JPS62181284A - 新規なセフアロスポリン類およびその塩 - Google Patents

新規なセフアロスポリン類およびその塩

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JPS62181284A
JPS62181284A JP61022146A JP2214686A JPS62181284A JP S62181284 A JPS62181284 A JP S62181284A JP 61022146 A JP61022146 A JP 61022146A JP 2214686 A JP2214686 A JP 2214686A JP S62181284 A JPS62181284 A JP S62181284A
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吉田 長作
Kiyoshi Tanaka
田仲 清
Tetsuo Santo
山藤 哲夫
Miwako Komatsu
小松 美和子
Sumiko Kishimoto
岸本 寿美子
Yasuo Watanabe
泰雄 渡辺
Masaru Tai
田井 賢
Isamu Saikawa
才川 勇
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、セファロスポリン類、さらに詳細にはつぎの
一般式 で表わされる新規なセファロスポリン類およびその塩に
関するものでおる。
[従来の技術] 従来、セファロスポリン類の3位に種々の基を導入し、
広範囲な抗菌スペクトルを有する侵たは低級アルキル基
を;環Aはイミダゾール環の窒素原子および炭素原子を
共有し、ざらに窒素原子、酸素原子および硫黄原子から
選ばれる少なくとも1つの異項原子を含有していてもよ
い複素環を示す。)で表わされる縮合複素環式基を有す
るセファロスポリン類については知られていない。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明の目的は、広範囲な抗菌スペクトル、すなわち、
ダラム陽性菌およびダラム陰性菌に対して優れた抗菌活
性を示し、特にペニシリンおよびセファロスポリン耐性
菌にも優れた抗菌活性を発揮するとともに低毒性で、人
および動物に対する医薬として有用な新規化合物を提供
することにある。ざらには、本発明の他の目的は、一般
式[I]で表わされる化合物の中間体として有用な化合
物を提供することにおる。
[問題点を解決するための手段] 本発明者らは、上記目的を満足するための化(式中、R
4は水素原子または低級アルキル基を;環Aはイミダゾ
ール環の窒素原子および炭素原子を共有し、ざらに窒素
原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも
1つの異項原子を含有していてもよい複素環を示す。)
で表わされる縮合複素環式基を有するところに構造上の
特徴を有する一般式[I]の化合物およびその塩を見出
し、本発明を完成するに至った。
以下、本発明の詳細な説明する。
なお、本明細書において特にことわらない限り、アルキ
ルとは、たとえば、メチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec、−ブチ
ル、tert、−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ドデシルなどの直鎖または分枝鎖状01
〜14アルキルを;アルキルオキシとは、−〇−アルキ
ルを;アルアルキルとは、たとえば、ベンジル、フェネ
チル、4−メチルベンジル、ナフチルメチルなどを;ア
ルアルキルオキシとは、−0−アルアルキルを;アリー
ルとは、たとえば、フェニル、ナフチル、インダニルな
どを;アルキルオキシカルボニルとは、−COO−アル
キル基を;およびハロゲン原子とは、フッ素、塩素、臭
素またはヨウ素原子などをそれぞれ意味する。また、低
級とは、炭素原子数1〜5を意味りる。
以下、 R2式[I]の化合物を詳細に説明する。
Rにおけるアミン保護基あよひR3におけるカルホキシ
ル保護阜としては、通常知られている保護基か挙げられ
、具体的には、プロテクティブ・グルレーブス・イン・
オーカニツク・シンセシス[Protective G
roups in organicSynthesis
] (セオドラ・ダブリュー・グリーン[Theodo
ra W、Greenl ;ジョン・ウィリー・アンド
・サンズ、インコーポレイティッド[JOhnWile
y & 5onsjnc、])および]特公昭60−5
2755などに記載された各保護基が挙げられる。
また、R1におけるアシル基としては、モノラクタム、
ペニシリンおよびセファ0スポリン分野で通常使用され
ているアシル基が挙げられ、たとえば、α−アミノ−α
−フェニルアセチル、α−フェニルアセチル、α−フェ
ノキシアセチル、α−(2−チェニル)アセチル、α−
カルボキシ−α−フェニルアセチル、α−(1−テトラ
ゾリル)アセチル、α−シアンメチルチオアセチル、α
−(2−カルホキシエヂル)ヂオアはチル、α−ヒドロ
キシ−α−フェニルアセチ2し、α−ヒドロキシアセチ
ル、α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ビペラ
シノ力ルポニルアミノ)−α−(4−ヒドロキシフェニ
ル)アセチル、α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジノカルボニ!レアミノ〉−α−(3,4−
ジヒドロキシフェニル)アセチル、α−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボニルアミノ)
−α−フェニルアセチル、α−(4−エチル−2,3−
ジオキソ−1−ピペラジノカルボニルアミノ)−α−(
3,4−ジアセトキシフェニル)アセチル、(式中、R
5は水素原子または置換されていてもよい脂肪族炭化水
素基を示し、脂肪族炭化水素基およびその置換基として
は、特開昭53−137988号、特開昭54−132
593号などに記載された該脂肪族炭化水素基および置
換基が挙げられる。:〜はシンもしくはアンチ異性体ま
たはそれらの混合物を示す。)で表わまたは低級アルキ
ル基を;環Aはイミダゾール環の窒素原子および炭素原
子を共有し、ざらに窒素原子、酸素原子および硫黄原子
から選ばれる少なくとも1つの異項原子を含有していて
もよい複素環を示す。)で表わされる縮合複索環式基を
示すが、環へとしては、具体的には、ピリジン環、ピリ
ミジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアジン環、
ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾー
ル環、オキサゾール環、チアジアゾール環、オキサジア
ゾール環、チアゾリン環、オキサゾリン環、ピペリジン
環などの含窒素5員または6員複素環;インドール環、
イソインドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリ
ン環などの含窒素縮合複素環などが挙げられる。ざらに
、上記で示した環へは置換されていてもよく、その置換
基としては、アルキル基、アルアルキル基、アリール基
、アルキルオキシ基、アルアルキルオキシ基、アルキル
オキシカルボニル基、アミン基、ヒドロキシル基、スル
ホ基、カルボキシル基などか挙げられ、環へは上記の1
つまたは2つ以上の置換基で置換されていてもよい。ま
た、該置換基のうちアミノ基、ヒドロキシル基およびカ
ルボキシル基は前述したプロテクティブ・グループス・
イン・オーガニック・シンセシス[Protectiv
e Groups in Organic 5ynth
esislおよび特公昭60−52755号などに記載
された各保護基で保護されていてもよい。
また、一般式CI]の化合物の塩としては、塩基性基ま
たは酸性基における塩を挙げることができる。塩基性基
における塩としては、たとえば、塩酸、臭化水素義、硫
酸などの鉱酸との塩;ギ駿、トリクロロ酢酸、トリフル
オロ酢酸などの有芸カルボン酸との塩;メタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン醒、トルエン−4−スルホン鼠、
メシチレンスルホン酸、ナフタレン−2−スルホン酸、
ナフタレン−1,5−ジスルホン酸などのスルホン酸類
との塩を、また潴性基における塩としては、たとえば、
ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩;トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリエチルアミン、
ピリジン、N、N−ジメチルアニリン、N−メチルピペ
リジン、N−メチルモルホリンなどの含窒素有機塩基と
の塩を挙げることができる。
本発明は、一般式[1]の化合物またはその塩の異性体
、水和物並びに種々の結晶形をも包含するものである。
つぎに、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、たとえば、つぎの製造ルートに従って
製造することかできる。
(以下余白) /・′ 7・′ /′ 一般式[Ia ]、[Ib ]、[IC]、[、II]
  、 [I[I]  、 [IV]  、 [V] 
 、 [VI コ 、[VI ]、[■]、[IX]お
よび[X]の化合物の塩としては、一般式[I]の化合
