JPS62187366A - 光ビ−ム走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は光ビーム走査装置に関する。

（従来技術） 光ビーム（レーザビーム）走査光学系は、電子写真を用
いたプリンタや複写磯に種々応用されているが、ライン
ごとの走査開始位置を正確に合わせるためにレーザビー
ムが非画像域を走査している箇所に同期検知手段を設け
、検知タイミングから出出しタイミングまでの時間間隔
を一定に設定することが従来から行なわれている。また
、ビーム走査の不安定性、特に副走査ビッヂむらや、光
センサの配置精度のばらつきにＪ：らず一定のビーム位
置を検出するために、センサの前に集光レンズやマスク
が一体に設けられることがある。

しかるに上記の構成では、センサ、プリント基板などの
一般に取付精度が出しにくい部材の固定によって位置を
出す必要があることから、高度な位置合せが難かしく、
調整が必要となる。

上記の点は、１ビームの通常のプリンタにおいてはざは
どの問題は生じず、言出しの相対的位置が合えばよいが
、多色印字等を行なうプリンタや複写機にあっては、色
を重ねる必要があり、したがって各ビームのＮ出しは厳
密に位置合せすることが必要となる。

上記のように多色を用いる場合には、前述の従来の同期
検知手段の配置の仕方では所望の精度を得ることができ
ず、電気的、機械的な調整手段が必須となるという問題
があった。

〔目　的〕

本発明は上記従来技術の問題点に着目し、これを改善す
ることを目的としてなされたものである。

〔構　成〕

上記目的を達成するため、本発明は、光センサの位置、
すなわち光センサ支持部材の位置と、光入射規制部材の
位置とを独立に設定するようにし、光入射規制部材の位
置の精度を確保することによって光センサ支持部材の取
付精度が劣っていても高精度な同期検知が得られるよう
にしたことにある。

以下、本発明を図面に示す実施例を参照して説明する。

第６図は代表的な光ビーム走査装置として半導体レーザ
とポリゴンスキャナを用いた場合を例示するもので、画
像信号により変調されたレーザビームＢはコリメートレ
ンズ１で平行光とされ、第１シリンダレンズ２を通り、
アパーチャ３によってビーム整形され、ポリゴンスキャ
ナ４により偏光走査される。

ついでｆθレンズ５、第２ミラー６を経て同期検知器７
ヘビーム８が入射すると、所定パルスカウントで得られ
る一定時間遅延の後に画像信号による変調が開始される
。この同期検知器７としては、光センサとして高速応答
性に優れるビン（ＰＩＮ）フォトダイオードが用いられ
ることが多い。

画像域のレーザビームＢは、ｆθレンズ５によってビー
ム径が絞られるとともにｆθ走査特性が与えられ、第１
ミラー８で折返されて第２シリンダレンズ９により感光
体３０面上に結像され、一定速度で走査される。

こ）で同期検知の原理について説明を加えると、光ビー
ムがセンサ受光面を通過すると光匿に対応した電流出力
が得られる。その概略は第７図（Ａ）、（Ｂ）に示すよ
うに、予じめしきり値を設定し、この値を超えると同１
ｆＪ信号を発生するよう回路を構成ザる。

一方、センサ受光面の一部を遮光する光入射規制部材と
してのマスク１０をセンサ１１の前に配置した場合を第
８図に示している。この場合、マスク１０の位置によっ
て検知タイミングがずれることが分る。これは、センサ
受光面周辺部の感度むらが検知タイミングに影響するの
を避ける意味でも行なわれることが多い。またマスク１
０で遮光する面積が大きくなると、センサ出力ピークは
下るが、マスク１０とセンサ１１との間に集光レンズを
置くことでマスク１０のおかれる範囲に余裕を持たせる
こともできる。

以上の説明から、一定位置にあるセンサ１１に対しマス
ク１０の位置が検知タイミングを変更し得ることが分る
。したがってマスク１０の位置を調整することが同期検
知の有効な調整手段であることが判明し、また逆にマス
ク１０の位置を一定にしておけばセンサ１１の位置はあ
る程度変化しても高１！度の同期検知が可能となる。

そこで本発１１においては、光センサ１１の位置、すな
わち光センサ支持部材の位置と、光入射規制部材（マス
ク）の位置とを独立に設定し、後者の位置の精度を確保
することににって前者の取イ」位置の精度がラフであっ
ても高精度の同ＩＩ検知を可能とするにうにしたことに
ある。

第１図および第２図にその具体的な実施例を示している
。

同図において、マスク１０と、センサのユニツ］へ１２
とは、光学系ハウジング１３にそれぞれ別個に独立して
ネジ止めされている。

上記マスク１０は、ステンレス板金に黒色塗装を施した
材料等により形成され、その下端がＬ形に屈曲されて取
イリ部１０Ａが形成されており、この取付部１０Ａで前
記ハウジング１３にネジ止めされて固定されるようにな
っている。このネジの一方は基準ビン１４とし、この基
準ビン１４により位置決めして他のネジ１５により固定
される。

