JPS62170962A - ペリクル膜の保持方法 - Google Patents
ペリクル膜の保持方法Info
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- JPS62170962A JPS62170962A JP61012000A JP1200086A JPS62170962A JP S62170962 A JPS62170962 A JP S62170962A JP 61012000 A JP61012000 A JP 61012000A JP 1200086 A JP1200086 A JP 1200086A JP S62170962 A JPS62170962 A JP S62170962A
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- pellicle
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- air
- mask
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔櫃要〕
ペリクルホルダーをパターン欠陥となる粒子の侵入を阻
止する通気性のある小孔を有する材料で形成する。
止する通気性のある小孔を有する材料で形成する。
本発明はべりタル膜の保持方法に関するもので、さらに
詳しく言えば、ペリクル膜を保持するペリクルホルダー
を改良し、それによってペリクル膜で囲まれる空間内の
圧力を外界の圧力と同じ圧力に保つ方法に関する。
詳しく言えば、ペリクル膜を保持するペリクルホルダー
を改良し、それによってペリクル膜で囲まれる空間内の
圧力を外界の圧力と同じ圧力に保つ方法に関する。
第3図の正面断面図に示されるペリクルフレームは知ら
れたものであり、同図において、11はペリタルホルダ
ー、12はペリタル膜、13はマスクをそれぞれ示す。
れたものであり、同図において、11はペリタルホルダ
ー、12はペリタル膜、13はマスクをそれぞれ示す。
ペリクル(pellicle)とは、それに照射された
光の一部を反射し残りの部分を透過させて光のビームを
分離する場合などに用いられるものであるが、ホトレジ
ストの露光などの分野では光を透過させる透明な薄膜を
ペリクル膜と呼称し、それは有機材料で作ったフィルム
である。
光の一部を反射し残りの部分を透過させて光のビームを
分離する場合などに用いられるものであるが、ホトレジ
ストの露光などの分野では光を透過させる透明な薄膜を
ペリクル膜と呼称し、それは有機材料で作ったフィルム
である。
使用においてはマスク13の両側にペリクルホルダー1
1が配置され、図に見て上方の光学系からの光はペリク
ル膜/マスク/ペリクル膜(図示せず)を通って例えば
下方に配置されたウェハ上に塗布されたホトレジスト膜
に照射される。
1が配置され、図に見て上方の光学系からの光はペリク
ル膜/マスク/ペリクル膜(図示せず)を通って例えば
下方に配置されたウェハ上に塗布されたホトレジスト膜
に照射される。
ペリクルホルダー11は一般にアルミニウムなどの金属
で作られた枠で、その−刃側にペリクル膜12が貼り付
けである。ペリクル膜はマスクをゴミの汚染から保護す
るためのもので、マスクの両側に配置されてマスクを保
護し、露光時も同じ状態で使用される。
で作られた枠で、その−刃側にペリクル膜12が貼り付
けである。ペリクル膜はマスクをゴミの汚染から保護す
るためのもので、マスクの両側に配置されてマスクを保
護し、露光時も同じ状態で使用される。
ペリクル膜は使用の前に空気またはガスを吹き付けて(
パージして)その外側がきれいに保たれる。しかし、ゴ
ミを皆無にすることは難しく、露光時にペリクル膜の上
にゴミ15が付着したままであることがある。しかし、
露光時には光学系の焦点をマスクのパターン14に合せ
、マスクのパターン14をウェハ上に投影するものであ
るので、ペリクル膜上のゴミは特に大きくないかぎり問
題にならない。しかし、ゴミ15がマスク上にあると、
そのゴミはウェハ上に投影され、集積回路(IC)形成
の妨げとなる。
パージして)その外側がきれいに保たれる。しかし、ゴ
ミを皆無にすることは難しく、露光時にペリクル膜の上
にゴミ15が付着したままであることがある。しかし、
露光時には光学系の焦点をマスクのパターン14に合せ
、マスクのパターン14をウェハ上に投影するものであ
るので、ペリクル膜上のゴミは特に大きくないかぎり問
題にならない。しかし、ゴミ15がマスク上にあると、