物の塩として説明したと同様の塩が挙げられる。
(1)ハロゲン化 一般式[II]の化合物またはその塩を溶媒の存在下ハ
ロゲン化することにより、一般式[111]の化合物ま
たはその塩を得ることができる。ハロゲン化剤としては
、通常、ケトンのα位のハロゲン化に用いられるハロゲ
ン化剤が挙げられ、具体的には、塩素、臭素、N−クロ
ロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、N−ブ
ロモアセトアミド、スルフリルクロリド、塩化第二銅、
臭化第二銅、ヨウ化ベンゼンジクロリド、2−ピロリド
ンハイドロトリプロミド、5.5−ジブロモ−2,2−
ジメチル−4,6−シオキソー1,3−ジオキサン、ピ
リジンハイドロトリプロミド、テトラメチルアンモニウ
ムトリプロミド、2−カルポキシエチルトリフ工二ルホ
スホニウム・パープロミドなどが挙げられる。この反応
に用いられる溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれ
ば特に限定されることなく使用でき、たとえば、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン
、ジエチルエーテルなどのエーテル類;エタノールなど
のアルコール類:塩化メチレン、クロロホルム、四塩化
炭素などのハロゲン化炭化水素類;トルエンなどの芳香
族炭化水素類;酢酸などの有機カルボン酸類などが挙げ
られる。上記した溶媒は二種以上を混合して用いること
もできる。ハロゲン化剤の使用量は、一般式[II]の
化合物またはその塩に対して通常1〜10倍モルでおる
。また、反応を円滑に進行させるために必要に応じ、塩
化水素、臭化水素などの酸および/またはピリジンなど
の塩基を加えることもできる。
このハロゲン化は、通常−20〜80’C1好ましくは
10〜60℃で、10分〜120時間実施すればよい。
また、本発明で用いられる一般式[1]の化合物または
その塩は、たとえば、特開昭51−82291号などに
記載の方法またはそれに準じた方法によって製造するこ
とができる。
(2) 閉環 一般式[111]の化合物またはその塩に、溶媒の存在
下、一般式[X]の化合物またはその塩を反応させるこ
とにより、一般式[IV]の化合物またはその塩を得る
ことができる。
この反応は、ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・
ケミストリー[J、Heterocycl、Chem、
 ]第22巻第287頁(1965年)またはプラクテ
カル・ヘテロサイクリック・ケミストリー[Pract
ical Heterocyclic Chemist
rylアカデミツク プレス[ACademiCPre
SS]第132頁(1968年)に記載の方法に準じて
行うこともできるが、具体的には、以下の方法によって
行うことができる。
この反応に用いられる溶媒としては、反応に不活性な溶
媒であれば特に限定されることなく使用でき、たとえば
、水;テトラヒドロフラン、1.2−ジメトキシエタン
、ジエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類;塩
化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンな
どのハロゲン化炭化水素類:メタノール、エタノール、
イソプロパツール、tert、−ブタノール、エチレン
グリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルな
どのアルコールWfi:N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;アセ
トニトリルなどのニトリル類;ベンゼン、トルエンなど
の芳香族炭化水素類:ニトロメタンなどのニトロアルカ
ン類;酢酸エチルなどのエステル類;アセトン、メチル
イソブチルケトンなどのケトン類:酢酸などの有機カル
ボン酸類などが挙げられる。上記した溶媒は二種以上を
混合して用いることもできる。この反応は塩基の存在下
に行うことができる。ここで用いることのできる塩基と
しては、たとえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムなどの炭酸水素アルカリ:炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムなどの炭酸アルカリなどの無機塩基;トリエチル
アミン、トリブチルアミン、N、N−ジエチルアニリン
、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、ルチ
ジン、コリジン、1,5−ジアザビシクロ[4,3゜O
]フラン5−エン、]、]4−ジアザビシクロ2,2.
2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,O]
ラウンカ−7−エンなどの第三級アミン類が挙げられる
。また、この反応は、プロピレンオキシド、ブチレンオ
キシドなどのアルキレンオキシドの存在下に行うことも
できる。ざらに、この反応は、脱水剤の存在下に行うこ
ともできる。ここで用いられる脱水剤としては、たとえ
ば、モレキュラーシーブ、無水硫酸マグネシウム、硫酸
ナトリウム、塩化カルシウムなどが挙げられる。
一般式[X]の化合物またはその塩の使用量は、一般式
[I11]の化合物またはその塩に対して等モル以上、
好ましくは1〜2倍モルである。
この閉環反応は、通常O〜150℃で、5分〜100時
間実施すればよい。
(3)酸化および還元 一般式[IV]または[VI[]の化合物もしくはそれ
らの塩をセフ10スポリン分野で通常用いられる酸化反
応に付すことにより、それぞれ一般式[VIまたは[■
]の化合物もしくはそれらの塩を得、ついで、セファ0
スポリン分野で通常用いられる還元反応に付すことによ
り、それぞれ一般式[Ia ]または[IC]もしくは
それらの塩を得ることができる。これらの反応は、ジャ
ーナル・オブ・ジ・オーガニック・ケミストリー(J、
 Orc+、 Chem、 )第34巻、第2430頁
(1970年)、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソ
サエティ(J、 Chem、 Soc、 )第1142
頁(1966年)、特開昭52−48683号などに記
載の方法またはそれに準じた方法によって行うことがで
きる。
(4)説アシル化、アミノ保護基の脱離−4設式[1v
]または[Ia ]の化合物もしくはそれらの塩を脱ア
シル化反応に付すことにより、一般式[VI]または[
より ]の化合物もしくはそれらの塩を得ることができ
る。具体的には、一般式[IVlまたは[Ia Eの化
合物もしくはそれらの塩を五塩化リンなどのハロゲン化
剤と反応させてイミノハライド化し、ついで、アルコー
ルと反応させてイミノエーテルとした後、これを加水分
解することにより、一般式[VI]または[Ib ]の
7−アミノ体またはそれらの塩へ誘導することができる
。ざらに具体的には、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル
・ソサエティ(J、 Chem、 Soc、 )第83
巻、第320頁(1903年)、カナダ特許第7701
25号、英国特許1041985号、特公昭45−40
899号および特公昭49−40479号などに記載の
方法またはそれに準じた方法にょつて、一般式[VI]
または[より ]の7−アミン体またはそれらの塩を得
ることができる。また、アミン保護基の脱離は、通常用
いられるアミン保護基の脱離反応に付すことによって行
われる。
(5)アシル化 一般式[VI]または[Ib ]の化合物もしくはそれ
らの塩またはそれらの反応性誘導体に溶媒の存在下、一
般式[IX]の化合物またはその塩もしくはそれらの反
応性誘導体を反応させることにより、一般式[VI[]
または[工C]の化合物もしくはそれらの塩を得ること
ができる。
一般式[IX]の化合物の反応性g9体としては、特開
昭59−93085号などに記載の酸ハロゲン化物、酸
無水物、混合酸無水物、活性酸アミド、活性エステル、
活性チオロエステル、酸アジドおよび一般式[IX]の
化合物とビルスマイヤー(Vi Ismeier)試薬
との反応性誘導体などが挙げられる。また、一般式[V
I]または[Itl ]の化合物の反応性誘導体として
は、たとえば、 (C113)3Si−、(CH3)2 Siぐ、(CH
3)2 [(CH3)2CH]Si−。
(CH30)3 Si−、CH3(CH30hS!−、
(CH3)2(CH30)Sl−などの有機シリル基、
または、(CH30)2P−。
などの有機リン基が反応部位であるH2 N−に結合し
た化合物などが挙げられる。このアシル化に用いられる
溶媒としては、閉環反応で説明したと同様の溶媒が用い
られる。また、この反応は塩基の存在下に行うことがで
きる。使用される塩基としては、閉環反応で説明したと
同様の塩基が用いられる。
一般式[IX]の化合物を遊@酸または含窒県有+a塩
基との塩の状態で使用する場合は、適当な縮合剤を用い
る。このような縮合剤としては、たとえば、N、N−−
ジシクロヘキシルカルボジイミド ドが用いられる。
一般式[IX]の化合物もしくはその塩またはその反応
性誘導体の使用量は、一般式[VI]または[Ib ]
の化合物もしくはそれらの塩またはそれらの反応性誘導
体に対してそれぞれ0、9倍モル以上、好ましくは0.
