JPS62181264A - 1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンの製造方法 - Google Patents
1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、式1で示されるN、N’−ジアルキルエチレ
ンジアミン (式中、RバーC2H5、−C3H5、−c4H9テア
ル)及び/またはその塩酸塩と、ホスゲンとを反応させ
て、式2で示される1、3−ジアルキル−2−イミダゾ
リジノン (式中、Rは式1のRと同じ口) を製造する方法の改良に関する。
ンジアミン (式中、RバーC2H5、−C3H5、−c4H9テア
ル)及び/またはその塩酸塩と、ホスゲンとを反応させ
て、式2で示される1、3−ジアルキル−2−イミダゾ
リジノン (式中、Rは式1のRと同じ口) を製造する方法の改良に関する。
上記式2で示される1、3−ジアルキル−2−イミダゾ
リジノンは極性非プロトン溶媒として有用な物質である
。とくにポリアミド類、ポリ塩化ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリスチレン、ポリウレタン、フェノール樹
脂などの高分子化合物に優れた溶媒であり、また無機塩
類の多くのものと錯塩を形成して溶解し、多くの有機反
応の溶媒としても用いられる有用な物質である。
リジノンは極性非プロトン溶媒として有用な物質である
。とくにポリアミド類、ポリ塩化ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリスチレン、ポリウレタン、フェノール樹
脂などの高分子化合物に優れた溶媒であり、また無機塩
類の多くのものと錯塩を形成して溶解し、多くの有機反
応の溶媒としても用いられる有用な物質である。
1.3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンの中でも一
般によく知られている1、3−ジメチル−2−イミダゾ
リジノン(DMI)の製造方法は多数提案されている。
般によく知られている1、3−ジメチル−2−イミダゾ
リジノン(DMI)の製造方法は多数提案されている。
例えば、エチレンジアミンと尿素を反応後、ホルマリン
を付加させた反応生成物をトリクロロ酢酸、ギ酸などで
還元する方法、またこれらの還元方法を改良したものと
して貴金属触媒を使用し酸性下に水素添加する方法が提
案されている。
を付加させた反応生成物をトリクロロ酢酸、ギ酸などで
還元する方法、またこれらの還元方法を改良したものと
して貴金属触媒を使用し酸性下に水素添加する方法が提
案されている。
さらにN、N/−ジメチルエチレンジアミンとホスゲン
をトルエンなどの溶媒中で反応させるDMIの製造方法
も既に知られている〔ジャーナル誘導体であるトリクロ
ロメチルクロロホーメートをホスゲンの替りに使用して
、同じくトルエン等有機溶媒中、脱塩酸剤及び触媒の存
在下で反応させることにより収率70係以上でDMIを
製造する方法(特開昭53−73561号公報)も提案
されている。
をトルエンなどの溶媒中で反応させるDMIの製造方法
も既に知られている〔ジャーナル誘導体であるトリクロ
ロメチルクロロホーメートをホスゲンの替りに使用して
、同じくトルエン等有機溶媒中、脱塩酸剤及び触媒の存
在下で反応させることにより収率70係以上でDMIを
製造する方法(特開昭53−73561号公報)も提案
されている。
N、N’−ジメチルエチレンジアミンと直接ホスゲンと
を反応させてDMIを製造する方法はこのように公知で
あるが、収率が極めて低く工業的方法としては満足でき
るものではなかった。この為の改良法として、前記のよ
うにホスゲンの替りにトリクロロメチルクロロホーメー
トを用い反応時反応系内で触媒によってホスゲンに分解
しながらこの方法はわざわざホスゲン2量体でおるトリ
クロロメチルクロロホーメートをつくり、DMI製造時
には再びホスゲンに分解して使用すると言った廻りくど
い方法であり、直接ホスゲンと反応させて高収率で得る
ことができるなら、より安価な工業的製造方法であるこ
とは明白である。
を反応させてDMIを製造する方法はこのように公知で
あるが、収率が極めて低く工業的方法としては満足でき
るものではなかった。この為の改良法として、前記のよ
うにホスゲンの替りにトリクロロメチルクロロホーメー
トを用い反応時反応系内で触媒によってホスゲンに分解
