JPS62155215A - 抗腫瘍活性増強剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は抗腫瘍活性増強剤に関する。

従来の技術 本発明抗腫瘍活性増強剤の有効成分化合物は、従来これ
らがかかる抗腫瘍活性増強作用を有することにつき全く
知られていない。

発明が解決しようとする問題点 本発明者等は５−フルオロウラシル（５−ＦｔＪ）等の
抗腫瘍剤の効力の向上、低毒性化等を企てるべく鋭意検
討を重ねた結果、ある種のピリジン誘導体が、これを上
記５−ＦＵ等の抗腫瘍剤有効成分化合物と併用すること
によって該化合物の抗腫瘍活性を極めて強く増強する作
用を発揮することを見い出した。本発明はこの知見によ
り完成されたものである。

問題点を解決するための手段 本発明によれば、一般式 〔式中Ｒ１は水ｒＲ基又はアシルオキシ基を示す。

Ｒ２及びＲ４は夫々水素原子、ハロゲン原子、アミン基
、カルボキシル基、カルバモイル基、シアノ基、ニトロ
基、低級アルキル基、低級アルケニル基又は低級アルコ
キシカルボニル基を示す。Ｒ３及びＲ５は夫々水素原子
、水酸基又はアシルオキシ基を示す。またＲ１　、Ｒ３
及びＲ５のうち少なくとも１つが水酸基の場合には、ケ
ト・エノール豆変異性によりピリジン環の１■ 子は低級アルキル基、テトラヒドロフラニル基、テトラ
ヒドロピラニル基、低級アルコキシ低級アルキル 低級アルコキシカルボニル低級アルキルカルバモイル基
、フェニル低級アルコキシ低級アルキル基、フェニル環
上に置換基を有することのあるフェニルカルバモイル基
、低級アルキルカルバモイル基、カルボキシル低級アル
キルカルバモイル基、低級アルキルチオ低級アルキル基
及び低級アルケニル基からなる群から選ばれた置換基で
置換されていてもよい。但し一般式（式中αは水素原子
、低級アルキル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒ
ドロピラニル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級
アルキルカルバモイル基、低級アルキルチオ低級アルキ
ル基又は低級アルケニル基を示す。） で表わされる化合物を除く。〕 で表わされるピリジン誘導体を含有し、５−フルオロウ
ラシル及び生体内で５−フルオロウラシル生成能を有す
る化合物から選ばれた抗腫瘍化合物の抗腫瘍活性増強剤
が提供される。

好ましいピリジン誘導体としては、４−アセトキシ−５
−クロロ−２−ピリドン、４−ベンゾイルオキシ−５−
クロロ−２−ピリドン、５−クロロ−４−（２−フロイ
ルオキシ）−２−ピリドン２−アセトキシ−５−クロロ
−４−ヒドロキシピリジン、２−ベンゾイルオキシ−５
−クロロ−４−ヒドロキシピリジン、５−クロロ−４−
ヒドロキシ−１−（２−テトラヒドロフラニル）−２−
ピリドン、４−ベンゾイルオキシ−３−クロロ−１−（
２−テトラヒドロフラニル）−２−ピリドン、４−ベン
ゾイルオキシ−２−ピリドン、５−クロロ−２，４−ジ
アセトキシピリジン、６−ペンゾイルオキシー３−シア
ノ−２−ヒドロキシピリジン、３−シアノ−６−（２−
フロイルオキシ）−２−ヒドロキシピリジン、３−シア
ノ−２−ヒドロキシ−６−（２−テノイルオキシ）ピリ
ジン、６−ペンゾイルオキシー３−クロロ−２−ヒドロ
キシピリジン等を例示できる。より好ましくは、６−ペ
ンゾイルオキシー３−シアノ−２−ヒドロキシピリジン
、６−ペンゾイルオキシー３−クロロ−２−ヒドロキシ
ピリジン、４−アセトキシ−１５−クロロ−２−ピリド
ン、４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２−ピリドン
等を例示できる。

本発明の上記一般式（１）で表わされるピリジン誘導体
は、これを下記一般式（２−ａ）及び（２−ｂ）で表わ
される５−ＦｔＪ及び生体内で５−ＦＵ生成能を有する
化合物等の公知の制癌活性化合物と併用することによっ
て、該化合物の抗腫瘍活性を顕著に増強できる。

使用される公知制癌活性化合物としては、（ａ）一般式 〔式中Ｒ及びＲａ′は夫々同一もしくは異なって水素原
子、フタリジル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒ
ドロピラニル基、低級アルキルカルバモイル基、低級ア
ルコキシ低級アルキル基、フェニル低級アルコキシ低級
アルキル基、基においてＲｂ、Ｒｃ及びＲｄ夫々同一も
しくは異なって、水素原子、水酸基、フェニル低級アル
コキシ基、フェニル低級アルコキシ低級アルキルオキシ
基、低級アルカノイルオキシ基、アロイルオキシ基又は
フェニル環上に低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニ
トロ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基の１〜３個
を有することのあるアリルオキシカルボニルオキシ基を
示す。またＲｂ及びＲが同時に水酸基である場合、Ｒｂ
及びＲｏは、アルキリデン基又はアルキリデン基を介し
て結合し、アルキリデンジオキシ基又はアルキリデンジ
オキシ基を形成してもよい。但し、Ｒｂが水素原子のと
き、Ｒ及びＲｄは一方がフェニル低級アルコキシ基で他
方が低級アルカノイルオキシ基又はアロイルオキシ基で
あってはならない。〕 で表わされる５−フルオロウラシル化合物及び（ｂ）一
般式 （式中０１は低級アルコキシカルボニル基を示し、Ｑ２
は低級アルコキシ基又は基 −Ｏ−Ｎ　＝　ＣＨ−１，７を示す。〕で表わされる化
合物を挙げることができる。

上記一般式（２−ａ）及び（２−ｂ）で表わされる化合
物としては、５−フルオロウラシル（５−ｆ（Ｉ）、１
−（２−テトラヒドロフラニル）−５−フルオロウラシ
ル（ＦＴ−２０７＞、１−ヘキシルカルバモイル− （ＨＣＦＵ）、１−エトキシメチル−５−フルオロウラ
シル（ＯＦＵ）、５−フルオロウリジン（ＦＵＲ）、５
’　−デオキシ−５−フルオロウリジン（５’　ＤＦＵ
Ｒ＞、２’　−デオキシ−５−フルオロ−３−（３．４
−メチレンジオキシベンゾイル）ウリジン（ＴＫ−１　
１　７＞　、２’　−デオキシ−５−フルオロ−３’　
、５’−ビス−〇−（４−メトキシフェノキシカルボニ
ル）−３−（ｎ−プロポキシベンゾイル〉ウリジン（Ｆ
Ｆ−７０７＞、エチル（±）−６−ｔ−ブトキシ−５−
フルオロ−２，４−ジオキソへキサヒドロピリミジン−
γー５ーカルボキシレート（ＴＡＣ−２７８＞、１−７
タリジルー５−フルオロウラシル、２′−デオキシ−５
−フルオロウリジン（ＦＬＪＤＲ）、エチル　５−フル
オ０−６−　（ｅ）−（２−フルフリリデンーアミノキ
シ）−１．２。

３、４，５．６−へキサヒドロ−２，４−ジオキソピリ
ミジン−５−カルボキシレート、エチル５−フルオロ−
６−（Ｚ）−（２−フルフリリデンーアミノキシ）−１
．２．３，４，５．６−へキサヒドロ−２，４−ジオキ
ソピリミジン−５−カルボキシレート等を例示できる。

特に好ましい化合物としては、５−ＦＵ、１−（２−テ
トラヒドロフラニル）−５−フルオロウラシル、１−フ
タリジル−５−フルオロウラシル、５′−デオキシ−５
−フルオロウラシル、５−フルオロウリジン、２′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン、１−ｎ−へキシルカル
バモイル−５−フルオロウラシル等を例示できる。

また本発明のピリジン誘導体（１）は、本発明者が別途
に合成した優れた抗腫瘍活性作用を奏する下記一般式（
３）で表わされる２′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ン誘導体との併用によって、該化合物の抗腫瘍活性をも
増強することができる。

【式中Ｒ　及びＲｆは一方がフェニル環上に低級、アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基及びジ（低級アルキル）アミノ基がら選ばれる置換基を有することのあるフェニル低級アルキル基又は置換基として低級アルキレンジオキシ基又はフェニル基を有するフェニル低級アルキル基、フェニル低級アルケニル基又はナフチル低級アルキル基を示し、他方が水素原子又はアシル基を示す。Ｒ（Ｉ＋は水素原子、アシル基又はテトラヒドロフラニル基を示す。〕

上記一般式（３）で表わされる化合物のうち好ましい化
合物としては、３′−Ｏ−ベンジル−２′−デオキシ−
５−フルオロウリジン、３−ベンゾイル−３′−〇−ベ
ンジルー２′−デオキシー５−フルオロウリジン、５′
−〇−７セチルー３′−〇−ベンジル−２′〜デオキシ
−５−フルオロウリジン、２′−デオキシ−３’　−０
−（４−クロロベンジル〉−５−フルオロウリジン等を
例示できる。

本明細書において定義される各基は、夫々以下の通りで
ある。

ａ）低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル基等の炭素数１〜６のアルキル基を、ｂ）低級ア
ルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ
、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチル
オキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキ
シ基を、Ｃ）低級アルケニル基としては、ビニル、アリ
ル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、
２−ペンテニル、２−へキセニル基等の炭素数２〜６の
アルケニル基を、ｄ）ハロゲン原子としては、フッ素、
塩素、臭素、沃素原子を夫々例示できる。以下、本明細
書に用いる２等各基は、上記と同様の意味を有するもの
とする。

一般式（１）、（２−ａ）、（２−ｂ）及び（３）の置
換基としては以下のものが例示できる。

１）　低級アルキルカルバモイル基としては、Ｎ−メチ
ルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピ
ルカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル Ｎ−ｔ−ブチルカルバモイル バモイル Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ．Ｎ−ジエチルカルバモ
イル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルル、Ｎ−エチル
−Ｎ−メチルカルバモイル−メチル−Ｎ−ペンチルカル
バモイル、Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルカルバモイル ジプロピルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルカ
ルバモイル チルカルバモイル モイル基等の炭素数１〜６のアルキル基の１〜２個を有
するアルキルカルバモイル基を例示できる。

２）　フェニル環上に置換基を有することのあるフェニ
ルカルバモイル クロルフェニル）カルバモイル −ジクロルフェニル −メトキシフェニル）カルバモイル、Ｎ−（４−プロポ
キシフェニル）カルバモイル、Ｎ−（２−メチルフェニ
ル）カルバモイル、Ｎ−（４−エチルフェニル （３−イソプロピルフェニル）カルバモイル、Ｎ−（４
−ヘキシルフェニル Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバ
モイル基等のフェニル環上にハロゲン原子、低級アルコ
キシ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれた置換
基１〜３個を有することのめるフェニル基１個又は２個
を有するカルバモイル基を例示できる。

３）　低級アルコキシカルボニル基としては、メトキシ
カルボニル ポキシカルボニル ｔ−ブトキシカルボニル ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
基等の炭素数１〜６のアルコキシ基を有するカルボニル
基を例示できる。

４）　低級アルコキシ低級アルキル基としては、メトキ
シメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、ブトキ
シメチル、ｔ−ブトキシメチル、ペンチルオキシメチル
、ヘキシルオキシメチル、２−メトキシエチル、３−メ
トキシプロピル、４−エトキシブチル、６−プロポキシ
ヘキシル、５−イソプロポキシペンチル、１，１−ジメ
チル−２−ブトキシエチル、２−メチル−３−を−ブト
キシプロピル、２−ペンチルオキシエチル、２−へキシ
ルオキシエチル基等のアルコキシ部分及びアルキル部分
が夫々炭素数１〜６であるアルコキシアルキル基を例示
できる。

５）　低級アルコキシカルボニル低級アルキルカルバモ
イル ルカルバモイル バモイル バモイル ル イル ル ル ルカルバモイル エチルカルバモイル プロピルカルバモイル、４−エトキシカルボニルブチル
カルバモイル ルヘキシルカルバモイル シカルボニルペンチルカルバモイル ジメチル−２−ブトキシカルボニルエチルカルバモイル ニルプロピルカルバモイル キシカルボニルエチルカルバモイル シルオキシカルボニルエチルカルバモイル基等のアルコ
キシ部分が炭素数１〜６であって且つアルキル部分が炭
素数１〜６でおるアルコキシカルボニルアルキル基が１
個置換されたカルバモイル基を例示できる。

６）　低級アルキルチオ低級アルキル基としては、例え
ば、メチルチオメチル、エチルチオメチル、プロピルチ
オメチル、ブチルチオメチル、ｔ−ブチルチオメチル、
ペンチルチオメチル、ヘキシルチオメチル、メチルチオ
エチル、メチルチオプロピル、メチルチオブチル、メチ
ルチオペンチル、メチルチオヘキシル、エチルチオエチ
ル、エチルチオブチル、プロピルチオヘキシル基等を例
示できる。

７）　フェニル低級アルコキシ低級アルキル基としては
、ベンジルオキシメチル、１−ベンジルオキシエチル、
２−ベンジルオキシエチル、３−ベンジルオキシプロピ
ル、４−ベンジルオキシブチル、５−ベンジルオキシペ
ンチル、６−ベンジルオキシヘキシル、α−フェネチル
オキシメチル、β−フェネチルオキシメチル、３−フェ
ニルプロポキシメチル、４−フェニルブチルオキシメチ
ル、５−フェニルペンチルオキシメチル、６−フエニル
ヘキジルオキシメチル、２−（β−フェネチルオキシ）
エチル基等のアルキル部分及びアルコキシ部分が夫々炭
素数１〜６であるフェニルアルコキシアルキル基を例示
できる。

８〉　テトラヒドロフラニル基としては、２−テトラヒ
ドロフラニル、３−テトラヒドロフラニル基等を例示で
きる。

９）　テトラヒドロピラニル基としては、２−テトラヒ
ドロピラニル、３−テトラヒドロピラニル、４−テトラ
ヒドロピラニル基等を例示できる。

１０）　　カルボキシルイ氏級アルキルカルバモイル基
としては、Ｎ−（カルボキシルメチル）カルバモイル、
Ｎ−　（２−カルボキシルエチルルバモイル カルバモイル シルエチル ボキシルブチル）カルバモイル、Ｎ−　（２−メチル−
３−カルボキシルプロピル ルエチル）カルバモイル ルペンチル ポキシルヘキシル）カルバモイル等を例示できる。

１１〉　ナフチル低級アルキル基としては、α−ナフチ
ルメチル、β−ナフチルメチル、２−（α−ナフチル）
エチル、３−（β−ナフチル）プロピル、４−（α−ナ
フチル）ブチル、５−（β−ナフチル）ペンチル、６−
（α−ナフチル）ヘキシル、３−（α−ナフチル）−２
−メチルプロピル、１−（α−ナフチル）エチル基等を
例示することができる。

１２）　一般式（２−ａ＞の化合物のＲａ又はＲａ′で
表わされるアシル基及び一般式（１）の化合物のＲ１、
Ｒ３、又はＲ５で表わされるアシルオキシ基のアシル基
としては、置換基としてフェニル低級アルコキシカルボ
ニル基、低級アルキルカルバモイル基、フェニル基又は
フェノキシ基を有することのある炭素数１〜２０個のア
ルカノイル基；置換基としてハロゲン原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、フェニル低級アル
コキシカルボニル基、カルボキシル基、水酸基、グアニ
ジル基、低級アルキル基で置換されることのあるアミノ
基及びフェニル低級アルコキシ基からなる群から選ばれ
た基の１〜３個又は低級アルキレンジオキシ基を有する
ことのあるアリールカルボニル基：低級アルコキシカル
ボニル基；フェノキシカルボニル基；ピリジルカルボニ
ル基：チェニルカルボニル基：フラニルカルボニル基等
を例示できる。２等各基の具体例を次に示す。

（ｉ）置換基としてフェニル低級アルコキシカルボニル
基、低級アルキルカルバモイル基、フェニル基又はフェ
ノキシ基を有することのめる炭素数１〜２０個のアルカ
ノイル基としては、例えばホルミル、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ヘキ
サノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、
デカノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカ
ノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサ
デカノイル、ヘプタデカノイル、オクタデカノイル、ノ
ナデカノイル、エイコサノイル基等の炭素数１〜２０の
未置換アルカノイル基を例示できる。また炭素数１〜２
０の置換アルカノイル基としては、例えばα−ベンジル
オキシカルボニルアセチル、２−ベンジルオキシカルボ
ニルプロピオニル、３−ベンジルオキシカルボニルプロ
ピオニル、４−ペンジルオキシカルボニ！レブチリル、
５−ベンジルオキシカルボニルペンタノイル キシカルボニルヘキサノイル フェネチルオキシカルボニル）プロピオニル、３−（β
−フェネチルオキシカルボニルロピオニル、５−（ベン
ジルオキシカルボニル）ヘキサノイル、７−（ベンジル
オキシカルボニル）ヘプタノイル、８−（α−フェネチ
ルオキシカルボニル （β−フェネチルオキシカルボニル）ノナノイル、１０
−（ベンジルオキシカルボニルデカノイル、１１−（β
−フェネチルオキシカルボニル ジルオキシカルボニル）ペンタデカノイル、１７−（ベ
ンジルオキシカルボニル デカノイル、２０−（ベンジルオキシカルボニルル ロピルカルバモイルアセチル イルアセチル セチル、ペンチルカルバモイルアセチルキシルカルバモ
イルアセチル ルプロピオニル チリル、プロピルカルバモイルペンタノイルエチルカル
バモイルヘキサノイル バモイルヘプタノイル クタノイル イル、メチルカルバモイルデカノイル ルカルバモイルトリデカノイル イルペンタデカノイル ヘプタデカノイル コサノイル （ｉｉ）置換基としてハロゲン原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、ニトロ基、フェニル低級アルコキシ
カルボニル基、カルボキシル基、低級アルキレンジオキ
シ基、水酸基、グアニジル基及び低級アルキル基で置換
されることのあるアミノ基からなる群から選ばれた基を
有することのあるアリールカルボニル基としては、例え
ばベンゾイル、２−クロロベンゾイル、３−クロロベン
ゾイル、４−クロロベンゾイル、２−フルオロベンゾイ
ル、４−フルオロベンゾイル、２−ブロモベンゾイル、
２，３−ジクロロベンゾイル、３，４−ジクロロベンゾ
イル、２，５−ジクロロベンゾイル、３．４．５−トリ
クロロベンゾイル、３，４−ジブロモベンゾイル、３−
ブロモベンゾイル、２−メチルベンゾイル、３−メチル
ベンゾイル、２．３−ジメチルベンゾイル、４−メチル
ベンゾイル、３，４−ジメチルベンゾイル、２−エチル
ベンゾイル、４−エチルベンゾイル、３，４．５−トリ
メチルベンゾイル、３−プロピルベンゾイル、２−ブチ
ルベンゾイル、４−ペンチルベンゾイル、３−へキシル
ベンゾイル、２−メトキシベンゾイル、３−メトキシベ
ンゾイル、３。

５−ジメトキシベンゾイル、３，４−ジメトキシベンゾ
イル、３，４．５−トリメトキシベンゾイル、２，３−
ジメトキシベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、２−
エトキシベンゾイル、３−エトキシベンゾイル、４−エ
トキシベンゾイル、３−プロポキシベンゾイル、４−ブ
トキシベンゾイル、２−ペンチルオキシベンゾイル、３
−へキシルオキシベンゾイル、２−ニトロベンゾイル、
２，４−ジニトロベンゾイル、４−ニトロベンゾイル、
２−ベンジルオキシカルボニルベンゾイル、３−ベンジ
ルオキシカルボニルベンゾイル、４−ベンジルオキシカ
ルボニルベンゾイル （α−フェネチルオキシカルボニル イル、４−（β−フェネチルオキシカルボニル）ベンゾ
イル、４−（３−フェニルプロポキシカルボニル）ベン
ゾイル、４−（６−）工二ルヘキシルオキシ力ルボニル
）ベンゾイル、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボ
キシベンゾイル ２、３−メチレンジオキシベンゾイル、３。

４−メチレンジオキシベンゾイル、２，３−エチレンジ
オキシベンゾイル、３，４−エチレンジオキシベンゾイ
ル、２−ヒドロキシベンゾイル、３−ヒドロキシベンゾ
イル、２。

３−ジヒドロキシベンゾイル、３，４−ジヒドロキシベ
ンゾイル、３，４．５−トリヒドロキシベンゾイル、４
−ヒドロキシベンゾイル、２−グアニジルベンゾイル、
３−グアニジルベンゾイル、４−グアニジルベンゾイル
、２−アミノベンゾイル、３−アミノベンゾイル、４−
アミノベンゾイル、２−メチルアミノベンゾイル、３−
メチルアミノベンゾイル、４−メチルアミノベンゾイル
、２−エチルアミノベンゾイル、３−プロピルアミノベ
ンゾイル、４−ブチルアミノベンゾイル、３−ペンチル
アミノベンゾイル、４−へキシルアミノベンゾイル、２
−　（Ｎ．Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾイル、３−　（
Ｎ．Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾイル、４−　（Ｎ、Ｎ
−ジメチルアミノ）ベンゾイル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ
−エチルアミン）ベンゾイル、４−　（Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルアミノ）ベンゾイル、３−　（Ｎ。

Ｎ−ジプロピルアミノ）ベンゾイル、４−（Ｎ、Ｎ−ジ
ブチルアミノ）ベンゾイル、４−（Ｎ、Ｎ−ジエチルア
ミノ）ベンゾイル、４−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）ベ
ンゾイル、２−（ベンジルオキシ）ベンゾイル、３−（
ベンジルオキシ）ベンゾイル、４−（ベンジルオキシ）
ベンゾイル、２−（α−フェネチルオキシ）ベンゾイル
、３−（α−フェネチルオキシ）ベンゾイル、４−（α
−フェネチルオキシ）ベンゾイル、２−（β−フェネチ
ルオキシ）ベンゾイル、３−（β−フェネチルオキシ）
ベンゾイル、４−（β−フェネチルオキシ）ベンゾイル
、４−（３−フェニルプロポキシ）ベンゾイル、４−　
（４−）工二ルブトキシ）ベンゾイル、４−（５−フェ
ニルペンチルオキシ）ベンゾイル、４−（６−フエニル
ヘキジルオキシ）ベンゾイル、α−ナフチルカルボニル
、β−ナフチルカルボニル、２−クロロ−１−ナフチル
カルボニル、４−クロロ−１−ナフチルカルボニル６−
クロロ−１−ナフチルカルボニル、８−クロロ−１−ナ
フチルカルボニル オロ−１−ナフチルカルボニル、４−ブロモ−１−ナフ
チルカルボニル −ナフチルカルボニル フチルカルボニル チルカルボニル カルボニル、５−エチル−１−ナフチルカルボニル ニル、５−メチル−２−ナフチルカルボニル、８−エチ
ル−２−ナフチルカルボニル、４−メトキシ−１−ナフ
チルカルボニル、５−工トキシ−２−ナフチルカルボニ
ル、３−ニトロ−１−ナフチルカルボニル、６−ニトロ
−１−ナフチルカルボニル、４−ニトロ−２−ナフチル
カルボニル、５−ニトロ−２−ナフチルカルボニル、３
−ベンジルオキシカルボニル−１−ナフチルカルボニル
、６−（α−フェネチルオキシカルボニル ルカルボニル、４−ベンジルオキシカルボニルェネチル
オキシカルボニル ルボニル ルボニル ルボニル ルボニル ルボニル −ナフチルカルボニル オキシ−１−ナフチルカルボニル、５．６−メチレンジ
オキシ−１−ナフチルカルボニル、６、７−メチレンジ
オキシ−１−ナフチルカルボニル、７，８−メチレンジ
オキシ−１−ナフチルカルボニル、３．４−メチレンジ
オキシ−２−ナフチルカルボニル、５，６−メチレンジ
オキシ−２−ナフチルカルボニル、６、７−メチレンジ
オキシ−２−ナフチルカルボニル、７，８−メチレンジ
オキシ−２−ナフチルカルボニル キシ−１−ナフチルカルボニル チレンジオキシ−２−ナフチルカルボニル、２−ヒドロ
キシ−１−ナフチルカルボニル３−ヒドロキシ−１−ナ
フチルカルボニル、４−ヒドロキシ−１−ナフチルカル
ボニル５−ヒドロキシ−１−ナフチルカルボニル６−ヒ
′ドロキシ−１−ナフチルカルボニル７−ヒドロキシ−
１−ナフチルカルボニル８−ヒドロキシ−１−ナフチル
カルボニル、１−ヒドロキシ−２−ナフチルカルボニル
４−ヒドロキシ−２−ナフチルカルボニル５−ヒドロキ
シ−２−ナフチルカルボニル、７−ヒドロキシ−２−ナ
フチルカルボニル２−グアニジル−１−ナフチルカルボ
ニル、３−グアニジル−１−ナフチルカルボニル、５−
グアニジル−１−ナフチルカルボニル、６−グアニジル
−１−ナフチルカルボニル、８−グアニジル−１−ナフ
チルカルボニル、１−グアニジル−２−ナフチルカルボ
ニル、４−グアニジル−２−ナフチルカルボニル、６−
グアニジル−２−ナフチルカルボニル、８−グアニジル
−２−ナフチルカルボニル、２−アミノ−１−ナフチル
カルボニル アミノ−１−ナフチルカルボニル ノ−１−ナフチルカルボニル １−ナフチルカルボニル ナフチルカルボニル、５−アミノ−１−ナフチルカルボ
ニル、７−アミノ−２−ナフチルカルボニル ボニル、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−２−ナフチ
ルカルボニル、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）
−１−ナフチルカルボニル、６−　（Ｎ．Ｎ−ジメチル
アミノ）−１−ナフチルカルボニル Ｎ−エチルアミノ）−２−ナフチルカルボニル、８−（
Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）−１−ナフチルカルボ
ニル ルボニル、３−ピリジルカルボニル、４−ピリジルカル
ボニル、２−チェニルカルボニル、３−チェニルカルボ
ニル、２−フラニルカルボニル、３−フラニルカルボニ
ル基等を例示できる。

１３）　低級アルカノイルオキシ基としては例えばホル
ミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブ
チリルオキシ、イソブチリルオキシ、ペンタノイルオキ
シ、ヘキサノイルオキシ基等を例示できる。

１４）　フェニル低級アルコキシ基としては、例えば、
フェニルメトキシ、１−フェニルエトキシ、２−フェニ
ルエトキシ、１−フェニルプロポキシ、２−フェニルプ
ロポキシ、３−フェニルプロポキシ、３−フェニルブト
キシ、４−フェニルブトキシ、５−フェニルペンチルオ
キシ、６−フエニルヘキジルオキシ基等を例示できる。