そのゴミはウェハ上に投影され、集積回路(IC)形成
の妨げとなる。
上記したペリクル膜12のためのペリクルホルダー11
は、従来は前記した如く Aβの如き通気性のない金属
で作られていた。ところで、マスクを使用して露光をな
す場合、ペリクル膜12、ペリクルホルダー11および
マスク13で囲まれた空間(以下単に内部という)が赤
外線などの照射を受けた場合に、内部の空気は外界から
遮断されていて内部と外界との間に空気の流通がないか
ら、内部の温度によって内部の空気が膨張し、内部の圧
力が外界の圧力よりも高くなる。
は、従来は前記した如く Aβの如き通気性のない金属
で作られていた。ところで、マスクを使用して露光をな
す場合、ペリクル膜12、ペリクルホルダー11および
マスク13で囲まれた空間(以下単に内部という)が赤
外線などの照射を受けた場合に、内部の空気は外界から
遮断されていて内部と外界との間に空気の流通がないか
ら、内部の温度によって内部の空気が膨張し、内部の圧
力が外界の圧力よりも高くなる。
その結果、
■ペリクル膜自体のたわみが発生し、また■ペリクル膜
とペリクルホルダー11またはべりタルホルダー11と
マスク13の接着の剥離が発生し、その結果、マスク1
3の上のパターン14の歪み、重ね合せの精度の低下、
ペリクル膜12の破損、パターン欠陥となる粒子(ゴミ
など)の内部への侵入、などの問題が発生した。なお、
前記した内部と外界との温度差、圧力差の発生は、露光
中においてだけでな(マスクの保存中にも見られる現象
である。
とペリクルホルダー11またはべりタルホルダー11と
マスク13の接着の剥離が発生し、その結果、マスク1
3の上のパターン14の歪み、重ね合せの精度の低下、
ペリクル膜12の破損、パターン欠陥となる粒子(ゴミ
など)の内部への侵入、などの問題が発生した。なお、
前記した内部と外界との温度差、圧力差の発生は、露光
中においてだけでな(マスクの保存中にも見られる現象
である。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、内部
と外界の温度差、圧力差による前記した問題の発生を防
止しうるペリクル膜の保持方法を提供することを目的と
する。
と外界の温度差、圧力差による前記した問題の発生を防
止しうるペリクル膜の保持方法を提供することを目的と
する。
第1図は本発明実施例の部分的断面図、第2図は本発明
にかかるペリクルホルダーの一部の詳細断面図である。
にかかるペリクルホルダーの一部の詳細断面図である。
本発明においては、ペリクルホルダー21を通気性のあ
る小孔23を有する材料で形成し、内部と外界の温度差
、圧力差の発生を解消するものである。
る小孔23を有する材料で形成し、内部と外界の温度差
、圧力差の発生を解消するものである。
上記した方法において、例えば内部の温度が上昇し、内
部の空気が膨張し内部の圧力が高(なっても、内部の空
気はべりタルホルダー21の小孔23を通って外界に流
出し、それによって内部と外界の圧力差がなくなる。逆
に、内部の温度が低下し、空気が収縮して圧力が降下し
ても、外界から空気が前記した小孔23を通って内部に
入るから、同じようにして内部と外界の圧力差が発生し
なくなる。
部の空気が膨張し内部の圧力が高(なっても、内部の空
気はべりタルホルダー21の小孔23を通って外界に流
出し、それによって内部と外界の圧力差がなくなる。逆
に、内部の温度が低下し、空気が収縮して圧力が降下し
ても、外界から空気が前記した小孔23を通って内部に
入るから、同じようにして内部と外界の圧力差が発生し
なくなる。
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
。
本発明に使用するペリクル膜12、ペリクルホルダー2
1の構造は従来例と全く同様で、本発明のペリクルホル
ダー21は第1図に部分的に示される。
1の構造は従来例と全く同様で、本発明のペリクルホル
ダー21は第1図に部分的に示される。
ペリクルホルダー21は、機械的強度をもち、通気性の
ある小孔23を有する材料、例えばジンタートニッケル
にッケル(Ni)粉を熱と圧力によって焼結した材料)
で作る。第1図に円■で示す部分は第2図に拡大して図
示され、図において、22はNi粒子、23は小孔であ
る。なお第2図の左の部分のしわは、Ni粒子22が重
なり合って配置された状態を模式的に示すためのもので
ある。
ある小孔23を有する材料、例えばジンタートニッケル
にッケル(Ni)粉を熱と圧力によって焼結した材料)