9〜1.5倍モルである。
このアシル化は、通常−50〜80°Cで、5分〜30
時間実施すればよい。
以上説明した各工程において、一般式 %式% [] [IX]および[X]の化合物に異性体などが存在する
場合、通常の方法で、分離および精製することかでき、
ざらに、通常の方法で保1mの導入、脱離ざらに塩への
変換などを行うことができる。
また、酸化および還元を行わずに△2体からΔ 体へ異
性化を行う場合、Δ2体に有)幾溶媒の存在下、アシル
化で説明したと同様の塩基を作用させることにより平衡
反応を利用しΔ3体へ変換することができる。
本発明の一般式[I]の化合物またはその塩は、人およ
び動物に経口的または非経口的に供しうる。人および動
物に投与する場合、通常ペニシリンおよびセファ0スポ
リン系薬剤に適用されている剤形、たとえば、錠剤、カ
プセル剤、シロップ剤、注射剤、学則なとの形に調製さ
れ、経口的または非経口的投与方法が適用される。
その投与量は患者の症状に応じて適宜選択されるが、一
般に成人において1 mg〜200zy/匈/日(好ま
しくは2m9〜100m’j/に’j1日)の量を1回
〜数回に分けて投与すればよい。
[発明の効果] つぎに本発明における代表的化合物の薬理効果を説明す
る。
1、抗菌力 グラム陰性菌およびグラム陰性菌の代表的細菌に対する
最小発育阻止濃度(MIC:JJ!J/rail”)に
ついて、日本化学療法学会標準法[ケモセラピ−(CH
EMOTHERAPY)第29巻、第1@、第76〜7
9頁(1981年)]に基づいて実験を行った。ペプト
ン 10ス(Peptone Broth)(栄研化学
社製)で37℃、20時間培養した菌液を薬剤を含むハ
ート インフュージョンアガー(Heart Infu
SiOn agar)培地(栄研化学社製)に接種し、
37°Cで20時間培養した後、菌の発育の有無を観察
し、菌の発育が阻止された最小濃度をもってM I C
(IJ9/d)とした。
ただし、接種菌量は104個/プレート(106個/戴
)とした。
その結果を表−1に示す。
(以下余白) 試験化合物 *;トリフルオロ酢酸塩の代わりにナトリウム塩を用い
た。
表−1抗菌作用 MIC(i/d) 注) * ペニシリネース産生菌 ** セファ0スポリネース産生菌 3、急性毒性試験 前記の試験化合物No、A、B、CおよびDのマウス(
ICR系、♂、体重18〜24g)静脈内投与における
しD50値は3000mg/KE!以上であった。
[実施例] つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。また、
参考例および実施例で使用する略語はつぎの意味を有す
る。
Me;メチル基、φ;フェニル基、Tr;トリフェニル
メチル基、TEA;トリフルオロ酢酸、THF:テトラ
ヒドロフラン、Et3Nニトリエチルアミン、DMSO
ニジメチルスルホキサイド参考例参 考−1セチル−7−フェニルアセトアミド−Δ2−セフ
ェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル14.
9gをテトラヒドロフラン150rn1に溶解させ、2
−ピロリドンハイドロトリプロミド16.9gを加え、
40〜45℃で12時間反応させる。反応液を酢酸エチ
ル300dおよび水300戒の混合液中へ投入した後、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でDH2,0に調整する
。有機層を分取し、水200dおよび飽和食塩水200
dで順次洗浄する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物に再び酢酸エチル60dを加え、析出晶を濾取すれ
ば、3−ブロモアセチル−7−フェニルアセトアミド−
Δ2−セフェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル10.5g(収率61.2%)を得る。また、得ら
れた濾液をカラムクロマトグラフィー[和光シリカゲル
C−200、溶離液;トルエン:酢酸エチル=10:1
(容量比)コで精製すれば、ざらに3−ブロモアセチル
−7−フェニルアセトアミド−Δ2−セフェムー4−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル1.3g(収率7.
6%)を得る。
融点:  182.5〜184°C IR(KI3r) cm−1;νco  1790,1
735,1680,1660IR(CH2C12) c
m−1ニジC017B0,1740.1680゜NHR
(CDCI3 )δ値; 3.54(2M、s)、4.00(2H,s)、4.9
5(1H,d、J=5Hz)。
5、35 (111,dd、 J=5Hz、 J=8H
z) 、 5.55 (1H,s)、 6.70〜6.