１５）　一般式（３）で表わされる化合物のＲｏ、Ｒｆ
で定義されるフェニル環上に低級アルキル基、低級アル
コキシ基、ハロゲン原子及びカルボキシル基から成る群
から選ばれる置換基を有することのあるフェニル低級ア
ルキル基としては例えばベンジル、２−メチルベンジル
、３−メチルベンジル、４−メチルベンジル、２−エチ
ルベンジル、３−エチルベンジル、４−エチルベンジル
、２−プロピルベンジル、３−プロピルベンジル、４−
プロピルベンジル、２−ブチルベンジル、３−ブチルベ
ンジル、４−ブチルベンジル、２−ｔ−ブチルベンジル
、３−ｔ−ブチルベンジル、４−ｔ−ブチルベンジル、
２−ペンチルベンジル、３−ペンチルベンジル、４−ペ
ンチルベンジル、２−へキシルベンジル、３−へキシル
ベンジル、４−へキシルベンジル、２、３−ジメチルベ
ンジル、２．４−ジメチルベンジル、２，５−ジメチル
ベンジル、２．６−ジメチルベンジル、３，４−ジメチ
ルベンジル、３．５−ジメチルベンジル、２．３．４−
トリメチルベンジル、２．４．５−トリメチルベンジル
、２．３，５−トリメチルベンジル、２、４．６−トリ
メチルベンジル、３．４．５−トリメチルベンジル、２
，３−ジエチルベンジル、２，４−ジエチルベンジル、
２，５−ジエチルベンジル、２，６−ジエチルベンジル
、２、４，６−ドリエチルベンジル、２，４−ジプロピ
ルベンジル、３，４．５−トリエチルベメチル、３−メ
チル−４−エチルベンジル、１−フェニルエチル、２−
フェニルエチル、２−フェニル−１−メチルエチル、１
−（２−メチルフェニル）エチル、２−　（２−メチル
フェニル）エチル、２−（３−メチルフェニル）エチル
、２−（４−メチルフェニル）エチル、１−（２，４−
ジメチルフェニル）エチル、２−（２，４−ジメチルフ
ェニル）エチル、１−（２，４，６−トリメチルフエニ
ル）エチル、２−　（２，４，６−トリメチルフエニル
）エチル、３−フェニルプロピル、３−（４−メチルフ
ェニル）プロピル、４−フェニルブチル、４−（２−メ
チルフェニル）ブチル、５−フェニルペンチル、５−（
３−メチルフェニル）ペンチル、６−フェニルヘキシル
、６−（４−メチルフェニル）ヘキシル、２−メトキシ
ベンジル、３−メトキシベンジル、４−メトキシベンジ
ル、２．３−ジメトキシベンジル、２，４−ジメトキシ
ベンジル、２，５−ジメトキシベンジル、３−メトキシ
−４−エトキシベンジル、２，６−ジメトキシベンジル
、３，４−ジメトキシベンジル、３，５−ジメトキシベ
ンジル、２，３゜４−トリメトキシベンジル、２，４．
５−トリメトキシベンジル、２，３．５−１−ジメトキ
シベンジル、２，４．６−トリメトキシベンジル、３．
４．５−トリメトキシベンジル、２−エトキシベンジル
、４−プロポキシベンジル、３−ブトキシベンジル、２
−ｔ−ブトキシベンジル、３−ペンチルオキシベンジル
、４−へキシルオキシベンジル、２，３−ジェトキシベ
ンジル、１−（４−メトキシフェニル）エチル、２−（
３，４−ジメトキシフェニル）エチル、３−（４−メト
キシフェニル）プロピル、４−（２−メトキシフェニル
）ブチル、５−（４−メトキシフェニル）ペンチル、６
−（４−メトキシフェニル）ヘキシル、６−　（３，４
，５−トリペンチルオキシフェニル）ヘキシル、２−フ
ルオロベンジル、３−フルオロベンジル、４−フルオロ
ベンジル、２，３−ジフルオロベンジル、２．４−ジフ
ルオロベンジル、２，５−ジフルオロベンジル、２−フ
ルオロ−３−クロロベンジル、２−フルオロ−３−ブロ
モベンジル、２゜６−ジフルオロベンジル、２．３．４
−トリフルオロベンジル、２，４．５−トリフルオロベ
ンジル、２，３．５−トリフルオロベンジル、２．４．
ロートリフルオロベンジル、３，４゜５−トリフルオロ
ベンジル、１−（２−フルオロフェニル）エチル、２−
（２−フルオロフェニル）エチル、３−（３−フルオロ
フェニル）プロピル、４−（２−フルオロフェニル）ブ
チル、５−（２−フルオロフェニル）ペンチル、６−（
３−フルオロフェニル）ヘキシル、２−ブロモベンジル
、３−ブロモベンジル、４−ブロモベンジル、２，３−
ジブロモベンジル、２−ブロモ−３−フルオロベンジル
、２−フルオロ−４−ブロモベンジル、２，４−ジブロ
モベンジル、２，５−ジブロモベンジル、２．６−ジブ
ロモベンジル、２，３．４−トリブロモベンジル、２，
４．５−トリブロモベンジル、２゜３．５−トリブロモ
ベンジル、２．４．６−トリブロモベンジル、３．４．
５−トリブロモベンジル、１−（２−ブロモフェニル）
エチル、２−（２−ブロモフェニル）エチル、３−（２
−プロモフエニル）プロピル、４−（３−ブロモフェニ
ル）ブチル、５−（２−ブロモフェニル）ペンチル、６
−（４−ブロモフェニル）ヘキシル、２−クロロベンジ
ル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２，３
−ジクロロベンジル、２，４−ジクロロベンジル、２，
５−ジクロロベンジル、２，６−ジクロロベンジル、２
−ブロモ−４−クロロベンジル、２−フルオロ−４−ク
ロロベンジル、２．３．４−トリクロロベンジル、２，
４．５−トリクロロベンジル、２，３．５−トリクロロ
ベンジル、２゜４．６−トリクロロベンジル、３，４．
５−トリクロロベンジル、１−（４−クロロフェニル）
エチル、２−　（４−クロロフェニル）エチル、３−　
（２−クロロフェニル）プロピル、４−（４−クロロフ
ェニル）ブチル、５−（３−クロロフェニル）ペンチル
、６−（４−クロロフェニル）ヘキシル、２−　（３，
４−ジクロロフェニル）エチル、２−ヨードベンジル、
３−ヨードベンジル、４−ヨードベンジル、３，４−シ
ョートベンジル、３．４．５−トリヨードベンジル、２
−（３−ヨードフェニル）エチル、６−（２−ヨードフ
ェニル）ヘキシル、２−力ルポキシベンジル、３−カル
ボキシベンジル、４−カルボキシベンジル、２．４−ジ
カルボキシベンジル、３，５−ジカルボキシベンジル、
２．６−ジカルボキシベンジル、２，４．６−トリカル
ボキシベンジル ルボキシベンジル ニル）エチル、２−（３−カルボキシフェニル）エチル
、２−（４−カルボキシフェニル）エチル、２−（２．
４−ジカルボキシフェニル）エチル、２−　（２，４．
６−トリカルボキシフェニル）エチル、１−（４−カル
ボキシフェニル）エチル、１−　（２，４．６−ドリカ
ルボキシフエ二ル〉エチル、３−　（２−カルボキシフ
ェニル）プロピル、３−（３−カルボキシフェニル）プ
ロピル、３−（４−カルボキシフェニル）プロピル、３
−（２．４−ジカルボキシフェニル）プロピル、３−（
３，４．５−トリカルボキシフェニル）プロピル、３−
　（２，４．６−トリカルボキシフェニル）プロピル、
２−（４−カルボキシフェニル キシフェニル シフェニル）ブチル、４−（４−カルボキシフェニル〉
ブチル、４−　（２．４−ジカルボキシフェニル ルボキシフェニル）ブチル、５−（４−カルボキシフェ
ニル）ペンチル、５−　（３．４−ジカルボキシフェニ
ル）ペンチル、５−　（３，４。

５−トリカルボキシフェニル （３−カルボキシフェニル）ヘキシル、６−（２．４−
ジカルボキシフェニル ６−　（２．４．６−トリカルボキシフェニルヘキシル
基等を例示できる。

１６）　低級アルキレンジオキシ基又はフェニル基を有
するフェニル低級アルキル基としては、例えば２，３−
メチレンジオキシベンジル、３。

４−メチレンジオキシベンジル、２，３−エチレンジオ
キシベンジル、３，４−エチレンジオキシベンジル、３
．４−トリメチレンジオキシベンジル、３，４−テトラ
メチレンジオキシベンジル、１−（３．４−メチレンジ
オキシフェニル）エチル、２−　（３．４−メチレンジ
オキシフェニル）エチル、３−（３．４−メチレンジオ
キシフェニル）プロピル、４−　（３．４−メチレンジ
オキシフェニル）ブチル、５−　（３。

４−メチレンジオキシフェニル）ペンチル、６−（３．
４−メチレンジオキシフェニル）ヘキシル、３−　（３
．４−トリメチレンジオキシフ工二ル）プロピル、２−
フェニルベンジル、３−フェニルベンジル、４−フェニ
ルベンジル、２−（３−フェニルフェニル）エチル、１
−（４−フェニルフェニル）エチル、２−　（４−フェ
ニルフェニル）エチル、３−　（４−フェニルフェニル
）プロピル、４−（４−フェニルフェニル）ブチル、５
−（４−フェニルフェニル〉ペンチル、６−（４−フェ
ニルフェニル）ヘキシル基等の炭素数１〜４個のアルキ
レンジオキシ基又はフェニル基が結合したフェニル基と
炭素数１〜６のアルキレン基とが結合したフエニルアル
キル基を例示できる。

１７）　化合物（３）におけるＲｏ、Ｒｆ、Ｒｇで定義
されるアシル基には以下の各群に居するものが包含され
る （１〉例えばハロゲン原子、水酸基、低級アルコキシ基
、アリールオキシ基及び置換もしくは無置換アリール基
からなる群から選ばれる基を置換基として有するか又は
有さない炭素数１〜２０のアルカノイル基。

その例としては、ホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル
、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイ
ル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、
テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイ
ル、ヘプタデカノイル、オクタデカノイル、ノナデカノ
イル、エイコサノイル基等の炭素数１〜２０の未置換ア
ルカノイル基、及びモノクロロアセチル、モノブロモア
セチル、ジク・ロロアセチル、トリクロロアセチル、３
−クロロプロピオニル、４−クロロブチリル、５−クロ
ロペンタノイル、６−クロロペンタノイル基等のハロゲ
ン原子が１〜３個置換した炭素数２〜６のアルカノイル
基；ヒドロキシアセチル、３−ヒドロキシプロピオニル
、５−ヒドロキシペンタノイル、４−ヒドロキシブタノ
イル、６−ヒドロキシヘキサノイル基等の水酸基置換の
炭素数２〜６のアルカノイル基；メトキシアセチル、エ
トキシアセチル、３−プロポキシプロピオニル、６−ヘ
キジルオキシヘキサノイル、３−メトキシプロピオニル
基等の炭素数１〜６のアルコキシ置換の炭素数２〜６の
アルカノイル基；フェノキシアセチル、２−フェノキシ
プロピオニル、３−フェノキシプロピオニル、４−フェ
ノキシブチリル、５−フェノキシペンタノイル、６−フ
ニノキシヘキサノイル、α−ナフチルオキシアセチル基
等のフェノキシ又はナフチルオキシ置換の炭素数２〜６
のアルカノイル基；α−フェニルアセチル 工二ルプロピオニル、３−フェニルプロピオニル、４−
フェニルブチリル、５−フェニルペンタノイル、６−フ
ェニルヘキサノイル、α−（２−クロロフェニル）アセ
チル、α−（４−メチルフェニル）アセチル、α−（３
。

４、５−トリメトキシフェニル）アセチル、α−（３，
４−ジメトキシフェニル）アセチル、６−（４−カルボ
キシフェニル）ヘキサノイル、４−（４−エトキシカル
ボニルフェニル ニル〉アセチル、α−（４−シアノフェニル）アセチル
、α−ナフチルアセチル、β−ナフチルアセチル基等の
アリール環（フェニル環、ナフチル環等）上に置換基と
してハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、ニト
ロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた基の１〜３個
を有するか又は有さないアリール置換の炭素数２〜６の
アルカノイル基等を例示できる。

（ｉｉ）アリール環上に置換基としてハロゲン原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキシル基、低
級アルコキシカルボニル基、ニトロ基及びシアン基から
なる群から選ばれた置換基の１〜３個又は低級アルキレ
ンジオキシ基を有することのおるアリールカルボニル基
。

その例としては、ベンゾイル、αーナフチル力ルボニル
シβーナフチルカルボニル、２−メチルベンゾイル、３
−メチルベンゾイル、４−メチルベンゾイル、２，４−
ジメチルベンゾイル、３，４．５−トリメチルベンゾイ
ル、４−エチルベンゾイル、２−メトキシベンゾイル、
３−メトキシベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、２
，４−ジメトキシベンゾイル、３，４．５−トリメトキ
シベンゾイル、４−エトキシベンゾイル、２−メトキシ
−４−エトキシベンゾイル、２−プロポキシベンゾイル
、３−プロポキシベンゾイル、４−プロポキシベンゾイ
ル、２，４−ジプロポキシベンゾイル、３，４．５−ト
リプロポキシベンゾイル、２−カルボキシベンゾイル３
−カルボキシベンゾイル ベンゾイル、２−クロロベンゾイル、３−クロロベンゾ
イル、４−クロロベンゾイル、２。

３−ジクロロベンゾイル、２，４．６−ドリクロロベン
ゾイル、２−ブロモベンゾイル、４−フルオロベンゾイ
ル ボニルベンゾイル、３−メトキシカルボニルベンゾイル
、４−メトキシカルボニルベンゾイル、２−エトキシカ
ルボニルベンゾイル３−エトキシカルボニルベンゾイル
、４−エトキシカルボニルベンゾイル シカルボニルベンゾイル ルボニルベンゾイル ニルベンゾイル ルベンゾイル ニルベンゾイル、４−イソプロポキシカルボニルベンゾ
イル、２−ブトキシカルボニルベンゾイル、３−ブトキ
シカルボニルベンゾイル、４−ブトキシカルボニルベン
ゾイル、２−１−ブトキシカルボニルベンゾイル、３−
ｔ−ブトキシカルボニルベンゾイル、４−を−ブトキシ
カルボニルベンゾイル チルオキシカルボニルベンゾイル チルオキシカルボニルベンゾイル、４−ペンチルオキシ
カルボニルベンゾイル、２−ヘキシルオキシカルボニル
ベンゾイル シルオキシカルボニルベンゾイル シルオキシカルボニルベンゾイル ジメトキシカルボニルベンゾイル ５−トリメトキシカルボニルベンゾイルーメチルーα−
ナフチルカルボニル トキシ−β−ナフチルカルボニル ロ−α−ナフチルカルボニル、２−シアノベンゾイル、
４−シアノベンゾイル、２−ニトロベンゾイル、４−ニ
トロベンゾイル、３。

４−メチレンジオキシベンゾイル、３，４−エチレンジ
オキシベンゾイル、２，３−メチレンジオキシベンゾイ
ル基等の、置換基として低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ニトロ基、シア
ノ基及び低級アルコキシカルボニル基からなる群から選
ばれた基を１〜３個又は低級アルキレンジオキシ基を有
するか又は有ざないフェニルカルボニル又はナフチルカ
ルボニルなどのアリールカルボニル基を例示できる。

（ｉｉｉ）へテロ原子として窒素原子、硫黄原子又は酸
素原子を有する５員又は６員の不飽和へテロ環カルボニ
ル基。

その例としては２−チェニルカルボニル、３−チェニル
カルボニル、２−フラニルカルボニル、３−フラニルカ
ルボニル、４−チアゾリルカルボニル ２−ピラジニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、
３−ピリジルカルボニル、４−ピリジルカルボニル基な
どのチェニルカルボニル、フラニルカルボニル、チアゾ
リルカルボニル、キノリルカルボニル、ピラジニルカル
ボニル、ピリジルカルボニル基等を例示できる。

（　ｉｖ）アリールオキシカルボニル基、鎖状もしくは
環状のアルコキシカルボニル基等の炭酸エステル残基。

その例としては、フェノキシカルボニル、α−ナフチル
オキシカルボニル ルオキシカルボニル カルボニル、３−メチルフェノキシカルボニル４−ジメ
チルフェノキシカルボニル、３，４。

５−トリメチルフェノキシカルボニル エチルフェノキシカルボニル フェノキシカルボニル、３−メトキシフェノキシカルボ
ニル、４−メトキシフェノキシカルボニル、２，４−ジ
メトキシフェノキシカルボニル、３，４．５−トリメト
キシフェノキシカルボニル、４−エトキシフエノシキ力
ルボニル、２−プロポキシフェノキシルボニル、３−プ
ロポキシフェノキシカルボニル、４−プロポキシフェノ
キシカルボニル ４−ジプロポキシフェノキシカルボニル、３。

４、５−トリプロポキシフェノキシカルボニル、２−ク
ロロフェノキシカルボニル クロロフエノキシカルボニル、４−クロロフェノキシカ
ルボニル ノキシカルボニル フエノキシカルボニル シカルボニル ニル ルボニル、α−メトキシ−β−ナフチルオキシカルボニ
ル キシカルボニル基等のアリール環（フェニル環、ナフチ
ル環等）上に置換基としてハロゲン原子、低級アルコキ
シ基及び低級アルキル基からなる群から遍ばれた基の１
〜３個を有しもしくは有ざないアリールオキシカルボニ
ル基；メトキシカルボニル ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ｔ−ブトキシカルボニル、ブトキシカルボニル ピルオキシカルボニル カルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロ
ヘキシルオキシカルボニル ロヘプチルオキシカルボニル ルオキシカルボニル基等のアルコキシ部分の。

炭素数が１〜８である鎖状又は環状のアルコキシカルボ
ニル基等を例示できる。

（Ｖ）置換又は未置換のシクロアルキルカルボニル基。

その例としては、シクロプロピルカルボニル、シクロブ
チルカルボニル ルカルボニル、シクロヘキシルカルボニルシクロへブチ
ルカルボニル、シクロオクチルカルボニル ボニル、３−ヒドロキシシクロペンチルカルボニル ル、４−メトキシシクロへキシルカルボニル基等のシク
ロアルキル環上に置換基としてハロゲン原子、水酸基、
低級アルコキシ基又は低級アルキル基を有することがあ
り、且つシクロアルキル環の炭素数が３〜８でおるシク
ロアルキルカルボニル基を例示できる。

（ｖｉ）低級アルケニル（又は低級アルキニル）カルボ
ニル基。

その例としては、ビニルカルボニル、アリルカルボニル
、２−ブテニルカルボニル、３−ブテニルカルボニル ルボニル、２−ペンテニルカルボニル、３−へキセニル
力ルポニル、エチニルカルボニル、プロピニルカルボニ
ル、２−ブチニルカルボニル、１−メチル−３−ペンチ
ニルカルボニル、４−へキシニルカルボニル基等の炭素
数２〜６のアルケニル基又はアルキニル基を有するカル
ボニル基を例示できる。

１８）　低級アルキレンジオキシ基としては、例えば、
メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、トリメチレンジ
オキシ、テトラメチレンジオキシ基等の炭素数１〜４の
アルキレンジオキシ基を例示できる。

１９）　フェニル環上に置換基として低級アルキル基、
低級アルコキシ基又はハロゲン原子の１〜３個を有しも
しくは有さないアリールオキシカルボニルオキシ基とし
ては、２−メチルフェノキシカルボニルオキシ、３−メ
チルフェノキシカルボニルオキシ ルボニルオキシ ルオキシ ニルオキシ、４−へキシルフェノキシカルボニルオキシ
、２，４−ジメチルフエノキシカルポニルオキシ、２，
４．６−ドリメチルフエノキシカルボニルオキシ、２−
メトキシフェノキシカルボニルオキシ ルボニルオキシ ボニルオキシ、４−エトキシフエノキシカルポニルオキ
シ、４−プロポキシフェノキシカルリポニルオキシ、４
−ブトキシフエノキシ力ルポニルオキシ、４−ペンチル
オキシフェノキシカルボニルオキシ、４−へキシルオキ
シフェノキシカルボニルオキシ、２，４−ジメトキシフ
ェノキシカルボニルオキシ、２，４．６−ドリメトキシ
フエノキシカルボニルオキシ ロフェノキシカルボニルオキシ ェノキシカルボニルオキシ、４−ブロモフェノキシカル
ボニルオキシ、２，４−ジクロロフェノキシカルボニル
オキシ ロモフエノキシカルボニルオキシ基等を例示できる。

２０）　　アロイルオキシ基としては、ベンゾイルオキ
シ、１−ナフトイルオキシ、２−ナフトイルオキシ基等
を例示できる。

２１）　フェニル環上に置換基として低級アルキル基、
低級アルコキシ基、ハロゲン原子又はニトロ基の１〜３
個を有するアロイルオキシ基としては、２−クロロベン
ゾイルオキシ、３−クロロベンゾイルオキシ、４−クロ
ロベンゾイルオキシ、２，４−ジクロロベンゾイルオキ
シ、３、４．５−トリクロロベンゾイルオキシ、２−フ
ルオロベンゾイルオキシ、４−フルオロベンゾイルオキ
シ、４−ブロモベンゾイルオキシ、２−メチルベンゾイ
ルオキシ、３−メチルベンゾイルオキシ、４−メチルベ
ンゾイルオキシ、２、４−ジメチルベンゾイルオキシ、
２，４。

６−トリメチルベンゾイルオキシ、４−エチルベンゾイ
ルオキシ、４−ブチルベンゾイルオキシ、４−メチル−
１−ナフトイルオキシ、２−二トロベンゾイルオキシ、
３−ニトロベンゾイルオキシ、４−ニトロベンゾイルオ
キシ、２。

４−ジニトロベンゾイルオキシ、３，４−ジニトロベン
ゾイルオキシ、４−ニトロ−１−ナフトイルオキシ、２
−メトキシベンゾイルオキシ、３−メトキシベンゾイル
オキシ、４−メトキシベンゾイルオキシ、３．４．５−
トリメトキシベンゾイルオキシ、４−エトキシベンゾイ
ルオキシ、４−ブトキシベンゾイルオキシ、４−メトキ
シ−１−ナフトイルオキシ基等を例示できる。

２２）　アルキリデンジオキシ基のアルキリデン基とし
ては、メチレン、エチリデン、プロピリデン、ブチリデ
ン、ペンチリデン、ヘキシリデン基等を例示できる。

２３）　アルキリデンジオキシ基のアルキリデン基とし
ては、ベンジリデン、１−フェニルエチリデン、１−ナ
フチルメチレン、２−ナフチルメチレン基等を例示でき
る。

２４）　低板アルコキシカルボニル蟇としては、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニルロポキシカルボニル
、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル ニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカル
ボニル基等の炭素数２〜７の鎖状アルコキシカルボニル
基を例示できる。

２５）　ジ（低級アルキル）アミノ基としては、ジメチ
ルアミノ、メチルエチルアミノ基等を例示できる。

２６）　フェニル低級アルケニル基としては、２−フェ
ニルビニル、３−フェニル−１−プロペニル、３−フェ
ニル−２−プロペニル、４−フェニル−１−ブテニル、
４−フェニル−２−ブテニル、４−フェニル−３−ブテ
ニル、５−フェニル−４−ペンテニル、６〜フェニル−
５−ヘキセニル基等のアルケニル部分の炭素数が２〜６
であるフェニルアルケニル基を例示できる。

２７）　フェニル低級アルコキシ低級アルコキシ基とし
ては、１−ベンジルオキシメトキシ、１−ベンジルオキ
シエトキシ、２−ベンジルオキシエトキシ、３−ベンジ
ルオキシプロポキシ、４−ベンジルオキシブトキシ、５
−ベンジルオキシペントキシ、６−ベンジルオキシヘキ
シルオキシ、α−フェネチルオキシメトキシ、β−フェ
ネチルオキシメトキシ、３−フェニルプロポキシメトキ
シ、４−フェニルブチルオキシメトキシ、５−フェニル
ペンチルオキシメトキシ、６−フエニルヘキジルメトキ
シ、２−（β−フェネチルオキシ）エトキシ基等のアル
コキシ部分の炭素数が１〜６であるフェニルアルコキシ
アルコキシ基を例示できる。

以下、本発明において使用するピリジン誘導体の製造法
につき詳述する。

該化合物は、例えば下記反応工程式−ａ〜−りに示す方
法により製造することができる。

Ｒ＋　、Ｒ３及びＲ５の少なくとも１つがアシルオキシ
基である一般式（１）のピリジン化合物は、アシルオキ
シ基に対応する水酸基を有する化合物をアシル化するこ
とによって製造される。アシル化の好ましい具体例とし
て反応工程式−ａを示す。

く反応工程式−ａ〉 〔式中Ｒ２及びＲ４は前記に同じ。Ｒｌａ及びＲ３ａは
夫々アシル基を示す。Ｒｏは水素原子、低級アルキル基
、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、
低級アルコキシ低級アルキル基、フタリジル基、カルバ
モイル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキルカル
バモイル基、フェニル低級アルコキシ低級アルキル基、
フェニル環上に置換基を有することのあるフェニルカル
バモイル基、低級アルキルカルバモイル基、カルボキシ
ル 基、低級アルキルチオ低級アルキル暴又は低級アルケニ
ル基を示し、Ｒ３ｄは水素原子又はアシル基を示す。〕 本方法は、化合物（４）の遊離水酸基をアシル化する方
法である。この反応には通常のアシル化反応の条件を広
く適用でき、例えば酸ハライド法、′酸無水物法、混合
酸無水物法、Ｎ．Ｎ−ジシクロへキシルカルボジイミド
法（ＤＣＣ法）等のいずれをも適用することができる。

特に本反応においては、酸ハライド法、酸無水物法、Ｎ
．Ｎ−ジシクロへキシルカルボジイミド法（ＤＣＣ法）
が有利に適用される。

酸ハライド法によれば適当な溶媒中にて化合物（４）に
アシルハライドを脱酸剤の存在下反応させることにより
、目的とする化合物（５）又は化合物（６）を得ること
ができる。上記において、アシルハライドとしては、導
入しようとするアシル基のフッ化物、塩化物、臭化物、
沃化物等のいずれをも使用できる。脱酸剤としては、例
えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ピリジン、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ジ
エチルアニリン等を使用できる。溶媒としては反応に影
響を与えないものであればいずれも使用でき、例えばベ
ンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等
のエーテル類、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、アセトン、アセトニトリル、ピリジン、ジメチル
スルホキシド等を使用できる。アシルハライドの用量は
、化合物（４）に対して少なくとも０、５モル量程度、
好ましくは０．５〜５モル量程度とするのがよい。特に
アシルハライドを０、５〜１．５モル量用いる場合には
、モノアシルオキシ体（５）を得ることができ、これよ
り多量のアシルハライドを用いる場合には、ジアシルオ
キシ体（６）を得ることができる。反応温度は通常水冷
下〜溶媒の沸点付近、好ましくは室温〜８０℃程度であ
り、５分〜５０時間程度、好ましくは３〜１５時間程度
で反応は終了する。なお本反応においては化合物（４）
の遊離水酸基の水素原子をアルカリ金属で置換した化合
物も同様に原料として用いることができる。

