KR20060118180A - 헤이즈 디펙트 방지를 위한 레티클 - Google Patents

Abstract

개시된 레티클은, 일면에 회로 패턴이 형성된 유리기판과, 유리기판 일면에 마련되어 회로 패턴을 둘러싸며, 마주보는 양 측에 에어 홀이 형성된 펠리클 프레임과, 펠리클 프레임 일측에 마련되어 펠리클 프레임과 함께 회로 패턴을 외부로부터 보호하는 페리클 및 에어 홀이 형성된 펠리클 프레임 양 측면에 탈착 가능하게 마련된 케미컬 필터를 포함하므로서, 헤이즈 디펙트를 발생하게 하는 분자의 펠리클 내로의 유입을 차단하여, 헤이즈 디펙트 발생 방지 및 그로 인한 웨이퍼로의 적정한 회로 패턴을 형성할 수 있게 하는 효과를 제공할 수 있다.

레티클, 헤이즈 디펙트

Description

헤이즈 디펙트 방지를 위한 레티클{Reticle for preventing haze defect}

도 1은 종래의 레티클을 나타낸 사시도,

도 2는 도 1의 회로 패턴 부근에서 헤이즈 디펙트가 발생하는 모습을 나타낸 도면,

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따라 레티클을 나타낸 사시도.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

100... 레티클 110... 유리기판

120... 펠리클 프레임 121... 에어 홀

122... 펠리클 130... 케미컬 필터

본 발명은 레티클에 관한 것으로서, 특히 광학적 노광 장비에 사용되는 레티클에 관한 것이다.

일반적으로 레티클(reticle)은 반도체 공정의 노광 장비에 사용되는 마스크(mask)를 말한다.

이러한 노광 장비에 사용되는 레티클로서 종래에는 도 1에 도시된 바와 같은 구조가 일반적으로 채용되고 있다.

도면을 참조하면, 레티클(10)은 일면에 빛을 차폐하는 회로 패턴(미도시)이 형성된 유리기판(20)과, 이 회로 패턴을 외부로부터 보호하기 위하여 회로 패턴을 둘러싸는 펠리클 프레임(pellicle frame;30) 및 이 펠리클 프레임(30)의 개방된 일측부에 마련된 투명막 형태의 펠리클(32)을 포함한다.

이 펠리클 프레임(30) 및 펠리클(32)은 유리기판(20)의 회로 패턴이 형성된 면에 마련되어, 회로 패턴 위로 파티클(particle)이 떨어져 웨이퍼(wafer;미도시) 상에 디펙트(defect)가 발생되는 것을 막기 위한 것이다. 이 펠리클 프레임(30) 측면에는 외부와 공기가 통하도록 에어 홀(air hall;31)이 형성된다.

이 에어 홀(31)은 펠리클(32) 내의 압력을 조절하고, 펠리클(32) 접착면이나 유리기판(20)에서 발생하는 가스를 외부로 배출하는 역할을 한다.

그런데, 이 에어 홀(31)로는 펠리클(32) 내부로부터 가스의 배출 뿐만 아니라 외부에서 이산화탄소나 암모니아, 이산화질소 등이 펠리클(32) 내부로 들어오는 통로 역할도 하게 된다. 만일 이러한 가스가 외부에서 펠리클(32) 내부로 들어와 노광 빛에 빈번히 노출되게 되면 화학 반응을 일으켜 도 2와 같이 회로 패턴(21) 부근에서 염(40)이 생성 및 성장되는 헤이즈 디펙트(haze defect)를 일으켜 펠리클(32) 내부에 있는 회로 패턴(21)의 형상을 변형 시키게 되는 문제점이 있다.

이와 같은 헤이즈 디펙트를 해결하기 위하여 수용성 용액으로 회로 패턴 부근에 생성된 염을 세정하는 방법이 제시되었다. 그러나, 이 세정의 경우 회수가 많아질 수록 회로 패턴이 식각되어, 나중에는 레티클을 다시 제작해야 하는 문제점이 있다.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 펠리클 내에서의 헤이즈 디펙트 현상을 용이하게 해결할 수 있도록 개선된 레티클을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 레티클은, 일면에 회로 패턴이 형성된 유리기판; 상기 유리기판 일면에 마련되어 상기 회로 패턴을 둘러싸며, 마주보는 양 측에 에어 홀이 형성된 펠리클 프레임; 상기 펠리클 프레임 일측에 마련되어 상기 펠리클 프레임과 함께 상기 회로 패턴을 외부로부터 보호하는 페리클; 및 상기 에어 홀이 형성된 펠리클 프레임 양 측면에 탈착 가능하게 마련된 케미컬 필터를 포함한다.

