JPS62170981A - 複写プロセス装置 - Google Patents
複写プロセス装置Info
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- JPS62170981A JPS62170981A JP61013344A JP1334486A JPS62170981A JP S62170981 A JPS62170981 A JP S62170981A JP 61013344 A JP61013344 A JP 61013344A JP 1334486 A JP1334486 A JP 1334486A JP S62170981 A JPS62170981 A JP S62170981A
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- Japan
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- leakage current
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- Pending
Links
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Landscapes
- Discharging, Photosensitive Material Shape In Electrophotography (AREA)
- Dry Development In Electrophotography (AREA)
- Control Or Security For Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
この発明は、電子写真法を用いた画像形成装置に備えら
れ、感光体上に現像剤画像を形成する複写プロセス装置
に関する。
れ、感光体上に現像剤画像を形成する複写プロセス装置
に関する。
〈発明の概要〉
この発明に係る複写プロセス装置は、画像形成状態を常
に良好に保つため、現像剤のリーク電流を検出するリー
ク電流検知手段を設けることにより、現像剤のリーク電
流を求め、このリーク電流と感光体の温度との関係から
画像濃度を一定に保ち得る温度を求め、この温度を設定
温度としてヒータを制御するようにしたものである。
に良好に保つため、現像剤のリーク電流を検出するリー
ク電流検知手段を設けることにより、現像剤のリーク電
流を求め、このリーク電流と感光体の温度との関係から
画像濃度を一定に保ち得る温度を求め、この温度を設定
温度としてヒータを制御するようにしたものである。
〈従来技術とその欠点〉
電子写真法を用いた画像形成装置では、感光体の表面に
単一極性の電荷を帯電した後、露光光を照射し静電潜像
を形成する。この潜像に現像装置から現像剤が供給され
顕像化される。現像剤によって顕像化された像が用紙等
の転写材上に転写されるため、転写材上の画像の良否は
、感光体上における現像剤の吸着状態に左右される。感
光体表面における現像剤の吸着状態は、現像剤の劣化に
よる特性変化や外部環境の変化等により不均一になり易
く、結果的に画像濃度が不安定になる場合がある。
単一極性の電荷を帯電した後、露光光を照射し静電潜像
を形成する。この潜像に現像装置から現像剤が供給され
顕像化される。現像剤によって顕像化された像が用紙等
の転写材上に転写されるため、転写材上の画像の良否は
、感光体上における現像剤の吸着状態に左右される。感
光体表面における現像剤の吸着状態は、現像剤の劣化に
よる特性変化や外部環境の変化等により不均一になり易
く、結果的に画像濃度が不安定になる場合がある。
このため従来は画像濃度を安定化するために、帯電器に
供給するコロナ電流を変更したり、現像時のバイアス電
圧を変更するようにしていた。しかしながらこのような
従来のものでは、感光体がリークしたり、オゾンの影響
が大きくなり、地肌が乱れたりコントラストが悪くなる
等の画像の劣化を生じる場合がある。また、一旦調整す
ると次の調整時までに現像剤の状態が変化し、画像濃度
が変化する場合があり、現像剤の特性変化に直ちに対応
することができない欠点があった。
供給するコロナ電流を変更したり、現像時のバイアス電
圧を変更するようにしていた。しかしながらこのような
従来のものでは、感光体がリークしたり、オゾンの影響
が大きくなり、地肌が乱れたりコントラストが悪くなる
等の画像の劣化を生じる場合がある。また、一旦調整す
ると次の調整時までに現像剤の状態が変化し、画像濃度
が変化する場合があり、現像剤の特性変化に直ちに対応
することができない欠点があった。