酸無水物法は、化合物（４）を適当な溶媒中、酸無水物
と共に加熱することにより実施される。

酸無水物としては、導入すべきアシル基に対応する酸の
無水物を使用する。その具体例としては、例えば無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水醋酸、無水安息香酸等を例
示できる。之等の酸無水物は化合物（４〉に対して少な
くとも０．５モル量、好ましくは１〜３倍モル量程度用
いられるのがよい。反応温度、反応時間等の反応条件は
、前記酸ハライド法と同様のものとすることができる。

Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ法
）は、化合物（４）を適当な溶媒中、縮合剤の存在下、
カルボン酸と共に加熱させることにより実施される。カ
ルボン酸としては、導入すべきアシル基に対応するカル
ボン酸を使用する。

その具体例としては例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、
安息香酸等を例示できる。縮合剤としては例えばＮ，Ｎ
’　−ジアルキルカルボジイミド（Ｎ。

Ｎ′−ジシクロへキシルカルボジイミド等）等を例示で
きる。上記反応は、酸ハライド法と同様の条件下に実施
することができる。

また上記の如くして得られる化合物（５）は、更に上記
アシル化反応を繰り返すことにより化合物（６）に導く
こともできる。

一般式（１）のピリジン化合物のうち、ピリジン環の１
位の窒素原子が、置換基として、基−ＣＯＮＨＲ６（式
中Ｒ６は水素原子、低級アルコキシカポニル低級アルキ
ル基、フェニル環上に置換基を有することのあるフェニ
ル基、カルボキシ低級アルキル基又は低級アルキル基を
示す。）を有する化合物は、イソシアネート化合物（Ｒ
６ＮＣＯ＞と、Ｒ＋　、Ｒ２及びＲ３基のうち少なくと
も１つが水酸基を示し、１位の窒素原子が置換基を有ざ
ない対応する化合物とを反応させることにより製造する
ことができる。好ましい具体例として、反応工程式−す
を示す。。

〔式中Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は前記に同じ。

〕 本方法は、適当な溶媒中にて塩基性化合物の存在下に化
合物（７）にイソシアネート化合物を作用させて化合物
（８）を得る方法である。イソシアネート化合物として
は低級アルキルインシアネート類等を使用できる。また
、この反応において塩基性化合物としては例えばトリエ
チルアミン等のアミン類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等の炭酸アルカリ金属塩、ピリジン等を使用すること
ができる。イソシアネート化合物の使用量は、化合物（
７）に対して少なくとも０．５モル開栓度、好ましくは
１．０〜２．０モル最上度とするのがよい。溶媒、反応
温度、反応時間等の他の反応条件は、前記反応工程式−
ａの酸ハライド法と同様のものとすることができる。

なお、上記において原料とする化合物（７）のうちＲ３
及び（又は）Ｒ５基がアシルオキシ基であるものは、対
応するＲ３及び（又は）Ｒ５基が水酸基を示す化合物を
、前記反応工程式−ａに示すアシル化反応に従わせるこ
とにより、製造することができる。

またＲ６がカルボキシル低級アルキル基である化合物（
８）は、Ｒ６が低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基である対応する化合物（８）を、通常の加水解反応に
供することによっても製造することができる。

〈反応工程式−Ｃ〉 （式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ｄ及びＲ４は前記に同じ。

Ｒｌｂ及びＲ３ｂは夫々トリ低級アルキルシリル基を示
す。但し、Ｒ１及びＲ３ｄは同時に水＠基であってはな
らない。） 本方法は、適当な溶媒中にて、ジ（トリ低級アルキルシ
リルオキシ）ピリジン誘導体（９）に、アシルハライド
を作用させて目的とするアシルオキシ化合物（１０）を
得る方法である。この反応において溶媒としては反応に
影響を与えないものであればいずれも使用でき例えば塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水索類、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル等のエーテル類等を使用できる。アシ
ルハライドとしては、導入しようとするア、シル基のフ
ッ化物、塩化物、臭化物、沃化物等のいずれをも使用で
きる。その使用量は、化合物（９）に対して少なくとも
０．５モル量以上でおり、モノアシルオキシ体を得る場
合には好ましくは０．５モル〜１．５モル量を用いるの
がよく、これより多量のアシルハライドを用いる場合に
はジアシルオキシ体を得ることができる。反応゛は通常
、常温〜溶媒の沸点付近にて１０分〜３０時間程度、好
ましくは１〜６時間程度で終了する。

更に上記反応は、触媒量のルイス酸、アンモニア又はア
ミン類の存在下に実施することもできる。

ルイス酸存在下又は非存在下においては、２又は４−モ
ノアシルオキシ体を主生成物として得ることができ、ア
ンモニア又はアミン類の存在下においては２−モノアシ
ルオキシ体を主生成物として１ｑることができる。ルイ
ス酸としては、例えば塩化第二錫、塩化アルミニウム等
を例示でき、またアミン類としては、モノメチルアミン
、ジメチルアミン、トリメチルアミン等の１〜３級のア
ミンを例示することができる。

〈反応工程式−ｄ〉 Ｃ式中Ｒ１ａ、　Ｒ２、Ｒ３”及ヒＲ’　Ｌｔ前記に−
Ｉｉｉ］Ｌ；。〕本方法における化合物（１１）又は化
合物（１２）のアシル化反応は、前記反応工程式−ａと
同様にして行なうことができる。

また、化合物（１３）（ジアシルオキシ体）の加水分解
反応は、酸性条件下又は塩基性条件下において行なうこ
とができる。酸性条件下での反応は、化合物（１３）に
、プロトン性化合物例えば水、アルコール、フェノール
等の水酸基を有する化合物、メチルメルカプタン、エチ
ルメルカプタン等のチオール類、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、アニリン等の１級又は２級アミン等を少
なくとも０．５モル量を作用ざぜることにより行うこと
ができる。反応溶媒としては、上記プロトン性化合物を
そのまま用いることもでき、またこれらプロトン性化合
物と均一になる溶媒例えばアセトン、アセトニトリル、
酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素類を併用することもできる。本反応は、
通常水冷下〜反応溶媒の沸点付近、好ましくは室温〜１
０’Ｃ程度にて約５分〜３０時間、好ましくは３０分〜
１５時間程度を要して行なわれる。

塩基性条件下での加水分解反応は、アルカリ性溶液中に
て、水冷下〜反応溶媒の沸点付近、好ましくは空温〜１
００’Ｃ程度の温度条件下に約５分〜３０時間、好まし
くは１〜１５時間程度を要して行なうことができる。ア
ルカリ性溶液としては、例えばリチウム、ナトリウム、
カリウム等のアルカリ金属の水酸化物や炭酸塩等の塩類
又は例えばマグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類
金属の水酸化物や炭酸塩等の塩類或はモノメチルアミン
、ジメチルアミン、アニリン等の１扱もしくは２級アミ
ン類等を水及び（又は）有機溶媒に溶解した溶液が利用
できる。その用量は化合物（１３〉に対して少なくとも
等モル看程度とするのがよい。

また上記有機溶媒としては例えばアセトン、アセトニト
リル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メチレン、クロ
ロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素類等を使用できる。

〈反応工程式−ｅ〉 （１Ｂ）　　　　　　　　　　　　（１７）（式中Ｒ、
Ｒ２、Ｒ３ａ及びＲ’　は前記ｋＪに。）ａ 本方法は、適当な溶媒中にて化合物（１４）（ジアシル
オキシ体）にピリドン誘導体（１５）を反応させること
により化合物（１６）及び（又は）化合物（１７）（モ
ノアシルオキシ体）を得る方法でおる。この反応におい
て溶媒としては、反応に影響を与えないものでおればい
ずれも使用でき、例えばアセトン、アセトニトリル、酢
酪エチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、Ｎ、　Ｎ
−ジメチルホルムアミド等を使用することかできる。ピ
リドン誘導体（１５）の使用割合は、化合物（１４）に
対して少なくとも０．５モル揚程度、好ましくは等モル
量程度とするのがよい。本反応は通常空温〜反応溶媒の
沸点にて約１０分〜５０時間好ましくは５〜２０時間程
度にて終了する。

また反応系内には、化合物（１４）に対して約０．１〜
１０モル量のトリメチルアミン、トリエチルアミン等の
アミン類を添加することもできる。

一般式（１）のピリジン化合物のうち、ピリジン環の１
位の窒素原子が置換基として基Ｒ７（Ｒ７は低級アルキ
ル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル
基、低級アルコキシ低級アルキル基、フタリジル基又は
フェニル低級アルコキシ低級アルキル基を示す。）を有
する化合物は、Ｒ＋　、Ｒ２及びＲ３のうち少なくとも
１つが水酸基を示し１位の窒素原子が置換基を有ざない
対応する化合物をシリル化し、次いでアルキル化するこ
とによって製造される。更に、目的化合物はアルキル化
化合物の水酸基をアシル化することによって製造される
。アシル化の好ましい具体例として、反応工程式−ｆ〜
ｈを示す。

〈反応工程式−丁〉 ｂ ［式中、Ｒ、Ｒ２、Ｒ３ｄ、Ｒ３ａ、ＲＬ及びＲ７は前
記に同じ。Ｒ３ｃはトリアルキルシリル基又はアシル基
を示す。］ 本方法の前半は適当な溶媒中にて化合物（１８）に、ア
ルキル化剤を反応させてピリジン環のＮ位をアルキル化
する反応である。この反応において溶媒としては、例え
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素、アセトニトリル、アセトン、酢酸エチル等を使用で
きる。

アルキル化剤としては例えば塩化メチル、臭化エチル等
のハロゲン化低級アルキル又は基Ｒ８−Ｃｏ−０−Ｒ７
ａ（Ｒ８は低級７）Ｌｔキ）Ｌ４、Ｒ７ａはテトラヒド
ロフラニル基、低級アルコキシ低級アルキル基、フタリ
ジル基又はフェニル低級アルコキシ低級アルキル基を示
す）等を例示することができる。アルキル化剤の使用量
は、化合物（］８〉に対して０．５モル〜５モル量、好
ましくは１〜２モル量とするのがよい。本反応は、水冷
下〜反応溶媒の沸点付近、好ましくは至温〜６０’Ｃ程
度にて、１０分〜３０時間、好ましくは１〜４時間程度
で終了する。また本反応においては好ましくは、前記ル
イス酸の触媒量を反応系内に添加存在ざぜるのがよい。

本方法の後半は、Ｒ３が水素原子の場合の化合物（１９
）の遊離水酸基をアシル化する反応でおり、この反応は
前記反応工程式−ａに示す方法と同様にして行なうこと
ができる。

く反応工程式−ｑ〉 （２１＞　　　　　　　　　　　　　　（２２＞（式中
Ｒ１ｂ、　Ｒ２、Ｒ３ｂ及びＲ”は前記に同じ。）本方
法は、適当な溶媒中にて、化合物（２１）にシリル化剤
を反応させてピリジン環の２位及び４位又は２位及び６
位を同時にシリル化する方法でおる。この反応において
シリル化剤としては例えば１，１，１，３，３．３−へ
キサメチルジシラザン等のビス（トリアルキルシリル）
アミン類、トリメチルクロロシラン、ジメチル−１−ブ
チルクロロシラン等のハロゲン化トリアルキルシラン類
又はＮ、Ｏ−ビストリメチルシリルアセトアミド等のシ
リル化アセトアミド類を使用できる。該シリル化剤は、
通常化合物（２］）に対して少なくとも２倍モル量使用
することができる。シリル化剤として前記ハロゲン化ト
リアルキルシラン類を用いる場合には、トリエチルアミ
ン、トリメチルアミン等のアミン類又はピリジンをシリ
ル化剤に対して少なくとも２倍モル量用いるのがよい。

溶媒としては反応に影響を与えないものであればいずれ
も使用でき、例えば前記ハロゲン化トリアルキルシラン
類、シリル化アセトアミド等のシリル化剤を使用する場
合にはジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム等の
ハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等を使用できる
。また、シリル化剤としてビス（トリアルキルシリル）
アミン類を使用する場合には該シリル化剤それ自身を溶
媒として用いることもできる。本反応は通常室温〜反応
溶媒の沸点付近、好ましくは反応溶媒の沸点付近にて１
０分〜２４時間程度、好ましくは１〜１５時間程時間子
する。

く反応工程式−ｈ〉 （２３＞　　　　　　　　　　　（２４＞（式中Ｒ１ｂ
、Ｒ２、Ｒ３ａ及びＲ４は前記に同じ。〕本方法は、化
合物（２３）をシリル化する方法であり、反応はシリル
化剤を化合物（２３）に対して少なくとも等モル量用い
る以外は、前記反応工程式−〇と同様の条件下で行なう
ことができる。

上記各反応工程で得られる目的化合物及び本発明化合物
は、通常の分離手段により反応系内より分離され、更に
精製される。この分離及び精製手段としては、例えば再
沈澱法、再結晶法、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー、イオン交換カラムクロマトグラフィー、ゲルクロマ
トグラフィー親和クロマトグラフィー等を採用できる。

以下、本発明化合物により、その抗腫瘍活性を増強され
る新規な制癌剤有効成分化合物（前記化合物（３））の
製法につき詳述する。

化合物（３）は、例えば下記反応工程式−１〜−ｍに示
す方法により製造することができる。

く反応工程式ｉ〉 〔式中ＲＣＩは前記に同じ。Ｒｌｅ及びＲｌｆは少なく
とも一方が、水素原子であり、他方はアシル基又は保護
基を示す。Ｒはフェニル環上に低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、ハロゲン原子及びカルボキシル基からなる
群から選ばれる置換基を有することのあるフェニル低級
アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、ジ（低級ア
ルキル）アミノ基、置換基として低級アルキレンジオキ
シ基又はフェニル基を有するフェニル低級アルキル基、
フェニル低級アルケニル基又はナフチル低級アルキル基
を示す。Ｒｏ及びＲｆは前記に同じ。Ｘはハロゲン原子
を示す。〕上記においてＲｌｅ又はＲｌｆで示される保
護基には、下記の各基が包含される。

（Ａ）一般式 ％式％（ （式中Ａｒはアリール基を示す） で表わされるトリアリール置換メチル基。族基としては
、置換基としてハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル
基又は低級アルコキシ基を有することのあるフェニル基
等のアリール基の３個で置換されたメチル基を例示でき
る。

（Ｂ）一般式 〔式中Ｒ−は低級アルキル基及びｎは２又は３を示す〕 で表わされる環状エーテル残基。族基の例としては、２
−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル
基等を例示できる。

（Ｃ）低級アルコキシメチル基。族基としては、メトキ
シメチル、エトキシメチル、ヘキシルオキシメチル基等
を例示できる。

（Ｄ）トリ（低級アルキル）シリル基。族基としては、
トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル基等を例
示できる。

本反応は、化合物（２５）にフェニル低級アルキルハラ
イド（ＲＸ）を反応させて、該化合物（２５〉の３′位
又は５′位の水素原子を目的とするＲ基に置換させ、次
いで必要に応じて脱保護反応を行なって、化合物（２６
）を得るものである。

上記においてＲ基の導入反応は通常の脱ハロゲン化水素
反応の反応条件下に行なわれる。脱ハロゲン化水素剤と
しては、この種の反応に通常用いられている各種の塩基
性化合物をいずれも使用できる。その具体例としては、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
等や、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属や水素化
ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属類
等を挙げることができる。

上記反応は、無溶媒でもあるいは溶媒の存在下でも行な
うことができる。溶媒としては通常の不活性溶媒をいず
れも使用でき、例えば水、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ
）、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリ
ル、プロピオニトリル等のニトリル類等が有利に用いら
れる。

化合物（２５）とフェニル低級アルキルハライド（ＲＸ
＞との使用割合は、特に限定されず広い範囲から適宜選
択すればよいが、通常前者に対し後者を少なくとも等モ
ル量程度、好ましくは等モル量〜５倍モル量用いるのが
よい。反応温度も特に限定されず広い範囲から適宜選択
されるが、一般にはＯ〜１００’Ｃ，好ましくは空温〜
ａｏ’ｃの範囲から選択されるのがよく、通常３０分〜
６４時間程度、好ましくは１〜５時間程度で反応は終了
する。

上記反応によって得られる化合物が、その３′位又は５
′位に保護基を有する場合は、引続き該保護基の脱離反
応を行なうことにより、目的とする化合物（２６）が得
られる。この脱保護基反応は、通常の酸加水分解反応に
慣用される適当な触媒、例えば塩酸、硫酸、過塩素酸等
の無機酸や蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の低級アルカン
酸、安息香酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸等
の有機スルホン酸等の有機酸の適当量を用いて、通常溶
媒中で実施される。溶媒としては、通常の不活性溶媒、
例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパツール
等の低級アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、ジオキサン
等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸、プロピオン酸
等の低級アルカン酸等やこれらの混合溶媒を用いること
ができる。反応温度は、特に限定されず広い範囲から適
宜選択すればよいが、通常Ｏ〜１００℃、好ましくは空
温〜ａｏ’ｃ程度とすればよく、反応は３分〜２０時間
程度で終了する。尚、使用される酸としては通常触媒量
〜過剰量程度、好ましくは過剰量程度とするのがよい。

また上記反応工程式−１において得られる化合物（２６
）中３位、３′位及び５′位の少なくとも１つにアシル
基を有する化合物は、これを加水分解反応させることに
より、該アシル基のいずれか１つ又は全部を水素原子に
変換させ得る。この加水分解反応は通常の酸又はアルカ
リ加水分解の条件下に行なわれる。この際使用される触
媒としては、通常の酸又はアルカリ加水分解反応に用い
られるものがいずれも使用できる。代表的なものとして
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム
等の塩基性化合物及び塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸を例
示できる。２等触媒の使用量は特に限定がなく広い範囲
から適宜選択すればよい。本反応は一般に溶媒中で有利
に進行し、この際使用される溶媒としては、通常の不活
性溶媒を。

広く使用できる。例えば水、メタノール、エタノール、
インプロパツール等の低級アルコール類、アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン類やこれらの混合溶媒等を
有利に用いることができる。

反応温度も特に限定されず広い範囲から適宜選択すれば
よいが、通常Ｏ・〜１００’Ｃ１好ましくは空温〜８０
’Ｃ程度で反応を行なうのがよい。本反応は３０分〜１
０時間程度で終了する。

〈反応工程式−ｊ〉 （２７＞　　　　　　　　　　（２８）（式中Ｒ及びＲ
２ｆは一方が上記Ｒ基で、他方がｅ 水素原子、アシル基又は保護基を示す。Ｒ２Ｏはアシル
基を示す。〉 本反応は、ピリミジン骨格の３位にアシル基を導入する
反応（アシル化反応）でおり、通常の方法例えば酸ハラ
イド法にしたがって実施できる。

該酸ハライド法によれば化合物（２７）にアシルハライ
ド（Ｒ１ｇｘ　＞を、脱酸剤の存在下、適当な溶媒中で
作用させることにより、目的とする化合物（２８）が収
得される。上記において脱酸剤としては例えば炭酸水素
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ピリジン
、トリエチルアミンなどを使用できる。溶媒としては、
例えばベンゼン、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化
炭素、ジオキサン、テトラヒドロフランなどが用いられ
る。アシルハライドの用量は、化合物（２７）に対し少
なくとも等モル量程度、好ましくは等モル−３モル程度
とするのがよい。反応温度は通常−３０〜１００’Ｃ１
好ましくは室温〜８０’Ｃ程度であり、２０分〜２０時
間程度で反応は終了する。

尚上記反応において化合物（２７）が、その３′位又は
５′位に遊離水酸基を有する場合は、これらの部位も３
位と同時にアシル化される。従って２等化合物の上記ア
シル化に当っては、予め３′位又は５′位の水酸基を、
保護しておき、アシル化後、保護基の脱離を行なうのが
好ましい。

この保護基の導入反応については後記する。また該保護
基の脱離反応は、前記反応工程式−１の項で説明した方
法と同様にして行ない得る。

〔式中Ｒ及びＲｆは前記に同じ。Ａはトリ（低級アルキ
ル）シリル基及びＢは低級アルカノイル基を示す。また
Ｒ　及びＲ３ｆは一方が前記Ｒｅ 基で他方が上記Ａ基又はアシル基を示す。〕上記によれ
ば、化合物（２９）にビス−Ｎ、０−トリ（低級アルキ
ル）シリルアセトアミドを反応（トリアルキルシリル化
反応）させて化合物（３０）を得、次いでこれに２−低
級アルカノイルオキシテトラヒドロフランを反応（テト
ラヒドロフラニル化反応）させることにより、化合物（
３１）を収得できる。

トリアルキルシリル化反応は、過当な不活性溶媒、例え
ばジオキサン、ＴＨＦ等のエーテル類、ベンゼン、トル
エン等の芳香族炭化水素類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ，アセト
ニトリル等の溶媒中、杓Ｏ〜１００’Ｃ１好ましくは空
温〜５０℃の温度下に３０分〜６時間を要して行なわれ
る。上記においてヒス−Ｎ、０−トリ（低級アルキル）
シリルアセトアミドは、反応させるべき官能基１個に対
して少なくとも当量、好ましくは１〜２倍当量となる量
で用いられるのがよい。

上記に引き続くテトラヒドロフラニル化反応は、上記と
同様の溶媒中、約Ｏ〜１００℃、好ましくは空温・〜５
０’Ｃの温度下に３０分〜６時間で行なわれる。２−低
級アルカノイルオキシテトラヒドロフランの使用ωは化
合物（３０）に対して少なくとも等モル量、好ましくは
１〜２倍モル量とするのがよい。この反応はまた、反応
系内に塩化第２錫（ＳｒｌＣＱａ）、塩化アルミニウム
、塩化亜鉛等のルイス酸を通常化合物（３０）に対して
約０．１モル以上存在させることにより有利に進行する
。また該テトラヒドロフラニル化反応において、Ｒ３ｅ
又はＲ３ｆがトリ（低級アルキル）シリル基である化合
物（３０）を用いる場合には、引き続き該トリ（低級ア
ルキル）シリル基の脱離反応を行なうことにより、目的
とする化合物（３１）が収得される。この脱離反応は、
反応工程式−１の項で述べた脱保護基反応と同様にして
実施される。

かくして得られる目的化合物は通常の分離手段例えば再
沈澱、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー、イオン
交換クロマトグラフィー、ゲルクロマトグラフィー、親
和クロマトグラフィー等により容易に単離精製される。

尚前記反応工程式−１において保護基である化合物は、
例えば下記反応工程式−〇又は−ｍに示す方法により得
られる。

／′ 〈反応工程式−Ｑ〉 ｆ （Ｒはアシル基及びＲ４ｅは保護基を示す）化合物（３
２）のアシル化反応は、通常のアシル化反応方法、例え
ば酸ハライド法、酸無水物法、混合酸無水物法、Ｎ、Ｎ
’　−ジシクロへキシルカルボジイミド法（ＤＣＣ法）
等のいずれをも適用することができ、特に酸無水物法が
有利に適用される。

酸無水物法は、化合物（３２）を適当な溶媒中、酸無水
物と共に加熱することにより実施される。

酸無水物としては、化合物（３２）の５′位に導入すべ
きアシル基に対応する酸の無水物を使用する。その具体
例としては例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪
酸、無水安息香酸等を例示できる。之等の酸無水物は化
合物（３２）に対して約１〜１．５倍モル量程度用いら
れるのがよい。

溶媒としては各種の不活性溶媒、例えばピリジン、クロ
ロホルム、ジクロルメタン等のハロゲン化炭化水素類、
ジオキサン、ＴＨＦ等のエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ＞、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ＞　、アセトニ
トリル等を使用できる。反応温度は通常−３０°Ｃ〜８
０″Ｃ程度とされ、約１〜６時間で反応は終了する。ま
た上記反応は、塩基性化合物の存在下に有利に行なわれ
る。該塩基性化合物としては、例えばピリジン、トリエ
チルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の第三板アミ
ン類等の有感塩基や、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、酢酸ナトリウム等の無機塩基性化合物を例示できる
。

上記反応により５′位がアシル化された化合物（３３）
が主成分として得られ、副成分として３′位がアシル化
された化合物も得られる。

上記により得られる化合物（３３）は、次いでその３′
位水酸基の保護反応に供される。この保護反応は反応工
程式−１の項で説明した保護基を化合物（３３）の３′
位に導入するものであり、該保護基を導入するための試
薬としては前記一般式（Ａ＞で表わされる保護基を与え
るトリアリール置換メチルハライド、前記一般式（Ｂ）
で表わされる保護基を与える下記一般式 （式中Ｒ′及びｎは一般式（Ｂ）におけるそれらに同じ
〕 で表わされる不飽和環状エーテル、低級アルコキシメチ
ルハライド及びトリ（低級アルキル）シリルハライドが
用いられる。

上記ハライドを利用する保護基導入反応は、前記反応工
程式−１に示した脱ハロゲン化水木反応と同様にして行
なわれる。但し試薬量を化合物（３３）に対して１〜２
倍モル量、好ましくは１〜１．５倍モル量とし、反応温
度を一３０°Ｃ〜８０’Ｃとするのがよい。

上記一般式（Ｂ′　）で表わされる不飽和環状エーテル
を利用した保護基導入反応は、酸触媒の存在下、例えば
ＴＨＦ、ジオキサン、アセトニトリル等の非プロトン性
不活性溶媒中で行なわれる。

酸触媒としては臭化水素、塩化水素等のハロゲン化水素
酸や、塩化アルミニウム、弗化硼素、塩化亜鉛等のルイ
ス酸を使用できる。反応は試薬を化合物（３３）に対し
て１〜１．５倍モル量用い、−３０’Ｃ〜６０’Ｃ下に
約２〜５時間を要して行なわれる。

かくして得られる化合物（３４〉の５′位アシル基の脱
離反応は、アルカリ加水分解条件下に行なわれる。該条
件は触媒として塩基性化合物を用いる前記反応工程式−
１の項で説明した加水分解反応と同様である。

〈反応工程式−ｍ〉 〔式中Ｒ４０は保護基を示す。〕 上記によれば、化合物（３２）に直接保護基導入反応を
行なうことにより、５′位に保護基の導入された化合物
（３６）が得られる。この保護基導入反応は、反応工程
式−Ｑに示すそれと同条件下に行なわれる。

上記反応工程式−Ｑ及び−ｍに示す反応により、３′位
又は５′位のいずれか一方にアシル基又は保護基の導入
された原料化合物を収得できる。

本発明に用いられる一段式（］）のピリジン誘導体は、
これを抗腫瘍活性増強剤として用いるに当っては、単独
で製剤加工し、得られる製剤を抗腫瘍剤と併用して投与
してもよく、また抗腫瘍剤有効成分化合物と同一の製剤
に製剤加工して投与してもよい。いずれの場合にも、抗
ＩｌＩ瘍剤有効成分化合物１モルに対する本発明化合物
の併用割合は、約０．１〜１０倍モル量、好ましくは０
．５〜１．５倍モル量の範囲とするのか好ましい。