85 (2M、m)、7.25(15N、S)、7.5
7(IH,S)実施例1 3−ブロモアセチル−7−フェニルアセトアミド−Δ2
−セフェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
2.0gをN、N−ジメチルホルムアミド10mに溶解
させ、氷冷下、2−アミノピリジン600■を加え、1
.5時間反応させる。
ついで、反応液を酢酸エチル30mおよび水30dの混
合液に投入し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7
,5に調整する。有機層を分取し、水20mおよび飽和
食塩水20m1で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をカラムクロマトグラフィー[キーゼルゲル60、ア
ート。
7734、メルク社製、溶離液;クロロホルム:アセト
ン=20:1(容量比)]で精製すれば、融点187℃
(分解)を示す3−(イミダゾ[1゜2−a]ピリジン
−2−イル)−7−フェニルアセトアミド−Δ2−セフ
ェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル1.6
Q(収率76.9%)を得る。
IR(にBr) cm−1: νc0 1770,17
35.166ONMR(CDCI3 )δ値; 3、57(2H,S)、 5.25(18,d、J=5
H2)、5.46(IH,S)。
5.55 (IH,dd、J=5Hz、J=8Hz)、
6.45〜6.80(2H。
m)、 6.92〜7.35(19ti、m)、7.5
2〜7.72(2tl、m)同様にして、表−2に記載
の原料を用いて、対応する表−2の目的化合物を得る。
(注: *1  (KBr)cm−1ニジCO*2  
(CH2CI2 ) cm−’I ;νc。
*3  (d6−DH3O)δ値 *4  (CDCI  )δ値  ) 実施例2 3−(8−ヒドロキシ−イミダゾ[1,2−ミコピリジ
ン−2−イル)−7−フェニルアセトアミド−Δ2−セ
フェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル50
0Iff、炭酸カリウム120my、メチルヨーシト0
.06m1およびN、N−ジメチルホルムアミド5威の
混合液を室温で7時間反応させる。ついで、反応液を酢
酸エチル30m1および水30dの混合液中へ投入し、
6N−塩酸でpl−12,0に調整する。有機層を分取
し、水20戒および飽和食塩水20rnI!で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に
溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー[キーセルゲル60.アート、7734、メルク社
製、溶離液;トルエン:酢酸エチル=4:1(容量比)
]で精製すれば、融点203〜204℃(分解)を示す
3−(8−メトキシ−イミダゾ[1,2−aコピリジン
−2−イル)−7−フェニルアセトアミド−Δ2−セフ
ェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル250
1r1g(収率49.0%)を得る。
(KBr)  cm−1;  νco   t770,
1740.166ONMR(CDCl2)δ値: 3、82(2H,s)、 3.98(3H,s)、 5
.24(IH,d、J=4Hz)。
5、43(tH,s) 、 5.54(IH,dd、 
J=411z、 J=8Hz) 、 6.16〜1.4
4(22H,m) 実施例3 3−(イミダゾ[1,2−ミコピリジン−2−イル)−
7−フェニルアセトアミド−Δ2−セフェムー4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル2、1gを塩化メチレ
ン30mlに溶解させ、水冷下、m−クロロ過安息香酸
(純度80%)1.OQを加え、同温度で30分間反応
させる。5%チオ硫酸ナトリウム水溶液20d、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液20d、水20dおよび飽和食
塩水30miで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー[キーゼルゲル60、アー
ト、7734、メルク社製、溶離液:クロロホルム:ア
セトン=5:1(容量比)コで精製すれば、融点202
°C(分解)を示す3−(イミダゾ[1.2−ミコピリ
ジン−2−イル)−7−フェニルアセトアミド−Δ3ー
セフェムー4ーカルボン酸ジフェニルメチルエステル−
1−オキシド1.70(収率78.7%)を得る。
IR(KBr) Cm−1 ニジco  1.7B0,
1730.1660同様にして、つぎの化合物を得る。
ハ 融点;219〜220℃(分解) IR(KBr) cm−1 ;νco  1770,1
720.165011+1 融点;220”C以上 IR(にBr) 、1−171−1 ニジC0  17
B0,1725.1700(Sh)融点:211〜21
2°C(分解) 融点;235〜237℃(分解) IR(KBr) cm−1 ;νco  1770,1
735.1680融点:221〜223℃(分解) IR(K[Sr) cm−1 ニジCo  1γ75,
 1730. 1670融点:178〜180’C(分
解) IR(KI3r) cm−1 ;νCo  1775,
1725.1670融点;211〜212℃(分解) IR(KBr) cm−1 ニジco  1770,1
720.1640融点;195〜198°C(分解) IR(KI3r) cm−1: νc0 1785,1
720.1670(Sh)。
1月 融点;210〜212℃(分解) IR(にBr) cm−1; νC01780,172
0,1650,1620融点;203〜204°C(分
解) IR(KBr) cm−1: νco  1780,1
725.1670IR(にBr) cm−1: νC0
1780,1720,1695,1655融点:192
〜193℃(分解) IR(KBr) crn−1: νco  1780,
1725.1660融点;184〜187℃(分解) IR(KBr) cm−1ニジco  1770,17
20.1650融点;250℃以上 IR(にBr)cm−1;νco  1780,172
0.1660融点;141℃(分解) IR(にBr) cm−1;νco  1785,17
25.1660IR(にBr) cm−1;νco  
1780,1720.1665融点;203〜204℃
(分解) IR(にBr) cm−1; νco  1775,1
720.1660実施例4 3−(イミダゾ[1,2−aコピリジン−2−イル)−
7−フェニルアセトアミド−Δ3−セフェムー4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−ムアミド5威に溶解
させ、−30℃で三塩化リン0、99mを滴下し、同温
度で10分間反応させる。ついで、反応液を塩化メチレ
ン20mおよび水20成の混合液中へ飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液でpH7.0に調整しながら投入する。有
機層を分取し、水20Inlおよび飽和食塩水20威で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー[キーゼルゲル60、アート、7734、
メルク社製、溶離液:トルエン:酢酸エチル=5:1(
容量比)]で精製すれば、融点206℃(分解)を示す
3−(イミダゾ[1.2−ミコピリジン−2−イル)−
7−フェニルアセトアミド−Δ3ーセフェムー4ーカル
ボン酸ジフェニルメチルエステル880my(収率64
、5%)を得る。
IR(KBr) cm−1ニジco  1770,17
35.1665同様にして、つぎの化合物を得る。
融点:198〜200℃(分解) IR(にBr) cm−1 ;νco  1770,1
725.1650八− 融点;148〜152℃ 融点:180〜182℃(分解) IR(にBr) cm−1 ; νco  17B5,
1725.1680(sh)。
融点;230〜234°C(分解) IR(KBr) cm−1; vco  1770,1
735.1650融点:131〜134℃ IR(K[3r’) cm−1: vco  1770
,1720.1660融点;143〜150℃ IR(にBr) cm−1; νC01765,172
0,1670融点;213〜215℃(分解) IR(にBr) cm−1; vco  1770,1
735.1650融点;203〜204℃(分解) If?(KB’r) cm−1; vco  1780
.1740.1650融点;196〜198°C IR(KBr) cm−1ニジco  1770,17
20.1650融点:194〜198℃(分解) IR(KBr) cm−1; vco  1765,1
725.1660融点;218〜220℃(分解) 融点;209〜211℃(分解) IR(にBr) cm−1: vco  17B5,1
730.1650融点;200〜202℃(分解) IR(に81’) cm−1;νC01785,173
5,16E)0融点;215〜218℃(分解) IR(KBr) cm−1: νCo  1770,1
720.1660飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の代わ
りにEi3Nを用いpH調整を行った。
融点;192℃(分解) IR(にBr) cm−1;vco  1775,17
30.1655融点;203〜205℃(分解) In(KBr) cm−1ニジCo  1770,17
20.1650融点;  170’C(分解) IR(にBr) cm−1;vco  1775,17
20.1655実施例5 3−(イミダゾ[1,2−alピリジン−2−イル)−
7−フェニルアセトアミド−Δ3−セフェムー4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル140rFJおよびア
ニソール1.5戒の混合液に水冷下、トリフルオロ酢酸
1.5rdを加え、同温度で1時間反応させる。ついで
、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチル
10蛇を加え、析出品を濾取すれば、融点241℃(分
解)を示す3−(イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2
−イル)−7−フェニルアセトアミド−Δ3−セフェム
ー4−カルボン酸95mrj(収率94.1%)を得る
IR(にBr)cm−1;vco  1775,170
5.1655NHR(d6−DH3O)δ値: 3.62(2H,s)、4.00(2H,bs)、5.