しながらこの方法はわざわざホスゲン2量体でおるトリ
クロロメチルクロロホーメートをつくり、DMI製造時
には再びホスゲンに分解して使用すると言った廻りくど
い方法であり、直接ホスゲンと反応させて高収率で得る
ことができるなら、より安価な工業的製造方法であるこ
とは明白である。
本発明者らは、ホスゲンを用いた1、3−ジアルキル−
2−イミダゾリジノンの工業的製造方法を鋭意検討し以
下の知見を得た。
2−イミダゾリジノンの工業的製造方法を鋭意検討し以
下の知見を得た。
通常、ホスゲンを使用する反応は極力水の存在しない条
件下に実施され、さらにホスゲンはアルカリ性水溶液中
にて容易に加水分解されることが知られており、本発明
方法では大過剰量のホスゲンが必要となるであろうこと
が予想された。しかし意外にも、本発明方法においては
、ホスゲンはその化学量論量の1.1〜1.5倍で充分
であることが判明し、かつ、水及び脱塩酸剤を存在させ
ておくことにより、DMIのみならず、N、N’−ジア
ても収率は従来法より飛躍的に向上した。さらに、水存
在下に、脱塩酸剤によって反応時のP)Iを一定範囲、
即ち、3.0〜10.0に維持すればさらに飛躍的に収
率が向上することがわかり、本発明に達したものである
。
件下に実施され、さらにホスゲンはアルカリ性水溶液中
にて容易に加水分解されることが知られており、本発明
方法では大過剰量のホスゲンが必要となるであろうこと
が予想された。しかし意外にも、本発明方法においては
、ホスゲンはその化学量論量の1.1〜1.5倍で充分
であることが判明し、かつ、水及び脱塩酸剤を存在させ
ておくことにより、DMIのみならず、N、N’−ジア
ても収率は従来法より飛躍的に向上した。さらに、水存
在下に、脱塩酸剤によって反応時のP)Iを一定範囲、
即ち、3.0〜10.0に維持すればさらに飛躍的に収
率が向上することがわかり、本発明に達したものである
。
したがって、本発明の目的はN、N’−ジアルキルエチ
レンジアミンとホスゲンとから高い収率で1.3−ジア
ルキル−2−イミダゾリジノンを製造する改善された方
法を提供することである。
レンジアミンとホスゲンとから高い収率で1.3−ジア
ルキル−2−イミダゾリジノンを製造する改善された方
法を提供することである。
本発明方法では、水が実質的に存在している状態、即ち
水媒体中で反応が実施されるので、ホスゲン化反応によ
り副生ずる塩酸により逐次生成するN、N’−ジアルキ
ルエチレンジアミンの塩酸塩は、反応時に系外に析出す
ることなく、水に溶解されるので、いかなる場合におい
ても均一状態で反応は実施できる。その為、反応時のP
Hの管理も極めて容易に実施することができる。
水媒体中で反応が実施されるので、ホスゲン化反応によ
り副生ずる塩酸により逐次生成するN、N’−ジアルキ
ルエチレンジアミンの塩酸塩は、反応時に系外に析出す
ることなく、水に溶解されるので、いかなる場合におい
ても均一状態で反応は実施できる。その為、反応時のP
Hの管理も極めて容易に実施することができる。
また反応時に脱塩酸剤を併用するので、脱塩酸剤が副生
塩酸のキャッチに効率よく作用するだけでなく、特にP
Hを30〜10.0の範囲に維持しながう反応を行なう
と、従来の技術では予想もできない程の高収率で目的生
成物が得られる。その理由は、N、N’−ジアルキルエ
チレンジアミンのモノカルボキシクロライドが、分子内
で一方の窒素に結合している水素と反応閉環する際、と
くにPHを管理しておくことにより分子間での反応によ
る調性物及びホスゲンとの反応によるN、N’−1払 ジカルボキシクロライドの生成等副惟物の生成を抑制す
ることが可能となった為と考えられる〇本発明において
、前記式1で示される原料のN、N′−ジアルキルエチ
レンジアミンとしては、NN/−ジエチルエチレンジア
ミン、N、N’−ジプロピルエチレンジアミン、N、N
’−ジイソビルエチレンジアミン、N、N’−ジブチル
エチレンジアミンなどである。これらのジアルキルエチ
レンジアミンは、相応するモノアミンとエチレンジクロ
ライドとの反応により容易に得ることができる。
塩酸のキャッチに効率よく作用するだけでなく、特にP
Hを30〜10.0の範囲に維持しながう反応を行なう
と、従来の技術では予想もできない程の高収率で目的生
成物が得られる。その理由は、N、N’−ジアルキルエ
チレンジアミンのモノカルボキシクロライドが、分子内
で一方の窒素に結合している水素と反応閉環する際、と