本発明抗腫瘍活性増強剤は、通常使用される充填剤、増
量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等
の希釈剤あるいは賦形剤を用いて通常の医薬製剤め形態
に調整される。この医薬製剤としては各種の形態が治療
目的に応じて選択でき、その代表的なものとして錠剤、
荒削、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤
、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）、軟裔剤等が挙け゛
られる。錠剤の形態に成形するに際しては、担体として
は公知のものを広く使用でき、例えば乳糖、白糖、塩化
ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウ
ム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水
、エタノール、プロパツール、単シロップ、ブドウ糖液
、デンプン液、ゼラチン）８液、カルポキシメチルセ！
レロース、セラック、メチルセルロース、リン酸カリウ
ム、ポニビニルピロリドン等の結合剤、乾燥デンプン、
アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭
酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪醒エステル類、ラウリル硫酸ナトリウ
ム、ステアリン酸モノグリセリド、デンプン、乳：Ｍ等
の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバター、水素添加
油等の崩壊抑制剤、第４級アンモニウムＪｍ％、ラウリ
ル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリン、デンプ
ン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、ベントナイ
ト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステア
リン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢
剤等を使用できる。ざらに錠剤は必要に応じ通常の剤皮
を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶破
錠、フィルムコーティング錠あるいは二重錠、多層錠と
することができる。荒削の形態に成形するに際しては、
担体として公知のものを広く使用でき、例えばブドウ糖
、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、
タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼ
ラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、カンテン
等の崩壊剤等を使用できる。坐剤の形態に成形するに際
しては、担体として公知のものを広く使用でき、例えば
ポリエチレングリコール、カカオ脂、高級アルコール、
高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセ
ライド等を使用できる。カプセル剤は常法に従い通常有
効成分化合物を上記で例示した各種の担体と混合して硬
質ゼラチンカプセル、軟質カプセル等に充填して調製さ
れる。注射剤として調製される場合、液剤、乳剤及び懸
濁剤は殺菌され、かつ血液と等張でおるのが好ましく、
これらの形態に成形するに際しては、希釈剤として公知
のものを広く使用でき例えば水、エチルアルコール、マ
クロゴール、プロピレングリコール、エトキシ化イソス
テアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアル
コール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
類等を使用できる。なお、この場合等張性の溶液を調製
するに充分な量の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを
医薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶解補助
剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。更に必要に
応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の
医薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。ペースト、
クリーム及びゲルの形態に成形するに際しては、希釈剤
として例えば白色ワセリン、パラフィン、グリセリン、
セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、シリコン
、ベントナイト等を使用できる。

上記の医薬製剤中に含有されるぺぎ前述の化合物の足は
、特に限定されず広範囲に適宜選択されるが、通常医薬
製剤中１〜７０重量％とするのがよい。

上記医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種製剤形
態、患者の年齢、性別その他の条件、患者の程度等に応
じて決定される。例えば錠剤、火剤、液剤、懸濁剤、乳
剤、顆粒剤及びカプセル剤は経口投与される。注射剤は
単独であるいはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混
合して静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内
、皮内、皮下もしくは腹腔的投与される。坐剤は直腸内
投与される。

上記医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性別その他
の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通常有
効成分である抗腫瘍化合物（２−ａ）、（２−ｂ）、（
３）の量が１日当り体重１ｋｇ当り約０．５〜２０ｍｔ
Ｊ程度とするのがよく、該製剤は１日に１〜４回に分け
て投与することができる。

実施例 以下に参考例、実施例、薬理試験例及び製剤例を挙げる
。

参考例及び実施例におけるＮＭＲデータに関し、「Ｃ」
、ｒＨＪ又はｒＮＪの右下に付された数字は、化合物中
の位置を示す。例えば、ｒｃｓ　　ＨＪとは、６位の炭
素原子に結合した水素原子を示す。

同様に、例えばｒＣ３’、　　’、５’　　ＨＪは、３
′位、４′位、５′位の炭素原子に結合した水素原子を
示す。また、例えば「Ｈｌ」は１１ヴの炭素原子に結合
した水素原子を示し、更に例えば、１１”ｈ　　ＨＪは
、３位の窒素原子に結合した水素原子を示す。

参考例１ ５′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロウ
リジンの製造 ５′−〇−アセチルー２′−デオキシー５−フルオロ−
３’−０−トリチルウリジン１．ＯＯＣＩのメタノール
３０ｍＱ溶液に、１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液を加え
、室温で４時間撹拌した。酢酸を加えて中和後、濃縮し
、残渣を石油エーテルで洗浄し、乾燥した。これをベン
ビン２０ｍ１２とジオキサン２０ｍＱとの混液に溶解し
、臭化ベンジル０．２７ｍ１２と水酸化カリウム０．１
５Ｃ１の細粉とを加えて一夜還流した。溶媒を留去し、
残渣を８０％酢酸５０ｍＱに溶解し、８０’Ｃで４時間
放置した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムを用
い、クロロホルム〜２％メタノールークロロホルムで溶
出して、５′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フ
ルオロウリジンに対応するフラクションを集め、濃縮し
、エタノールから再結晶して、目的化合物０．３３Ｃｌ
　（５２％）を得た。

融点１２９〜１３０’Ｃ 元素分析値：Ｃ＋　ｓ　Ｈ＋　７　ＦＮ２０５として計
算値（％）：Ｃ５７，１４：Ｈ５，０９：Ｎ８．３３ 実測値（％）：Ｃ５７，１４；Ｈ５，３５；Ｎ８．３４ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ　　）　δ： １１．７６　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加で消
失） ７．９５　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．
３４　（５Ｈ，ｓ、フェニル−Ｈ）６．１５　（１ＨＳ
ｔ、Ｊ＝７Ｈ２，Ｃ＋　’　　Ｈ）５．３３　（１Ｈ，
ｂｓ、３’−ＯＨ，Ｃ２０添加で消失） ４．３４−４．１６　（１ＨＳｍ、Ｃ３’　　Ｈ）４．
００−３．８９　（１Ｈ，ｍ、Ｃ４’　−Ｈ）３．６９
−３．６３　（２ＨＳｍ、Ｃｓ　’　　Ｈ）２．１４　
（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ２’　　Ｈ）参考例２ ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロウ
リジンの製造 ベンゼン５０ｍＧとジオキナン５０ｍＱとの混液に、２
′−デオキシ−５−フルオロ−５’　−０−トリチルウ
リジン１．００ｇ、臭化ベンジル０．３０−及び水酸化
カリウム０．２３に］の粉末を加え、２５時間還流した
。不溶物をｉ戸去し、ン戸液を濃縮した後、残渣を８０
％酢！５ｍ２に溶解し、８０’Ｃで２時間放置した。溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムを用い、クロロホ
ルム〜２％メタノール−クロロホルムで溶出して、３’
　−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロウリ
ジンに対応するフラクションを集め、濃縮し、エタノー
ルから再結晶して、目的化合物０．１４ＣＩ　（２０％
）を得た。

融点１３８〜１３９℃ 元素分析値二Ｃ＋　ｓ　Ｈｌｖ　ＦＮ２０５として計算
値（％）：Ｃ５７，１４：Ｈ５，０９：Ｎ８．３３ 実測値（％）：Ｃ５７，１６：Ｈ５，３０：Ｎ８．１３ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １１．８２　（ＩＨ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加で消
失）、 ８、　　２１　　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝７Ｈｚ、　　
Ｃｓ　　−ト１　）７．３５　（５Ｈ，ｓ、フェニル−
Ｈ）６．１６（１ＨＸｊＳＪ＝６Ｈ２，Ｃ＋’　　Ｈ）
５．２２　（１Ｈ，ｂｓ、５’　　　ＯＨ，Ｃ２０添加
で消失） ４．２４　４．１９　（１Ｈ，ｍ、Ｃ３’　　Ｈ＞４．
０９　４．０６（１Ｈ，ｍ、Ｃａ’　　Ｈ）３．６５　
３．５３　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　Ｈ）２．５１−２
．１６　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ）参考例３ ２′−デオキシ−５−フルオロ−３’　−０−（３，４
−メチレンジオキシベンジル）ウリジンの製造 参考例２において反応溶媒として用いるジオキサンをア
セトニトリルに代える以外は同様に反応させて、目的化
合物を２３％の収率で得た。

融点１８６〜１８８°Ｃ 元素分析値：Ｃ＋　ｙ　Ｈｔ　７　ＦＮ２０７　・０．
５Ｈ２０として 計算値（％）：Ｃ５２，４４：Ｈ４，６６：Ｎ７．１９ 実測値（％）：Ｃ５２，６０：Ｈ４，６２：Ｎ７．０３ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ： １１．８０　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、−ＮＨ−１Ｄ２
０添加で消失）、 ８．１８　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　−Ｈ）６．
９０−６．８５　（３Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．１１
　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　−Ｈ＞５．９
９　（２Ｈ１Ｓ、−０−ＣＨ２０）５．１７　（１Ｈ，
ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ、５’　−０Ｈ１Ｄ２０添加で消失） ４．１８−４．００　（２Ｈ，ｍ、 Ｃ３’、Ｃ４’　　Ｈ） ３．６４　３．６１　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　−Ｈ）２
．３０　２．２０　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　Ｈ＞参考例
４及び５ ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロウ
リジン及び５’　−０−ベンジル−２′−デオキシ−５
−フルオロウリジンの製造 水３５０ｍ１２とジオキサン１００ｍＧとの混液に水酸
化カリウム１１．４Ｃ１を溶解し、空温撹拌下、２′−
デオキシ−５−フルオロウリジン１０．ＯＱ及び臭化ベ
ンジル３．０ｍＧを加えた。この後２４時間おきに５％
水酸化カリウム水溶液１００ｍＱと臭化ベンジル３．Ｑ
ｍｉ２とを３回加え、ざらに−夜撹拌を続けた。反応溶
液をエーテル２００ｍＱで２回洗浄後、水層を６Ｎ−Ｈ
ＣＱで中和し約２００ｍ１２まで濃縮した。これを再び
６Ｎ−ＨＣｉ２でｐＨ約３−４に調整し、酢酸エチル１
００ｎ１２で２回抽出した。酢酸エチル層を分取し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。油状残渣をシリ
カゲルカラムを用い、クロロポル６〜２％メタノール−
クロロホルムで溶出し３’　−０−ベンジル−２′　−
デオキシ−５−フルオロウリジンに対応するフラクショ
ンを集め、濃縮し、エタノールから再結晶して目的化合
物３．５７ｇ（２６，１％）を得た。

融点１３８〜１３９℃ 元素分析値：Ｃ＋　ｓ　Ｈ＋　７　ＦＮ２０５として計
算値（％）：Ｃ５７，１４：Ｈ５，０９：Ｎ８．３３ 実測値（％）：Ｃ５７，１２：Ｈ５，２８：Ｎ８．２４ ついで溶出した５’　−０−ベンジル−２′−デオキシ
−５−フルオロウリジンに対応するフラクションを集め
、濃縮し、エタノールから再結晶して、目的化合物０．
４０ＣＪ　（２，９％〉を得た。

融点１２９〜１３０℃ 元素分析値：Ｃ＋　６８＋　７　ＦＮ２０５として計算
値（％）：Ｃ５７，１４：Ｈ５，０９：Ｎ８．３３ 実測１ａ（％）：Ｃ５７，２９：Ｈ５，３０：Ｎ８．２
６ 参考例６〜１７ 参考例４及び５と同様にして下記各化合物を得た。

参考例６ ３’　−０−（２−フルオロベンジル）−２′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 収率３４％ 融点１２１〜１２３℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　）δ： １１．８２　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加で消
失） ８．２１　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈ２，Ｃ６−Ｈ）７．６
７−７．１９　（４Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．１５　
（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　−Ｈ）５．２６　
（１Ｈ，ｂｓ、５’−ＯＨ，Ｄ２０添加で消失） ４、　２８−４．　０５　　＜２Ｈ，ｍ　、Ｃ３’、Ｃ
４’　　　Ｈ） ３．７７−３．６７　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　−Ｈ）２
．４１　２．１８（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　Ｈ）参考例７ ５’　−０−（２−フルオロベンジル〉−２′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 収率５．２％ 融　点　−（油状〉 Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ−ｄ　ｓ　）δ：１１．７
　（１Ｈ，ｂｓ、−Ｎ　Ｈ−１Ｄ２０添加で消失） ７．９２　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．
５２−７．０７　（４Ｈ，ｍ、フェニ／Ｌ、−Ｈ）４．
４４−３．９７　（２Ｈ，ｍ、 Ｃ３’、Ｃ４’　　　Ｈ） ３．８４−３．５７　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　　Ｈ）
２．２１　２．０８　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ）参考
例８ ３’　−０−（３−フルオロベンジル）−２′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 収率２７％ 融　点１１３〜１１５℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ　）δ： １１．８１　（ＩＨ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加で消
失） ８、　　２１　　　（１Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝７　　ト１２
．Ｃｓ　　　　　Ｈ）７．４６−７．０１　（４Ｈ，ｍ
、フェニル−Ｈ）６．１７（１Ｈ１↑、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ
＋　’　　−Ｈ）５．２２　（ＩＨＳ　ｂｔ、Ｊ＝５Ｈ
ｚ、５’　　−ＯＨ。

Ｄ２０添加により消失） ４．３１−４．０６　（２Ｈ，ｍ。

Ｃ３’、４’　　Ｈ＞ ３．７４−３．５９　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　Ｈ）２
．３８−２．０３　（２Ｈ，ｍ、０２　’　　Ｈ＞参考
例９ ５’　−０−（３−フルオロベンジル）−２’−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 収率　５．９％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ： １０．４　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加で消失
） ７．９２　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　　Ｈ）７
．４１−６．７７　（４Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．２
８　（１ＨＳ　ｂｓ、Ｃ＋　’　　−Ｈ＞４．６３−３
．５１　　（６ｔ−ｆ、ｍ。

Ｃ３’　　ｅ　４’　　＋　Ｓ’　　　Ｈ％２．４９　
１．９３　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ＞参考例１０ ３’　−０−（２−ブロモベンジル）−２’−デオキシ
−５−フルオロウリジン 収率３３％ 融点１２２〜１２４°Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−Ｃ！Ｉ６）δ： １１．８１　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加で消
失）、 ８．２０　（１Ｈ，ｄＳＪ＝７Ｈ２，Ｃ６Ｈ＞７．６７
−７．３２　（４Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ〉６、　　１５
　　（ＩＨ，ｔ、　　Ｊ＝６Ｈ７，Ｃ＋　　’　　−Ｆ
ｌ　）５、　　２　１　　（１Ｈ，ｔ、　　Ｊ＝５　　
ト１　ｚ　、　５’　　　−ＯＨ。

Ｃ２０添加で消失） ４．２５−４．０５　（２Ｈ，ｍ。

Ｃ３’　、−’　−Ｈ＞ ３．７０−３．５２　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　−Ｈ）２
．４０−１．９４（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　Ｈ）参考例１
１ ５’−０−（２−ブロモベンジル）−２’−デオキシ−
５−フルオロウリジン 収率５％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １１．７８　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ７．９１　’（１Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈ２，Ｃｓ　　Ｈ）７
．６９−７．３２　（４Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．１
５　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６１−１ｚ、Ｃｔ　’　−Ｈ）５
．３５　　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ。

５’−ＯＨ，Ｃ２０添加により消失） ４．３１−３．４２　（４Ｈ，ｍ。

Ｃ３’、　　’、ｓ’　　Ｈ） ２．２０　２．０９　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ）参考
例１２ ３’　−０−（３−ブロモベンジル）−２’−デオキシ
−５−フルオロウリジン 収率１９％ 融点１６６〜１６８℃ Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ−ｄ　ｓ　）δ：１１．８
０　（ＩＨ，ｂｓ、−ＮＨ−２Ｄ２０添加により消失）
、 ８．１８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．
６９−７．３１　（４Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．１５
　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　　Ｈ）５．１９
　（ＩＨＳｔ、Ｊ＝５Ｈｚ、 ５’−ＯＨ，Ｃ２０添加により消失） ４．２３−４．０３　（２Ｈ，ｍ。

Ｃ３’、４’　　Ｈ＞ ３．７１−３．５７　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　Ｈ）２
．３４−２．２１　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　Ｈ）参考例
１３ ５’　−〇−（３−ブロモベンジル）−２’−デオキシ
−５−フルオロウリジン 収率３％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １１．９０　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ８．００　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈ２，Ｃ６Ｈ）７．６７
−７．３４　（４Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．１２（１
Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈ７，Ｃ＋’　　Ｈ＞５．４６　（１Ｈ
，ｂｓ、３’　　ＯＨ，Ｃ２０添加により消失〉 ４．３０−３．９０　（２Ｈ，ｍ、 Ｃ３’、４’　　Ｈ） ３．７４−３．６８　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　−Ｈ）２
．１３　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ２’　　Ｈ＞参考
例１４ ３’　−０−（４−ブロモベンジル）−２’−デオキシ
−５−フルオロウリジン 収率１２％ 融点２１４〜２１７°Ｃ Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ−ｄ　ｓ　）δ：１１．８
０　（１Ｈ，ｂｓ、　ＮＨ−１Ｄ２０添加により消失）
、 ８．１８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈ２ＳＣａ　−Ｈ）７．
５５と７．３０（各々２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈ７、フェニル
−Ｈ） ６゜　　１１　　（１ト１、　　ｔ、　　Ｊ＝６Ｈｚ、
　　Ｃ＋　　’　　　−Ｈ）５’、１９（１Ｈ，↑、Ｊ
＝５Ｈｚ、５′　−ＯＨ，Ｃ２０添加により消失） ４．２３−４．０２　（２Ｈ，ｍ。

Ｃ３’、４’　　Ｈ＞ ３．７３　３．６０　（２Ｈ，ｍ５Ｃｓ　’　　Ｈ）２
．３６　２．０７　（２ＨＳｍ、Ｃ２’　−Ｈ）参考例
１５ ３’　−０−（４−１−ブチルベンジル）−２′−デオ
キシ−５−フルオロウリジン収率１７％ 融　点　−（粉末） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ： １１．８０　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ８．１８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−７Ｈ２，Ｃ６Ｈ＞７．４８
と７．３０（各々２Ｈ，ｄＳＪ＝８Ｈｚ。

フェニル−Ｈ） ６．１２　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　　−Ｈ
）５．１８　（’ＩＨ，ｔ、Ｊ＝５１−（Ｚ、５’　　
−ＯＨ。

Ｃ２０添加により消失） ４．３０−４．０４　（２Ｈ，ｍ、 Ｃ３’、４’　　Ｈ） ３、　　７６　　　３．　　６０　　（２Ｈ，ｍ、　　
Ｃｓ　　’　　　−ト１　〉２．２４−２．０８　（２
Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ＞１．２７　（９Ｈ，ｓ、ＣＨ３
Ｘ３） 参考例１６ ５’　−０−（４−ｔ−ブチルベンジル）−２′−デオ
キシ−５−フルオロウリジン収率２％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １１．８０　（１Ｈ，ｂｓ、　−ＮＨ−１Ｄ２０添加に
より消失）、 ７．９４　（１Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈ２，Ｃｓ　　Ｈ）７．
３４と７．１６（各々２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈ２、フェニル
−Ｈ） ６．１４　（ＩＨ，ｔＳＪ＝６１−１ｚ、Ｃ＋　’　−
Ｈ＞５．３１　（１Ｈ，ｂｓ、３’　　ＯＨ，Ｃ２０添
加により消失） ４．２８−３．９４　（２Ｈ，ｍ。

Ｃ３’、４’　　Ｈ） ３．７４−３．６４　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　−Ｈ）２
．１３　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ２’　　Ｈ）１．
２７　（９Ｈ，Ｓ、ＣＨ３Ｘ３） 参考例１７ ３’　−０−（４−フェニルベンジル）−２′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 収率１２％ 融点２０７〜２０９°Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−６６）δ： １１．９０　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ８．１９　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．
６９−７．３９　（９ｔ−ＩＳｍ、フェニル−Ｈ）６．
１５　（１，Ｈ，ｔＳＪ＝６Ｈ２，Ｃ＋　’　−Ｈ）５
．２５　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ、５’　−ＯＨ。

Ｃ２０添加により消失） ４．２９−４．０７　（２Ｈ，ｍ。

Ｃ３’、４’　　Ｈ） ３．８３−．３．６３　（２ＨＳｍ、Ｃｓ　’　　Ｈ）
２．２６　２．０６　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　Ｈ＞参考
例１８及び１９ ３’　−〇−（４−クロロベンジル）−２’−デオキシ
−５−フルオロウリジン及び５′−〇−（４−クロロベ
ンジル）−２′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製
造 水、１５０ｍＧとジオキサン４０ｍＱとの混液に、水酸
化カリウム４．０ＣＩを溶解し、空温撹拌下、２′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン２．００９と４−クロロ
ベンジルクロリド５．５ｇとを加えた。２日後参考例４
及び５と同様に後処理し、シリカゲルカラムを用い、ク
ロロホルム〜２％メタノール−クロロホルムで溶出し、
３’　−０−（４−クロロベンジル）−２′−デオキシ
−５−フルオロウリジンに対応するフラクションを集め
、濃縮して目的化合物０．５０ｇ（１７％）を得た。

融点１９６〜１９８℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １１．８１　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ８．２０　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃａ　　Ｈ）７．
３８　（４Ｈ，Ｓ、フェニル−Ｈ）６．１４　（ＩＨ，
ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃ＋　’　　Ｈ）５．２１　（ＩＨ，
ｂｔ、Ｊ＝５Ｈｚ、５’　−ＯＨ。

Ｃ２０添加により消失） ４．２３　４．’１４　（’ＩＨ，ｍ、Ｃ３’　　　Ｈ
）４．１０　４．０３（１Ｈ，ｍ、Ｃａ’　　　Ｈ）３
、　　７　１−３．　　５８　　（２Ｈ，ｍ、　　Ｃｓ
　　’　　　−ト１　）２．４１　　２．０２（２Ｈ，
ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ）元素分析値：Ｃ＋　ｓ　Ｈ＋　ｓ
　ＣＱ　ＦＮ２０ｓとして計算値（％）：Ｃ５１，８３
：ヒ１４．３５：Ｎ７．５６ 実測値（％）：ｃ　　５１．８２：Ｈ４，６０；Ｎ７．
４１ ついで溶出した５’　−０−（４−クロロベンジル）−
２′−デオキシ−５〜フルオロウリジンに対応するフラ
クションを集め、濃縮して粉末状の目的物質０．１２ｑ
　（４，０％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ： １１．７９　（１１−１，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加
により消失）、 ７．９１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈ２，Ｃ６Ｈ）７．３８
　（４Ｈ，ｓ、フェニル−Ｈ）６．１３　（１Ｈ，ｔ、
Ｊ＝６ｔ−１ｚＳＣ＋　’　　　Ｈ）５．３３　（ＩＨ
，ｂｓ、３’　　ＯＨ，Ｃ２０添加で消失） ４、５３　（２Ｈ，５ＳｅｃＨ２） ４．３８　４．２１（ＩＨ，ｍ５Ｃ３’　　Ｈ）４．０
４−３．８２（１Ｈ，ｍ、Ｃｔ’　　Ｈ＞３．７８−３
．７４　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　Ｈ）２．２５−１．
９８（２ＨＳｍ、Ｃ２’　　Ｈ＞元素分析値：Ｃ＋　ｓ
　Ｈ＋　ｓ　ＣＱ　ＦＮ２０５として計算値（％）：Ｃ
５１，８３：Ｈ４，３５Ｎ７．５６ 実測値（％）：Ｃ５１，７３：Ｈ４，８０：Ｎ７．９７ 参考例２０〜２２ 参考例１８及び１９と同様にして下記各化合物を得た。

参考例２０ ３’　−０−（２，４−ジクロロベンジル）一２′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン収率１４％ 融点８８〜９０℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ： １１．８２　（１）１．ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加に
より消失〉、 ８．２０　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈ１，Ｃ６Ｈ）７．６０
−７．３７　（３Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．１４　（
ＩＨ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　−Ｈ）５．２１　（
１Ｈ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ、５’　−０Ｈ１Ｄ２０添加によ
り消失） ４、５９　（２Ｈ，Ｓ、　ＣＣＨ２＞ ４．２８−４．０３　（２Ｈ，ｍ、 Ｃ３’、−’　　Ｈ） ３．６９　３．６０　（２Ｈ，ｍ、Ｃ５’　　Ｈ）２．
３７−２．１９　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　Ｈ）参考例２
１ ５’　−０−（２，４−ジクロロベンジル）−２′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン収率　３．３％ 融点１０９〜１１１°Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ： １１．７７　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ７．８９　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．
６０−７．３６　（３Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．１４
　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　　Ｈ）５．３３
　（１Ｈ，ｂｓ、３’−ＯＨ，Ｄ２０添加により消失） ４．３６−３．８３　（２ＨＳｍ。

Ｃ３’、４’　　Ｈ） ３．７４　３．６０　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　Ｈ）２
．１４　（２Ｈ１℃、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ２’　−Ｈ）参考
例２２ ３’　−０−（４−メトキシベンジル）−２′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン 収率８．１％ 融点１６４〜１６６°Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ）δ： １１．８１　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ８．１９　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈ２，Ｃ６Ｈ）７．２７
と６．９１（各々２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、フェニル−Ｈ
） ６．１２　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈ２，ＣＩ’　−Ｈ）５
．１９　（ＩＨ，ｂｔ、Ｊ＝５Ｈ２，５’　−〇Ｈ１Ｄ
２０添加により消失） ４．４５　（２Ｈ，ｓ、ＣＣＣ２０） ４．１９−４．０２　（２Ｈ，ｍ、 Ｃ３’、４’　　Ｈ） ３．７０　３．５０　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　Ｈ）２
．３１−２．１３　（２ＨＳｍ、Ｃ２’　−Ｈ＞参考例
２３ ２′−デオキシ−５−フルオロ−３’−（２−メチルベ
ンジル）ウリジンの製造 水３３−とアセトニトリル１６ｍ１２との混液に、水酸
化カリウム１．１４Ｑを溶解し、室温撹拌下、２′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン１．００９と２−臭化メ
チルベンジル１．５０Ｃ１を加えた。

その後参考例４及び５と同様に後処理して、目的化合物
０．２９ＣＩ　（２０％）を得た。

融点：１１４〜１１６°Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １１．７９　（ＩＨ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ８．１９　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．
３０−７．１７　（４Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ〉６．１１
　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　　Ｈ）５．１９
　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ、５’　−０Ｈ１Ｄ２０添加
により消失） ４．２２−４．０２　　（２Ｈ，ｍ、 Ｃ３’、Ｃ４’　　　Ｈ＞ ３．６６　３．６２　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　　Ｈ）
２．２９−２．２１　（５Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　ＨとＣＨ
３） 元素分析値：Ｃ＋ｙＨ＋−ＦＮ２０５として計算値（％
）：Ｃ５８，２８；Ｈ５，４６Ｎ７．９９ 実測値（％）：Ｃ５８，１２；Ｈ５，６４；Ｎ８．０１ 参考例２４及び２５ 参考例２３と同様にして下記各化合物を得た。