30(IH,d、J=5Hz)。
5、88(1H,dd、 J=5Hz、 J=9Hz)
 、 7.30(611,m)、 7.70〜7.a5
(2N、m)、8.34(1N、s)、8.88(1t
l、d、J=7Hz)。
9、27(IH,d、 J=9Hz) 、 11.4(
IH,bs)同様にして、つどの化合物を得る。
(注: ” (d6−DH30)δ値;)融点;228
〜229℃(分解) IR(−KBr)  cmご1 ; νco   17
70.1680(sh)、165ONHf?*  2.
50(3N、S)、3.55(21−1,S)、3.7
8(IH,d、J=18Hz) 、 3.86(IH,
bs) 、 3.97(IH,d、 J=18Hz) 
、 5.16(IN。
d、 J=5Hz)、 5.65(IH,dd、 J=
5Hz、 J=8Hz)、 6.87(IH。
dd、 J=6Hz、 J=8Hz) 、 7.15 
(IH,d、 J=8Hz) 、 7.24(5H。
s)、 8.03(IH,s)、 8.35 (IH,
d、 J=6H2) 、 9.05 (IH,d。
融点;183〜188℃(分解) IR(にBr)cm−1;νco  1775,172
5.1685NHR*  3.57(2H,s)、3.
70(IH,d、J=17Hz)、4.09(IH。
d、 J=17H2) 、 5.15 (IH,d、 
J=4H2)、 5.35 (IH,bS) 。
5.69(IH,dd、J=4hz、J=8Hz)、6
.50(IH,d、J=7Hz)。
7.25(6H,S)、7.92(IH,S)、9.1
5(1H,d、J=8H2)。
融点;208〜210’C(分解) IR(KBr) crnl ;νCo  1770,1
700(Sh)、165ON)fR*  2,28(3
H,s)、3.56(2N、s)、3.65(IH,d
、J=18tlz)、 4.02(IH,d、 J=1
8Hz)、 5. t5(IH,d、 J=5Hz)。
5.40〜5.90(4H,m)、 7.25(5H,
s)、 7.67(11,s)。
融点;214〜217℃(分解) IR(KBr) cm−1: νco  1765,1
715.165ONHR*  2.47(3H,S)、
2.57(3N、S)、3.55(2H,S)。
3、67(IH,d、 J=18Hz) 、 3.71
 (1N、 bs) 、 4.10(IH,d、 J=
18Hz)、 5.17(IH,d、 J=5Hz)、
 5.70(1H,dd、 J=5Hz、 J=8Hz
) 、 7.24 (51,s) 、 8.18(IH
,s)、 9.05 (IH,d、 J=8Hz)融点
;178〜180℃(分解) IR(KBr) cm−1; νC01765,170
0(sh)、165ON)lR*  3.55(2H,
s)、3.67(IH,d、J=18Hz)、3.95
(IH。
d、J=18Hz)、4.70(1M、bs)、5.1
3(IH,d、J=5Hz)。
5、63(IH,dd、 J=5Hz、 J=8Hz)
 、 7.25 (6H,s) 、 7.82〜7、8
9(2H,m) 、 8.98(IH,d、 J=8H
z)融点;178〜181℃(分解) IR(KBr) cm−1ニジCo  1760,16
80(Sh)、164ONMR*3.40〜4.35(
8H,m)、5.06(IH,d、J=5Hz)。
5、57(IH,dd、 J=5Hz、 J=8Hz)
 、 7.20(511,s)、 7.46(IH。
S)、8.07(1N、bS)、8.88(IH,d、
J=8H2)融点;202〜204°C(分解) IR(KBr) cm−1ニジco  17B5,16
80.165ON)IR*  2.70(3H,s)、
3.53(2H,s)、3.65(IH,d、J=19
H2) 、 3.97(IH,d、 J=19Hz) 
、 5.10(IH,d、 J=4Hz) 。
5、65 rIH,dd、 J=4Hz、 J=9Hz
)、 7.24 (5H,s)、 8.17(IH。
s)、9.02(IH,d、J=9H2)融点;176
〜180℃(分解) IR(にBr) cm−1; νco  1770,1
700.164ONHR*  3.57(2H,s)、
3.76(IH,d、J=17Hz)、4.10(Il
l。
d、J=17Hz)、5.21(IH,d、J=5Hz
)、5.35〜5.90(2H。
m)、7.02〜7.50(6H,m)、8.06(1
M、s)、8.57(IH,m)。
8、97(IH,m) 、 9.17(IH,d、 J
=8Hz)νL 融点;202〜205℃(分解) IR(KBr) cm−1ニジco  1770,16
50.162ONMR*  2.45(3H,S)、2
.55(3H,S)、3.56(2H,S)。
3、72(IH,d、J=18H2)、4.03(IH
,d、J=18H2)、4.40(IH,bs)、 5
.16(IH,d、 J=6H2) 、 5.62 (
1N、 dd、 J=6H2゜J=8Hz)、6.82
(111,s)、7.22(5H,s)、7.92(1
M、s)。
9、03(IH,d、 J=8H2) 融点:187〜188℃(分解) IR(KBr) cm−1; νco  1770,1
715.164ONHR*  3.55(2H,S)、
3.78(IH,d、J=18H2)、4.05〜4.
33(3H,m)、5.20(Ill、d、J=511
z)、5.72 (IH,dd、J=5H2,J=8H
2) 、 7.24(5H,s)、8.44〜8.55
(2H,m)。
9、08(IH,d、 J=8Hz) 融点:185〜190℃(分解) IR(にBr) cm−1; νco  1770,1
690,1670,165ONMR*  3.54(2
)1.S)、3.64(1)1.d、J=19)12)
、4.08(1)!。
d、 J=19Hz) 、 5.15 (IH,d、 
J=4Hz) 、 5.69(IH,dd、J=4Hz
、 J=9Hz)、 7.00(II(、s)、 7.
33 (5H,s) 、 7.52 (iff、 s)
7、85 (IH,S) 、 9.08(1H,d、J
=9H2)融点;190〜192℃(分解) ’ IR(KF5r) cm−1;νco  1765
.166ONMR*  3.53(2tl、S)、3.