で作る。第1図に円■で示す部分は第2図に拡大して図
示され、図において、22はNi粒子、23は小孔であ
る。なお第2図の左の部分のしわは、Ni粒子22が重
なり合って配置された状態を模式的に示すためのもので
ある。
第2図を参照すると、ゴミ15は図示の如<Ni粒子2
2に妨げられてペリクルホルダー21を通過することが
できない一方で、空気は小孔23を通ることができるの
で、内部と外界との間には空気の流通が実現され、内部
の圧力が外界の圧力に追随するので外界の圧力に相対的
により大になったり小になったりすることが防止され、
従来例において経験された問題の発生が抑止された。
2に妨げられてペリクルホルダー21を通過することが
できない一方で、空気は小孔23を通ることができるの
で、内部と外界との間には空気の流通が実現され、内部
の圧力が外界の圧力に追随するので外界の圧力に相対的
により大になったり小になったりすることが防止され、
従来例において経験された問題の発生が抑止された。
ペリクルホルダー21は前記したNiの粒子で作られて
いるので接着剤との密着性が良く、ペリクル膜が良好に
接着され、さらにはべりタルホルダー21が密着性良く
マスク13に接着される付加的な効果もある。
いるので接着剤との密着性が良く、ペリクル膜が良好に
接着され、さらにはべりタルホルダー21が密着性良く
マスク13に接着される付加的な効果もある。
以上性べてきたように本発明によれば、ペリクルホルダ
ーを通気性ある小孔を有する材料で作ることにより、マ
スクの使用、保存、運搬中などにおける内部と外界の圧
力差の発生を防止でき、精度の高い露光がなされるだけ
でなく、ペリクルの破損、ペリクルホルダーとマスクと
の間の接着の剥離などの問題が解決される。
ーを通気性ある小孔を有する材料で作ることにより、マ
スクの使用、保存、運搬中などにおける内部と外界の圧
力差の発生を防止でき、精度の高い露光がなされるだけ
でなく、ペリクルの破損、ペリクルホルダーとマスクと
の間の接着の剥離などの問題が解決される。
第1図は本発明実施例の部分的断面図、第2図は第1図
の円■の詳細断面図、 第3図は従来例断面図である。 第1図ないし第3図において、 11と21はべりクルホルダー、 12はペリタル膜、 13はマスク、 14はパターン、 15はゴミ、 22はNi粒子、 23は小孔である。
の円■の詳細断面図、 第3図は従来例断面図である。 第1図ないし第3図において、 11と21はべりクルホルダー、 12はペリタル膜、 13はマスク、 14はパターン、 15はゴミ、 22はNi粒子、 23は小孔である。
Claims (1)
- マスク(13)を保護するペリクル膜(12)を、ペリ
クル膜(12)、ペリクルホルダー(21)およびマス
ク(13)によって囲まれる内部空間における圧力が、
外界の圧力に追随する如くに保持することを特徴とする
ペリクル膜の保持方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61012000A JPS62170962A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | ペリクル膜の保持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61012000A JPS62170962A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | ペリクル膜の保持方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62170962A true JPS62170962A (ja) | 1987-07-28 |
Family
ID=11793315
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61012000A Pending JPS62170962A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | ペリクル膜の保持方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62170962A (ja) |
-
1986
- 1986-01-24 JP JP61012000A patent/JPS62170962A/ja active Pending
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