くにPHを管理しておくことにより分子間での反応によ
る調性物及びホスゲンとの反応によるN、N’−1払 ジカルボキシクロライドの生成等副惟物の生成を抑制す
ることが可能となった為と考えられる〇本発明において
、前記式1で示される原料のN、N′−ジアルキルエチ
レンジアミンとしては、NN/−ジエチルエチレンジア
ミン、N、N’−ジプロピルエチレンジアミン、N、N
’−ジイソビルエチレンジアミン、N、N’−ジブチル
エチレンジアミンなどである。これらのジアルキルエチ
レンジアミンは、相応するモノアミンとエチレンジクロ
ライドとの反応により容易に得ることができる。
これらのN、N’−ジアルキルエチレンジアミンは直接
ホスゲン化させるか、塩酸塩にしてホスゲンとの反応に
供せられる。
ホスゲン化させるか、塩酸塩にしてホスゲンとの反応に
供せられる。
しかしながら、反応をP H3,0〜10.0に維持し
ながら実施する方法では、反応当初より塩酸塩として仕
込むのが有利である。
ながら実施する方法では、反応当初より塩酸塩として仕
込むのが有利である。
N、N’−ジアルキルエチレンジアミン塩酸塩として使
用する場合は、塩酸を当量用いてN、N’−ジアルキル
エチレンジアミン塩酸塩として仕込めば、反応当初のP
Hは約3程度となり、得られた二塩酸塩をホスゲン化反
応させても反応速度は極めて遅い。従って、塩酸塩とし
て使用する場合は塩酸を当量以下反応させた一塩酸塩付
近で反応させるのが好ましく、二塩酸塩を最初から仕込
む場合は脱塩酸剤で予め脱塩酸してPHを3以上とした
後、ホスゲン化反応を行なう。
用する場合は、塩酸を当量用いてN、N’−ジアルキル
エチレンジアミン塩酸塩として仕込めば、反応当初のP
Hは約3程度となり、得られた二塩酸塩をホスゲン化反
応させても反応速度は極めて遅い。従って、塩酸塩とし
て使用する場合は塩酸を当量以下反応させた一塩酸塩付
近で反応させるのが好ましく、二塩酸塩を最初から仕込
む場合は脱塩酸剤で予め脱塩酸してPHを3以上とした
後、ホスゲン化反応を行なう。
また、N、N’−ジアルキルエチレンジアミンをそのま
ま仕込んで反応させる場合は、反応当初のPHは11以
上となり、ホスゲン化反応前に予め塩酸を加えておき、
PHを10以下にして行うのがよい。
ま仕込んで反応させる場合は、反応当初のPHは11以
上となり、ホスゲン化反応前に予め塩酸を加えておき、
PHを10以下にして行うのがよい。
本発明に用いられる水は、実質的に存在している必要が
あり、あらかじめ反応器中に入れておいてもよいし、脱
塩酸剤と一緒に、たとえばアルカリ金属化合物の水溶液
として滴下装入してもよい。
あり、あらかじめ反応器中に入れておいてもよいし、脱
塩酸剤と一緒に、たとえばアルカリ金属化合物の水溶液
として滴下装入してもよい。
使用する水の量は特に限定されないが、均一反応が維持
できる程度の充分な量が好ましく、N、N/−ジアルキ
ルエチレンジアミンに対して、05〜50重量倍、好ま
しくは5〜30重量倍がよい。
できる程度の充分な量が好ましく、N、N/−ジアルキ
ルエチレンジアミンに対して、05〜50重量倍、好ま
しくは5〜30重量倍がよい。
本発明で用いられる脱塩酸剤は、トリメチルアミン、ト
リエチルアミンのような脂肪族第三級アミン、ジメチル
アニリン、ジエチルアニリンのような芳香族第三級アミ
ン、ピリジン、ピラジンのような複素環式第三級アミン
などのような第三級アミンまたは、水酸化す)−リウム
、炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属化合物が好適で
ある。
リエチルアミンのような脂肪族第三級アミン、ジメチル
アニリン、ジエチルアニリンのような芳香族第三級アミ
ン、ピリジン、ピラジンのような複素環式第三級アミン
などのような第三級アミンまたは、水酸化す)−リウム
、炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属化合物が好適で
ある。
もし脱塩酸剤を使用しなければ、原料自体が副生塩酸の
キャッチ剤となり、それ以上反応を進めることは困難と
なる。
キャッチ剤となり、それ以上反応を進めることは困難と
なる。
また、本発明における反応温度は特に限定されないが、
好ましくは0〜70°Cで行なう。
好ましくは0〜70°Cで行なう。
本発明の方法の好ましい実施態様では、上記脱塩酸剤に
よって反応時のPHを30〜100、好ましくは4.