参考例２４ ３’　−０−（３−メチルベンジル）−２’−デオキシ
−５−フルオロウリジン 収率２３％ 融点１２９〜１３１°ｄ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ　）δ： １１．８０　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ８．１９　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈ１，Ｃ６Ｈ＞７．１５
　（４Ｈ，Ｓ、フェニル−Ｈ）６．１２　（ＩＨ，ｔ、
Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　−Ｈ＞５．１８　（１Ｈ，ｔ、
Ｊ＝５Ｈｚ、５’　−０Ｈ１Ｄ２０添加により消失） ４．２１−４．０２　（２Ｈ，ｍ。

Ｃ３’、Ｃ４’　　　Ｈ） ３．６６　３．６１　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　−Ｈ＞２
．３１−２．２２　（５Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−ＨとＣＨ３
） 参考例２５ ３’　−０−（４−メチルベンジル）−２’−デオキシ
−５−フルオロウリジン 収率２１％ 融点１７８〜１８０℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　　）δ： １１．８１　（’１Ｈ，ｂＳ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加に
より消失）、 ８．１８　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈ１，Ｃ６Ｈ）７．３０
−７．１３　（４Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．１２　（
ＩＨ，ｔ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ＋　’　−Ｈ）５．１７　（
１Ｈ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ、５’　−０Ｈ１Ｄ２０添加によ
り消失） ４．２０−４．０１　（２ＨＳｍ。

Ｃ３’、Ｃ４’　　Ｈ） ３．６５　３．６０　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　Ｈ）２
．２９　２．１２（５Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　ＨとＣＨ３） 参考例２６ ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロ−
５′−〇−ニコチノイルウリジンの製造 ３′−〇−ベンジルー２′−ナオキシー５−フルオロウ
リジン０．２０ｇのピリジン１０ｍｆ２溶液に、塩化ニ
コチノイル・塩酸塩０．２’ｌを加え、８０″Ｃで３時
間放置した。溶媒を留去後残渣を酢酸エチル３０戒に溶
解し、水２０鵬で２回洗浄した。酢酸エチル層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、濃縮し、油状残渣をシリカゲル
カラムを用い、クロロホルムで溶出して目的化合物０．
１８Ｃｌ（６９％）を得た。

融点　１３０〜１３２°Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ： １１．１４　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ８．８１　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ、 ８．２４　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、 ６．２２　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　　−Ｈ
）４．７１−４．２１　（６１−１，ｍ、　　Ｃ刈ｃ旦
ど、Ｃ３’、　　　’、ｓ’　　　Ｈ） ２．７５　２．０４　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ）元
素分析値：　Ｃ２２Ｈ２ｏ　ＦＮ３０６として計算値（
％）：Ｃ５９，８６：Ｈ４，５７Ｎ９．５２ 実測値（％）：ｃ　　６０．０１：Ｈ４，５６：Ｎ９．
５８ 参考例２７〜３８ 参考例２６と同様にして下記各化合物を得た。

参考例２７ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−ベンゾイル−２′　−
デオキシ−５−フルオロウリジン収率７５％ 融点１２５〜１２７℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−６６）δ： １１．９４　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加４．
５９　（６Ｈ１ｍ、　　　Ｑ−ｃ旦２−Ｃ３’　ｅ　ｔ
　’　ｍ　ｓ　’　−Ｈ）２、４０２．２７　（２ＨＳ
ｍ、　Ｃ２’　Ｈ）参考例２８ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−フェノキシカルボニル
− ウリジン 収率３８％ 融　点　−　（油状） ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ　　ｄｓ　）δ： １２、００（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−、Ｄ２　０添加によ
り消失）、 ７、９５　（１Ｈ，ｄ，Ｊ−７Ｈｚ，Ｃｓ　　Ｈ）７、
５５−７．１６　（１０Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６、　
　１　　７　　（１Ｈ，　　ｔ，　　Ｊ＝６Ｈｚ，　　
Ｃ＋　　’　　−Ｈ＞４、５６−４．２１　（６Ｈ，ｍ
，　　σＣ旦ど、Ｃ３’　＋　ｔ’　＋　ｓ’　　Ｈ） ２、３９−２．２８　（２Ｈ，ｍ，Ｃ２　’　　Ｈ）参
考例２９ ３′−〇ーベンジルー５’　−０−ｎ−ヘキサノイル−
２′−デオキシ−５−フルオロウリジン 収率５１％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １　１、９４　（ＩＨ，ｂｓ．　−ＮＨ−、Ｄ２　０添
加により消失）、 ７、９０　（１ＨＳｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，Ｃｓ　　Ｈ）７、
３３　（５）−ＩＳＳ、フェニル−Ｈ）６、１９　（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，Ｃ＋　’　−Ｈ＞４、５４　（２
Ｈ，Ｓ，　　σＣＣＨ２４、２９−４．１　２　（４Ｈ
，ｍ。

Ｃ３’　＄　４　’　ｅ　ｓ　’　−Ｈ）２、３８　　
２．２３　（４Ｈ，ｍ，Ｃ２　’　　Ｈ。

−ＣＨ２Ｃｏ　　） １、６１−１．１５　（６Ｈ，ｍ。

ＣＨ３　　（ＣＨ２＞３０Ｈ２ＣＯ　　）０、８４　（
３Ｈ，ｔ，Ｊ−６Ｈｚ。

Ｃ旦３ＣＨ２） 参考例３０ ３′−〇ーベメチルー５′ー〇ーベンジルカルボニル−
２′−デオキシ−５−フルオロウリジン 収率４２％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ　（ＣＤＣ（３）δ： １０、０６　（１ＨＳｂｓ，　−ＮＨ　−、Ｄ２　０添
加により消失）、 ７、４２−７．２３　（１　１Ｈ，ｍ，フェニル−Ｈｌ
ｏｓ　　Ｈ） ６、１５　（ＩＨ，ｔ，Ｊ−６Ｈｚ，Ｃ＋　’　　Ｈ）
４、４３　（２Ｈ，Ｓ，　　分Ｃ旦２）４、３３−４．
１　１　（３Ｈ，ｍ、 Ｃ３’，Ｓ’　　Ｈ） ３、９６−３．８３　（１Ｈ，ｍ，Ｃ４　’　−Ｈ＞３
、６４　（２Ｈ，Ｓ，＜Ｉ）ＣＨ２Ｃｏ＞２、４７−２
．２７、１．６５−１．４９（２Ｈ，ｍ，Ｃ２　’　　
Ｈ） 参考例３１ ３′−〇ーベンジルー５′−〇−エトキシカルボニル−
２′−デオキシ−５−フルオロウリジン 収率３７％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ： １０．１８　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ７．６８　（１Ｈ，ｄＳＪ−６Ｈ２，Ｃｓ　　Ｈ）７．
３２　（５Ｈ，Ｓ、フェニル−Ｈ）６、　　３１　　　
（１ト１、　ｔ、　　Ｊ＝６Ｈ２，Ｃｔ　　’　　　　
　Ｈ＞４．４０　（２Ｈ，Ｓ、　　分Ｃ旦２−）４．３
７−４．１０　（６Ｈ，ｍ。

Ｃ３’１４′、５’　　Ｈ１ＯＣ旦２ＣＨ３）２．６７
−２．４２．２．２３−１．９２（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　
　Ｈ） １．３０　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ。

−０ＣＨ２ＣＨ３） 参考例３２ ３′−〇−ベンジルー５’　−０−（３−メチルベンゾ
イル）−２′　−デオキシ−５−フルオロウリジン 収率６７％ 融点１３１〜１３３℃ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ： ９．６１　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加により
消失）、 ４．５５−４．３５　（５Ｈ，ｍ。

０３′・５′−Ｈ・ αＣＨ２） ４．２８　４．１８　（ＩＨ，ｍ、’　Ｃａ　’　　Ｈ
）２．７３−２．４７．２．１６−１．８７（２Ｈ，ｍ
％　Ｃ２’　　　Ｈ） 参考例３３ ３′−〇−ベンジルー５’　−〇−（４−ｎ−プロポキ
シベンゾイル）−２′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ン 収率７８％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ： ９．２７　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加により
消失）、 ６．９１　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ２゜ ４．５５−４．５２　（４Ｈ，ｍ、Ｑ−ｃ旦２、Ｃｓ’
　　　Ｈ） ４．４５　４．３９　（ＩＨ，ｍ５Ｃ３’　　　Ｈ）４
．２９　４．１５（１Ｈ，ｍ、Ｃａ’　　　Ｈ）３．９
７　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ２，−ＣＨ２０）２．７４−
２．５２．２．１６−１．６４（４Ｈ，ｍ、ＣＨ３Ｃ旦
２ＣＨ２０−１Ｃ２’　　　Ｈ） １．０４　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ、 ＣＨ３ＣＨ２） 参考例３４ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−フェノキシメチルカル
ボニル−２′−デオキシ−５−フルオロウリジン 収率９０％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δ： １０．０３　（１ＨＳｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加によ
り消失）、 ７．５８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ６Ｈ）７．３５
−６．７７　（１０Ｈ，ｍ、フェニルート１）６．２２
　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　−Ｈ）４、６５
　（２Ｈ，ｓ、分０ＣＨ２＞ ４．４２−４．２３　（５ＨＳｍ。

Ｃ３’　ｒ　ｓ　’　　Ｈ％　　ＣＸｃ旦２−）３．９
７　３．８４（ＩＨＳｍ、Ｃｔ’　　Ｈ）２．４９−２
．２３．１．９６−１．６５（１Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ
） 参考例３５ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−α−ナフチルカルボニ
ル− ロウリジン 収率４８％ 融点１５８〜１６０℃ ＮＭＲ　（ＣＤＣ９３　）　δ： ９、２０　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−、Ｃ２　０添加６、
２５　（１Ｈ，ｔ，Ｊ−６Ｈｚ，Ｃ＋　’　　　Ｈ＞’
４．６８ー４．５６　（４Ｈ，ｍ，Ｃｓ　’　　　Ｈ、
σＣ旦２−） ４、４５−４．３８（１Ｈ，ｍ，Ｃ３’　　　Ｈ）４、
３２　　４．１８　（ＩＨ，ｍ，Ｃ４’　　　Ｈ）２、
７０−２．４３、２．１７−１．８６（２Ｈ，ｍ，Ｃ２
　’　　　Ｈ） 参考例３６ ３’　−０−　（４−クロロベンゾイル）−５′−〇ー
ベンジルー２′ーデオキシー５−フルオロウリジン 収率５７％ 融点２１５〜２１７℃ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄＢ　）δ： １１、８３　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−、Ｃ２　０添加に
より消失）、 ６、２７　（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，Ｃ＋　’　−Ｈ）
５、５４−５．４７　（１Ｈ，ｍ，Ｃ３　’　−Ｈ）４
、６０　（２Ｈ，ｓ，　　ＣＸｃ旦２−）４、４２　　
４．３２　（１Ｈ，ｍ，Ｃｔ　’　　Ｈ）３、８０　　
３．７１　（２Ｈ，ｍ，Ｃｓ　’　−Ｈ）２、５２　　
２．３８　（２Ｈ，ｍ，Ｃ２　’　　Ｈ）参考例３７ ３′−〇ーベンジルー５’　−〇−　（３．４。

５−トリメトキシベンゾイル）−２′−デオキシ−５−
フルオロウリジン 収率６３％ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄＢ　）δ： １　１、８７　（１Ｈ，ｓ，−ＮＨ−、Ｃ２０添加で消
失） ６、１　７　（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，Ｃ＋　’　　Ｈ
）４、６１−４．３５　（６Ｈ，ｍ、 Ｃ３　’　＃　４　’　ｌ　５　’　　Ｈ　Ｎ　Ｄ　Ｃ
　Ｈ２　　）３、８２、３．７７（計９Ｈ、各々Ｓ１２
．５４　２．３９　（２Ｈ，ｍ、、Ｃ２’　　　Ｈ）参
考例３８ ３’　−〇−（４−クロロベンジル）−５’−Ｏ−アセ
チル−２′−デオキシ−５−フルオロウリジン 収率９０％ ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δニ ア、　６７　（１Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈ２，Ｃｓ　Ｈ）７
．２８　（５Ｈ，Ｓ、フェニル−Ｈ）６、２２　（１Ｈ
１↑、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ＋　’　−Ｈ）４．５０　（２Ｈ
，ｓ、　　ＣＸｃ旦ど）４゜４０−４．１１　（４Ｈ，
ｍ。

Ｃ３’　−’　＋　ｓ’　Ｈ＞ ２、７１−２．４６．２．２８−１．９３（５ＨＳｍＳ
Ｃ２’　Ｈ，ＣＨ３Ｇｏ　＞参考例３９ ３′−Ｏ−ベンジル−２′−デオキシ−５−フルオロ−
３−フェノキシカルボニルウリジン３′−〇ーベンジル
ー２′ーデオキシー５−フルオロウリジン０．５０ＣＩ
のジオキサン２０ｍＱ溶液にトリメチルクロロシラン０
．３８＋ｎＱとトリエチルアミン１．０４ｍＱとを加え
、空温で２時間撹拌した後、６０’Ｃで３０分放置した
。ついでフェノキシカルボニルクロリド０．４０ＣＩと
トリエチルアミン１．００ｍ１２とを加え、ざらに６０
’Ｃで３時間放置した。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチ
ル５０ｍ１２に溶解し、飽和食塩水で洗浄し、酢酸エチ
ル層を分取した。これを濃縮し、残渣をメタノール３０
ｍＧに溶解した。ここに酢酸０．５ｍ２を加え、−夜装
置し、濃縮した。残漬をシリカゲルカラムを用い、クロ
ロホルム−２％メタノール−クロロホルムで溶出して目
的化合物０．５８ｇ（８６％）を得た。

融点１１０〜１１２°Ｃ ＮＭＲ　（ＣＤＣ９３）δ： ８、１　６　（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，Ｃ６−Ｈ＞、７
、３４−７．２２　（１０１−１，ｍ，フェニル−Ｈ）
６、２７　（ＩＨ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，Ｃ＋　’　−Ｈ＞
４、４９　（２Ｈ，Ｓ，　　ＣＸｃ旦２−）４、２６−
４．１　７　（２Ｈ，ｍ。

Ｃ３’，４’　　　Ｈ） ３、９５−３．６０　（２Ｈ，ｍ，Ｃｓ　’　　　Ｈ）
２、　　　６３　　　　１．　　９８　　（２Ｈ，　　
ｍ，　　Ｃ２　’　　−　ト１　〉元素分析値：Ｃ２　
３　Ｈ２　１ＦＮ２　０ｖとして計算値（％）Ｃ　　６
０．５３：Ｈ　　４．６４：Ｎ６．１４ 実測値（％）Ｃ　　６０．６０：Ｈ　　４．７２：Ｎ６
．０８ 参考例４０ 参考例３９と同様にして下記各化合物を得た。

３′−〇ーベンジルー２′ーデオキシー３−（４−プロ
ポキシベンゾイル）−５−フルオロウリジン 収率６５％ 融　点　−（ガラス状粉末） ＮＭＲ　（ＣＤＣＱ３　）δ： ８、１９　（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，Ｃｓ　　Ｈ）６、
２５　（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，　Ｃ１’　　　Ｈ）４
、４４　（２Ｈ，Ｓ，　　σＣ旦２−〉４、２０−３．
５５　（６Ｈ，ｍ、 Ｃ３　’　＋　４′・５′−Ｈ・ 一〇Ｈ２　ＣＨ２０−） ２、５７．１．５８　（４Ｈ，ｍ，Ｃ２　’　　Ｈ。

ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２０＞ ０．９９　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ。

Ｃ旦３ＣＨ２＞ 参考例４１ ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー３−ベンゾイル
−５−フルオロウリジンの製造３′−〇−ベンジルー２
′−デオキシー５−フルオロウリジン０．５００のジオ
キサン２０ｍＱ溶液にトリメチルクｏＯシラン０．７５
ｍＱとトリエチルアミン２．００回を加え、室温で２時
間撹拌した後、６０℃で３０分間放置した。次いで臭化
ベンゾイル０．４２Ｑとトリエチルアミン１．００ｍ１
２とを加え、更に６０’Ｃで１時間放置した。溶媒を留
去し、残渣を酢酸エチル５０ｍ１２に溶解し、飽和食塩
水で洗浄した。酢酸エチル層を分取し、濃縮し、残渣を
メタノール３０ｍ１２に溶解し、ここに酢１０．５ｍＧ
を加えて空温で一夜放置した。

溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムを用い、クロロ
ホルム〜２％メタノールークロロホルムで溶出して、粉
末状の目的化合物０．３５ｇ（５４％）を得た。

融　点　−（ガラス状粉末） ＮＭＲ（ＣＤＣＬ３＞δ： ６．２４　（ＩＨ，ｔＳＪ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　−Ｈ）
４、４６　（２Ｈ，Ｓ、σＣＨ２） ４．２４−４．１２　（２Ｈ，ｍ、 Ｃ３’、４’　　Ｈ） ３．９２　３．５６　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　−Ｈ＞２
．６０　１．’９６　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ）参考
例４２ ５′−０−アセチル−３′−〇−ベンジルー３−ベンゾ
イルー２′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 ５′−〇−アセチルー３′−〇−ベンジル−２′−デオ
キシ−５−フルオロウリジン０．２００のジオキサン１
０１ｔ？溶液に塩化ベンゾイル０．２９ＣＩとトリエチ
ルアミン０．７３＋ｎＱとを加え、８０℃で２時間放置
した。溶媒を留去した後、残漬を酢酸エチル５０ｍ１２
に溶解し水洗した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムを用い
、クロロホルムで溶出して油状の目的化合物０．２００
（７８％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δニ ア、９５−７．２７　（１１Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈｌｏ
ｓ　　Ｈ）、 ６．２０　（１Ｈ，ｔ、Ｊ−６Ｈ２，Ｃ＋　’　　Ｈ＞
４．４５　（２）−１，ｓ、−ＣＨ２〈）　〉４．２３
−４．０８　（４Ｈ，ｍ、 Ｃ３’　・４’、５’　　Ｈ） ２．６０　２．０５　（５Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ。

Ｃ０ＣＨ５） 元素分析値：　Ｃ２ｓ　８２３　ＦＮ２０７として計算
値（％）０　６２．２４；ｌ（４，８０：Ｎ５．８１ 実測値（％）Ｃ６２，３４；Ｈ５，０６：Ｎ５．７７ 参考例４３〜５３ 参考例４２と同様にして下記各化合物を得た。

参考例４３ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−アセチル−２′−デオ
キシ−３−（４−プロポキシベンゾイル）−５−フルオ
ロウリジン 収率３８％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ二 ７．７５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　　Ｈ）６
．２０　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　　　Ｈ）
４、　　４５　　（２ト１　、　　Ｓ　、　−ＣＨ２−
く＝ゴ〉　　　）４．２３−４．０８　（４Ｈ，ｍ。

Ｃ３’　　＋　　４’　　ｅ　５’　　　Ｈ＞３．９６
　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、 −〇ＣＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３） ２．７０−１．６８　（７ＨＳｍ、Ｃ２’　　　Ｈ。

ＣＯＣＨ３、０ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３） １．０”ｌ　　（３ｔ−１，ｔ、Ｊ＝７１−１ｚ、０　
（ＣＨ２＞２　ＣＨ３） 参考例４４ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−アセチル−２′−デオ
キシ−３−（４−クロロベンゾイル）−５−フルオロウ
リジン 収率７３％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δニ ア、７８　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）’６
．２０　（ＩＨｌｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃｔ　’　−Ｈ）４
．５１　（２Ｈ，ｄＳＪ＝ＩＨｚ。

−ＣＨ２べ３　） ４．２８−４．０８　（４）−１，ｍ。

Ｃ３’　ｌ　４’　ｌ　５’　　Ｈ） ２．７０−２．４３．２．２５−２．０３（５Ｈ，ｍ、
Ｃ２’　　Ｈ，ＣＯＣＨ３）参考例４５ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−アセチル−２′−デオ
キシ−３−（２−メチルベンゾイル）−５−フルオロウ
リジン 収率４４％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δニ ア、６２−７．３２　（１０Ｈ，ｍ’、Ｃ６Ｈ。

フェニル−Ｈ） ６．１９　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ２，Ｃ＋　’　−Ｈ）
４．４７　（２Ｈ，ｄ、Ｊ−ＩＨｚ、ＣＨ２（））４．
２５−４．０７　（４ＨＸｍ。

Ｃ３’　＋　４’　＋　５’　　　Ｈ）２．６７−２．
００　（８Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ１参考例４６ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−アセチル−２′−デオ
キシ−３−（３−メチルベンゾイル）−５−フルオロウ
リジン 収率６８％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δニ ア、８１−７．６５　（３Ｈ１ｍ、Ｃｓ　　Ｈ。

４．４６　（２Ｈ，ｓ、Ｃ旦、ベラ　）４．２５−４．
０８　（４Ｈ，ｍ、 Ｃ３’　−ａ’　＋　ｓ’　　Ｈ） ２．６７−２．００　（８Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ１参考
例４７ ３′−０−ベンジル−５１−アセチル−２′−デオキシ
−３−（４−メチルベンゾイル）−５−フルオロウリジ
ン 収率８４％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ： ６．２０　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃｔ　’　　Ｈ＞
４．４５　（２）（、ｓ、Ｃ旦ど（））４．２４−４．
０８　（４Ｈ，ｍ、 Ｃ３’　ｌ　Ａ’　、５’　　Ｈ） ２．６０　２．０５　（８Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ１ＣＯ
ＣＨ３、Ｃ旦３＋Ｃ０−） 参考例４８ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−アセチル−２′−デオ
キシ−３−（４−メトキシベンゾイル）−５−フルオロ
ウリジン 収率７０％ 融　点　−（粉末） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ： ６．２１　（”ＩＨ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃｔ　’　−Ｈ
）４．４７　（２Ｈ，Ｓ、＜２１）−ＣＨ２）４．２５
−４．０９　（４Ｈ，ｍ。

Ｃ３′・ａ’＋５’　　Ｈ） ３．８０　（３Ｈ，ｓ、Ｃ旦３Ｏ−） ２．４９　２．０７　（５Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　ＨｌＣＯ
ＣＨ３） 参考例４つ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−ベンゾイル−２′−デ
オキシ−３−ベンゾイル−５−フルオロウリジン 収率９４％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δ： ８．０３−７．３２　（１６Ｈ，ｍ、　フェニル−Ｈｌ
Ｃｓ　　Ｈ） ６、　　２０　　（ＩＨ，ｔ、　　Ｊ＝６Ｈｚ、　　Ｃ
ｔ　　’　　　−ト１　）４．４８−４．１６　（６Ｈ
，ｍ、 Ｃ３’　ｌ　４　’　ｌ　ｓ　’　　ＨＮ　　／！２／
−Ｃ旦２−）２．７０−２．４２．２．２５−１．９５
（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ） 参考例５０ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−フェノキシカルボニル
−２′−デオキシ−３−フェノキシカルボニル−５−フ
ルオロウリジン 収率４Ｂ％ 融　点　＝（油状） ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ’ｓ　）δ： ８．２１　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈ２，Ｃｓ　−Ｈ）７．
５７−７．１６　（１５Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．２
０　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ２，Ｃｔ　’　−Ｈ）４．５
９−４．２８　（６Ｈ，ｍ、 Ｃ３’　＊　ｔ　’　ｅ　５　’　　Ｈｓ　　ＣＸＣ旦
ど）２．５４　２．３８　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　Ｈ）
参考例５１ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−α−ナフチルカルボニ
ル−２′−デオキシ−３−α−ナフチルカルボニル−５
−フルオロウリジン収率２９％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣ９３＞δ： ６．２０　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ２，Ｃ＋　’　−Ｈ＞
４．７１−４．１０　（６Ｈ，ｍ。

Ｃ３’　、ｔ’　＋　ｓ’　−ｔ−１，ＣＸｃ旦ど）２
．６４−２．３６．２．１５−１．８５（２Ｈ，ｍ、Ｃ
２’　　　Ｈ） 参考例５２ ３′−〇−ベンジルー５’　−０−（３−メチルベンゾ
イル）−２′−デオキシ−３−（３−メチルベンゾイル
）−５−フルオロウリジン 収率１８％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ； ７．８１−７．６２　（５Ｈ，ｍ、 ７．４３−７．２４　（９Ｈ，ｍ。

４．６０−４．２０　（６Ｈ，ｍ、 Ｃ３’　ｌ　４’　２５’　　Ｈ％分ＣＨ２＞２．７８
−２．５０．２．２４−１．９３（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　
　−Ｈ） ２．３９．２．３７（各々、Ｓ、３日、参考例５３ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−アセチル−２′−デオ
キシ−３−ヘキサノイル−５−フルオロウリジン 収率４８％ 融　点　−（油状） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δニ ア、６６　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．
３２　（５Ｈ，ｓ、フェニル−Ｈ）６．２０　（１Ｈ，
ｔ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ＋　’　−Ｈ）４．５４　（２Ｈ，
ｓ、　　分Ｃ旦２−）４．３８−４．０７　（４Ｈ，ｍ
。

Ｃ３’　＋　４　’　＋　５　’　−Ｈ＞２．８２　（
２Ｈ，ｔ、Ｊ＝９Ｈｚ。

ＣＨ２Ｃ０−） ２．５９−２．４４．２．２２−２．０２　（５Ｈ１ｍ
、Ｃ２’−ＨとＣＨ３Ｃ０） １．９２−１．６７　（２Ｈ，ｍ。

ＣＨ２ＣＨ２Ｇｏ　　＞ １．５６−１．２２　（４ＨＳｍ、 ＣＨ３Ｃ旦２Ｃ旦２　ＣＨ２ＣＨ２Ｇｏ　　＞０．９０
　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｃ旦３ＣＨ２）参考例５４ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−アセチル−２′−デオ
キシ−５−フルオロ１クリジンの製造 ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロウ
リジン３．９５Ｃ１のピリジン３０ｍＱ溶液に、無水酢
酸３．３３ｍ１２を加え、４０″Ｃで一夜放置した。溶
媒を留去し、残渣を酢酸エチル３０ｍＱに溶解し、水１
５ｍ１２で２回洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、濃縮し、シリカゲルカラムを用いクロ
ロホルムで溶出して目的化合物３．６２Ｃ］　（８１，
５％）を得た。

融点８７−８８℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ　）δ： １１．８６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ、−ＮＨ−１Ｄ２
０添加で消失） ７．９３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．
３５　（５Ｈ，ｓ、フェニル−Ｈ）６．１５　（１Ｈ，
ｔＳＪ＝６Ｈ２，Ｃ＋　’　　−Ｈ）４．５５　（２Ｈ
，ｓ、　　ＣＸｃ旦２−）４．３２−４．２０　（４Ｈ
，ｍ。

Ｃ３’　　＊　Ａ’　　＋　５’　　　Ｈ）２．３９−
２．２８　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ２’　　　Ｈ） ２．０４　（３Ｈ，Ｓ、Ｃ０ＣＨ５） 元素分析値：Ｃ＋　８　Ｈ＋　９ＦＮ２０ｓとして計算
値（％）Ｃ５７，１４：Ｈ５，０６Ｎ７．４０ １１１１ｆａ（％＞Ｃ５６，９９：Ｈ５，２２Ｎ７．３
７ 参考例５５ ３′−〇−アセチルー５′−〇−ベンジル−２′−デオ
キシ−５−フルオロウリジンの製造 参考例５４と同様にして、５’　−０−ベンジル−２′
−デオキシ−５−フルオロウリジン１、ＯＯＱを用いて
反応させて、目的化合物１．０ＯＣＩ　（８８，９％）
を得た。