第３図および第４図はマスク１０の他の変形例を示すも
ので、金属製のマスク板１０Ｂと固定用ブロック部ｕｉ
ｏｃとで構成され、このブロック部材１０Ｃの垂直面部
１００にマスク板１０［３の一端がネジ１６等により固
定されて該垂直面部１０Ｄの一側にマスク板１０Ｂを張
り出させ、またブロック部材１０Ｃの水平面部１０Ｅに
固定用の長孔１０Ｆ、ＩＯＦを穿設し、これに挿通する
ネジによりハウジング１３に位置決めと同時に固定する
ようになされたものである。

センサ゛のユニット１２は、センサホルダ１７の先端内
部にレンズ押え１８により取付けられた集光レンズ１９
と、その背部に内装されるＰＩＮフォトダイオード２０
と、このフォトダイオード２０と接続される電子素子が
実装されたプリント基板２１等を有し、その取付座１７
Ａでハウジング１３にネジ２２により取付けられている
。そしてこのセンナの光軸上に前記マスク１０が配置さ
れる。

したがってマスク１０の取付位置を調整することにより
センサのユニット１２の取付精度に関係なく高精度な位
置決めができ、センサのユニツ１−１２のセンサホルダ
１７はプラスチックによる成型品であっても何ら障支え
ることがない。また第３図および第４図に示したマスク
１０によれば、位置の調整がやりにくいセンサのユニッ
ト１２の調整に比し逢かに調整を容易にすることができ
る。

第５図は本発明の特徴が最も発揮される場合の実施例を
示すもので、一つのユニットで複数の同期検知を有する
、例えば４つの感光体に書込みを行なうカラープリンタ
、複写機において、光学系ハウジング１３に同−型に作
られたマスク１０．”１０・・・を精密に位置決めして
それぞれ固定し、センサのユニット１２．１２・・・は
その背後において光学系ハウジング１３にネジ止めする
ことにより容易に配置することができる。したがって複
数の同期検知手段を有する高画質カラープリンタや複写
機の製作が著しく容易になる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、光センサの位置と
光入射規制部材（マスク）の位置とを独立に設定するよ
うにしたので、光入射規制部材の位置の精度を確保する
ことによって光センサ支持部材の取付精度が劣っても高
精度な同ＩＩ検知が得られ、しかも光入射Ｊｌｌ！ｔｉ
１１部材は単純な機械部品の精度によって位置決めを正
確にでき、とりわけ複数の同期検知手段を有する高画質
カラープリンタや複写器に適用したときその効果を最大
に発揮することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す要８Ｉ１ｍＷＩｒ側面
図、第２図は同正面図、第３図および第４図は第１図に
おける光入射規制部材（マスク）の変形例を示す正面図
および側面図、第５図は本発明を複数の同期検知手段を
有する場合の適用例を示す斜視図、第６図は代表的な光
ビーム走査装買として半導体レーザとポリゴンスキャナ
を用いた場合の例示図、第７図（Ａ）、（８）乃至第９
図（Ａ）。 （Ｂ）は同期検知の原理説明図である。 １・・・コリメートレンズ、２・・・第１シリンダレン
ズ、３・・・アバーチＡ７．４・・・ポリゴンスキャナ
、５・・・ｆθレンズ、６・・・第２ミラー、７・・・
同期検知器、８・・・第１ミラー、９・・・第２シリン
ダレンズ、１０・・・先入ｒＪ４ｍ制部材としてのマス
ク、１１・・・センリ・、１２・・・センサユニツ１−
１１３・・・光学系ハウジング、１６・・・センナホル
ダ、１９・・・集光レンズ、２０・・・フォトダイＡ−
ド、２１・・・プリン］一基板。 出願人代理人　　佐　　藤　　−雄 第１図　　　　　第２図 第３図　　第４図 （Ａ）　　　　　　　　　　　　　　　　１Ｂ）時間

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、画像信号にしたがって光ビームを発生させる光ビー
   ム発生手段と、この光ビーム発生手段で発生した光ビー
   ムを整形する光学的整形手段と、整形された光ビームを
   所定の走査面に偏光走査する偏光走査手段と、その光ビ
   ームを走査面上に結像させ、走査が一定速度になるよう
   配置された光学系と、画像信号の書出しタイミングを設
   定する同期検知手段とを有する光ビーム走査装置におい
   て、上記同期検知手段は、光センサと、このセンサを支
   持する支持部材と、前記光センサへの光入射を規制する
   光入射規制部材とで構成し、この光入射規制部材を前記
   センサ支持部材とは独立して取付けたことを特徴とする
   光ビーム走査装置。 ２、前記周期検知手段を複数とし、それぞれの光入射規
   制部材は同一の取付部材に一体に取付けられていること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光ビーム走査
   装置。 ３、前記同期検知手段を複数とし、それぞれの光入射規
   制部材は同一形状とされていることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の光ビーム走査装置。 ４、前記光センサと光入射規制部材との間に集光を行な
   う光学部材を有することを特徴とする特許請求の範囲第
   １項乃至第３項のいずれか１項に記載の光ビーム走査装
   置。