73(1N、(1,J=18H2)、4.11(IN。
d、 J=18H2)、 4.55 (IH,bs) 
、 5.16(IH,d、 J=51Z) 。
5、70(IH,dd、 J=5H2,J=8Hz) 
、 7.23(5H,S) 、 7.80(IH。
d、 J=4Hz) 、 8.14(IH,s)、 8
.50(IH,d、 J=4tlz) 、 8.92(
IN、S)、9.05(1M、d、J=8H2)融点:
250℃以上 IR(KBr) cm−1ニジco  1750,16
50.160ONMR*  3.52(2H,s)、3
.67(IH,d、J=18Hz)、4.10(IH。
d、J=18H2)、5.08(IH,d、J=5H2
)、5.48(IH,dd、 J=5Hz、 J=8H
z) 、 7.23(5H,s) 、 8.03(IH
,s) 、 8.47(IH,d。
J=2Hz) 、 8.88(IH,d、 J=2Hz
) 、 8.94(1M、 d、 J=8Hz)(なお
、このナトリウム塩は得られる化合物を炭酸水素ナトリ
ウムに溶解させ、カラムクロマトグラフィー(LC−3
ORB 40−60 :ケムコ社製、溶離液10%0%
アセトニルトリル液)で処理して得られる。) 融点;180℃(分解) IR(にBr) cm−1ニジco  1780.16
50.162ONMR*  3.56(2M、s)、3
.70(IH,s)、3.78(IH,d、J=18H
2)、4.04(、IH,d、 J=18Hz)、 5
.19(ltl、 d、 J=6Hz)。
5.31(2H,S)、5.70(1N、dd、J=6
H2,J=8H2)、6.75〜6、90(2)l、 
m)、’7.25 (5H,s)、 7.38(5H,
m)、 8.08(2H。
m)、9.06(IH,d、J=8H2)融点:172
℃(分解) IR(KBr) cm−1: νco  1770,1
710.165ONMR*  3.56(2H,s)、
3.78(IH,d、J=18Hz)、3.95(1N
d、J=1811z)、 5.20(1)1. d、J
=5H2)、5.34(2H,bs)。
5、71 (IH,dd、 J=5Hz、 J=8Hz
) 、 6.80〜7.00(2tl、 m) 。
7.05〜7.35(6H,m)、8.10(IH,s
)、9.05(1H,d、J=8Hz) 融点;200〜202℃(分解) IR(KBr) cm−1: νco  1760.1
645NMR*  3.55(2H,m)、3.75(
IH,d、J=19Hz)、3.93(3H。
s) 、 4.00(IH,d、 J=19Hz) 、
 5.16(IH,d、 J=611z)、 5.30
(IH,bs)、 5.67 (IH、dd、 J=6
Hz、 J=8Hz) 、 6.65〜6.87(2H
,m) 、 7.23(−5H,s) 、 7.88〜
8.19(2H,m)、 9.03(1N。
d、 J=8H2) 実施例6 3−(イミダゾ[1,2−aコピリジン−2−イル)−
7−フェニルアセトアミド−Δ3−セフェムー4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル590mgを塩化メチ
レン107!に溶解させ、−50℃でピリジン0.10
rIdlおよび五塩化リン250myを加え、−30〜
−20℃で1時間反応させる。−50℃でメタノール1
mlを加え、1時間を要してO′Cまで昇温し、同温度
で1時間反応させる。ついで、反応液を水15m1中へ
投入し、有機層を分取する。再び、水157!を加え、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7,5に調整し、
有償層を分取する。水15威および飽和食塩水15m1
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる
。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムロマ
ドグラフィー[キーイルゲル60、アート、7734、
メルク社製、溶離液;クロロホルム:メタノール=20
:1(容量比)]で精製すれば、融点198℃(分解)
を示す7−アミノ−3−(イミダゾ[1,2−a]ピリ
ジン=2−イル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル35C)+g(収率73.8%
)を得る。
IR(K13r) cm−1ニジco  1770.1
72ONMR(CDCI3+66−DH30)δ(直;
3、62(IH,d、J=1auz)、 4.16(I
H,d、J=1auZ)、 4.83(IH,d、J=
5Hz)、5.03(IH,d、J=5H2)、6.6
5〜7.37(14H,m) 、 7.79(IH,s
)同様にして、つぎの化合物を得る。
(注; *l  (CDCl3 )δ値:$2  (d
6−DH3O)δ値;) 融点;110〜115℃ IR(KBr) cm−1ニジCo  1760,17
2ONMR*1  1.70(2H,bs)、2.47
(3H,s)、3.68(IH,d。
J=18H2)、4.17(IH,d、 J=18H2
)、4.75(1M、d、J=5H2)。
5.00(IH,d、 J=5Hz) 、 6.55 
(IH,m)、 6.76〜7.25 (13H。
融点;163〜165℃(分解) ■旧にBr) cm−1;νCo  1770,172
ONMR*1 1.83(2H,bs)、3.61(1
!l、d、J=19H2)、3.92(111,d、 
J=19Hz) 、 4.80(IH,d、 J=5H
z) 、 5.00(IH,d。
J=5Hz) 、 6.23(11,d、 J=7Hz
) 、 6.77(1H,d、 J=7Hz) 。
6、97(IH,S)、 7.15 (5H,S)、 
7.25(5H,S)、 7.43(IH。
融点;146〜147°C IR(KBr) cm−1ニジco  1770,17
30.1675NHR*1  2.20(3H,S)、
3.65(2H,S)、3.80(IH,d、J=18
Hz)、 4.05 (IH,d、 J=18Hz)、
 4.93(18,d、 J=4Hz) 。
5、03(IH,d、 J=14Hz)、 5.49(
IH,s) 、 6.85 (1H,s)。
6、96〜7.19(IOH,m) 、 7.48(1
M、 S)融点:184〜186°C(分解) IR(にBr) cm−1;νC01780,1725
NMR*2  2.43(3H,s)、2.56(3H
,s)、3.89(IH,d。
J=18Hz)、4.27(IH,d、J=18Hz)
、4.95(IH,bs)、5.20〜5.40(2H
,m)、6.80(IH,s)、6.93(5N、s)
、7.22(5M。
S) 、 8.15 (IH,S) 融点;193〜196℃(分解) IR(にBr) cm−1; νco  1780.1
72ONMR*2  3.85(IH,d、J=19H
2)、4.13(IH,d、J=19H2) 、 4.
30(2H,bs)、5.21(IH,d、J=6Hz
)、5.31(IH,d。
J=6H2)、6.83(IH,S)、7.09〜7.
28(11H,m)、7.75(IH,d、 J=4H
2) 、 7.83(IH,s)融点;128〜130
℃ IR(にBr) cm−1; νco  1760.1
72ONMR*1  1.79(2H,s)、3.35
〜4.08(6H,m) 、 4.65(1M、 d、
 J=5H2) 、 4.90(IH,d、 J=5H
2)、 6.57(111,S) 。
6、90(IH,S)、 7.20(IOH,S)融点
;105〜110’C In(KBr) cm−’I ニジco  1760.
172ONH11*1  1.69(2H,s)、2.
63(3H,s)、3.67(IH,d。
J=18Hz) 、 3.95 (IH,d、 J=1
8Hz) 、 4.77(1N、 d、 J=4Hz)
5.03(IH,d、 J=4Hz) 、 6.99(
IH,S) 、 7.10〜7.27(10+1゜m)
、 7.38(IH,5) 11?(KBr) cm−1; νco  1760.
173ONHR*2  2.00(2H,S)、3.7
0(IH,d、J=17H2)、4.08(Tti、d
、J=’17tlZ)、4.87(IH,d、J=4H
7)、5.08(IH,d。
J=4Hz)、6.80(IH,s)、6.90〜7.
50(11H,m)、7.73(1H,s)、8.38
〜8.65(2H,m)融点;160℃以上 IR(K13r) cz−1;νC01780,172
ONHR*2  4.00(IH,d、J=18Hz)
、4.30(18,d、J=18H2)、4゜53(2
H,bs)、 5.35 (IH,d、 J=5Hz)
、 5.49(IH,d。
J=5H2) 、 6.83(IH,S)、 6.98
(5H,S)、 7.28(5H,S)。
8.42〜8.53(3tl、m) 融点;150〜155℃(分解) IR(に13r) cm−1; νC01770,17
20,169ONMR*1  3.53(IH,d、J
=18H2)、3.70(2+1.bs)。
3、88C1tl、 d、 J=1911z)、 4.
