JPS6218027A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS6218027A JPS6218027A JP60156113A JP15611385A JPS6218027A JP S6218027 A JPS6218027 A JP S6218027A JP 60156113 A JP60156113 A JP 60156113A JP 15611385 A JP15611385 A JP 15611385A JP S6218027 A JPS6218027 A JP S6218027A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- exposure
- resist
- wafer
- rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の分野）
本発明は、半導体装置の製造等に使用される露光装置に
関し、特にマスク基板やＸ線吸収材等の影響を含めて的
確にレジストの感度およびγ値を測定する手段を備えた
露光装置に関する。
関し、特にマスク基板やＸ線吸収材等の影響を含めて的
確にレジストの感度およびγ値を測定する手段を備えた
露光装置に関する。
〈発明の背景）
半導体装置の製造過程において使用されるレジストの感
度やγ値を測定する方法としては、例えば第５図に示す
ような方法が考えられる。この方法は、レジストを塗布
したウェハ １の上に、Ｘ線しやへい根２を置ぎ、Ｘ線
３を一定時間照射した後ウェハ１を所定距離だけ移動し
、再びＸ線３の照射を繰り返すことにより、Ｘ線をレジ
ストに照射する時間を段階的に変化させレジストの感度
等を測定するものである。
度やγ値を測定する方法としては、例えば第５図に示す
ような方法が考えられる。この方法は、レジストを塗布
したウェハ １の上に、Ｘ線しやへい根２を置ぎ、Ｘ線
３を一定時間照射した後ウェハ１を所定距離だけ移動し
、再びＸ線３の照射を繰り返すことにより、Ｘ線をレジ
ストに照射する時間を段階的に変化させレジストの感度
等を測定するものである。
しかしながら、このような方法ではマスク基板やＸ線吸
収材を実際に透過したＸ線に対するレジストの感度およ
びγ値等を測定することが困難であり、したがって、実
際の半導体装置の製造過程において的確な露光を行なう
ことが不可能であるという不都合があった。さらに、従
来のＸ線露光装Ｕには、上述の第５図に示されるような
方法によるレジスト感度測定手段が設けられていないた
め、照射Ｘ線の出力低下量の測定や新しいレジストの感
度特性等の評価を行なうことも困難であった。
収材を実際に透過したＸ線に対するレジストの感度およ
びγ値等を測定することが困難であり、したがって、実
際の半導体装置の製造過程において的確な露光を行なう
ことが不可能であるという不都合があった。さらに、従
来のＸ線露光装Ｕには、上述の第５図に示されるような
方法によるレジスト感度測定手段が設けられていないた
め、照射Ｘ線の出力低下量の測定や新しいレジストの感
度特性等の評価を行なうことも困難であった。
（発明の概要および目的）
本発明の目的は、前述の従来形における問題点に鑑み、
Ｘ線透過膜およびＸ線吸収材等を複数種類設けた開口部
を有するＸ線じゃへい板と被露光体とを相対的に移動し
ながら順次試験露光を行なうという構想に基づき、Ｘ線
透過膜やＸ線吸収材等を通過したＸ線に対するレジスト
の感度等を測定できるようにし、レジストとＸ線吸収材
やＸ線透過膜との適合性、照射Ｘ線の明るさ、およびレ
ジストの感度評価等を容易に行なうことができるように
して的確な露光を可能にすることを目的とする。
Ｘ線透過膜およびＸ線吸収材等を複数種類設けた開口部
を有するＸ線じゃへい板と被露光体とを相対的に移動し
ながら順次試験露光を行なうという構想に基づき、Ｘ線
透過膜やＸ線吸収材等を通過したＸ線に対するレジスト
の感度等を測定できるようにし、レジストとＸ線吸収材
やＸ線透過膜との適合性、照射Ｘ線の明るさ、およびレ
ジストの感度評価等を容易に行なうことができるように
して的確な露光を可能にすることを目的とする。
（発明の構成）
本発明に係わる露光装置は、単数または複数の開口部を
有し、該開口部に単数または複数種類のＸ線透過膜およ