여기서, 상기 케미컬 필터는 흡착력을 가진 것이 바람직하다.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 레티클을 도시한 사시도이다.

도면을 참조하면, 레티클(100)은 유리기판(110)과, 펠리클 프레임(120)과, 펠리클(122) 및 케미컬 필터(chemical filter;130)를 포함한다.

유리기판(110)은 일면에 회로 패턴(미도시)이 형성된 석영판으로서, 웨이퍼(미도시) 표면에 원하는 회로 패턴을 형성하기 위해 반드시 필요한 원재료이다. 여 기서, 유리기판(110) 일면에 형성된 회로 패턴은 빛을 차폐하기 위한 것으로서 크롬, 에멀젼, 산화철, 실리콘 등이 사용된다.

펠리클 프레임(120)은 유리기판(110) 상에 형성된 회로 패턴을 둘러싸기 위한 것으로서, 유리기판(110)의 일면에 부착된다. 이 펠리클 프레임(110)은 양면이 개방된 사각 기둥 형상으로 개방된 일면에는 펠리클(122)이 부착되고, 타면은 유리기판(110)의 일면과 결합된다. 따라서, 회로 패턴은 펠리클 프레임(120)과 펠리클(122)에 의하여 밀봉되게 된다. 그리고 펠리클 프레임(120)의 마주 보는 양 측면에는 에어 홀(121)이 형성되는데, 이 에어 홀(121)은 펠리클 프레임(120)과 펠리클(122)에 의하여 밀봉된 공간의 공기 출입을 위한 경로 역할을 한다. 이하 펠리클 프레임(120)과 펠리클(122)에 의하여 밀봉된 공간을 펠리클(122) 내부라고 하겠다.

펠리클(122)은 얇고 투명한 막으로서, 유리기판(110)의 표면, 즉 회로 패턴이 형성된 표면을 대기 중의 분자나 다른 형태의 오염으로부터 보호해 준다. 이 펠리클(122)은 상술한 바와 같이 펠리클 프레임(120)의 일측에 부착된다.

케미컬 필터(130)는 펠리클 프레임(120)의 에어 홀(121)이 형성된 부분에 탈착 가능하도록 마련된다. 이 케미컬 필터(130)는 공기만을 통과시킬 수 있을 정도의 포어(pore)를 가지며, 포어를 통과하지 못하는 분자를 표면에서 흡착하는 흡착력을 가진다.

이와 같은 구성의 레티클(100)은 외부의 이산화탄소, 암모니아, 이산화질소 등의 분자를 케미컬 필터(130)에 의하여 펠리클(122) 내부로의 유입을 차단하므로서, 회로 패턴으로의 노광 시, 상기와 같은 분자에 의하여 발생하는 헤이즈 디펙트 를 방지할 수 있어, 웨이퍼로의 적정한 회로 패턴을 형성할 수 있게 된다.

상술한 바와 같이 본 발명의 레티클에 의하면, 펠리클 프레임의 에어 홀이 형성된 부분에 케미컬 필터를 탈착 가능하게 마련하여 헤이즈 디펙트를 발생하게 하는 분자의 펠리클 내로의 유입을 차단하므로서, 헤이즈 디펙트 발생 방지 및 그로 인한 웨이퍼로의 적정한 회로 패턴을 형성할 수 있게 하는 효과를 제공할 수 있다.

본 발명은 상기에 설명되고 도면에 예시된 것에 의해 한정되는 것은 아니며, 다음에 기재되는 청구의 범위 내에서 더 많은 변형 및 변용예가 가능한 것임은 물론이다.

Claims (2)

1. 일면에 회로 패턴이 형성된 유리기판;

   상기 유리기판 일면에 마련되어 상기 회로 패턴을 둘러싸며, 마주보는 양 측에 에어 홀이 형성된 펠리클 프레임;

   상기 펠리클 프레임 일측에 마련되어 상기 펠리클 프레임과 함께 상기 회로 패턴을 외부로부터 보호하는 페리클; 및

   상기 에어 홀이 형성된 펠리클 프레임 양 측면에 탈착 가능하게 마련된 케미컬 필터를 포함한 것을 특징으로 하는 레티클.
2. 제1항에 있어서,

   상기 케미컬 필터는 흡착력을 가진 것을 특징으로 하는 레티클.

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