80(1)1. d、 J=4Hz)、 5.05 (
IH。
d、 J=4Hz)、 6.96(IH,s) 、 7
.03(5N、 s)、 7.21 (5H,s)。
7、30(1N、 s)、 7.33(IH,s)融点
:160〜165℃(分解) 融点:160〜164℃(分解) IR(にBr) ji−1;νco  1770.17
25NHR*1  2.09(3H,S)、2.40(
3H,s)、3.56(2H,bs)。
3、79(IH,d、J=19Hz)、 4.23(i
f(、d、 J=19NZ)、4.75(IH,d、 
J=4H2)、 5.02 (IH,d、 J=4Hz
) 、 6.45(1H,m)。
6、91 (5N、 s)、 7.16(5H,s)、
 7.20(IH,s)、 7.41 (IH,m)融
点;146〜150℃ IR(K[3r) cm−1ニジco  1770.1
725融点;195°C(分解) IR(KBr) cm−1ニジC01760,1730
,161ONMR*1  1.77(2H,s)、3.
68(IH,d、J=18Hz)、4.28(IH,d
、 J=18Hz) 、 4.72(IH,d、 J=
6Hz) 、 4.96(IH,d。
J=6Hz)、 5.29(2H,s)、 6.30〜
6.42(2H,m) 、 6.92(6Hs)、7.
00〜7.35(12H,m)実施例7 2− (Z)−メトキシイミノ−2−(2−トリフェニ
ルメチルアミンチアゾール−4−イル)酢11Q300
mgをN、N−ジメチルホルムアミド3威に溶解させ、
7−アミノ−3−(イミダゾ[1゜2−a]ピリジン−
2−イル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル320IQ、1−ヒドロキシベンズト
リアゾール・1水和物100fflffおよびN,N′
−ジシクロへキシルカルボジイミド170m3を加え、
室温で2、5時間反応させる。ついで、析出晶を濾別し
、酢酸エチル10rn!および水10mの混合溶液に投
入し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7、5に調
整し、有機層を分取する。水10mlおよび飽和食塩水
10dで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラ
ムクロマトグラフィー[キーゼルゲル60、アート、7
734、メルク社製、溶離液;トルエン:酢酸エチル=
2:1(容但比)]で精製すれば、融点172〜174
℃(分解)を示す3−(イミダゾ[1.2−a]ピリジ
ン−2−イル)−7− [2− (Z)−メトキシイミ
ノ−2− (2−トリフェニルメチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド]−Δ3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル420mg<収率6
9.8%)を得る。
IR(KBr) cm−1 ニジco   1780,
1725.1875同様にして、つぎの化合物を得る。
融点;160〜165°C(分解) IR(にBr) cm−1; l/C01770,17
20,1670融点:228〜235℃(分解) IR(KBr) cm−1: νco  1775,1
730.1675融点;198〜203℃(分解) IR(にBr) cm−1: l/C01780,17
20(sh)、1700゜融点:  200〜205℃
(分解) IR(KBr) cm−1: νco  1770,1
725.1660ざらに、2− (Z)−メトキシイミ
ノ−2−(2−トリフェニルメチルアミンチアゾール−
4−イル)酢酸のかわりに、2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノ酢酸を用
い、上記と同様に反応させ、っぎの化合物を得る。
融点:175〜180℃(分解) 融点;220℃以上(分解) IR(KBr) cm−1; νco  1775,1
715.1665.1620融点:240’C以上 IR(KBr) cm−1: νC01770,172
5,1670融点;160〜165℃(分解) IR(KI3r) cm−1ニジco  1770,1
720.1670融点:152〜155°C(分解) IR(にBr) cm−1ニジco  1765,17
20.1670融点;142〜149°C(分解) IR(KBr’) cm−1; νco  1770,
1720.1670融点:190’C以上 IR(にBr) cm−1; νco  1780,1
730.1670融点:188〜193°C(分解) IR(KBr) cm−1: νco  1770,1
720.1670−カ 融点;165〜170℃(分解) IR(にBr) cm−1: νC01765,172
0,1660IR(KBr) cm−1; νco  
1760,1720.1675実施例8 3−(イミダゾ[1,2−alピリジン−2−イル)−
7−[2−(Z)−メトキシイミノ−2−(2−トリフ
ェニルメチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド]−Δ3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステルをテトラヒドロフラン4威に溶解させ、50
%ギ酸4dを加え、50〜60℃で1時間反応させる。
ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に水1
0dおよび酢酸エチル10dを加え、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液でpH7.0に調整し、有機層を分取する
。飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せた後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラ
ムロマドグラフィー[キーセルゲル60.アート、77
34、メルク社製、溶離液;クロロホルム:アセトン=
4:1(容量比)]で精製すれば、融点180〜181
°C(分解)を示す7− [2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノアセトア
ミド]−3−(イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−
イル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル140my (収率50.3%)を得る。
IR(KBr) cm−1ニジco   1775,1
725.1670同様にして、つぎの化合物を得る。
融点;162〜166℃(分解) IR(KBr) cm−1;νco  1770,17
20.1670融点;240℃以上 IR(KBr) cm−1: νco  1775,1
725.1670融点:200〜203℃(分解) IRCKBr) cm−’1 ニジco  1770,
1720.1670融点;250℃以上 IR(にBr) cm−1; νco  1770,1
720.1650実施例9 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−3−(イミダ
ゾ[1,2−a]ピリジン−2−イル)−Δ3−セフェ
ムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル150m
gおよびアニソール2威の混合液に、水冷下、トリフル
オロ酢酸2dを加え、同温度で1時間反応させる。つい
で、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に酢酸エチ
ル107!を加え、析出晶を濾取し、乾燥すれば、融点
188〜190℃(分解)を示す7− [2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(Z)−メトキシイ
ミノアセトアミド]−3−(イミダゾ[1,2−a]ピ
リジン−2−イル)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸
のトリフルオロ酢酸塩110#IP(収率91.7%)
を得る。
IR(KBr) cm−1; νco  1780.1
710(sh)、1660゜63O NHR(d6−DH30)δ値: 3.75〜4.10(5H,m)、5.39(IH,d
、J=5H2)、6.01(IH。
dd、 J=5H2,J=6H2) 、 6.93(I
H,s) 、 7゜20〜7゜58(2H。
m)、7.72〜7.98(2H,m)、8.39(I
N、S)、8.87(IH,d。
J=6H2)、 9.90(4H,bs)同様にして、
つぎの化合物を得る。
(注: * (d6−DH3O)δ値;)融点;200
″C以上 IR(KBr) n−1: νco  1775.16
90.166ONMR*  2.45(3H,s)、3
.56〜3.86(4H,m)、 4.03(IH。
d、J=18Hz)、4.55(4H,bs)、5.2
1(IH,d、J=5Hz)。
5、75(IH,dd、 J=5Hz、 J=8Hz)
 、 6.72 (18,s) 、 6.83(IH。
m)、7.10(ltj、m)、8.04(IN、s)
、8.35(1H,m)、9.35融点;220°C以
上 IR(TIIF) cm−1;νco  17B5,1
730.16B5,1625NMR*  3.56〜3
.92(4H,m)、4.10(IH,d、J=18H
z)。
4、80(4H,bs)、 5.25 (IH,d、 
J=511z) 、 5.83(IH,dd、 J=5
tlz、J=8Hz)、6.52(1M、d、J=7H
z)、6.82(IH,s)。
7、25(1)f、 d、J=7)12)、 7.90
(1)1. S)、9.65(ill、 d、J=8H
z)、 11.55(IH,bs) 融点:200〜210℃(分解) (KBr) cm−1;νco  1760.1880
(sh)、1655゜60O NMR*  2.20(3H,s)、3.45〜4.1
0(5H,m)、5.15(世。
d、 J=4Hz)、 5.42〜5.63(2H,m
)、 6.76(1H,s)、 7.10(2H,s)
、 7.71’(IH,s) 、 9.42 (1H,
d、 J=8Hz)(なお、このナトリウム塩は得られ
る化合物を炭酸水、素ナトリウムに溶解させ、カラムク
ロマトグラフィー(LC−3ORB 40−60 :ケ
ムコ社製、溶離液10%アセトニトリル水溶液)で処理
して得ら融点;180〜185℃(分解) IR(KBr) cm−1; νco  1760.1
670.164ONHR*  2.42(3H,S)、
2.55(3H,S)、3.55〜3.88(4H。
m)、 4.10(IH,d、 J=18Hz)、 5
.25(IH,d、 J=5Hz)、 5.80(IH
,dd、 J=5Hz、 J=8Hz) 、 6.61
〜7゜10(5M、 m)、 8.20(IH,S)、
 9.80(1N、 d、J=8H2)融点;165〜
170’C(分解) IR(KBr) cm−1;νco  1765,16
80.165ONMR*  3.72(111,d、J
=18H2)、3゜85〜4.15(41−1,m)。
5.22(IH,d、J=5Hz)、5.32(4H,
bs)、5.75(IN、dd、J=511z、J=9
Hz)、6.82(IH,s)、7.22(IH,d、
J=4Hz)。
7.83〜7.92(2H,m)、 9.74(IN、
 d、 J=9Hz)融点:205〜206℃(分解) IR(KBr) cm−1;νco  1765.16
80(si)、166ON)fR*  3.60〜4.