O〜9.Olさらに好ましくは5.0〜8.0に維持し
ながら反応させる。PHが低い場合、目的生成物の選択
率は高いが1反応器度が低下する傾向があり、逆に、P
Hが高い場合1反応器度は大きくなるが、目的生成物へ
の選択率が低下する傾向となるので、出来得る限り中性
付近で行うのが好ましい。
よって反応時のPHを30〜100、好ましくは4.
O〜9.Olさらに好ましくは5.0〜8.0に維持し
ながら反応させる。PHが低い場合、目的生成物の選択
率は高いが1反応器度が低下する傾向があり、逆に、P
Hが高い場合1反応器度は大きくなるが、目的生成物へ
の選択率が低下する傾向となるので、出来得る限り中性
付近で行うのが好ましい。
また本発明の方法で用いられるホスゲン及び脱塩酸剤量
は、特に限定されないが原料ジアミンに対して化学量論
量の1.1〜1.5倍で充分である。
は、特に限定されないが原料ジアミンに対して化学量論
量の1.1〜1.5倍で充分である。
また、ホスゲンに対する脱塩酸剤量はほぼ化学量論量で
良い。
良い。
本発明方法の通常の好ましい態様は次のようになる。
還流冷却器、温度計、ホスゲン吹き込み管1滴下ロート
、PH測定用電極及び撹拌機を備えた反応器中に、水及
びN、N’−ジアルキルエチレンジアミンを加える。そ
のまま反応を開始しても良いが、好ましくは塩酸を加え
て仕込み液のPHを3〜10程度にする。この液を適当
な温度下に撹拌しながら、ホスゲンをホスゲン吹込み管
より導入すると同時に脱塩酸剤を滴下ロートより滴下す
る。
、PH測定用電極及び撹拌機を備えた反応器中に、水及
びN、N’−ジアルキルエチレンジアミンを加える。そ
のまま反応を開始しても良いが、好ましくは塩酸を加え
て仕込み液のPHを3〜10程度にする。この液を適当
な温度下に撹拌しながら、ホスゲンをホスゲン吹込み管
より導入すると同時に脱塩酸剤を滴下ロートより滴下す
る。
これにより反応液のPHを3.0〜100.好ましくは
4.0〜9.Olさらに好ましくは5.0〜8.0に維
持する。
4.0〜9.Olさらに好ましくは5.0〜8.0に維
持する。
吹き込み及び滴下終了後、窒素により未反応ホスゲンを
パージし、抽出及び/もしくは蒸留等の常法により目的
生成物を取り出す。
パージし、抽出及び/もしくは蒸留等の常法により目的
生成物を取り出す。
以下実施例を示す。
実施例1
還流冷却器、温度計、滴下ロート、ホスゲン吹き込み管
及び撹拌機を備えた300ゴの4つロフラスコ中に水1
00 ml、 N、 N’−ジエチルエチレンジアミン
11.6.9(0,1モル)を入れ、一方滴下ロート中
にトリエチルアミンを20.2 g(0,2モル)用意
した。フラスコを20″Cに維持し、撹拌しながらホス
ゲンをホスゲン吹き込み管を通してtoy/hrで1時
間吹き込んだ。同時に、トリエチルアミンを滴下ロート
より1時間かけて滴下した。吹き込み及び滴下終了後、
20℃で1時間熟成した。この反応マスをサンプリング
してガスクロマトグラフィーにより1.3−ジエチル−
2−イミダゾリジノンの定量を行なった。理論収率は7
6.6係であった。
及び撹拌機を備えた300ゴの4つロフラスコ中に水1
00 ml、 N、 N’−ジエチルエチレンジアミン
11.6.9(0,1モル)を入れ、一方滴下ロート中
にトリエチルアミンを20.2 g(0,2モル)用意
した。フラスコを20″Cに維持し、撹拌しながらホス
ゲンをホスゲン吹き込み管を通してtoy/hrで1時
間吹き込んだ。同時に、トリエチルアミンを滴下ロート
より1時間かけて滴下した。吹き込み及び滴下終了後、
20℃で1時間熟成した。この反応マスをサンプリング
してガスクロマトグラフィーにより1.3−ジエチル−
2−イミダゾリジノンの定量を行なった。理論収率は7
6.6係であった。
実施例2
N、 N’−ジエチルエチレンジアミンの代りに、N、
N’−ジプロピルエチレンジアミン14.4 g(0
,1モル)を使用した以外実施例1の通りに反応分析を
行なった。その結果、理論収率70.04で1.3−ジ
プロピル−2−イミダゾリジノンが生成していた。
N’−ジプロピルエチレンジアミン14.4 g(0
,1モル)を使用した以外実施例1の通りに反応分析を
行なった。その結果、理論収率70.04で1.3−ジ
プロピル−2−イミダゾリジノンが生成していた。
実施例3
還流冷却器、温度計、滴下ロート、ホスゲン吹き込み管
、PH測定用電極、及び撹拌機を備えた500m7!の
フラスコ中に水t 00 ml、N、N’−ジエチルエ
チレンジアミン23.2 # (0,2モル)及び36
係塩酸30.4 g(0,3モル)を装入した。
、PH測定用電極、及び撹拌機を備えた500m7!の
フラスコ中に水t 00 ml、N、N’−ジエチルエ
チレンジアミン23.2 # (0,2モル)及び36
係塩酸30.4 g(0,3モル)を装入した。
一方、滴下ロート中に20係水酸化ナトリウム水168
、0 g(0,8モル)を用意した。冷却しながら反応
温度を20°Cに維持し、撹拌下にホスゲンを10 g
/hrで2時間吹き込んだ。同時に、水酸化ナトリウム
水を2時間かけて反応液のPHを7.0±0.3に管理
しながら滴下した。
、0 g(0,8モル)を用意した。冷却しながら反応