び／またはＸ線吸収材を設けたＸ線じゃへい板、該Ｘ線
じゃへい板と被露光体とを相対的に移動する搬送手段、
およびＸ線照射手段を具備し、前記Ｘ線じゃへい板を介
して被露光体に所定時間露光した後該Ｘ線じゃへい板と
被露光体とを相対的に所定距離だけ移動し再び露光を行
なうことを繰り返し露光試験を行なうことを特徴とする
。
有し、該開口部に単数または複数種類のＸ線透過膜およ
び／またはＸ線吸収材を設けたＸ線じゃへい板、該Ｘ線
じゃへい板と被露光体とを相対的に移動する搬送手段、
およびＸ線照射手段を具備し、前記Ｘ線じゃへい板を介
して被露光体に所定時間露光した後該Ｘ線じゃへい板と
被露光体とを相対的に所定距離だけ移動し再び露光を行
なうことを繰り返し露光試験を行なうことを特徴とする
。
（実施例の説明）
以下、図面により本発明の詳細な説明する。
第１図（ａ）および（ｂ）は、それぞれ、本発明の１実
施例に係わる露光装置に使用されるＸ線しやへい板等を
示すものである。これらの図においては、ウェハ１にＸ
線しやへい板２ａを介してＸ線３が照射される状態が示
されている。Ｘ線じゃへい板２ａは複数の窓４−１．ｌ
ｌ−２，４−３，・・・を有し、例えば窓４−１にはＸ
ａ透過膜５とｘ１！ｊＩ吸収材６とが取付けられており
、窓４−２にはＸ線透過膜５が取付けられており、また
窓４−３には何も取付けられていない。ウェハ１上には
レジスト ７が塗布されている。
施例に係わる露光装置に使用されるＸ線しやへい板等を
示すものである。これらの図においては、ウェハ１にＸ
線しやへい板２ａを介してＸ線３が照射される状態が示
されている。Ｘ線じゃへい板２ａは複数の窓４−１．ｌ
ｌ−２，４−３，・・・を有し、例えば窓４−１にはＸ
ａ透過膜５とｘ１！ｊＩ吸収材６とが取付けられており
、窓４−２にはＸ線透過膜５が取付けられており、また
窓４−３には何も取付けられていない。ウェハ１上には
レジスト ７が塗布されている。
上述のようにレジスト ７を塗布したウェハ１上にＸ線
しやへい板２ａが配置され、該Ｘ線じゃへい板２ａを介
してウェハ１上のレジスト ７にＸ１ｉｌ ３が照射さ
れて露光が行なわれる。次に、ウェハ１を所定距離だけ
移動し、再び露光が行なわれ、この４なウェハの移動お
よび露光が繰り返される。これにより、Ｘ線しやへい板
２の多窓４−１．４−２．４−３゜・・・に取付けられ
たＸ線透過膜５およびＸ線吸収材６等を通過したＸ線が
種々の露光時間だけレジスト ７に照射される。そして
、このような露光後に、レジスト ７を現像すると、種
々のＸ線吸収材６やＸ線透過膜５を透過したＸ線に対す
るレジストの感度およびγ値等を測定することかできる
。また、Ｘ線じゃへい板２ａには複数の窓４−１．４−
２．４−３．・・・が設けられており、多窓には多種類
のＸ線透過膜やＸ線吸収材が設けられているため、上述
のような一連の露光および例えば１回の現像により種々
の条件における測定が可能となる。
しやへい板２ａが配置され、該Ｘ線じゃへい板２ａを介
してウェハ１上のレジスト ７にＸ１ｉｌ ３が照射さ
れて露光が行なわれる。次に、ウェハ１を所定距離だけ
移動し、再び露光が行なわれ、この４なウェハの移動お
よび露光が繰り返される。これにより、Ｘ線しやへい板
２の多窓４−１．４−２．４−３゜・・・に取付けられ
たＸ線透過膜５およびＸ線吸収材６等を通過したＸ線が
種々の露光時間だけレジスト ７に照射される。そして
、このような露光後に、レジスト ７を現像すると、種
々のＸ線吸収材６やＸ線透過膜５を透過したＸ線に対す
るレジストの感度およびγ値等を測定することかできる
。また、Ｘ線じゃへい板２ａには複数の窓４−１．４−
２．４−３．・・・が設けられており、多窓には多種類
のＸ線透過膜やＸ線吸収材が設けられているため、上述
のような一連の露光および例えば１回の現像により種々
の条件における測定が可能となる。
第２図は、第１図のようなレジスト評価装置を有するＸ
線露光装置の１例を示す。同図の装置は、図示しない電
子ビーム発生装置と、ターゲット８と、第１図に示すレ
ジスト評価手段９とを具備する。
線露光装置の１例を示す。同図の装置は、図示しない電
子ビーム発生装置と、ターゲット８と、第１図に示すレ
ジスト評価手段９とを具備する。
第２図の露光装置においては、図示しない電子ビーム発