45(9H,m)、5.15(ill、d、J=4Hz
)。
5、74(IH,dd、 J=4tlZ、 J=9H2
) 、 6.70(4H,bs)、 6.82(IH,
S)、 7.50(IH,S)、 9.59(IH,d
、 J=9Hz)融点;164〜168℃(分解) IR(にBr) cm−1;νco  1760,17
00.165ONMR*  2.γ9(3H,s)、3
.40〜4.22(5H,m)、5.20(IH。
d、 J=4Hz) 、 5.30(4H,bs)、 
5.77(IH,dd、 J=4Hz、 J=8Hz)
、 6.79(IH,s)、 8.18(IH,s)、
 9.08(IH,d、 J=8Hz)融点:240℃
以上 IR(KBr) cm−1: νCo  17B0,1
705,1670,162ONHR*  3.63〜4
.32(5H,m)、4.84(4H,bs)、5.2
8(IH。
d、J=5Hz)、5.85(IH,dd、J−5Hz
、J=8Hz)、6.85(IH。
s)、7.13(IH,m)、8.07(IH,s)、
8.58(IH,m)、8.97(IH,m)、9.7
5(IH,d、J=8H2)融点:  200℃以上 IR(KBr) Cm−1ニジCo  1770,16
80(Sh)、168ONMR*  3.59〜4.8
0(9M、m)、5.25(IH,d、J=4H2)。
5、80(IH,dd、 J=4Hz、 J=8Hz)
 、 6.77(IH,s) 、 8.45〜8、57
(3H,m) 、 9.60(1M、 d、 J=8H
z)融点:190〜195℃(分解) IR(KBr) Cm−1ニジco  1765.16
90(sh)、1660゜63O N)IR*  3.10〜3.82(5H,m)、5.
22(IH,d、J=4Hz)。
5、84(IH,dd、 J=4Hz、 J=9Hz)
、 6.40(5H,bs)、 6.80(1H,s)
、 7.53(IH,s)、 7.85(IH,s)、
 9.65(IH,d、 J=9Hz) 融点:  200℃以上 IR(KBr) cm−1: νco  1770,1
670.165ON)fR*  3.55〜3.86(
4H,m)、4.11(IH,d、J=18Hz)。
5.24(H,d、J=4Hz)、5.50〜6.16
(5N、m)、6.77(IH。
S)、7.81(IH,d、J=4H2)、8.15(
IH,S)、8.51(IH,d。
J=4H2)、 8.93(IH,S)、 9.58(
IH,d、 J=8Hz)融点;250°C以上 IR(KBr) cm−1: l、/C01770,1
880,166ONMR*  2.47(3H,s)、
2.62(3H,s)、3.70(IH,d、J=18
H2) 、 3.73(3H,s)、 3.96(18
,d、 J=18Hz) 、 4.69(4H。
bs)、 5.25 (IH,d、 J=5Hz) 、
 5.75 (IH,dd、 J=5Hz、 J=8H
z)、6.73(IH,s)、6.96(IH,m)、
7.35(1)1.m)、8.15融点;250℃以上 IR(KBr) cm−1ニジco  1760,16
55.1610融点;145℃ ■旧KBr) crrrl;νco  1770,16
60.164ON)lR*  3.71〜4.24(5
H,m)、5.30(111,d、J=811Z)。
5、38(2H,s) 、 5.84(IH,dd、 
J=6Hz、 J=8Hz)、 6.80〜7.43(
8H,m)、7.85(4H,bs)、8.18(2H
,m)、9.64(IH。
d、 J=6H2)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1は水素原子、アミノ保護基またはアシル基
    を、R^2は式▲数式、化学式、表等があります▼(式
    中、R^4は水素原子または低級アルキル基を;環Aは
    イミダゾール環の窒素原子および炭素原子を共有し、さ
    らに窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少
    なくとも1つの異項原子を含有していてもよい複素環を
    示す。)で表わされる縮合複素環式基を;R^3は水素
    原子またはカルボキシル保護基を示す。 で表わされるセファロスポリン類およびその塩。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6362009B1 (en) 1997-11-21 2002-03-26 Merck & Co., Inc. Solid phase synthesis of heterocycles
US10730874B2 (en) 2018-03-13 2020-08-04 Shire Human Genetic Therapies, Inc. Inhibitors of plasma kallikrein and uses thereof
US11370803B2 (en) 2019-09-18 2022-06-28 Takeda Pharmaceutical Company Limited Heteroaryl plasma kallikrein inhibitors
US11787796B2 (en) 2019-09-18 2023-10-17 Takeda Pharmaceutical Company Limited Plasma Kallikrein inhibitors and uses thereof

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6362009B1 (en) 1997-11-21 2002-03-26 Merck & Co., Inc. Solid phase synthesis of heterocycles
US10730874B2 (en) 2018-03-13 2020-08-04 Shire Human Genetic Therapies, Inc. Inhibitors of plasma kallikrein and uses thereof
US11352356B2 (en) 2018-03-13 2022-06-07 Takeda Pharmaceutical Company Limited Inhibitors of plasma kallikrein and uses thereof
US11370803B2 (en) 2019-09-18 2022-06-28 Takeda Pharmaceutical Company Limited Heteroaryl plasma kallikrein inhibitors
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