〈発明の目的〉
この発明の目的は上記従来の欠点に鑑み、現像装置内に
収納された現像剤のリーク電流を検出することにより現
像剤の特性変化を検出し、この変化に応じて感光体の温
度を変更することにより、感光体の表面における現像剤
の吸着状態を常に均一にし、画像濃度を安定化させるこ
とができる複写プロセス装置を提供することにある。
収納された現像剤のリーク電流を検出することにより現
像剤の特性変化を検出し、この変化に応じて感光体の温
度を変更することにより、感光体の表面における現像剤
の吸着状態を常に均一にし、画像濃度を安定化させるこ
とができる複写プロセス装置を提供することにある。
〈発明の構成および効果〉
この発明の複写プロセス装置は、感光体表面に現像剤を
供給する現像装置と、感光体の温度を上昇するヒータと
、感光体の温度が予め設定された設定温度となるように
ヒータをオン・オフするヒータ制御手段とを備えてなる
複写プロセス装置において、現像装置内の現像剤のリー
ク電流を検出するリーク電流検知手段と、画像濃度を一
定に保持した際のリーク電流と感光体の温度との関係を
記憶した記憶手段と、この記憶手段に記憶された関係か
らリーク電流検知手段の検出値に対応した温度を求め、
この温度を設定温度とする温度設定手段とを設けたこと
を特徴とする。
供給する現像装置と、感光体の温度を上昇するヒータと
、感光体の温度が予め設定された設定温度となるように
ヒータをオン・オフするヒータ制御手段とを備えてなる
複写プロセス装置において、現像装置内の現像剤のリー
ク電流を検出するリーク電流検知手段と、画像濃度を一
定に保持した際のリーク電流と感光体の温度との関係を
記憶した記憶手段と、この記憶手段に記憶された関係か
らリーク電流検知手段の検出値に対応した温度を求め、
この温度を設定温度とする温度設定手段とを設けたこと
を特徴とする。
以上の構成によりこの発明によれば、リーク電流検知手
段により現像装置内に収納された現像剤の特性変化を検
出し、記憶手段に記憶したリーク電流と感光体の温度と
の関係を用いてリーク電流検知手段の検出結果に対応し
た温度を求め、この温度を設定温度としてヒータ制御手
段を動作させ、ヒータのオン・オフを制御することがで
きる。
段により現像装置内に収納された現像剤の特性変化を検
出し、記憶手段に記憶したリーク電流と感光体の温度と
の関係を用いてリーク電流検知手段の検出結果に対応し
た温度を求め、この温度を設定温度としてヒータ制御手
段を動作させ、ヒータのオン・オフを制御することがで
きる。
したがって、現像装置内に収納された現像剤の状態に応
じて感光体の表面温度を変更し、表面電位を変えること
ができる。したがって、現像剤の特性変化に関わらず、
感光体の表面への現像剤の吸着状態を一定に保つことが
でき、画像濃度を安定化することができる。
じて感光体の表面温度を変更し、表面電位を変えること
ができる。したがって、現像剤の特性変化に関わらず、
感光体の表面への現像剤の吸着状態を一定に保つことが
でき、画像濃度を安定化することができる。
〈実施例〉
第2図は、この発明の実施例である感光体ヒータ制御装
置が用いられる感光体ドラムとその近傍の正面断面図で
ある。
置が用いられる感光体ドラムとその近傍の正面断面図で
ある。
感光体ドラム1は、中空円筒形状のアルミを素材とした
基材1bの表面にアモルファスシリコン(a−3i)の
感光体層1aを被覆して形成されている。この感光体ド
ラム1の内側面には感光体ヒータ2が設けられている。
基材1bの表面にアモルファスシリコン(a−3i)の
感光体層1aを被覆して形成されている。この感光体ド
ラム1の内側面には感光体ヒータ2が設けられている。
感光体ヒータ2は感光体ドラム1の内側面の全面に対向
するように設けられている。この感光体ヒータ2には孔
部2aが形成されており、この孔部2aに温度センサ3
が取り付けられている。温度センサ3は感温部を感光体
ドラム1の内側面に接するように取り付けられており、
感光体ドラム1の温度を検出する。
するように設けられている。この感光体ヒータ2には孔
部2aが形成されており、この孔部2aに温度センサ3
が取り付けられている。温度センサ3は感温部を感光体
ドラム1の内側面に接するように取り付けられており、
感光体ドラム1の温度を検出する。
感光体ドラム1は図外のフランジ部により、感光体軸4
に回転自在に支持されるとともに、同じく図外の伝達手
段により矢印A方向の回転力が伝達される。感光体ヒー
タ2は感光体軸4に直接固定されており、感光体ドラム
1が回転中にも感光体ヒータ2は停止している。
に回転自在に支持されるとともに、同じく図外の伝達手
段により矢印A方向の回転力が伝達される。感光体ヒー
