KR0137943Y1 - 반도체 웨이퍼 제조용 페티클 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체 웨이퍼 제조용 페티클에 관한것으로, 종래에는 프레임(1)이 보호막(2)을 원판(3)에서 일정공간 이격되게 지지하는 역할을 담당하면서 원판(3)을 밀폐시키기 때문에 스텝퍼 장비내의 자외선에 의해 밀폐공간 내부의 공기가 팽창 또는 수축되어 상기 보호막(2)과, 프레임(1)이 부착된 부위에서 접착제(4)로 인한 이물질이 발생되고, 상기 보호막(2)의 팽창/수축시 보호막질이 렌즈효과를 발휘하여 고정도의 패턴 형성시 배율을 축소시키는 문제점이 있는 바, 프레임(11)의 각각의 측면에 밀폐되는 공간의 공기가 유동될 수 있는 공기유동공(air pass hole)(14)을 형성한 본 고안을 제공하여 스텝퍼 장비내의 자외선에 의해 밀폐공간 내부의 공기가 팽창 또는 수축되는 것이 방지되어 고정도의 패턴형성이 원활하게 이루어지도록 한 것이다.
Description
제1도는 종래 반도체 웨이퍼 제조용 페티클의 구성을 보인 단면도.
제2도는 종래 반도체 웨이퍼 제조용 페티클의 팽창, 수축시의 상태도.
제3도 내지 제5도는 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 제조용 페티클의 구성을 보인 것으로,
제3도는 평면도.
제4도는 제3도의 A-A'선 단면도.
제5도는 제4도의 B부 확대도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
11 : 프레임 11a, 11b : 상, 하부 프레임
12 : 보호막 13 : 원판
14 : 공기유동공 15 : 볼트
15a : 공기유동홈
본 고안은 반도체 웨이퍼 제조용 원판 보호막인 페티클에 관한 것으로, 특히 페티클의 보호기능과 아울러 이물질 발생을 억제하고, 페티클 내부의 공기가 팽창 및 수축됨으로 인한 미세 패턴 형성시의 불량을 방지하도록 한 반도체 웨이퍼 제조용 페티클에 관한 것이다.
종래에는 제1도에 도시한 바와 같이, 금속성 프레임(1)에 보호막(2)을 장착하여 원판에 부착하는 방식으로 원판의 대구경화 및 패턴의 고밀도, 고정도를 요구하는 최근의 추세에는 부적합점이 있었다. 이는 원판이 노광기 안에서 장시간 자외선(Ultra Violight)에 노출되면 제2도와 같이, 보호막(1)과 원판(3) 사이의 밀폐공간(S)의 공기가 팽창되어 빛의 경로를 바꿔주는 렌즈효과를 발휘하여 고정도의 패턴을 얻지 못하기 때문이다.
즉, 종래에는 웨이퍼의 원판(3)을 보호하기 위하여 프레임(1)의 보호막(2)으로 구성된 페티클이라는 구조물질이 부착되어 있으나, 상기 프레임(1)은 금속 물질로서 페티클의 지지구조로서만 가능하고 있는 것으로, 이와 같이 상기 프레임(1)이 보호막(2)을 원판(3)에서 일정공간 이격되게 지지하는 역할을 담당하면서도 원판(3)을 밀폐시키기 때문에 스텝퍼 장비내의 자외선에 의해 밀폐공간 내부의 공기가 팽창 또는 수축되어 상기 보호막(2)과, 프레임(1)이 부착된 부위에서 접착제(4)로 인한 이물질이 발생되고, 상기 보호막(2)의 팽창/수축시 보호막질이 렌즈효과를 발휘하여 고정도의 패턴 형성시 배율을 축소시키는 문제점을 야기시키는 것이었다.
미설명 부호 5는 Cr을 나타낸 것이다.
상기한 바와 같이 문제점을 감안하여 안출한 본 고안의 목적은 페티클의 보호기능과 아울러 이물질 발생을 억제하고, 페티클 내부의 공기가 팽창 및 수축됨으로 인한 미세 패턴 형성시의 불량을 방지하려는 것이다.
이러한 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 보호막을 지지하는 프레임의 측면에 공기가 유입/배출되는 공기유동공을 형성한 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 페티클이 제공된다.
상기 프레임은 상하부 프레임으로 나사에 의해 결합된 것을 특징으로 하며, 상기 나사에는 공기유동공과 연통되는 공기유동홈이 미세하게 형성된 것을 특징으로 한다.
이하, 상기한 바와 같은 본 고안을 첨부도면에 도시한 일실시예에 의거하여 보다 상세히 설명한다.
첨부도면 제3도 내지 제5도는 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 제조용 페티클의 구성을 보인 것으로, 제3도는 평면도이고, 제4도는 제3도의 A-A'선 단면도이며, 제5도는 제4도의 B부 확대도이다.
이에 도시한 바와 같이, 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 제조용 페티클은 원판(13)을 보호하는 보호막을 지지하는 프레임(11)의 각각의 측면에 밀폐되는 공간의 공기가 유동될 수 있는 공기유동공(air pass hole)(14)을 형성하여서 된 것이다.
또한, 상기 공기유동공(14)은 상하프레임(11a)(11b)의 결합시 제4도에 도시한 바와 같은 공기유동홈(15a)이 형성된 볼트(15)에 의해 결합되며, 상기 공기유동홈(15a)은 공기유동공(14)과 연통되도록 형성되어 있다.
이와 같이 구성된 본 고안 장치는 보호막인 페티클 내부에 기압차가 발생할 때, 프레임(11)의 측면에 형성된 공기유동공(14)을 통해 외부의 공기가 유입/배출되므로 보호막(12)가 프레임(11)으로 이루어지는 공간이 밀폐되지 않게 된다.
또한, 상기 공기유동공(14)을 통해 외부의 먼지나 이물질이 페티클의 내부로 유입되는 것은 볼트(15)에 미세하게 형성된 공기유동홈(15a)이 필터 역할을 담당하게 되어 이물질의 유입을 방지할 수 있게 된다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼의 원판 보호장치는 보호막과, 프레임으로 이루어지는 원판 상의 밀폐공간에 공기를 유동가능하도록 하여 스텝퍼 장비내의 자외선에 의해 밀폐공간 내부의 공기가 팽창 또는 수축되는 것이 방지되어 공정도의 패턴형성이 원활하게 이루어지게 되는 효과가 있다.
Claims (3)
- 보호막을 지지하는 프레임의 측면에 공기가 유입/배출되는 공기유동공을 형성한 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 페티클.
- 제1항에 있어서, 상기 프레임은 상하부 프레임으로 나사에 의해 결합된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 페티클.
- 제2항에 있어서, 상기 나사에는 공기유동공과 연통되는 공기유동홈이 미세하게 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 페티클.
Priority Applications (1)
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| KR2019950053637U KR0137943Y1 (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 반도체 웨이퍼 제조용 페티클 |
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| KR2019950053637U KR0137943Y1 (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 반도체 웨이퍼 제조용 페티클 |
Publications (2)
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| KR970046736U KR970046736U (ko) | 1997-07-31 |
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ID=19442527
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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1995
- 1995-12-29 KR KR2019950053637U patent/KR0137943Y1/ko not_active IP Right Cessation
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| KR970046736U (ko) | 1997-07-31 |
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