JPS6218612A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6218612A JPS6218612A JP15745385A JP15745385A JPS6218612A JP S6218612 A JPS6218612 A JP S6218612A JP 15745385 A JP15745385 A JP 15745385A JP 15745385 A JP15745385 A JP 15745385A JP S6218612 A JPS6218612 A JP S6218612A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- film
- patterns
- angle
- film piece
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- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3113—Details for improving the magnetic domain structure or avoiding the formation or displacement of undesirable magnetic domains
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録装置に用いる薄膜磁気ヘッドに関する
。
。
従来、薄膜磁気ヘッドの基板面と磁性膜片の側面とのな
す角はほぼ９０°であった。第２図は記録媒体面から見
た従来の薄膜磁気ヘッドの磁極を示す図である（例えば
特開昭５５−８７３２３号〕。図において、ギャップ３
をはさんで下磁極１と上磁極２が存在する。下磁極ｌを
形成する磁性膜片の側面１１とその底面１２のなす角は
ほぼ７０°〜１１０’の範囲となっている。
す角はほぼ９０°であった。第２図は記録媒体面から見
た従来の薄膜磁気ヘッドの磁極を示す図である（例えば
特開昭５５−８７３２３号〕。図において、ギャップ３
をはさんで下磁極１と上磁極２が存在する。下磁極ｌを
形成する磁性膜片の側面１１とその底面１２のなす角は
ほぼ７０°〜１１０’の範囲となっている。
ところで、薄膜磁気へ、ドは、磁化の一斉回転モードを
利用するために、記録媒体の対向面に垂直な方向に磁化
容易軸が向くように磁気異方性がつけられる。しかし磁
性膜片の側面付近の端部においては側面に磁荷が発生す
るのを防ぐように還流磁区が生ずる。この還流磁区にお
ける透磁率は１に近い。したがって還流磁区の部分は磁
気回路としての役割をほとんど果たすことがなく、磁気
へ、ト９の効率を低下させる原因となっていた。しかも
還流磁区の全体に占める割合は狭トラツクになるほど大
きくなるため上記効率の低下は高密度化に際しての重要
な問題点となっていた。
利用するために、記録媒体の対向面に垂直な方向に磁化
容易軸が向くように磁気異方性がつけられる。しかし磁
性膜片の側面付近の端部においては側面に磁荷が発生す
るのを防ぐように還流磁区が生ずる。この還流磁区にお
ける透磁率は１に近い。したがって還流磁区の部分は磁
気回路としての役割をほとんど果たすことがなく、磁気
へ、ト９の効率を低下させる原因となっていた。しかも
還流磁区の全体に占める割合は狭トラツクになるほど大
きくなるため上記効率の低下は高密度化に際しての重要
な問題点となっていた。
本発明の目的は還流磁区を可及的小さくして効率を高め
た薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
た薄膜磁気ヘッドを提供することにある。
本発明は、少なくとも１枚の磁性膜片を基板面上に有し
、上記基板面如対する磁性膜片の側面の立上シ角が３０
’以上６０°以下であることを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ドである。
、上記基板面如対する磁性膜片の側面の立上シ角が３０
’以上６０°以下であることを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ドである。
次に１本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例について、記録媒体面から見
た磁極を示している。図において、ギャッ、７°３をは
さんで存在する磁極は下磁極１、上磁極２であシ、とも
に磁極を形成する磁性膜片の側面１１と基板面１２との
なす角θは約４５°になっている。
た磁極を示している。図において、ギャッ、７°３をは
さんで存在する磁極は下磁極１、上磁極２であシ、とも
に磁極を形成する磁性膜片の側面１１と基板面１２との
なす角θは約４５°になっている。
この角θば３０’以上６０°以下が望ましい。６０°を
超えると前述の欠点が生じ、逆に３０°以下では端部で
の磁性体が薄くなるために書込み能力が低下することと
なって好ましくない。
超えると前述の欠点が生じ、逆に３０°以下では端部で
の磁性体が薄くなるために書込み能力が低下することと
なって好ましくない。
この角θを６０°以下にするためにはたとえば次て示す
ような方法によって得られる。すなわちまず第３図（、
）のように基板４の上に膜厚１０００ Ｘ以下のめっき
下地用導電性金属膜、５をス・５ツタ法で付着する。次
に第３図（ｂ）に示すようにフォトレジストパターン６
を形成する。この時露光または現像を過剰に行なうこと
により図に示すようにパターンの側面は基板に垂直では
なくなシ丸みを帯びる。
ような方法によって得られる。すなわちまず第３図（、
）のように基板４の上に膜厚１０００ Ｘ以下のめっき
下地用導電性金属膜、５をス・５ツタ法で付着する。次
に第３図（ｂ）に示すようにフォトレジストパターン６
を形成する。この時露光または現像を過剰に行なうこと
により図に示すようにパターンの側面は基板に垂直では
なくなシ丸みを帯びる。
さらに電気めっきによＦ） ＮｉＦｅ膜７を付着すると
パターン６．６にはさまれたＮｉＦｅ膜７の側面と基板
面のなす角は鋭角になる。フォトレジストパターン６が
十分に丸みを帯びている場合にはその角θを６０°以下
にすることができる。レジストノやター７６およびレジ
ストノやターン６．６の外側１の不要のＮｉＦｅ膜７′
全７′チング等で除去することにより第３図（ｄ）のよ
