KR100571397B1 - 포토 마스크용 펠리클 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 포토 마스크용 펠리클은 포토 마스크 위에 위치하는 투명 박막, 투명 박막을 지지하며 포토 마스크에 부착되어 있는 프레임, 프레임에 형성되어 공기를 이동시키는 벤트홀, 벤트홀과 연결되어 프레임의 외측면에 설치되어 있는 풍선 형태의 복수개의 압력 조절기를 포함한다. 따라서, 본 발명에 따른 포토 마스크용 펠리클은 마스크 패턴 영역을 완전히 밀폐하고 풍선 형태의 압력 조절기를 프레임에 부착함으로써 노광 시 포토 마스크용 펠리클이 부풀거나 저온에서 수축하지 않도록 하고, 미세 파티클 및 화학적 오염을 원천적으로 방지할 수 있다는 장점이 있다.
포토마스크, 포토 마스크용 펠리클, 프레임,

Description

포토 마스크용 펠리클{PELLICLE FOR PHOTO MASK}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크용 펠리클을 포함하는 마스크의 평면도이고,
도 2는 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크용 펠리클의 단면도이고,
도 3은 압력 조절기가 수축하는 상태를 도시한 도면이고,
도 4는 압력 조절기가 팽창하는 상태를 도시한 도면이다.
본 발명은 포토리소그래피(Photolithography) 공정에 사용되는 포토 마스크용 펠리클(Pellicle)에 관한 것이다.
일반적으로 포토 마스크용 펠리클(Pellicle)이란 마스크(Mask)의 크롬(Chrome) 패턴 영역이 대기 중 분자나 다른 형태의 오염되는 것을 방지하는 것으로서, 노광 빛을 99% 이상 투과시키는 박막과 이를 마스크에 부착 및 지지해 주는 프레임(Frame)으로 구성된다.
이와 같이, 포토 마스크용 펠리클은 마스크(Mask)의 크롬 패턴 영역을 밀폐 및 보호함으로써 마스크의 오염을 원천적으로 방지한다.
종래의 포토 마스크용 펠리클은 노광 시 내부 공기의 열팽창에 의해 부풀거나 저온에서 수축되어 포토 마스크용 펠리클 박막이 손상되는 것을 방지하기 위해 프레임에 미세한 구멍이나 파티클 필터(Filter)를 장착하여 포토 마스크용 펠리클 내부 및 외부로의 공기 흐름을 발생시켜서 압력을 조절하였다. 그러나, 이를 통해 미세 파티클(Particle) 및 화학 성분이 내부로 유입되어 마스크의 크롬 패턴 영역이 오염되어 패턴 불량을 초래한다는 문제점이 있었다.
본 발명의 기술적 과제는 벤트홀을 통한 미세 파티클 및 화학적 오염을 원천적으로 방지할 수 있는 포토 마스크용 펠리클을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 포토 마스크용 펠리클은 포토 마스크 위에 위치하는 투명 박막, 상기 투명 박막을 지지하며 포토 마스크에 부착되어 있는 프레임, 상기 프레임에 형성되어 공기를 이동시키는 벤트홀, 상기 벤트홀과 연결되어 상기 프레임의 외측면에 설치되어 있는 풍선 형태의 복수개의 압력 조절기를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 포토 마스크 및 압력 조절기 내부에는 고순도의 불활성 기체가 주입되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 상기 불활성 기체는 질소 또는 아르곤인 것이 바람직하다.
또한, 상기 압력 조절기는 상기 프레임의 코너부에 설치되어 있는 것이 바람 직하다.
그러면, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
이제 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크용 펠리클 및 그 제조 방법에 대하여 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크용 펠리클을 포함하는 마스크의 평면도이고, 도 2는 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크용 펠리클의 단면도이다.
도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크용 펠리클은 포토 마스크(1) 위에 위치하는 투명 박막(10), 투명 박막(10)을 지지하며 포토 마스크(1)에 부착되어 있는 프레임(20)을 포함한다.
투명 박막(10)은 얇고 광학적으로 투과되는 니트로셀룰로스(Nitrocellulose)등과 같은 투명 필림인 것이 바람직하다.
그리고, 프레임(20)에는 공기를 이동시키는 벤트홀(Vent hole)(30)이 형성되어 있으며, 벤트홀(30)의 외부에는 풍선 형태의 복수개의 압력 조절기(40)가 설치되어 있다. 이러한 압력 조절기(40)는 프레임(20)의 코너부에 설치되어 있는 것이 바람직하다.
도 1에 도시한 바와 같이, 압력 조절기(40)는 프레임(20)의 네 변에 각각 1 개씩 부착하는 것이 바람직하며, 노광 장비나 사용 환경 등의 상황에 따라 그 수를 줄이거나 증가시키는 것도 가능하다.
또한, 도 1에 도시한 바와 같이, 압력 조절기(40)는 프레임(20)의 코너부에 설치되어 있으나, 노광 장비나 사용환경 등의 상황에 따라 그 위치를 변경할 수도 있다.
압력 조절기(40) 내부에는 고순도의 불활성 기체가 주입되어 있으며, 포토 마스크(1)와 펠리클의 박막(10) 사이 공간(A)에도 고순도의 불활성 기체가 주입되어 있고, 불활성 기체는 고순도(99.9999% 이상)의 질소(N2) 또는 아르곤(Ar)인 것이 바람직하다. 이러한 불활성 기체는 열팽창률이 적고, 반응성이 최소이기 때문이다.
이 경우, 노광 시 온도 상승에 의해 포토 마스크용 펠리클이 부풀기 전에 서서히 불활성 기체가 풍선 형태의 압력 조절기(40) 내부로 들어가면서 도 4에 도시한 바와 같이, 펠리클이 부풀어지는 대신에 압력 조절기(40)가 팽창된다.
또한, 도 3에 도시한 바와 같이, 반대로 온도가 떨어지면 압력 조절기(40)가 수축하면서 압력 조절기(40) 내부의 기체가 다시 포토 마스크용 펠리클 내부로 유입된다. 따라서, 포토 마스크(1)와 펠리클의 박막(10) 사이 공간(A)에는 항상 일정한 압력이 유지된다.
그리고, 포토 마스크용 펠리클의 박막(10)과 포토 마스크(1) 사이 공간(A)의 압력을 항상 일정하게 유지하기 위해 압력 조절기(40)의 재질, 두께 및 크기를 최 적화하는 것이 바람직하다.
이와 같이, 본 발명의 포토 마스크용 펠리클은 압력 변화를 자동으로 보상하는 풍선 형태의 압력 조절기(40)를 프레임(20)에 부착함으로써 노광 시 포토 마스크용 펠리클이 부풀거나 저온에서 수축하지 않도록 하면서 미세 파티클 및 화학적 오염을 원천적으로 방지한다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
본 발명에 따른 포토 마스크용 펠리클은 마스크 패턴 영역을 완전히 밀폐하고 풍선 형태의 압력 조절기를 프레임에 부착함으로써 노광 시 포토 마스크용 펠리클이 부풀거나 저온에서 수축하지 않도록 하고, 미세 파티클 및 화학적 오염을 원천적으로 방지할 수 있다는 장점이 있다.