融点１１４−１１６℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ　）δ： １１．８５　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加で消
失） ７．９５　（１Ｈ，ｄ、’　Ｊ＝７Ｈ２，Ｃ６Ｈ）７．
３４　（５Ｈ１ｓ、フェニル−Ｈ〉６．１７　（１Ｈ，
ｔ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ＋　’　　Ｈ＞５．２５　５．２３
　（１ＨＳｍ、Ｃ３’　　Ｈ＞４．５７　（２Ｈ，Ｓ、
　　ＣＸｃ旦２−）４．３２　４．２０　（１’ＨＳｍ
、Ｃａ　’　　Ｈ）、３．８４　３．７３　（２Ｈ，ｍ
、Ｃｓ　’　　Ｈ）２．３７　２．２５　（２Ｈ，ｍ、
Ｃ２’　　Ｈ）２．０６　（３ＨＳＳ、ＣＯＣＨ３） 元素分析値：Ｃ＋　ａ　Ｈ＋　９　ＦＮ２０６として計
算値（％）０　５７．１４：Ｈ５，０６Ｎ７．４０ 実測値（％）Ｃ５６，９１：Ｈ５，３２Ｎ７．２５ 参考例５６ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−クロロアセチル−２′
−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロウ
リジン０．２０ＣＩのピリジン１０ｍＧ溶液に無ホクロ
ロ酢酸を加え、室温で一夜放置した。

後処理を参考例５４と同様にして、目的化合物０．１１
Ｃ］（４５％）を油状物として得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δ： １０．２２　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加で消
失） ７．６０　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃｓ　　Ｈ）７．
３２　（５Ｈ，ｓ、フェニル−Ｈ）６、　　２３　　（
１Ｈ，ｔ、　　Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ＋　　’　　　−ト１　
）４．５３　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ、 −Ｃ旦。−ζ）） ４．４５−４．０８　（６１−１，ｍ。

Ｃ３’　　、４’　　、５’　　　Ｈ，ＣＯＣＨ２Ｃｏ
　　）２．６９　２．０６　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ
＞元素分析値：（、＋　ａ　Ｈ＋　ａ　ＣＱ　ＦＮ２０
６として計算値（％）０　５２．３７：）−１４，３９
実測値（％）Ｃ５２，４３：Ｈ４，６３Ｎ６．８０ 参考例５７ ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー３−（２−テト
ラヒドロフラニル）−５−フルオロウリジンの製造 ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロウ
リジン０．４００の乾燥ジクロロメタン８ｍ１２懸濁液
に、空温撹拌下、Ｎ、Ｏ−ビス（トリメチルシリル）ア
セトアミド１．３２０を加えた。

４時間後、２−アセトキシテトラヒド口フラン０．３２
にｌと塩化第二錫０．１１１１２の乾燥ジクロロメタン
１．６−溶液を加え、ざらに１．５時間撹拌した。次い
でトリエチルアミン０．６４１１１Ｑを加えて中和し、
水洗した。ジクロロメタン層を濃縮し、残渣をメタノー
ル１６ｍｆ２に溶解し、ここに酢酸０．２４ｍｆ２を加
えて４０’Ｃで３時間放置した。

溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムを用い、クロロ
ホルム−４％メタノール−クロロホルムで溶出して目的
化合物０．３７ｑ　（７７％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＩ２３　）δ： ８．０１　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃｓ　　Ｈ）７．
３０　（５Ｈ，Ｓ、フェニル−Ｈ）６．２６　（１Ｈ，
ｂｔ、Ｊ−６Ｈ２，Ｃ＋　’　−Ｈ）４．５１　（２Ｈ
，Ｓ、　　Ｃトｃ＋２−＞４．３９−３．５０　（７Ｈ
，ｍ。

Ｃ３’　＊　ｔ’　ｔ　ｓ’、　Ｈｓ　Ｃｓ’　　０Ｈ
１２，６０−１，８６（６Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ。

元素分析値：Ｃ２ｏ　Ｈ２３ＦＮ２０ｓとして計算値（
％）０　５９．１１：Ｈ５，７ＯＮ６．８９ 実測値（％）０　５９．０２：Ｈ６，１１Ｎ６．７８ 参考例５８ ５′−Ｏ−アセチル−３′−〇−ベンジルー３−（３−
カルボメトキシベンゾイル）−２′−デオキシ−５−フ
ルオロウリジンの製造 ５′−〇−アセチルー３′−〇−ベンジル−２′−チオ
。キシー５−フルオロウリジン３．００９の乾燥ジオキ
サン１００ｍ１２溶液にイソフタロイルクロリド２．４
０Ｑとトリエチルアミン８．５鵬を加え２時間還流した
。ここにメタノール５ｍＧとトリエチルアミン９．６０
ｙｎ１２の乾燥ジオキサン１００ｍＱ懸濁液を加えざら
に２時間還流した。不溶物をｉ戸去し、ン戸液を濃縮、
残渣を酢酸エチル１００ｍＧに溶解し、飽和食塩水３０
ｍ１２で２回洗浄した。酢酸エチル層を無水Ｗｔ酸ナト
リウムで乾燥後濃縮し、残渣をシリカゲルカラムを用い
クロロホルム〜２％メタノールークロロホルムで溶出し
、目的物に対応するフラクションを集め濃縮乾固して目
的化合物の粉末を収率６９％で得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ： ６．２０　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃｔ　’　　Ｈ）
４．５０　（２Ｈ，Ｓ、　　ζ＞ｃ旦２−）４．４８−
４．１３　（４ＨＳｍ。

Ｃ３’　　ｓ４’　　１５’　　　Ｈ＞３．８９　（３
Ｈ，ｓ、−〇〇〇Ｃ旦３）２．５０　１．９３　（５Ｈ
，ｍ、Ｃ２’　　ＨとＣＯＣＨ３） 参考例５９ ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロ−
５’　−〇−（３，４−メチレンジオキシベンゾイル）
ウリジンの製造 参考例２６と同様に反応及び後処理して目的化合物を収
率７２％で得た。

融点：１６９−１７１°Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ： ９．７２　（１Ｈ，ｂｓｌ−ＮＨ−１Ｄ２０添加で消失
） ７．７１　７．５２　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　　Ｈと６．０
３　（２Ｈ，ｓ、−０ＣＩ−１２０−）４．５７−４．
１４　（６Ｈ，ｍ、−Ｃ旦２−（）と０３’１４’、５
’　　Ｈ） ２．７５−２．４９と２．１９−１．８９（２Ｈ，ｍＳ
Ｃ２’　　　Ｈ） 参考例６０ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−（４−クロロベンゾイ
ル）−２′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 参考例２６と同様に反応および後処理して目的化合物を
収率５３％で得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ　）δ： １１．９　（ＩＨＸｂｓ、−ＮＨ−１Ｄ２０添加で消失
） ７．９２　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）４、
　５８−４．　３１　　（６ト」、　ｍ、Ｃ３’＃４’
１５’　　　Ｈと一〇旦２Ｋ）　）２．４２−２．３１
　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ＞参考例６１ ３’　−０−（３−クロロベンジル）−２’　−デオキ
シ−５−フルオロウリジンの製造水７５鵬とジオキサン
４０鵬との混液に水酸化カリウム２．００（］を溶解し
、これに２′−デオキシ−５−フルオロウリジン”１．
ｏＯｃｌと３−クロロベンジルクロライド２．５（］＋
とを加え、４５°Ｃで３日間撹拌した。反応後、参考例
４及び５と同様に後処理し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーにてクロロホルム−２％メタノール−クロロ
ホルムで溶出して目的化合物０．２１ｇ（収率１４％）
を得た。

融点　１５３〜１５５°Ｃ 参考例６２ ３’　−０−（２−クロロベンジル）−２’−デオキシ
−５−フルオロウリジンの製造水１５０ｍＱとジオキサ
ン４０ｍＱとの混液に水酸化カリウム３．７５ｇを溶解
し、これに２′−デオキシ−５−フルオロウリジン１．
ＯＯｇと２−クロロベンジルクロライド１０ｍ１２とを
加え、３０°Ｃで３日間撹拌した。反応後、参考例４及
び５と同様に後処理し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて２％メタノール−クロロホルムで溶出して目
的化合物０．３４ｇ　（収率２３％）を得た。

融点　７８〜８０’Ｃ 参考例６３ ２′−デオキシ−５−フルオロ−３’　−０−（４−フ
ルオロベンジル）ウリジンの製造水３００ｍＧとジオキ
サン８０−との混液に水酸化カリウム７．５ｇを溶解し
、これに２′−デオキシ−５−フルオロウリジン２．０
ＯＣＩと４−フルオロベンジルクロライド４．９ｍＱと
を加え、３５°Ｃで２日間撹拌した。反応後、参考例４
及び５と同様に後処理し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにて２％メタノール−クロロホルムで）８出し
て目的化合物０．５７（１（収率２０％）を。

得た。

融点　１３０〜１３１°Ｃ 参考例６４ ２′−デオキシ−５−フルオロ−３’　−０−（１−ナ
フチルメチル）ウリジンの製造水酸化カリウム１．３（
１，２’　−デオキシ−５−フルオロウリジン１．０Ｏ
ＣＩ及び１−ナフチルメチルブロマイド２．７ＣＩを用
い、参考例４及び５と同様にして目的化合物０．２８ｇ
　（収率１Ｂ％）を得た。

融点　１５９〜１６０″Ｃ 参考例６５ ５′−〇−アセチルー３−０−ベンゾイル−３’−０−
（４−クロロベンジル）−２’−デオキシ−５−フルオ
ロウリジンの製造３’　−０−（４−クロロベンジル）
−５’−０−アセチル−２′−デオキシ−５−フルオロ
ウリジン０．２５（ｌのジオキサン３０ｒｌｌｆ２溶液
にベンゾイルクロライド０．２６ＣＩとトリエチルアミ
ン０．５１ｍ１２とを加え、９０″Ｃで２時間撹拌した
。

反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチル５０ｍＱに溶解し
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で３回次いで飽和食塩
水で３回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥の後、酢酸
エチルを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにかけクロロホルムで溶出して目的化合物０．２
９（１（収率９２％）を得た。

７．２７　（４Ｈ，ｄ　、Ｊ＝３Ｈｚ　、フェニル−Ｈ
）６、２１　（１Ｈ，ｔ　、Ｊ＝４Ｈｚ　ＳＨ＋　’　
　）４．９０　（２Ｈ，ｄ　、Ｊ＝１Ｈｚ　。

−Ｃ五尺Ｉ）−Ｃ（２＞ ４．３２　４．０３．（４Ｈ，ｍ、Ｈ３’　、Ｈａ’　
、Ｈ５′） ２、７２　１．９６　（５Ｈ，ｍ　、　Ｈ２とＣＨ３Ｃ
０） 参考例６６ ５′−〇−アセチルー３−（４−クロロベンゾイル）−
３’　−０−（４−クロロベンジル）−２′−デオキシ
−５−フルオロウリジンの製造 ３’　−０−（４−クロロベンジル）−５’−０−アセ
チル−２′−デオキシ−５−フルオロウリジン０．３０
Ｃ１のジオキサン３０ｍＱ溶液に４−クロロベンゾイル
クロライド０．３８（］とトリエチルアミン０．６１ｍ
＜２とを加え、４０’Ｃ：で３時間撹拌した。不溶物を
ｉ戸去し、残渣を酢酸エチル５０ｒｎＱに溶解し、水洗
し、乾燥後、酢酸エチルを留去し、残ｔｍをシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにかけクロロホルム−〇−ヘ
キサン（３：２＞で溶出して目的化合物０．３３ＣＩ　
　（収率８２％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ ７．７７　（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝７Ｈｚ　、Ｈｓ　）７．
２７　（４Ｈ，ｄ　、Ｊ＝４Ｈｚ、４、４９　（２Ｈ，
・Ｓ、−ＣＦｉＬ＋ＣＱ）４．３２−４．　０３　（４
Ｈ，ｍ、Ｈ３’　　、Ｈ４’　　、Ｈ５′　） ２、７５−１．９５　（５Ｈ，ｍ　、　Ｈ２’とＣＨ３
Ｃ０） 参考例６７ ５′−〇−アセチルー３−（４−ｎ−プロポキシベンゾ
イル）−３’　−０−（４−クロロベンジル）−２′　
−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 ３’　−０−（４−クロロベンジル）−５’−０−アセ
チル−２′−デオキシ−５−フルオロウリジン０．３（
］ｌのジオキサン３０ｍＩＱ溶液に４−ｎ−プロポキシ
ベンゾイルクロライド０．４４ｇとトリエチルアミン０
．６１ｍｆ２とを加え、７０’Ｃで３時間撹拌した。不
溶物をン戸去し、残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗し、
乾燥後、酢酸エチルを留去し、残漬をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにかけクロロホルム−石油エーテル
（１：１）で溶出して目的化合物０．１５ｏ（収率３６
％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤ０９３　）δ ７．７４　（１Ｈ，ｄ　、Ｊ＝６Ｈ２、Ｈ６）６．２１
　（１Ｈ，ｔ　、Ｊ＝４Ｈｚ　、Ｈ＋　’　　＞４、４
９　（２Ｈ，ｓ　、−Ｃ丘÷ＣＱ）４．３１　３，９３
　（６Ｈ，ｍ５Ｈ３’　、Ｈａ’　、Ｈｓ’　と−〇−
Ｃ１ｉＬＣＨ２ＣＨ３）２．７２　　１．６５　　（７
Ｈ，ｍ、Ｈ２’　　、ＣＨ３Ｃｏ−と−ＯＣＨ２ＣＨ２
ＣＨ３）１．０４　　（３Ｈ，ｔ　、Ｊ＝７Ｈｚ　、−
０ＣＨ２ＣＨ２Ｃ旦Ｌ） 参考例６８ ３−ベンゾイル−３’　−０−（４−クロロベンジル）
−２′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 ３’　−０−（４−クロロベンジル）−２′　−デオキ
シ−５−フルオロウリジン０．５０ｇを用い、参考例４
１と同様にして、粉末状の目的化合物０．４６（ＩＩ　
　（収率７２％）を得た。

融点　−（粉末） ＮＭＲ（ＣＤ０９３　）δ ８．１９　（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝６Ｈｚ　、Ｈａ　）７．
６５−７．３５　（３Ｈ，ｍ　。

４．４２　（２Ｈ，ｓ　、−ＣＨ２−Ｃ）−ｃ　ｏ　＞
４．２４　４．１５　（２Ｈ，Ｉｌｌ、Ｈｓ’　　、Ｈ
ａ’　　＞３．９５−３．６０　（２Ｈ，ｍ　、Ｈｓ　
’　　）２．５９−１．９８　（２Ｈ，ｍ　ＳＨ２’　
　）参考例６９ ３−ベンゾイル−５′−〇−ベンゾイルー３’　−０−
（４−クロロベンジル）−２’−デオキシ−５−フルオ
ロウリジンの製造３’　−〇−（４−クロロベンジル）
−２′　−デオキシ−５−フルオロウリジン０．２５ｇ
のピリジン溶液にベンゾイルクロライド０．２３ｍＧを
加え、空温で２時間撹拌した。溶媒を留去後、残渣に酢
酸エチルと水とを加え、酢酸エチル層を分離し、無水Ｉ
！ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにかけクロロホルムで溶出して
、目的化合物０．２７゜（収率７０％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δ ７．７１　（１Ｈ，ｄ　、Ｊ−６Ｈ２、Ｈｓ　）４．６
３　４．２０（６ＨＳｍ、Ｈ３’　、Ｈ４’　、Ｈｓ’
　と−Ｃ且ＥベコトＣＱ＞ ２．７７−２．０２　（２Ｈ，ｍ　、Ｈ２’　）参考例
７０ ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロ−
３−ニコチノイル−５’　−〇−二コチノイルウリジン
の製造 ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロウ
リジン０．５００のジオキサン４０ｍＱ溶液に、塩酸塩
化ニコチノイル０．４００とトリエチルアミン１．０１
１１１２とを加え、６時間還流した。

溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにかけ１％メタノール−クロロホルムで溶出して、
目的化合物０．２３０　　（収率２９％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ）δ ８．５７　８．１６（３ＨＳｍ、Ｈｓと６．１０　（１
Ｈ，ｍ　、Ｊ＝６Ｈ２、Ｈ＋　’　　）４、５９　（２
Ｈ，ｓ　、　−Ｃルｋ　）４．５４−４．３３　（４Ｈ
，ｍ　。

Ｃ３’　　ｅ　４’　　＃　５’　　　Ｈ）２．３７　
２．２０（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ）参考例７１ ２′−デオキシ−５−フルオロ−３’　−０−（４−カ
ルボキシベンジル ２′−デオキシ−５−フルオロ−５′−〇ートリチルウ
リジン３．００にｌのジオキサン２００ｍ１２溶液に水
酸化カリウム４．３０Ｃｌ及び４−メトキシカルボニル
ベンジルブロマイド１．７００を加え室温下１日撹拌し
た。反応溶液を減圧濃縮し、残渣に水２００−を加え室
温下１５分間撹拌した。

反応溶液を酢＠酸性とした後酢醸エチル抽出を行なった
。有機層を＠酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、残漬
を８０％酢酸水溶液５０Ｗｃｌに溶かし１００°Ｃで２
時間加熱した。溶媒を留去し残渣を３％メタノール−ク
ロロホルムを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにイ寸したところ、目的とする化合物が６５
０ｍｇ（２８％）得られた。

ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ　　ｄｓ　）δ： １　１、８３　（１Ｈ，ｂｓ，Ｎ３　　Ｈ，Ｃ２　０添
加により消失） ８、　　　１９　　（１Ｈ，　　ｄ，　　Ｊ＝７Ｈｚ，
　　Ｃ６　−　ト１　）５、２０　（１Ｈ，ｂｓ，Ｃｓ
　’　　ＯＨ，Ｃ２　０添加により消失） ４、６３　（２Ｈ，Ｓ、−Ｃ旦２−（Ｄ→ｃｏ−＞４、
２２−３．６４　（４Ｈ，ｍ、 Ｃ３’　　＃　４’　　ｅ　ｓ’　　　Ｈ＞２、３５　
　２．０４　（２Ｈ，ｍ，Ｃ２　’　　　Ｈ）参考例７
２ ２′−デオキシ−３′−〇ーベンジルー５ーフルオロウ
リジンの製造 ２′−デオキシ−５’　−０−トリチル−５−フルオロ
ウリジン１０Ｃｌをジオキサン５０戒に溶解し、これに
臭化ベンジル２．９ｍＱ及び水酸化カリウムの細粉１４
．６ｇを加え、空温で１時間撹拌した。水４０ｍＧを加
え、酢酸でｐＨを約３〜４に調製後、酢酸エチルで抽出
し、酢酸エチル層を食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。

硫酸ナトリウムを）戸別し、溶媒を留去して、中間体と
して２′−デオキシ−３’　−０−ベンジル−５’　−
０−トリチル−５−フルオロウリジン１６、ＯＣｌを得
た。

この化合物を、８０％酢酸８０ｍＧに溶解し、５０〜６
０℃で２時間反応させた後、１時間水冷し、５．１ｇの
トリチルアルコール 液を濃縮後、エタノールを加え撹拌し、析出品をｊ戸別
し、乾燥して、目的化合物５．３０（７５．７％）を得
た。

融点１３８〜１３９°に のもののＮＭＲ分析結果は、参考例２で得た化合物のそ
れと一致した。

参考例７３ ２′−デオキシ−３′−〇ーベンジルー５ーフルオロウ
リジンの製造 ２′−デオキシ−５’　−０−　（ジフェニル−ｐ−メ
トキシフェニル）メチル−５−フルオロウリジンを用い
、参考例７２と同様にして目的化合物を得た。

収率６３％ 融点１３８〜１３９°に のもののＮＭＲ分析結果は、参考例７２で得た化合物の
それと一致した。

参考例７４ ２′−デオキシ−３′−〇ーベンジルー５ーフルオロウ
リジンの製造 ２′−デオキシ−５’　−０−トリチル−５−フルオロ
ウリジン１０ｇをジオキサン１００ｍ＋２に溶解し、こ
れに塩化ベンジル２．９ｍ（２、水酸化カリウムの細粉
６．９ｇ及び沃化ナトリウム３．５６０を加え、４０’
Ｃで４時間撹拌後、更に塩化ベンジル２．９ｍＱ及び水
酸化カリウム１．１５Ｃｌを加え、１時間撹拌した。水
を加え水酸化カリウムを溶解した後、酢酸でｐＨを約３
に調製し、エチレンジクロライドで抽出し、水洗し、エ
チレンジクロライド層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
。硫酸ナトリウムをン戸別し溶媒を留去して油状の２′
−デオキシ−３′−〇ーベンジルー５′−〇−トリチル
−５−フルオロウリジン８ｇを得た。

この化合物を８０％酢１８　０１Ｔ１２に溶解し、５０
〜６０℃で２時間反応させた後、１時間氷冷し、トリチ
ルアルコールをン戸別し、ン戸液を濃縮し、エタノール
から再結晶して目的化合物の一次結晶を得た（収率７０
．６％）。

ざらにエタノール母液を濃縮し、少量のエタノールを加
え再結晶して目的化合物の二次結晶を得た（収率１５．
９％）。

全収率　８６．５％ 融点１３８〜１３９℃ このもののＮＭＲ分析結果は、参考例７２で得た化合物
のそれと一致した。

参考例７５ ２′−デオキシ−３′−Ｏ−ベンジル−５−フルオロウ
リジンの製造 ２′−デオキシ−５’　−０−トリチル−５−フルオロ
ウリジン１０ＣＪをジオキシサン５０１１１１２に溶解
し、これに臭化ベンジル２．９ｍｌ及び水酸化カリウム
の細粉１４．６ｇを加え、室温で１時間撹拌した。溶媒
を留去し、残渣を８０％酢酸８０ｍｉ２に溶解し、５０
〜６０℃で２時間反応させた後、１時間氷冷し、トリチ
ルアルコールを炉別し、母液を濃縮後、エタノールを加
えて撹拌し、析出品をｊ戸別し、乾燥して目的化合物５
．０ｏ　（収率７２％）を１ｑる。

融点１３８〜１３９°に のもののＮＭＲ分析結果は、参考例７２で得た化合物の
それと一致した。

参考例７６〜１０４ 参考例７２と同様にして、参考例１及び参考例３〜２５
、６１〜６４、７１に記載の各化合物を得た。

参考例１０５〜１３３ 参考例７４と同様にして、参考例１及び参考例３〜２５
、６１〜６４、７１に記載の各化合物を得た。

参考例１３４ ３′−〇ーベンジルー２′ーデオキシー５−フルオロ−
５′−Ｏ−ステアロイルウリジンの製造 参考例２６と同様に反応及び後処理して目的化合物の油
状物を収率７８％で得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δニ ア、６５　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃｓ　　Ｈ）７．
３２　（５Ｈ，Ｓ、フェニル−Ｈ）６．２３　（１Ｈ１
↑、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　　Ｈ）４．５４　（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ、 −Ｃ上３Ｇ　） ４．２９−４．０１　（４Ｈ，ｍ、 Ｃ３’　ｌ　４’　、ｓ’　　Ｈ） ２．３３　１．８３　（４Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　Ｈと−ｏ
ｃｏｃ旦２＞ １．２５　（３０Ｈ，ｂｓ、　　（ＣＨ２）＋５　　＞
０．８８　（３Ｈ，↑、−Ｃ旦Ｌ） 参考例１３５ ５′−〇−シクロへキシル−２′−デオキシ−３’　−
０−（２，４−ジクロロベンジル）−５−フルオロウリ
ジンの製造 参考例２６と同様に反応及び後処理して目的化合物の粉
末を収率７７％で得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　３　）δ： ９．５０　（ＩＨ，ｂ、ＮＨ＞ ７．６７　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ，Ｓ　−Ｈ）７
．４０−７．１６　（３Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．２
５　（１Ｈ１℃、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ＋　’　　　Ｈ＞４、
５８　（２Ｈ，ｓ、−Ｃ患」○　）４．３７−４．０８
　（４Ｈ，ｍ、 Ｃ３’　＋　ｔ’　＋　ｓ’　−Ｈ） ２．７７−２．５１と２．４８−１．０４（１３Ｈ，ｍ
、Ｃ２’　−Ｈとシクロへキシル−Ｈ）参考例１３６ ２′　−デオキシ−５−フルオロ−３′−○−（４−メ
トキシベンジル）　−５’　−０−（２−テノイル〉ウ
リジンの製造 参考例２６と同様に反応及び後処理して目的化合物の粉
末を収率９１％で得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ： ９．２０　（１Ｈ，ｂｓ、ＮＨ＞ ７、．８２　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊａ　、ｓ　−４Ｈ２，７
，６３（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ６Ｈ）７．５９　（
１Ｈ，ｄｄ、Ｊ３　、ｔ　＝５Ｈ２，６，２５（ＩＨ，
℃、Ｊ＝６Ｈ２ＸＣ’＋　”　Ｈ）４．５６−４．１０
　（６ｔ−１，ｍ、０３′、４’１５’　　Ｈと 一〇もＩＣヒＯＣＨ３） ３．７８　（３）−ｆ、ｓ、−ＱＣＣ１０２，７４−２
，４８と２．２２−１．７８（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　−
Ｈ＞ 参考例１３７ ２′−デオキシ−５〜フルオロ−３’−（３−メチルベ
ンジル）−５’　−０−（２−フロイル）ウリジンの製
造 参考例２６と同様に反応及び後処理して目的化合物の粉
末を収率８５％で得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ： ９．１４　（１Ｈ，ｂｓ、ＮＨ＞ ７、−９３　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃｓ　　Ｈ）７
．２９−７．１０　（５Ｈ，ｍ、フラニル−Ｈ１６．５
５　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ３　、ａ　＝４Ｈｚ、４．７７−
４．１０　（６Ｈ，ｍ１ Ｃ３’　、　ｔ　’　、　５　’　−Ｈト−Ｃｈｈ’ｆ
ＪＪ　　）２．７１−２．４４と２．３４−１．９７（
５Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　ＨとＣＨ３） 参考例１３８ ３′−〇−ベンジルー５′−〇−クロトノイル−２′−
デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 参考例５４と同様に反応及び後処理して目的化合物の粉
末を収率７５％で得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δ： ８．６３　（１Ｈ，ｂｓ、ＮＨ） ７．６７　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ６−Ｈ）７．
３２　（５Ｈ，Ｓ、フェニル−Ｈ）７．１４−６．８９
　（ＩＨ，ｍ。

−ＣＨ＝Ｃ旦ＣＨ３） ６．２４　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　　−Ｈ
）５．８４　　（ＩＨ，ｄｄ、ＪＣＥ、β＝１６Ｈ２、
Ｊα、ｒ＝２Ｈｚ、−Ｃ旦＝ＣＨＣＨ３）４、５４　（
２Ｈ，ｓ、−Ｃ山パつ） ４．４２−４．０５　（４Ｈ，ｍ。

