02-13 | 1986-02-13 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62188227A (ja) |
-
1986
- 1986-02-13 JP JP2958286A patent/JPS62188227A/ja active Pending
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