タ2は感光体軸4に直接固定されており、感光体ドラム
1が回転中にも感光体ヒータ2は停止している。
感光体ドラム1の外周部には帯電チャージャ5、現像装
置6、転写チャージャ7、クリーナ8および除電チャー
ジャ9が設けられ、感光体ドラム1とともに複写プロセ
ス部を構成している。現像装置6の内部にはマグネット
ローラ6aおよび攪拌ローラ6bが回転自在に支持され
るとともに、現像剤6cが収納されている。現像バイア
ス電圧Eは、マグネットローラ6aに印加される。攪拌
ローラ6bには対向電極が設けられており、マグネット
ローラ6aからは現像剤6Cの抵抗値の変化に応じた電
流が抵抗Rを通して流れる。抵抗Rにおける電圧降下す
なわち電流量をリーク電流測定回路10に取り組む。こ
のようにしてリーク電流測定回路10の測定値から現像
剤の抵抗値を読み取り、その劣化度を検出する。
置6、転写チャージャ7、クリーナ8および除電チャー
ジャ9が設けられ、感光体ドラム1とともに複写プロセ
ス部を構成している。現像装置6の内部にはマグネット
ローラ6aおよび攪拌ローラ6bが回転自在に支持され
るとともに、現像剤6cが収納されている。現像バイア
ス電圧Eは、マグネットローラ6aに印加される。攪拌
ローラ6bには対向電極が設けられており、マグネット
ローラ6aからは現像剤6Cの抵抗値の変化に応じた電
流が抵抗Rを通して流れる。抵抗Rにおける電圧降下す
なわち電流量をリーク電流測定回路10に取り組む。こ
のようにしてリーク電流測定回路10の測定値から現像
剤の抵抗値を読み取り、その劣化度を検出する。
第3図〜第5図は、上記複写プロセス装置の一部を構成
する感光体および現像剤の物性を示す図であり、それぞ
れ画像濃度と感光体の表面温度との関係、画像濃度と現
像剤のリーク電流値との関係および表面温度とリーク電
流値との関係を示している。
する感光体および現像剤の物性を示す図であり、それぞ
れ画像濃度と感光体の表面温度との関係、画像濃度と現
像剤のリーク電流値との関係および表面温度とリーク電
流値との関係を示している。
アモルファスシリコンを感光体とする感光体ドラム1で
は、その表面温度Tが上昇すると第3図に示すように画
像濃度IDは低下する。また、現像装置6に収納された
現像剤6Cの1−り電流値ILが増加すると、第5図に
示すように画像濃度IDも濃くなる。以上の関係から、
画像濃度10を一定にした際の感光体の表面温度Tと現
像剤のリーク電流値ILとの関係は第5図に示すように
なり、両者はほぼ比例関係にあるといえる。
は、その表面温度Tが上昇すると第3図に示すように画
像濃度IDは低下する。また、現像装置6に収納された
現像剤6Cの1−り電流値ILが増加すると、第5図に
示すように画像濃度IDも濃くなる。以上の関係から、
画像濃度10を一定にした際の感光体の表面温度Tと現
像剤のリーク電流値ILとの関係は第5図に示すように
なり、両者はほぼ比例関係にあるといえる。
第6図は、上記複写プロセス装置を複写機の制御部のブ
ロック図である。
ロック図である。
CPUI 1にはI10インターフェイス17を介して
操作パネル16の操作信号が入力される。
操作パネル16の操作信号が入力される。
またCPULlからはI10インターフェイス20を介
して複写プロセス部制御回路21に複写プロセス部の各
装置の動作を制御する信号が出力される。CPUIIに
接続されたROM1Bには複写プロセス部の制御を含む
プログラムが記憶されており、このプログラムにしたが
ってI10インターフェイス20から制御信号が出力さ
れる。また、リーク電流測定回路10の検出信号はA/
D変換器22およびI10インターフェイス20を介し
てCPUIIに入力される。
して複写プロセス部制御回路21に複写プロセス部の各
装置の動作を制御する信号が出力される。CPUIIに
接続されたROM1Bには複写プロセス部の制御を含む
プログラムが記憶されており、このプログラムにしたが
ってI10インターフェイス20から制御信号が出力さ
れる。また、リーク電流測定回路10の検出信号はA/
D変換器22およびI10インターフェイス20を介し
てCPUIIに入力される。
さらに、I10インターフェイス12を介してD/A変
換器13に感光体ドラム1の設定温度がデジタル信号と
して出力される。D/A変換器13ではこれをアナログ
信号に変換し、温度制御回路14に出力する。温度制御
回路14には温度センサ3の検出出力も入力され、これ
が設定温度に一致するようにヒータ制御回路15に制御
信号を出力する。ヒータ制御回路15は温度制御回路1
4からの制御信号に基づいてヒータ2のオン・オフを湘
H卸する。