Ｃ３’　　＃　　４’　　ｌ　　ｓ’　　　Ｈ）２．７
３−２．４４と２．２０−２．０２（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’
　　−Ｈ） １．９０　（３Ｈ，ｄｄ、Ｊβ、７＝７Ｈｚ、Ｊ（Ｚ　
、７　＝２Ｈ２１ＣＨ＝ＣＨＣＨＬ）参考例１３９ ３’−（２−ブロモベンジル）−２′　−デオキシ−５
’　−〇−エトキシアセチルー５−フルオロウリジンの
製造 ３’−（２−ブロモベンジル）−２′　−デオキシ−５
−フルオロウリジン１Ｑとエトキシ酢酸０．６３Ｑのピ
リジン１０ｍｆ２溶液にＤＣＣｌ、２４ｇを加え、！４
で２４時間撹拌した。不溶物をｊ戸去し、１戸液を濃縮
し、残渣をイソプロパノ−ルーエーテルで精製して目的
化合物の粉末１．０６０　（８０％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ： ９．４９　（１Ｈ，ｂｓ、ＮＨ＞ ７．７４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．
６０−７．０６　（４Ｈ，ｍ、フェニル−Ｈ）６．３４
　（１Ｈ，ｔＳＪ＝６Ｈ２，Ｃ＋　’　−Ｈ）４、６０
　（２Ｈ，ｓ、−Ｃ五べΣ〉 ４．３９−４．１３　（６Ｈ，ｍ、 Ｃ３′、４′、５′−Ｈと一〇〇〇Ｈ２０＞３．５９　
（２Ｈ，Ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ、 −０ＣＨ２０Ｈ３） ２．７３−２．４８．２．３１−２．００（２Ｈ，ｍ、
Ｃ２’　　　Ｈ＞ １．２２　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ。

０ＣＨ２Ｃ旦Ｌ） 参考例１４０ ２′−デオキシ−５−フルオロ−３’　−０−（２，４
，６−トリメチルベンジル）ウリジンの製造 ２′−デオキシ−５−フルオロ−５′−〇−トリチルウ
リジン４．０ＯＣＩ、水酸化カリウム２．３００及びヨ
ウ化ナトリウム１．４７Ｃ］の乾燥ジオキサン５０ｍ１
２溶液に２．４．６−ドリメチルベンジルクロリド１．
６６ＣＩを加え、６０″Ｃで３時間撹拌した。溶媒を留
去し残渣に酢酸エチルと水を加え、酢酸エチル層を水洗
後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを留去し
、残渣を８０％酢酸５０ｍＱに溶解して７０’Ｃで２時
間放置した。反応溶液を濃縮し残渣に水を加え、水酸化
ナトリウム水溶液で弱塩基性としエーテル洗浄した。水
層を６Ｎ−塩酸で弱酸性にし、酢酸エチルで抽出した。

酢酸エチル層を水洗後無水Ｗｔ酸す１−リウムで乾燥濃
縮した。残漬にエーテルを加え、固化し、ついでエタノ
ールから再結晶して目的化合物１．６９ＣＩ　（５５％
）を得た。

融点１７９〜１８１°Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １１．８２　（１Ｈ，ｂｓ、ＮＨ） ８．２０　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７ＨｚＳＣａ　　Ｈ）６．
０７　（１Ｈ，ｂｔ、Ｊ＝６Ｈ２，ＣＨ’　−Ｈ＞５．
１９　（１Ｈ，ｂｔ、Ｊ＝５Ｈｚ、５’　−ＯＨ）４．
２０−４．１０　（ＩＨＳｍ、Ｃ３’　　Ｈ）４、　　
０２−３．　　９１　　　（１ト１　、　ｍ、Ｃａ’　
　　　　Ｈ）３．６９−３．５７　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　
’　　−Ｈ＞２、　　２９　　　２．　　１　２　　（
１１Ｈ，ｍ、　　Ｃｈ１３　ｘ３　　とＣ２’　　　Ｈ
） 参考例１４１ ２．６−ジトリメチルシリルオキシピリジンの製造 ２．６−シヒドロキシピリジンａ、０ＯＣＩをヘキサメ
チルジシラザン６０ｍ１２中で１晩還流する。

過剰のジシラザンを留去した後、減圧蒸留し、沸点７２
℃／　ｌｍｍＨｇで表記化合物１０．７８０（６１％）
を得た。

参考例１４２ ２′　−デオキシ−５−フルオロ−３’　　−〇−（４
−メトキシカルボニルベンジル ンの製造 ２′−デオキシ−５−フルオロ−５’　−０−トリチル
ウリジン３．ＯＯＱのジオキサン２００ｍＱ溶液に、水
酸化カリウム４．３０ＣＩと４−メトキシカルボニルベ
ンジルブロマイド１．７００を加え、室温下１日間撹拌
し、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチル２００ＩＩＩＩ２
を加えて抽出し、抽出物を水で洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥し、濃縮した。

残漬を８０％酢酸２０＋１１１２に溶解した。

融点１６９〜１７０℃ ＮＭＲ　（ＣＤＣＱ３　）δ： ９、８５　（１Ｈ，ｂｓ，Ｎ３　−Ｈ＞６、２４　（Ｉ
Ｈ．ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，ＣＨ　’　　Ｈ）４、５８　（２
Ｈ，ｓ、３’−０−ＣＨ２−〉４、３１−３．７０　（
７Ｈ，ｍ、 Ｃ３’　、ｔ’　、ｓ’　−Ｈ，　　ＣＯＣＨ３　）３
、１９　（１Ｈ，ｂｓ，Ｃｓ　’　−ＯＨ）２、　　　
６６−２．　　０４　　（２Ｈ，　　ｍ，　　Ｃ２　　
’　　−ト１　）参考例１４３ ２′−デオキシ−３′−Ｏ−シンナミル−５−フルオロ
ウリジンの製造 参考例１４２と同様にして目的化合物を得た。

（収率２３％） ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １　１、７５　（１Ｈ，ｂｓ，Ｎ３　　Ｈ）８、２０　
（ＩＨＳｄ，Ｊ−７Ｈｚ，Ｃｓ　　Ｈ）６、６４　（１
Ｈ．ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ、−ＣＨ＝ＣＨパＤ　） ６、４７　　６．０８　（２Ｈ，ｍ，ＣＨ　’　　Ｈ、
−ＣＨ−ＣＨ−○　） ５、２０　（１Ｈ，ｂｓ，Ｃｓ　’　　ＯＨ）４、１　
７　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ、Ｃ３’　　　Ｏ　　ＣＲ
２　　＞ ４．２０　４．０３（２Ｈ，ｍ、Ｃ３，ｔ’　　　Ｈ）
３．７４−３．５９　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　−Ｈ＞
２．３４−２．２１　　（２Ｈ，ｍＳ　Ｃ２’　　−Ｈ
）参考例１４４ ２′−デオキシ−３′−〇−（４−ジメヂルアミノベン
ジル〉−５−フルオロウリジン４−ジメチルアミノベン
ジルアルコール１．６００のベンゼン２０ｍＱ溶液に、
ピリジン０゜８６ｍＱと三臭化＊１．１９ｍ（２を加え
８０’Ｃで１Ｈ間還流した。反応溶液を濃縮し、残渣を
水−アセトニトリル（２：１）混液５０ｍｆ２に溶解し
、水酸化カリウムを添加してｐＩ−１１１に調整した。

これに更に２′−デオキシ−５−フルオロウリジン１．
０ＯＣＩを加え、室温下２日間撹拌した。

反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。

有殿層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにか【ブ１
％メタノール〜クロロホルムで溶出して目的化合物７０
ｍｇ（収率５％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　）δ： １１．９８　（１Ｈ，ｂｓ、Ｎ３　　Ｈ）８．１８　（
１Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．１５　（２Ｈ
，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、 ６．０９　（１Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ＋　’　−Ｈ）
’５．１８　（１Ｈ，ｂｓ、Ｃ！５　’　−○Ｈ）４．
３８　（２Ｈ，ｓ、−〇−Ｃ旦２−（）　）４．１８−
３．９６　（２ｆ−１，ｍ、Ｃ３’、４’　−Ｈ） ３．７０−３．５８　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　−Ｈ）２
．８８　（６Ｈ，ｓ、Ｃ旦、×２） ２．２８−２．０９　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　Ｈ）参考
例１４５ ２′−デオキシ−５−フルオロ−３’　−０−（３−フ
ェニルプロピル）ウリジンの製造参考例１４３で製造さ
れた２′−デオキシ−３′−〇−シンナミルー５−フル
オロー５′−〇−トリチルウリジン５００ｍｏのメタノ
ール３（］ｎ１２溶液に、５％パラジウム炭素５０ｍＱ
を加え、至澗下１時間接触還元した。

反応液を）濾過し濃縮し、残渣を８０％酢Ｍ２０ｍＱに
溶解し、６５°Ｃで２時間撹拌した。反応液を濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ１％
メタノール−クロロホルムで溶出し、目的化合物１９０
ｍｇ（収率６３％〉を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳ、０−ｄ６　）δ： １１．８０（１Ｈ，ｂｓ、Ｎ３　　Ｈ）６．１２（１Ｈ
，ｊ、Ｊ＝６Ｈ２，Ｃ＋’　　Ｈ）５．１８　（ＩＨ，
ｔ、Ｊ＝５Ｈ２，Ｃｓ　’　−０Ｈ）４．０６−３．９
３　（２Ｈ，ｍ、 Ｃ３’、４’　　　Ｈ） ３．６６　３．６２　（２Ｈ，ｍ、Ｃｓ　’　　　Ｈ）
３．４１　　（２１−１，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ。

Ｃ３’−０−Ｃ旦２−） ２．７２−１．６６（６Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈｌ（Ｄ
−Ｃ旦２Ｃ旦２−） 実施例１ ５−クロロ−２，４−ジステアロイルオキシピリジンの
製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．００（
］をピリジン１５０ｎ＋Ｑ中で還流して均一化した後、
塩化ステアロイル５．８５ｑを加え室温で一晩反応させ
た。反応終了後、ピリジンを濃縮し、残渣を石油エーテ
ルで抽出した。次に石油エーテルを濃縮し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて、石油エーテル−クロロ
ホルム（１：９）で展開して目的化合物１．４０ＣＩ（
収率１５％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）　δ ８．３９　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環の０６　Ｈ）７．
０４　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣＧ　　Ｈ）２．５
０−２．６３　（４Ｈ，ｍ　、Ｃ旦２ＣＯＸ２＞０．８
１−１．７７と１．２６　（６６Ｈ，ＩＩＩとｂｓ、Ｃ
Ｈ２Ｘ３０とＣＨ３Ｘ２） 実施例２ ５−クロロ−４−ステアロイルオキシ−２−ピリドンの
製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．００（
＋を用いて実施例１と同様に反応させ、反応終了俊、ピ
リジンを濃縮し、残渣を石油エーテルで洗浄し、次いで
水洗し、得られた固体をシリングルカラムクロマトグラ
フィーにかけ、２％メタノール−クロロホルムで溶出し
て目的化合物１．４２Ｊ（収率２５％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ １１　、８７　（１Ｈ，ｂｓ、　−ＮＨ−）７．８０　
（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣＧ　−Ｈ＞６．３２　（
１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）２、６０　（２
Ｈ１ｔ　、Ｊ＝７Ｈ２、ＣＨ２ＣＧ）１．２４　（３０
Ｈ，ｂｓ、　ＣＨ２Ｘ　１５）０．８５　（３Ｈ，ｒ　
、Ｊ＝７Ｈ２、ＣＨ３）実施例３ ５−クロロ−４−（３−メチルベンゾイル）オキシ−２
−ピリドンの製造 ５−クロロ−４−じトロキシ−２−ピリドン２．００（
＋及び塩化３−メチルベンゾイル３．０ＯＣＩを用い、
実施例２と同様にして（但し洗浄溶媒としてはジエチル
エーテルを用いた）目的化合物１．０９ＣＩ’（収率３
ｏ％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　６）δ １２、Ｏ○（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−） ＣＨ３ ６，５４（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣＧ　　Ｈ）２．
４２　（３Ｈ，Ｓ　、ＣＨ３） 実施例４ ４−ブタノイルオキシ−５−クロロ−２−ピリドンの製
造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．００９
及びブタノイルオキシクロライド２．２０（＋から実施
例３と同様にして目的化合物０．３８Ｃｌ　　（収率　
１３％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＩ’ｖＩＳＯｄ　ａ　）δ １１、９０　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−）７．８２　（１
Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）６．３４　（１Ｈ
，Ｓ　、ピリジン環のＣＧ　　Ｈ）２．６０　（２Ｈ，
ｔ　、Ｊ＝７Ｈｚ　、ＣＨ２Ｃｏ）１．６６　（２Ｈ，
ｍ　、ＣＨ２＞ ０．９７　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ２、ＣＨ３）実施例５ ５−クロロ−２，４−ジブタノイルオキシピリジンの製
造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２、ＯＯｇ
及び塩化ブタノイル２．２０ｇから実施例１と同様にし
て（但し抽出溶媒としてはジエチルエーテルを用いた）
目的化合物２．４３Ｃ］（収率５０％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ ８．４０　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣａ　　Ｈ）７
．０５　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣＧ　　Ｈ）２．
４９−２．７０　（４Ｈ，ｍ　、ＣＨ２ＣＯＸ、２）１
．６６−１．９３　（４Ｈ，ｍ　、ＣＨ２Ｘ２）１．０
４　（６Ｈ，ｔ　、、Ｊ＝７Ｈ７、ＣＨ３Ｘ２＞実施例
６ ４−ヘキサノイルオキシ−５−クロロ−２−ピリドンの
製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２、ＯＯｇ
及び塩化ヘキサノイル２．７５ｇから実施例３と同様に
して目的化合物１．３３ｇ　（収率４０％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６）δ １１、９６　（１Ｈ，ｂｓ、−ＮＨ−）７．８２　（１
Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣ６Ｈ）６．３４　（ＩＨ，ｓ
　、ピリジン環の０３　　Ｈ）２．６１　（２Ｈ，ｔ　
、Ｊ＝７Ｈｚ　、ＣＨ２Ｃｏ）１．２０−１．７９　（
６Ｈ，ｍ　、ＣＨ２Ｘ３）０．８８　（３Ｈ１ｊ　、Ｊ
＝６Ｈ２、ＣＨ３＞実施例７ ５−クロロ−２，４−ジヘキサノイルオキシピリジンの
製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２、ＯＯＣ
＋及び塩化ヘキサノイル２．７５（ｌから実施例５と同
様にして目的化合物１．２２ｇ　（収率２６％）を得た
。

ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δ ８．４０　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣＧ　Ｈ＞７．
０５（１Ｈ，Ｓ、ピリジン環の０３　　Ｈ）２．３０−
２．７５　（４Ｈ，ｍ　、ＣＨ２Ｃ０Ｘ２＞１．２８−
１．９０　（１２Ｈ，ｍ、 （ＣＨ２＞３　Ｘ２） ０．８６　１．０３　（６Ｈ，ｍ　、ＣＨ３Ｘ２＞実施
例８ ５−クロロ−２，４−ジ（３−メチルベンゾイルオキシ
）ピリジンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．００（
］と］塩化３−メチルベンゾイル３．００とから、実施
例５と同様にして目的化合物１．６４ＣＩ　　（収率３
２％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ ＣＨ３ ７，３７（ＩＨ，ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）２．
４６と２．４４　（６Ｈ１各々Ｓ　、　ＣＨ３＞実施例
９ ４−ベンゾイルオキシ−２−ピリドンの製造４−ヒドロ
キシ−２−ピリドン１．００ＣＩ及び塩化ベンゾイル１
．３５ｍｆ２のピリジン溶液５０ｍＱを６時間還流した
。溶媒を留去した後、残漬に水を加え不溶物を更改し、
これを少量のエタノールで洗浄にして目的化合物０．８
６ＣＩ　　（収率４４％）を得た。

融点　１９４〜１９６°Ｃ 実施例１０ ４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２−ピリドンの製
造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン１、ＯＯＣ
！及び塩化ベンゾイル０．９６ｍＱを用い、実施例９と
同様にして目的化合物０．６４ｐ　　（収率３７％）を
得た。

融点　１９６〜１９７℃ 実施例１１ ４−（３−ベンジルオキシカルボニルベンゾイルオキシ
）−２−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．８０（ｌ及び塩化３
−ベンジルオキシカルボニルベンゾイル１４．７０ｇを
用い、実施例１と同様にして目的化合物４．２９０　　
（収率４９％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ ８、３５　（２Ｈ，ｄｄ、　Ｊ　２，４＝２Ｈｚ　、　
Ｊ　４，５＝６．５３　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣ
３Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ＞ ６、３０　（１Ｈ，ｄｄ、ピリジン環のＣｓ　　ＨｌＪ
　　３，５＝２Ｈｚ　、　Ｊ　　５，６＝８Ｈｚ　＞実
施例１２ ４−アセトキシ−２−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン５．０ＯＣＩ及び塩化ア
セチル３．８４ｍ１２を用い、実施例２と同様にして（
但し反応時間は５時間で、抽出溶媒としては酢酸エチル
を用いた）、目的化合物４．１５ｇ　（収率６０％）を
得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ １１　、４５　（１１−１，ｂｓ、　Ｎ−Ｈ）７．４３
　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣｓＨ，Ｊ＝８Ｈｚ　） ６．１０−６．０４　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環のＣ３
，５Ｈ） ２．２４　　（３Ｈ，ｓ　Ｓ　Ｃ８３Ｃｏ）実施例１３ ４−プロパノイルオキシ−２−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．０ＯＣＩ及び塩化プ
ロパノイル０．９４ｍＱを用い、実施例１２と同様にし
て目的化合物３５０ｍＣＩ（収率２３％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ １１、６１　（１Ｈ，ｂｓ、　Ｎ−１−１＞７．４３　
（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環の０６　　Ｈ１Ｊ＝８Ｈｚ　
＞ ６．１０−６．０２　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環の０３
．５　　Ｈ） ２．５８　（２Ｈ，Ｑ　、　ＣＨ２−１Ｊ＝８Ｈ２）１
．１１　（３Ｈ，ｔ　、　ＣＨ３、Ｊ＝８Ｈｚ　＞実施
例１４ ４−ｎ−デカノイルオキシ−２−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．０ＯＣ１及び塩化ｎ
−デカノイル２．０５０を用い、実施例１２と同様にし
て目的化合物３７０ｍａ（収率１５％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６　）δ １１　、６０　（１Ｈ，ｂｓ、　Ｎ−１−１＞７．４２
（ＩＨ，ｄ、ピリジン環のＣｓＨ，Ｊ＝８Ｈ２） ６．０６−６．０３　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環の０３
．５Ｈ） １．６２　（２Ｈ，ｔ　、Ｃｏ　　ＣＨ２、Ｊ＝６Ｈｚ
　）１．３９−０．９１　（１４Ｈ，ｍ、（ＣＨ２）ｙ
　）０．７９　（３Ｈ，ｔ　、　ＣＨ３、Ｊ＝６Ｈ１）
実施例１５ ４−（２−クロロベンゾイルオキシ）−２−ピリドンの
製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．０（］ｌ及び塩化２
−クロロベンゾイル１．３６ｍｆ２を用い、実施例１２
と同様にして目的化合物１．４２Ｊ　　（収率６８％）
を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｔ；　）δ ７．５１　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環の０６Ｈ，Ｊ＝８
Ｈ２） ６．２９−６．２０　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環のＣ３
，５Ｈ） 実施例１６ ２．４−ジニコチノイルオキシピリジンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．００ＣＩ及び塩酸ニ
コチン酸クロライド３．５３ＣＩを、室温下、ピリジン
３０ｍＱ中で２日間反応させ、以後実施例１２と同様に
処理して目的化合物２６０ｍｏ（収率９％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ ９．４０−７．４０　（９Ｈ，ｍ　、ピリジン環７．３
６−７．２９　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環のＣ３，５Ｈ
） 実施例１７ ２．４−ジ（４−エトキシベンゾイルオキシ）ピリジン
の製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．ＯＯＣ］及び４−エ
トキシベンゾイルクロライド３．３２ｑを用い、実施例
１６と同様にして目的化合物２２０ｍｑ　（収率６％）
を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６　）δ ８．５０（１Ｈ，ｄ、ピリジン環のＣ［、−Ｈ，Ｊ＝６
Ｈ７＞ ８．１４−７．０７　（８Ｈ，ｍ　、 ７．４８−７．４０　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環のＣ３
，５Ｈ＞ ４．１７　（４Ｈ，Ｑ　、０−ＣＨ２Ｘ２゜Ｊ＝７Ｈｚ
＞ １．３７　（６Ｈ１［、ＣＨ３Ｘ２、Ｊ＝７Ｈｚ＞実施
例１８ ４−アセトキシ−５−クロロ−２−ピリドンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン５、ＯＯｇ
及び塩化アセチル３．６６ｍＱをピリジン２５０１１１
Ｑ中、至混で３時間撹拌した。反応）合液を濃縮し、残
漬を酢酸エチル及び水で順次洗浄することにより目的化
合物３．３９（］　　（ｌｆｆｌ率５２％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ １１、９１　（ＩＨ，ｂｓ、　Ｎ−Ｈ）７．８１　（１
Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）６．３５　（１Ｈ
，ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ＞２．３２　（３Ｈ，
Ｓ　、ＣＨ３） 実施例１９ ４−（２−ナフトイルオキシ）−２−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．０ＯＣＩ及びβ−ナ
フトイルクロライド２．５７（］を用い、実施例１８と
同様にして目的化合物１．６５（＋（収率６９％）を得
た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６　）δ １１、　７２　（１Ｈ，ｂｓ、　Ｎ−Ｈ）８．８１−７
．６４　（７Ｈ，ｍ　、ナフタレン環のＨ） ７．５１　（１Ｈ，ｄ　、ピ１ノジン環のＣｓＨ，Ｊ＝
８Ｈ７） ６．３３−６．２５　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環のＣ３
，５Ｈ） 実施例２０ ４−（４−ニトロベンゾイルオキシ）−２−ピリドンの
製造 ４−じドロキシ−２−ピリドン１．００（ｌの乾燥ジオ
キサン５０ｍＱ懸濁液に、４−ニトロベンゾイルクロラ
イド２．１７（］の乾燥ジオキサン３０ｍＱ溶液とトリ
エチルアミン３．７８ｍ１２とを加え、６時間還流した
。溶媒を留去後、残渣を水洗し、次いでメタノール−ア
セトン（１：１）混液で洗浄して目的化合物１．７２（
＋　　（収率７３．４％）を得た。

融点　２５５〜２５６°Ｃ 実施例２１ ４−アセトキシ−２−ベンゾイルオキシ−５−クロロピ
リジンの製造 ４−アセトキシ−５−クロロ−２−ピリドン５００ｍｇ
及び塩化ベンゾイル０．３７ｍＱを用い、実施例２０と
同様にしてして目的化合物７２０ｍ＋；＋（収率９３％
）を得た。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　３　）δ ８．４６　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）８
、’　２４−７．４９　（５Ｈ，ｍ　、ベンゾイル環の
Ｈ） ７．２０（ＩＨ，Ｓ、ピリジン環の０３　　Ｈ）２．３
８　（３Ｈ，ｓ　、ＣＨ３） 実施例２２ ２．４−ジアセトキシピリジンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．ＯＯＣｌ及びアセチ
ルブロマイド４．００（］を用い、実施例１８と同様に
してして目的化合物０．９０ｇ　（収率５６．７％）を
得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ ８．３６　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣｓＨ，Ｊ＝６
Ｈ２＞ ７．０６　（１Ｈ，ｄｄ、ピリジン環のＣｓ　　ＨｌＪ
　３，５＝２Ｈｚ　、　Ｊ　５，６＝６Ｈｚ　）６．９
６　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環の０３Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ　　＞ ２．３１　　（３Ｈ，ｓ、ＣＨ３） ２．３０（３Ｈ，Ｓ　、ＣＨ３） 実施例２３ ４−（３−ベンジルオキシカルボニルプロパノイルオキ
シ ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．ＯＯＣｌと３−ベン
ジルオキシカルボニルプロピオン２、ＯＯｑのジメチル
ホルムアミド３０ｍＱ溶液に、空温撹拌下にＮ．Ｎ’　
−ジシクロへキシルカルボジイミド１．９０（］を加え
、−夜撹拌した。生成した結晶をン戸去し、炉液を濃縮
した。残漬を酢酸エチル５０ｍ１２に溶解し、水２０ｍ
Ｑで３回洗浄した。

酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、２
％メタノール−クロロホルムで溶出して、目的化合物０
．６２（１　　＜収率２３％）を得た。

ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ １　１　、　６６　（１　Ｈ，　ｂｓ，　−ＮＨ−、Ｄ
２　０添加で消失） ７、４８−７．３７　（６Ｈ，ｍ　、フェニル−Ｈとピ
リジン環上のＣｓ　　Ｈ） ６、０６−５．９６　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環上のＣ
３　、　ｓ　−Ｈ） ５、１５（２Ｈ，Ｓ、−Ｃルｘつ） ２、９０−２．７５　（４Ｈ，ｍ　。

ＣＯＣＨ２　Ｃ且２ＣＯ） 実施例２４ ４−（３−カルボキシベンゾイルオキシ）−２−ピリド
ンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．００ＣＩをピリジン
５０ｍＱに懸濁し、これに塩化イソフタロイル３．６５
！ｊを加え、１．５時間加熱還流した。

放冷後、反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。

酢酸エチル層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧濃縮し、残渣をエーテルで洗）多して目的化合物１．
ＯＯｇ　（収率４３％）を得た。

ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ ８、５８−７．６８　（４Ｈ，ｍ　、ベンゾイル環のＨ
） ７、５０　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣｓＨ，Ｊ＝８
Ｈｚ＞ ６、３１−６．２５　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環のＣ３
．５　　Ｈ） 実施例２５ １−（カルボメトキシメチルカルバモイル−４−ヒドロ
キシ−２−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリド
ン２．００ｇのジオキサン５０ｍｆ２懸濁液に、カルボ
キシメチルイソシアネート２．４９ＣＩを加え、８０’
Ｃで２時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し、残渣
にジエチルエーテルを加え、同化させて目的化合物２．
２０ｇ　（収率５４．０％）を得た。

融点　１２４〜１２６°Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６　）δ： １０．８７　（２Ｈ，ｂｓ、−ＣＯＮＨ−１ＯＨ）８．
２２　（１Ｈ，ｄ、’Ｃｓ−Ｈ１＝８Ｈ２）６．１８　
（１Ｈ，ｄｄ、Ｃｓ　　　Ｈ５Ｊ３　、ｓ　＝２Ｈ２，
Ｊｓ　、　６　＝８Ｈ２）５．７７　（１Ｈ，ｄ、Ｃ３
−Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ＞４．１７　（２Ｈ，ｄ、ＣＨ２’　
　、Ｊ＝４Ｈ２）３．６９　（３Ｈ，Ｓ、ＣＨ３） 実施例２６ ローペンゾイルオキシー２−ピリドンの製造２．６−ビ
ス（トリメチルシリルオキシ）ピリジン１．６０（］を
アセトニトリル１０ｍ［２に溶解し、これに塩化ベンゾ
イル１．３０ＣＩのアセトニトリル溶液５ｍＱを滴下し
た。室温で１日反応させた後、濃縮し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにかけ、クロロホルムで溶出して
目的化合物０、５０１）　　（収率３３％）を得た。