温度を20°Cに維持し、撹拌下にホスゲンを10 g
/hrで2時間吹き込んだ。同時に、水酸化ナトリウム
水を2時間かけて反応液のPHを7.0±0.3に管理
しながら滴下した。
吹き込み及び滴下終了後、窒素2017分で0.2時間
系内をパージした。この反応マスをサンプリングして、
ガスクロマトグラフィーにより1,3−ジエチル−2−
イミダゾリジノンの定量を行なったところ、未反応N、
N’−ジエチルエチレンジアミン1.211 (転化
率94.8係)と1.3−ジエチル−2−イミダゾリジ
ノンが25.6 g(選択率95.2係)生成していた
。
系内をパージした。この反応マスをサンプリングして、
ガスクロマトグラフィーにより1,3−ジエチル−2−
イミダゾリジノンの定量を行なったところ、未反応N、
N’−ジエチルエチレンジアミン1.211 (転化
率94.8係)と1.3−ジエチル−2−イミダゾリジ
ノンが25.6 g(選択率95.2係)生成していた
。
反応終了液に48係水酸化ナトリウム水を加えてPHI
O付近とした後、1.2−ジクロルエタン1501i
1/回で2回抽出し、油層を分離後蒸留して、1,3−
ジエチル−2−イミダゾリジノン(沸点146〜b 分)24.5gを得た。
O付近とした後、1.2−ジクロルエタン1501i
1/回で2回抽出し、油層を分離後蒸留して、1,3−
ジエチル−2−イミダゾリジノン(沸点146〜b 分)24.5gを得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)、式1で示されN,N′−ジアルキルエチレンジア
ミン ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、Rは−C_2H_5、−C_3H_7、−C_
4H_9である。) と、ホスゲンとの反応により式2で示される1,3−ジ
アルキル−2−イミダゾリジノン ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、Rは式1のRと同じ。) を得るに際し、実質的に水及び脱塩酸剤の存在下に反応
させることを特徴とする1,3−ジアルキル−2−イミ
ダゾリジノンの製造方法。 2)、式1で示されN,N′−ジアルキルエチレンジア
ミン ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、Rは−C_2H_5、−C_3H_7、−C_
4H_9である。) 及び/またはその塩酸塩と、ホスゲンとの反応により式
2で示される1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノ
ン ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、Rは式1のRと同じ。) を得るに際し、水溶媒中で、脱塩酸剤によりPHを3.
0〜10.0に維持しながら反応させることを特徴とす
る1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンの製造方
法。 3)、PHを5.0〜8.0に維持する特許請求の範囲
第2項記載の方法。 4)、脱塩酸剤が第3級アミンである特許請求の範囲第
1項または第2項記載の方法。 5)、脱塩酸剤がアルカリ金属化合物である特許請求の
範囲第1項または第2項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2122986A JPH0667908B2 (ja) | 1986-02-04 | 1986-02-04 | 1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2122986A JPH0667908B2 (ja) | 1986-02-04 | 1986-02-04 | 1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62181264A true JPS62181264A (ja) | 1987-08-08 |
JPH0667908B2 JPH0667908B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=12049193
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2122986A Expired - Lifetime JPH0667908B2 (ja) | 1986-02-04 | 1986-02-04 | 1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0667908B2 (ja) |
-
1986
- 1986-02-04 JP JP2122986A patent/JPH0667908B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0667908B2 (ja) | 1994-08-31 |
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