生装置から出力された電子ビーム１０がターゲット ８
に照射され、ＸＩ ３が発生する。このＸ線３がレジス
ト評価手段のＸ線じゃへい板２ａを介してウェハ１上の
レジスト ７に照射され前述のような露光およびレジス
トの評価が行なわれる。
生装置から出力された電子ビーム１０がターゲット ８
に照射され、ＸＩ ３が発生する。このＸ線３がレジス
ト評価手段のＸ線じゃへい板２ａを介してウェハ１上の
レジスト ７に照射され前述のような露光およびレジス
トの評価が行なわれる。
第３図は、本発明の伯の実施例に係わる露光装置に使用
されたＸ線しやへい板の他の例を示す。
されたＸ線しやへい板の他の例を示す。
同図のＸ線じゃへい板２ｂにおいては、第１図に示され
るものとは異なり、１つの窓４に複数種類のＸ線透過膜
等が取付けられている。このような構造とすることによ
り、Ｘ線しやへい根２ｂの構造が簡単になり、またサイ
ズを小さくすることも可能となる。
るものとは異なり、１つの窓４に複数種類のＸ線透過膜
等が取付けられている。このような構造とすることによ
り、Ｘ線しやへい根２ｂの構造が簡単になり、またサイ
ズを小さくすることも可能となる。
第４図は、本発明のさらに伯の実施例に係わる露光装置
を示す。同図の装置は、露光用の精密ステージ１１、お
よびレジスト評価手段９を例えば左右に移動させる移動
手段１２を備えている。
を示す。同図の装置は、露光用の精密ステージ１１、お
よびレジスト評価手段９を例えば左右に移動させる移動
手段１２を備えている。
第４図の装置においては、レジスト評価を行なう場合に
はレジスト評価手段９が移動手段１２により例えば左側
方向に移動され、Ｘ線３が照射されて前述のようにレジ
スト評価が行なわれる。この場合、精密ステージ１１は
、例えばレジスト評価手段９の側面等に移動されるか、
あるいは精密ステージ１１に窓等を設は露光試験時には
この窓を通してＸ線３を照ｒＡｆる等の方法が用いられ
る。これに対して、実際の製造過程で露光を行なう場合
には、レジスト評価手段９は例えば第４図の右端へ移動
されて精密ステージ１１上に置かれた図示しないウェハ
に露光が行なわれる。
はレジスト評価手段９が移動手段１２により例えば左側
方向に移動され、Ｘ線３が照射されて前述のようにレジ
スト評価が行なわれる。この場合、精密ステージ１１は
、例えばレジスト評価手段９の側面等に移動されるか、
あるいは精密ステージ１１に窓等を設は露光試験時には
この窓を通してＸ線３を照ｒＡｆる等の方法が用いられ
る。これに対して、実際の製造過程で露光を行なう場合
には、レジスト評価手段９は例えば第４図の右端へ移動
されて精密ステージ１１上に置かれた図示しないウェハ
に露光が行なわれる。
なお、以上の各実施例においてレジスト評価を行なう場
合には、Ｘ線じゃへい仮を固定しウェハを順次移動して
露光を行なってもよく、あるいはウェハ １を固定して
おきＸ線じゃへい板２を順次移動して露光を行なっても
よいことは明らかである。
合には、Ｘ線じゃへい仮を固定しウェハを順次移動して
露光を行なってもよく、あるいはウェハ １を固定して
おきＸ線じゃへい板２を順次移動して露光を行なっても
よいことは明らかである。
また、前述の露光操作において行なわれる複数回の露光
の内、各回の露光量はすべて同じにしてもよく、あるい
は各回の露光量を変化させてもよい。後者の場合には、
例えば初回の露光量のみ伯の回の露光機の１／２等とす
ることにより、レジストの露光量の変化ピッチを細かく
することが可能となり、少ない露光回数でよりきめ細か
な露光試験を行なうことが可能になる。
の内、各回の露光量はすべて同じにしてもよく、あるい
は各回の露光量を変化させてもよい。後者の場合には、
例えば初回の露光量のみ伯の回の露光機の１／２等とす
ることにより、レジストの露光量の変化ピッチを細かく
することが可能となり、少ない露光回数でよりきめ細か
な露光試験を行なうことが可能になる。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明によれば、多種類または種
々の厚さのＸ線透過膜あるいはＸ線吸収材等を実際に通
過したＸ線に対するレジストの感度およびγ値等の測定
を１度にかつ極めて的確に行なうことが可能となる。ま