Claims (4)

  1. 포토 마스크 위에 위치하는 투명 박막,
    상기 투명 박막을 지지하며 포토 마스크에 부착되어 있는 프레임,
    상기 프레임에 형성되어 공기를 이동시키는 벤트홀,
    상기 벤트홀과 연결되어 상기 프레임의 외측면에 설치되어 있는 풍선 형태의 복수개의 압력 조절기를 포함하며,
    상기 포토 마스크 내부 및 상기 압력 조절기 내부에는 고순도의 불활성 기체가 주입되어 있는 포토 마스크용 펠리클.
  2. 삭제
  3. 제1항에서,
    상기 불활성 기체는 질소 또는 아르곤인 포토 마스크용 펠리클.
  4. 제1항에서,
    상기 압력 조절기는 상기 프레임의 코너부에 설치되어 있는 포토 마스크용 펠리클.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101076987B1 (ko) * 2009-11-30 2011-10-26 주식회사 피케이엘 펠리클 마운트 모니터링용 플레이트 및 이를 포함하는 펠리클 마운트 모니터링 시스템

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102242562B1 (ko) 2014-09-04 2021-04-20 삼성전자주식회사 극자외선(euv) 마스크 보호장치 및 그 보호장치를 포함한 euv 노광 장치
KR101714908B1 (ko) 2015-10-23 2017-03-10 한양대학교 에리카산학협력단 극자외선 리소그래피용 펠리클 구조체

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06258819A (ja) * 1993-03-02 1994-09-16 Nippon Precision Circuits Kk マスク保護用ペリクル
JPH06273922A (ja) * 1993-03-22 1994-09-30 Nippon Precision Circuits Kk マスク保護用ペリクル
JPH0968792A (ja) * 1995-08-31 1997-03-11 Shin Etsu Chem Co Ltd フィルター付ペリクル
KR20030002368A (ko) * 2001-06-29 2003-01-09 주식회사 하이닉스반도체 포토마스크 제조장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06258819A (ja) * 1993-03-02 1994-09-16 Nippon Precision Circuits Kk マスク保護用ペリクル
JPH06273922A (ja) * 1993-03-22 1994-09-30 Nippon Precision Circuits Kk マスク保護用ペリクル
JPH0968792A (ja) * 1995-08-31 1997-03-11 Shin Etsu Chem Co Ltd フィルター付ペリクル
KR20030002368A (ko) * 2001-06-29 2003-01-09 주식회사 하이닉스반도체 포토마스크 제조장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101076987B1 (ko) * 2009-11-30 2011-10-26 주식회사 피케이엘 펠리클 마운트 모니터링용 플레이트 및 이를 포함하는 펠리클 마운트 모니터링 시스템

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