換器13に感光体ドラム1の設定温度がデジタル信号と
して出力される。D/A変換器13ではこれをアナログ
信号に変換し、温度制御回路14に出力する。温度制御
回路14には温度センサ3の検出出力も入力され、これ
が設定温度に一致するようにヒータ制御回路15に制御
信号を出力する。ヒータ制御回路15は温度制御回路1
4からの制御信号に基づいてヒータ2のオン・オフを湘
H卸する。
CPU11に接続されたROM18には、第5図に示す
感光体の表面温度Tと現像剤のリーク電流値ILとの関
係がテーブルに記憶されている。
感光体の表面温度Tと現像剤のリーク電流値ILとの関
係がテーブルに記憶されている。
このテーブルが、この発明の記憶手段である。一方、R
AM19のメモリエリアM1にはリーク電流測定回路1
0の測定結果がバイナリコードで記憶される。RAM1
9にはこの他にも入出力されるデータが記憶される。
AM19のメモリエリアM1にはリーク電流測定回路1
0の測定結果がバイナリコードで記憶される。RAM1
9にはこの他にも入出力されるデータが記憶される。
第1図は、この発明の実施例である複写機の動作を示す
フローチャートである。
フローチャートである。
電源がオンされた後ステップnl(以下“ステップni
″を単にn i ”という。)においてウオーミングア
ンプが開始される。次いでn2で感光体ドラム1の温度
Tが設定温度TCになるように制御される。この温度制
御は複写作業実行中常に行われる。また、n3では複写
プロセスの回数を計数するカウンタIの内容がOにされ
る。n4でウオーミングアツプが終了するとn5でデー
タの設定が行われる。ここで設定されるデータは、複写
枚数、複写倍率、用紙サイズおよび原稿サイズ等であり
、操作パネル16からの入力または演算により設定され
る。
″を単にn i ”という。)においてウオーミングア
ンプが開始される。次いでn2で感光体ドラム1の温度
Tが設定温度TCになるように制御される。この温度制
御は複写作業実行中常に行われる。また、n3では複写
プロセスの回数を計数するカウンタIの内容がOにされ
る。n4でウオーミングアツプが終了するとn5でデー
タの設定が行われる。ここで設定されるデータは、複写
枚数、複写倍率、用紙サイズおよび原稿サイズ等であり
、操作パネル16からの入力または演算により設定され
る。
次いでn6でプリントスイッチが操作されるとn7に進
み、複写プロセスが行われる。複写プロセスが一回終了
する毎にn9でカウンタIの内容を1加算してnlOに
進む。また、n7で複写プロセスが実行された際には、
常にn8でリーク電流測定回路10により現在の現像剤
のリーク電流値ILの検出が行われる。
み、複写プロセスが行われる。複写プロセスが一回終了
する毎にn9でカウンタIの内容を1加算してnlOに
進む。また、n7で複写プロセスが実行された際には、
常にn8でリーク電流測定回路10により現在の現像剤
のリーク電流値ILの検出が行われる。
nloでは、ROM18に記憶した関係を用いて、検出
されたリーク電流値ILから温度tを読み出す。この温
度tをnilで設定値Tcの内容としてn12に進む。
されたリーク電流値ILから温度tを読み出す。この温
度tをnilで設定値Tcの内容としてn12に進む。
n12ではカウンタIの内容が設定枚数Nに一致したか
否かの判別が成される。n12において両者が一致しな
い場合にはn7に戻り再度複写プロセスが行われる。こ
のようにして設定枚数N分の複写プロセスが繰り返され
た後、n12でカウンタIの内容が設定枚数Nに一致し
た場合にはn13でウェイトサイクルを実行し、nlに
戻る。以上においてnloおよびn11がこの発明の温
度設定手段に相当し、リーク電流測定回路10およびn
8が同じくこの発明のリーク電流検知手段に相当する。
否かの判別が成される。n12において両者が一致しな
い場合にはn7に戻り再度複写プロセスが行われる。こ
のようにして設定枚数N分の複写プロセスが繰り返され
た後、n12でカウンタIの内容が設定枚数Nに一致し
た場合にはn13でウェイトサイクルを実行し、nlに
戻る。以上においてnloおよびn11がこの発明の温
度設定手段に相当し、リーク電流測定回路10およびn
8が同じくこの発明のリーク電流検知手段に相当する。
以上のようにしてこの実施例によれば、複写プロセス時
に現像装置6に収納された現像剤6cのリーク電流値I
Lを検出し、この値をもとにしてROM18から温度り
を読み出し、この温度tを設定温度Tcとする。複写作
業中は常に感光体ドラム1の表面温度Tか設定温度Tc
となるようにヒータ3が制御されており、現像剤6cの
特性変化に応じて感光体ドラム1の表面温度Tを変更し