た、予め各特性が知られたＸ線じゃへい板および感度が
知られているレジストを用いることにより、ターゲット
から放射されたＸ線の強度低下を測定することも可能に
なる。ざらに、本発明によれば、感度またはγ値等が未
知の新しいレジストについてもその評価を的確に行なう
ことが可能となり、かつ広範囲の感度およびγ値等の測
定を的確に行なうことができる。
々の厚さのＸ線透過膜あるいはＸ線吸収材等を実際に通
過したＸ線に対するレジストの感度およびγ値等の測定
を１度にかつ極めて的確に行なうことが可能となる。ま
た、予め各特性が知られたＸ線じゃへい板および感度が
知られているレジストを用いることにより、ターゲット
から放射されたＸ線の強度低下を測定することも可能に
なる。ざらに、本発明によれば、感度またはγ値等が未
知の新しいレジストについてもその評価を的確に行なう
ことが可能となり、かつ広範囲の感度およびγ値等の測
定を的確に行なうことができる。
第１図（ａ）および（ｂ ）はそれぞれ本発明に係わる
露光装置に使用されるレジスト評価手段を示す斜視図お
よび八−Ａ線から見た断面図、第２図は第１図のレジス
ト評価手段を使用した露光装置を示す概略的説明図、第
３図はレジスト評価手段の他の例を示す斜視図、第４図
は本発明の使の実施例に係わる露光装置を示す概略的説
明図、そして第５図は従来形のレジスト評価手段を示す
斜視図である。 １：ウェハ、２．２ａ、２ｂ ： Ｘ線しヤヘい板、３
：Ｘ線、４．４−１．４−２．’４−３．・・・：窓、
５：Ｘ線透過膜、６：Ｘ線吸収材、７：レジスト、８：
ターゲット、９ニレジスト評価手段、１０：電子ビーム
、１１：精密ステージ、１２：移動手段。 第２図
露光装置に使用されるレジスト評価手段を示す斜視図お
よび八−Ａ線から見た断面図、第２図は第１図のレジス
ト評価手段を使用した露光装置を示す概略的説明図、第
３図はレジスト評価手段の他の例を示す斜視図、第４図
は本発明の使の実施例に係わる露光装置を示す概略的説
明図、そして第５図は従来形のレジスト評価手段を示す
斜視図である。 １：ウェハ、２．２ａ、２ｂ ： Ｘ線しヤヘい板、３
：Ｘ線、４．４−１．４−２．’４−３．・・・：窓、
５：Ｘ線透過膜、６：Ｘ線吸収材、７：レジスト、８：
ターゲット、９ニレジスト評価手段、１０：電子ビーム
、１１：精密ステージ、１２：移動手段。 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、単数または複数の開口部を有し、該開口部に単数ま
たは複数種類のＸ線透過膜および／またはＸ線吸収材を
備えたＸ線しゃへい板、該Ｘ線しゃへい板と被露光体と
を相対的に移動する搬送手段、およびＸ線照射手段を具
備し、前記Ｘ線しゃへい板を介して被露光体に所定時間
露光した後該Ｘ線しゃへい板と被露光体とを相対的に所
定距離だけ移動し再び露光を行なうことをくり返すこと
により露光試験を行なうことを特徴とする露光装置。 ２、前記複数回の露光の内少なくとも１回は露光量を他
の回の露光量と異ならしめた特許請求の範囲第１項に記
載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60156113A JPS6218027A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60156113A JPS6218027A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6218027A true JPS6218027A (ja) | 1987-01-27 |
Family
ID=15620594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60156113A Pending JPS6218027A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6218027A (ja) |
-
1985
- 1985-07-17 JP JP60156113A patent/JPS6218027A/ja active Pending
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