うに所望の磁性膜片８が得られる。
パターン６．６にはさまれたＮｉＦｅ膜７の側面と基板
面のなす角は鋭角になる。フォトレジストパターン６が
十分に丸みを帯びている場合にはその角θを６０°以下
にすることができる。レジストノやター７６およびレジ
ストノやターン６．６の外側１の不要のＮｉＦｅ膜７′
全７′チング等で除去することにより第３図（ｄ）のよ
うに所望の磁性膜片８が得られる。
磁性膜片の端部に還流磁区が生じない場合に発生する磁
荷の密度は、側面と底面のなす角度をθとするとｓｉｎ
θに比例する。したがってθが小さいほど、磁荷による
影響が小さくなシ、その結果磁性膜に適度の磁気異方性
を持たせること例より、容易に還流磁区を消失させるか
または小さくすることが可能になる。
荷の密度は、側面と底面のなす角度をθとするとｓｉｎ
θに比例する。したがってθが小さいほど、磁荷による
影響が小さくなシ、その結果磁性膜に適度の磁気異方性
を持たせること例より、容易に還流磁区を消失させるか
または小さくすることが可能になる。
第４図に本発明の他の実施例を示す。第４図は垂直磁気
記録用主磁極を媒体対向面から見た図である。この場合
は磁性膜片２０の上面２１０面積を下面２２の面積よシ
も小さくすることによシ磁荷てよるエネルギーを小さく
している。本実施例では磁性膜片２０の側面の傾斜方向
は前実施例とは逆方向であるが、その立上シ角度は３０
°〜６０°の範囲内に設定されている。このような主磁
極は、いったん側面と、底面とが垂直な・ぐターンを形
成した後に、フォトレジスト等のなだらかな傾斜を持つ
マスクを用いてイオンミリングを行なうことにより形成
することができる。
記録用主磁極を媒体対向面から見た図である。この場合
は磁性膜片２０の上面２１０面積を下面２２の面積よシ
も小さくすることによシ磁荷てよるエネルギーを小さく
している。本実施例では磁性膜片２０の側面の傾斜方向
は前実施例とは逆方向であるが、その立上シ角度は３０
°〜６０°の範囲内に設定されている。このような主磁
極は、いったん側面と、底面とが垂直な・ぐターンを形
成した後に、フォトレジスト等のなだらかな傾斜を持つ
マスクを用いてイオンミリングを行なうことにより形成
することができる。
以上説明したように本発明は磁性膜片の側面の立上り角
度を３０°〜６０°に設定することにより還流磁区を小
さくあるいはまったくなくして磁気ヘッドの効率を高め
ることができる効果を有するものである。
度を３０°〜６０°に設定することにより還流磁区を小
さくあるいはまったくなくして磁気ヘッドの効率を高め
ることができる効果を有するものである。
第１図は本発明の磁極の一実施例を記録媒体から見た図
、第２図は従来の磁極を示す図、第３図（，１〜（ｄ）
は本発明の磁極の製造工程の一例を示す図、第４図は本
発明の磁極の他の実施例を示す図である。 １・・・下磁極、２・・・上磁極、８，２０・・・磁性
膜片、１１・・・側面、θ・・・側面の立上シ角 特許出願人 日本電気株式会社 １．／乙：＋ 代理人 弁理士菅野 中１．・−＼、ｊ゛−５〜゛ 第２図 （ｄ） 第３図 第４図
、第２図は従来の磁極を示す図、第３図（，１〜（ｄ）
は本発明の磁極の製造工程の一例を示す図、第４図は本
発明の磁極の他の実施例を示す図である。 １・・・下磁極、２・・・上磁極、８，２０・・・磁性
膜片、１１・・・側面、θ・・・側面の立上シ角 特許出願人 日本電気株式会社 １．／乙：＋ 代理人 弁理士菅野 中１．・−＼、ｊ゛−５〜゛ 第２図 （ｄ） 第３図 第４図
Claims (1)
- （１）少なくとも１枚の磁性膜片を基板面上に有する薄
膜磁気ヘッドにおいて上記基板面に対する前記磁性膜片
の側面の立上り角が３０°以上６０°以下であることを
特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15745385A JPS6218612A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15745385A JPS6218612A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6218612A true JPS6218612A (ja) | 1987-01-27 |
Family
ID=15649987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15745385A Pending JPS6218612A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6218612A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4887815A (ja) * | 1972-02-21 | 1973-11-17 | ||
| JPS5497546A (en) * | 1978-01-20 | 1979-08-01 | Fujitsu Ltd | Etching method of permalloy thin layer |
| JPS57204111A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-14 | Hitachi Ltd | Forming method for magnetic thin-film pattern |
-
1985
- 1985-07-17 JP JP15745385A patent/JPS6218612A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4887815A (ja) * | 1972-02-21 | 1973-11-17 | ||
| JPS5497546A (en) * | 1978-01-20 | 1979-08-01 | Fujitsu Ltd | Etching method of permalloy thin layer |
| JPS57204111A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-14 | Hitachi Ltd | Forming method for magnetic thin-film pattern |
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