、表面電位等の物性を変更して現像剤の吸着状態を一定
に維持することができる。
に現像装置6に収納された現像剤6cのリーク電流値I
Lを検出し、この値をもとにしてROM18から温度り
を読み出し、この温度tを設定温度Tcとする。複写作
業中は常に感光体ドラム1の表面温度Tか設定温度Tc
となるようにヒータ3が制御されており、現像剤6cの
特性変化に応じて感光体ドラム1の表面温度Tを変更し
、表面電位等の物性を変更して現像剤の吸着状態を一定
に維持することができる。
第1図はこの発明の実施例である複写プロセス装置を備
えた複写機の動作を示すフローチャート、第2図は同複
写機の複写プロセス部の構成を示す正面断面図、第3図
〜第5図は同複写プロセス装置の一部を構成する感光体
および現像剤の物性を示す図であり、第3図は画像濃度
と感光体の表面温度との関係を示し、第4図は画像濃度
と現像剤のリーク電流値との関係を示し、第5図は感光
体の表面温度と現像剤のリーク電流値との関係を示して
いる。第6図は、上記複写機の制御部のブロック図であ
る。 1−感光体ドラム、2−感光体ヒータ、3一温度センサ
、10−リーク電流測定回路。
えた複写機の動作を示すフローチャート、第2図は同複
写機の複写プロセス部の構成を示す正面断面図、第3図
〜第5図は同複写プロセス装置の一部を構成する感光体
および現像剤の物性を示す図であり、第3図は画像濃度
と感光体の表面温度との関係を示し、第4図は画像濃度
と現像剤のリーク電流値との関係を示し、第5図は感光
体の表面温度と現像剤のリーク電流値との関係を示して
いる。第6図は、上記複写機の制御部のブロック図であ
る。 1−感光体ドラム、2−感光体ヒータ、3一温度センサ
、10−リーク電流測定回路。
Claims (1)
- (1)感光体表面に現像剤を供給する現像装置と、感光
体の温度を上昇するヒータと、感光体の温度が予め設定
された設定温度となるようにヒータをオン・オフするヒ
ータ制御手段とを備えてなる複写プロセス装置において
、 現像装置内の現像剤のリーク電流を検出するリーク電流
検知手段と、画像濃度を一定に保持した際のリーク電流
と感光体の温度との関係を記憶した記憶手段と、この記
憶手段に記憶した関係から前記リーク電流検知手段の検
出値に対応した温度を求め、この温度を前記設定温度と
する温度設定手段と、を設けてなる複写プロセス装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61013344A JPS62170981A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | 複写プロセス装置 |
US07/268,652 US5019862A (en) | 1986-01-23 | 1988-11-08 | Heat control for photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61013344A JPS62170981A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | 複写プロセス装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62170981A true JPS62170981A (ja) | 1987-07-28 |
Family
ID=11830494
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61013344A Pending JPS62170981A (ja) | 1986-01-23 | 1986-01-23 | 複写プロセス装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62170981A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0432858A (ja) * | 1990-05-29 | 1992-02-04 | Fujitsu Ltd | ドラムヒータ制御方法 |
-
1986
- 1986-01-23 JP JP61013344A patent/JPS62170981A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0432858A (ja) * | 1990-05-29 | 1992-02-04 | Fujitsu Ltd | ドラムヒータ制御方法 |
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