Ｃｓ−Ｈ，Ｊ＝８Ｈ２） ６．６４　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ又は
Ｃ３Ｈ，Ｊ＝８Ｈ２＞ 実施例２７ ２−ベンゾイルオキシ−４−ｔｌニトロキシピリジンの
製造 塩化メチ９冫５０ チルシリルオキシ）ピリジン４．０ｇに塩化ベンゾイル
２．６５ＣＩ及び塩化第二錫０．２ｍ１２を加え、室温
で約１時間撹拌した。溶媒を留去した後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、酢酸エチル−ベ
ンゼン（２：３）で溶出して目的化合物１．ＯＯｇ　（
収率２９．６％）を１ｑだ。

融点　１２４〜１２７℃ 実施例２８ ４−ヒドロキシ−２−（４−メチルベンゾイルオキシ）
ピリジンの製造 塩化メチレン５０ｍＱ中、２．４−ビス（トリメチルシ
リルオキシ）ピリジン３．５ｇにｐ−メチルベンゾイル
クロライド２．３４ＣＩを加え、室温で約１時間撹拌し
た。以後実施例２７と同様にして目的化合物１．８６Ｃ
Ｉ（収率５９．２％）を得た。

融点１２０〜１２７°Ｃ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ　ａ　）δ １　０、　９２　（１　ＨＳｂｓ、−ＯＨ＞８、０９　
（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣ６Ｈ，Ｊ６、７８　（１
ＨＳｄｄ、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ。

、Ｊ　　３，５＝２Ｈｚ　、　　Ｊ　　５，６＝６Ｈｚ
　＞６、６２　（ＩＨ，ｄ　、ピリジン環の０３Ｈ，Ｊ
＝２．０Ｈ２　） ２、４３　（３ＨＳＳ　、ＣＨ３　　　）実施例２９ ４−ヒドロキシ−２−（２−メ≠ルプ口パノイル）オキ
シピリジンの製造 塩化メチレン２ＯｍＱ中、２，４−ビス（トリメチルシ
リルオキシ）ピリジン２．０（］に］２ーメチルプロピ
オニルクロライド１０１（］を加え、空温で約１時間撹
拌した。以後、実施例２７と同様にして目的化合物２３
０ｍｇ（収率１６．１％）を得た。

ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ ７、３７　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣ６　Ｈ。

Ｊ＝７Ｈ２） ６．３４　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣ３Ｈ。

Ｊ＝２Ｈ２＞ ６、１７　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ。

Ｊ　３，５＝２Ｈｚ　、　Ｊ　５，６＝７Ｈｚ　＞２．
９６−２．５６　（ＩＨ，ｍ　。

（ＣＨ３）２　Ｃ旦−） １．２９　（６Ｈ，ｄ　、ＣＨ３−Ｘ２、Ｊ−７Ｈ２）
実施例３０ ４−ヒドロキシ−２−（２−メチルベンゾイルオキシ）
ピリジンの製造 ２．４−ビス（トリメチルシリルオキシ）ピリジン４．
０ｇ及び２−メチルベンゾイルクロライド２．９２（＋
を用い、実施例２７と同様にして目的化合物１．５９Ｃ
Ｉ　　（収率４４．１８％）を得た。

融点　１１６〜１１９°Ｃ 実施例３１ ２．４−ジ−ｎ−ペンタノイルオキシピリジンの製造 ２．４−ビス（トリメチルシリルオキシ）ピリジン１．
００（］、ジクロロメタン５０ｍ２、ペンタノイルクロ
ライド１．０２ｍ１２及び塩化第二錫０．１Ｏｒｌｌ１
２を用い、実施例２７と同様にして目的化合物２００ｍ
ｃ＋（収率１８％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ ８．３５　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣｓＨ，Ｊ＝６
Ｈｚ） ７’、　０５　（１Ｈ，ｄｄ、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ
。

Ｊ　３，５＝６）−１ｚ　、　Ｊ　５．Ｂ＝２）１ｚ　
）６．９５　（ＩＨ，ｄ　、ピリジン環の０３Ｈ，Ｊ＝
２．０ｆ−１ｚ　） ２．６７−２．４８　（４Ｈ，ｍ、 Ｃｏ　　ＣＨ２−ｘ２） １．８３−１．０２　（８Ｈ，ｍ　。

ＣＨ２Ｘ４） ０．８７　（６Ｈ，ｔ　、ＣＨ３Ｘ２、Ｊ＝７Ｈ２）実
施例３２ ５−クロロ−２，４−ジベンゾイルオキシピリジンの製
造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．００（
Ｉｔのピリジン３０１ＴＩＱ懸濁液に、ベンゾイルクロ
ライド１．７６ｍ１２を加え、室温で２時間撹拌した。

溶媒を留去後、残渣に酢酸エチル６０ｍ１２と水３０ｍ
Ｇとの混液を加えて溶解し、酢酸エチル層を分離した。

これを水３０ｍ１２で２回洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、濃縮した。残渣を少量のエタノールで洗
浄して目的化合物２．１１ｇ　（収率８６．８％）を得
た。

融点　１２４〜１２５℃ 実施例３３ ２．４−ジベンゾイルオキシピリジンの製造ジクロロメ
タン５０ｍＱ中、２，４−ビス（トリメチルシリルオキ
シ）ピリジン４．０ｇにベンゾイルクロライド２．６５
（ｌと塩化第二錫０．２ｍＱを加え、室温で約１時間撹
拌した。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマドグラフイーにかけ、酢酸エチル−ベンゼン（２：
３）で溶出して目的化合物０．７４（１（収率１４．８
％）を得た。

融点　１００〜１０２℃ 実施例３４ ５−クロロ−４−（２−テノイルオキシ）−２−ピリド
ンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．００（
ｌをピリジン１００ｍｆ２に懸濁し、これに２−テノイ
ルクロライド２．４２ＣＩを加え、？＝ａ下４．５時間
撹拌した。次に反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチル及
び水で洗浄して目的化合物０．８２（１（収率２３％）
を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−６６）δ ８．１９−８．０４　（２）１．ｍ　、チオフェン環の
０３　、　ｓ　−Ｈ＞ ７．８８　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環の０６　Ｈ＞７．
３８−７．２８　（１Ｈ，ｍ　、チオフェン環のＣ４−
Ｈ） ６．５６　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）実
施例３５ ４−フェノキシアセチルオキシ−２−ピリドンの製造 ４−１：ｌニトロキシ−２−ピリドン１．ＯＯＣＩをピ
リジン３０ｍＱに懸濁し、これにフェノキシアセチルク
ロライド１．８６ｍ１：！を加え、室温下４時間撹拌し
た。反応溶液を濃縮し、残漬を酢酸エチル、水及びクロ
ロホルムで順次で洗浄して目的化合物５００ｍｃ＋（収
率２３％〉を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−６６）δ １１、５１　（１Ｈ，ｂｓ、　Ｎ−Ｈ，Ｃ２０添加によ
り消失） ７、５１−６．９１　（６Ｈ，ｍ　、ピリジン環のＣｓ
　　Ｈとフェニル−Ｈ〉 ６．１６−６．０７　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環のＣ３
，５Ｈ） ５．０５　　（２Ｈ，ｓ　、ＣＨ２） 実施例３６ １−エチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−２−ピリド
ンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン３．０ＯＣＩのピリジン
２０ｍ１２懸濁液に、エチルイソシアネート２．５０ｍ
Ｑを加え、空温で１時間撹拌した。溶媒を留去後、残渣
を酢酸エチル５０ｍＱに溶解し、水３０ｍＱで２回洗浄
した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃
縮し、エタノール−エーテルから再結晶して目的化合物
１．４８ＣＩ　　（収率３０．１％）を得た。

融点２７２℃（発泡） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　ａ　）δ １１　、０５　（１Ｈ，ｂｓ、　０Ｈ）１０．５２　（
１Ｈ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ　、−ＣＯＮＨ−）８．２５　（
ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝８Ｈｚ　、ピリジン環のＣｓ　　　Ｈ
） ６、　１５　（１Ｈ，ｄｄ、　　Ｊ　　３，５＝３Ｈｚ
　、Ｊ　５，６＝８）１ｚ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ
）５．７３　（１Ｈ，ｄ　、Ｊ＝３Ｈｚ　、ピリジン環
のＣ３Ｈ＞ ３．５０−３．２０　（２Ｈ，ｍ　、　ＣＨ２ＣＨ３）
１．１６（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ、　ＣＨ２ＣＨ３）実
施例３７ １−メチルカルバモイル− ２−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．ＯＯＣＩのピリジン
２０ｍＱ懸濁液に、メチルイソシアネート０、６４ｍ１
２を加え、空温で１時間撹拌した。以下実施例３６と同
様にして目的化合物を収率３０％で得た。

融点２６８°Ｃ（発＠） ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ １　１、２７　　（１Ｈ，ｂｓ，ＯＨ＞１　０、３６　
（１　Ｈ，ｂｓ，−ＣＯＮＨ−）８、２３　（１Ｈ．ｄ
　、Ｊ＝８Ｈｚ　、　ピ’）ジン環のＣｓ　　Ｈ） ６、　　１　３　（１　Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ　　３，５＝
２Ｈｚ　、　　Ｊ　　５，６＝８Ｈｚ，ピリジン環のＣ
ｓ　　Ｈ） ５、７１　（１Ｈ，ｄ　ＳＪ＝２Ｈｚ　、ピリジン環の
０３　　Ｈ） ２、８８　（３Ｈ，ｄ　、Ｊ＝５Ｈｚ　、ＣＨ３　）実
施例３８ ４−（４−ｎ−プロポキシベンゾイルオキシ）−２−ピ
リドンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．００（］をピリジン
３０ｍ（２に懸濁し、これに４−ｎ−プロポキシベンゾ
イルクロライド２．”＋４（＋を加え、空温下４時間撹
拌した。次に反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチル及び
水で洗浄して目的化合物１、９８（ＩＩ（収率８１％）
を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｅ　　＞　δ ７．４７　（１Ｈ，ｄ　、Ｊ＝８Ｈｚ　、ピリジン環の
Ｃｓ　　Ｈ） ７．２３　（２Ｈ，ｄ　、Ｊ＝９Ｈｚ、６．２４−６．
１７　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環の０３．５　　Ｈ） ４．０５　（２Ｈ１ｔ　、Ｊ＝７Ｈ２。

０ＣＨ２＞ １．８８　１．６５　（２Ｈ，ｍ　、ＣＨＬ　ＣＨ３＞
０．９９　（３Ｈ，ｔ　、Ｊ＝７Ｈｚ　、ＣＨ３＞実施
例３９ ５−クロロ−４−ニコチノイルオキシ−２−ピリドンの
製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．０ＯＣ
Ｉをピリジン１００ｍ１２に懸濁し、これに塩酸ニコチ
ノイルクロライド２．９３ＣＪを加え、空温下９時間撹
拌した。反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチル及び水で
洗浄して目的化合物１．７７ｇ　（収率５１％〉を得た
。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−６６）δ ９．２６　（ＩＨ，ｄ　、ニコチノイル環のＣ２Ｈ１Ｊ
＝２Ｈ２） ８．９４　（１’Ｈ，ｄｄ、Ｊ　４，６＝２Ｈｚ、Ｊ　
５，６＝５Ｈｚ　、ニコチノイル環のＣＧ−Ｈ） ８、４７　（１Ｈ，ｔｄ、　Ｊ　２，４＝２Ｈｚ、Ｊ　
４，５＝８Ｈｚ　、ニコチノイル環のＣ４−Ｈ） ７．９０　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７
．７５−７．６１　（１Ｈ，ｍ　、　ニコチノイル環の
Ｃｓ　　Ｈ） ６．６１　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）実
施例４０ ５−クロロ−４−フェニルアセチルオキシ−２−ピリド
ンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．００Ｃ
Ｉをピリジン６０鵬に懸濁し、これにフェニルアセチル
クロライド３．６３ｍＱを加え、以下実施例３９と同様
にしてして目的化合物５００ｍｇ（収率１４％）を得た
。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ ７．８１　（ＩＨ，Ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７
．３５　（５Ｈ，ｓ　、フェニル−Ｈ）６．３６（ＩＨ
ｌＳ、ピリジン環のＣ３Ｈ）４．０２　（１Ｈ，Ｓ　、
−ＣＨ２−）実施例４１ ５−クロロ−４−（２−フロイルオキシ）−２−ピリド
ンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．０（］
Ｊをピリジン１００ｍＱに懸濁し、これに２−フロイル
クロライド２．１５ｑを加え、以下実施例３９と同様に
して目的化合物１．１３（１（収率３４％〉を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６）δ ８．１５　（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝２Ｈｚ　、フラン環のＣ
ｓ　　Ｈ） ７．８８　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７
．６４　（１ＨＳｄ　、Ｊ＝４Ｈｚ　、フラン環のＣ３
Ｈ） ６、８２　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ　４，５＝２Ｈ２、Ｊ
　３，４＝４Ｈｚ　、フラン環のＣ４Ｈ＞６．５４　（
ＩＨ，ｓ　、ピリジン環のＣ３Ｈ）実施例４２ ５−クロロ−４−（３，４，５−トリメトキシベンゾイ
ルオキシ）−２−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒド
ロキシ−２−ピリドン２．００（］をピリジン１００ｍ
ｆ２に懸濁し、これに３．４．５−トリメトキシベンゾ
イルクロライド３．８０ＣＩを加え、空温下２．５時間
撹拌した。

反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチル及び水で洗浄して
目的化合物１．６０ｇ　（収率３４％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δ ７．８８　（ＩＨ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７
．３９　（２Ｈ，Ｓ　、フェニル−Ｈ）６．８２　（１
Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣ３Ｈ＞３．８７　（６Ｈ，Ｓ
　、−００Ｈ３Ｘ２）３．８０　（３Ｈ，ｓ　、　ＯＣ
Ｈ３）実施例４３ ２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−４−二コチノイル
オキシピリジンの製造 ５−クロロ−４−ニコチノイルオキシ−２−ピリドン３
００ｍｃ＋を、ジオキサン３０ｍＱとピリジン１０ｍＧ
との混合溶媒に懸濁させ、これにベンゾイルクロライド
０．１７ｍ１２及びトリエチルアミン０、８３１Ｔｌ１
２を加え、３時間還流した。反応溶液を濃縮し、残渣を
クロロホルムを溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製して、目的化合物２３０＋ｎｃ＋（
収率５４％〉を得た。

ＮＭＲＣＣＤＣＱ３　＞δ ９．４１−８．３７　（３Ｈ，ｍ　、　ニコチノイル環
の０２，４．６　　Ｈ＞ ８．５１　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７
．４４　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）実施
例４４ ２．４−ジアセトキシ−５−クロロピリジンの製造 ピリジン４０ｍＱ中に、５−クロロ−４−ヒドロキシ−
２−ピリドン１．００（］を懸濁させ、これに撹拌しな
から室温でアセチルブロマイド３．３８９を徐々に加え
た。反応溶液を７０℃で１時間撹拌した。生成した沈澱
物を枦去し、ン戸液を濃縮し、残渣をエーテルで洗浄し
、次いでアセトンで洗浄後、エーテル層及びアセトン層
を合せて濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにかけ、クロロホルムで溶出して目的化合物１．
５２ｇ　（収率９６．４％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ ８．４１　（’ＩＨ，Ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　、Ｈ
）７．０６　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）
２．３６と２．３２（各３８．Ｓ　、ＣＨ３）実施例４
５ ５−クロロ−４−ピペロ二ロイルオキシー２−ピリドン
の製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２、ＯＯｇ
をピリジン６ｏｍＱに懸濁させ、これにピペロ二口イル
クロライド３．８０ｏを加え、室温下２．５時間撹拌し
た。反応溶液を）濾過し、ン戸液を濃縮し、残渣を酢酸
エチル、水及びクロロホルムで順次洗浄し、次いで２％
メタノール−クロロホルムを溶出溶媒とするシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製して目的化合物２００
ｍｇ（収率５％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ １２、０１　（１Ｈ，ｂｓ、　Ｎ−Ｈ）７．８６　（１
８％Ｓ１ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７、　５２　　（１
Ｈ，ｄ　　、　　Ｊ＝１Ｈｚ　　、６．５１　（１Ｈ，
ｓ　、ピリジン環の０３　Ｈ）６．２０　（２Ｈ，Ｓ　
、ＣＨ２＞ 実施例４６ ５−クロロ−２，４−ジピペロ二口イルオキシピリジン
の製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．００ｇ
とピベロ二口イルクロライド３．８００とを用い実施例
４５と同様にして目的化合物１８０ｍ！；Ｉ（収率３％
）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ ８．６８　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７
、６８　（１）−１，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　−Ｈ）
７．５９−７．５４　（２Ｈ，ｍ、 ６．２１と６．２０（各２Ｈ，Ｓ、　ＣＨ２＞実施例４
７ ４−（３−ベンジルオキシカルボニルベンゾイルオキシ
）−５−クロロ−２−ピリドンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．２０（
］と］３−ベンジルオキシカルボニルベンゾイルクロラ
イド ２４と同様にして目的化合物１．７３（１　　（収率２
９％）を得た。

ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−６　６　）δ ７、８９　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７
、５２　　７．３４（５Ｈ，ｍ，ＣＨ２　　　）６、６
０　（ＩＨ，ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）５、４２
（２Ｈ，Ｓ、　ＣＨ２　　） 実施例４８ ４−（ｎ−ペンタノイルオキシ）−２−ピリドンの製造 ２、４−ビス（トリメチルシリルオキシ）ピリジン１．
００１Ｊとｎ−ペンタノイルクロライド１、０２ｍＱと
を用い、実施例３１と同様にして目的化合物３１０ｍ（
］（収率４１％）を得た。

ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ １　１　、　６２　（１　Ｈ，　ｂｓ，　Ｎ−Ｈ）７、
４２　（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝８Ｈｚ　、ピリジン環のＣｓ
　　Ｈ） ６、１　１−６．００　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環の０
３、５　　Ｈ） ２、５５　（２Ｈ，ｔ　、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｏ　　ＣＨ２
　　） １、６９−１．２３　（４Ｈ，ｍ　、ＣＨ２　Ｘ２＞０
、９０　（３Ｈ，ｔ　、Ｊ＝７Ｈｚ　、ＣＨ３　）実施
例４９　　　− ２−アセトキシ−４−ベンゾイルオキシ−５−クロロピ
リジンの製造 ２−アセトキシ−５−クロロ−４−ヒドロ主ジピリジン
２００＋１１０，ベンゾイルクロライド０．１５−、ト
リエチルアミン０．７４ｍＱ及びアセトニトリル２０ｍ
１２を用い、実施例２１と同様にして目的化合物３００
ｍ（Ｉｔ（収率９６％）を得た。

ＮＭＲ　（ＣＤＣＱ３　）δ ８、４３　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環の０６　Ｈ）８、
２３−７．４８　（５ＨＳｍ　、フェニル−Ｈ）７、２
７　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　Ｈ）２、２９　
（３Ｈ，ｓ　、ＣＨ３　＞ 実施例５０ ４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−１−エトキシメチ
ル−２−ピリドンの製造 ５−クロロ−１−エトキシメチル−４−ヒドロキシ−２
−ピリドン２００ｍｑ，ベンゾイルクロライド０．１４
ｆｆｌＬ　トリエチルアミン０．６８ｍ１２及びジオキ
サン２０ｒｎＱを用い、実施例４９と同様にして目的化
合物２８０ｍｏ（収率９３％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ ８．２１−７．４２　（５Ｈ，ｍ　、フェニル−Ｈ）７
．５８　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）６．
６１　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣ３Ｈ＞５．３５　
（２Ｈ，ｓ　、Ｎ　　ＣＨ２＞３．６５　（２Ｈ，Ｑ　
、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｃ旦２ＣＨ３） １．２３　（３Ｈ，ｔ　、Ｊ＝５Ｈ２。

ＣＨ２Ｃ旦Ｌ） 実施例５１ １−アリル−５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリド
ンの製造 ２．４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５−クロロ
ピリジン８７８ｍＣｌ、アリルブロマイド０．３５ｍＱ
、ｉ化第二錫０．１０ｍＱ及びアセトニトリル１５ｍＧ
を用い、実施例５０と同様にして目的化合物６０ｍ（１
（収率９％〉を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ ７．８０　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環の０６　Ｈ）６．
１１−５．６９　（１’Ｈ，ｍ　、−ＣＨ＝）５．８１
　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣ３Ｈ＞５．３０−４．
９４　（１Ｈ，ｍ　、＝ＣＨ２）４．６０　４．３６　
（１Ｈ，ｍ　、Ｎ−ＣＨ２）実施例５２ ２．４−ジ（３−クロロベンゾイルオキシ）ピリジンの
製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．００ＣＩをピリジン
３０ｍｆ２に懸濁させ、これに３−クロロベンゾイルク
ロライド３．４６（］を加え、空温下２日間撹拌した。

反応溶液を）濾過し、炉液を濃縮し、残渣を酢酸エチル
で抽出した。抽出液を濃縮後、残渣を水及びメタノール
で洗浄して目的化合物１．７４ＣＩ　　（収率５０％）
を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δ ８、．５６　（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝６Ｈｚ　、ピリジン環
７．５７−７．５２　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環の０３
．５　　　Ｈ） 実施例５３ ２．４−ジ（２−メトキシベンゾイルオキシ）ピリジン
の製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．０ＯＣＩを、ピリジ
ン６０ｍＱに懸濁させ、これに２−アニソイルクロライ
ド５．５２ＣＩを加え、空温で１日間撹拌した。反応溶
液を濃縮し、残漬をベンゼンで洗浄し、酢酸エチルで抽
出し、抽出液を濃縮後、残）査をクロロホルム−アセト
ン（３０：　１　）を溶出溶媒として用いたシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製して、目的化合物１
２０ｍｃ＋（収率２％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ ８．４５　（１Ｈ，’ｄ　５Ｊ＝６Ｈｚ　、ピリジン環
の０６　Ｈ） ７．２７−７．２１　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環の０３
．５　　　Ｈ） ３．９３　（６Ｈ，ｓ　、　　ＯＣＨ３Ｘ２＞実施例５
４ １−カルボキシルメチルカルバモイル−４−ヒドロキシ
−２−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−１−メトキシカルボニルメチルカルバ
モイル− ール１０ｍＱ溶液に、１Ｎ−水酸化ナトリウム５、４０
ｍ１２を加え、室温で１時間撹拌した。次いで１Ｎ−塩
酸で反応溶液を弱酸性にし、生じた沈澱を更改し、乾燥
して目的化合物４１０ｍｃ＋（収率７１、９％）を得た
。

ＮＭＲ（ＤＭＳ〇−ｄ６　）δ １０．８２　（１Ｈ，ｔ　、Ｃ○−ＮＨ−ＣＨ２−１Ｊ
＝５Ｈ２、Ｄ２０添加により消失） ８．１０　（ＩＨ，ｄ　、ピリジン環のＣ６Ｈ１Ｊ＝８
Ｈ２） ６．０２（１Ｈ，ｄｄ、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ１Ｊ＝
２Ｈｚ　、Ｊ＝８Ｈｚ　＞ ５．５０　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣ３Ｈ１Ｊ＝２
Ｈ２） ３．７５　（２Ｈ，ｄ　、−ＮＨ−ＣＨＬ−ＣＯＯＨ１
Ｊ＝５Ｈ２） 実施例５５ ４−（３−ベンジルオキシカルボニルプロポキシ）−１
−エトキシメチル−２−ピリドンの製造 １−エトキシメチル−４−ヒドロキシ−２−ピリドン０
．２２（ｌとモノベンジルコハク酸０．４３０とをテト
ラヒドロフラン５鵬に溶解し、これに水冷下にジシクロ
へキシルカルボジイミド０．４５ｇを加えた。室温で一
晩反応させた後、析出物をン戸去し、）月夜を濃縮し、
クロロホルムを展開溶媒として用いたシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製して目的化合物０．４１ｇ　
（収率８８％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ９３）δ ７．３４　（６Ｈ，ｂｓ、フェニル−Ｈとピリジン環の
Ｃｓ　　Ｈ） ６．３０　（１Ｈ，ｄ　、ピリジン環のＣ３Ｈ１’Ｊ＝
２Ｈｚ＞ ６、０６　（１Ｈ，ｄｄ、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ１Ｊ
＝７Ｈｚ　、２Ｈｚ　） ５．３３　（２Ｈ，ｓ　、−ＣＨ２Ｎ＞５．１５　（２
Ｈ，ｓ　、−ＣＨ２０ＣＯ）３．６０　（２Ｈ，Ｑ　、
ＣＨ２ＣＨ３、Ｊ＝７Ｈ２）２．６８　２．８２　（４
ＨＳｍ　、ＣＨ２ＣＨ２＞１．２０　（３Ｈ，ｔ　、Ｃ
Ｈ３、Ｊ＝７Ｈ２）実施例５６ ５−クロロ−２，４−ジベンゾイルオキシピリジン及び
４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２−ピリドンの製
造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン０．５０ｇ
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１５鵬に溶解し、これ
に水素化ナトリウム０．４５（１を加え、室温で２時間
撹拌した。次いで塩化ベンゾイル１．１０（ｌのＮ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド溶液５ｍＱを滴下し１時間反応
させた。反応終了後、溶媒を留去し、残渣をクロロホル
ムで抽出し、抽出物を濃縮後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて展開して、始めに目的とするジベンゾ
イルオキシ体０．８０（１（収率６６％）を、次いで目
的とする４−ベンゾイルオキシ体０．０４（］（収率５
％〉を各々得た。

ジベンゾイルオキシ体〔５−クロロ−２，４−ジベンゾ
イルオキシピリジン） 融点　１２４〜１２５℃ ４−ベンゾイルオキシ体〔４−ベンゾイルオキシ−５−
クロロ−２−ピリドン〕 融点　１９６〜１９７℃ 実施例５７ ５−クロロ−２−エトキシカルボニルオキシ−４−ヒド
ロキシピリジンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２、ＯＯｇ
を１．１，１．３，３．３−へキサメチルジシラザン中
で一晩還流し、放冷後、過剰のジシラザンを留去した。

更に真空ポンプで残渣に含まれるアンモニアを除去した
後、アセトニトリル２０１Ｔｌｆ２で希釈した。次いで
クロロギ酸エチル３、ＯＯｇのアセトニトリル溶液２０
ｍ１２を加えた後、混合液に塩化第二錫０．１０ｍＱを
滴下し５時間還流した。反応液を濃縮後、残渣を酢酸エ
チルに溶解させ、メタノールで処理した。析出した原料
（５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン）をｔ戸
去した後、酢酸エチル層を濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにかけ１％メタノール−クロロ
ホルムで溶出して目的化合物０．６８ｇ　（収率２３％
）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ １２、０　（１Ｈ，ｂｒｏａｄ　、　０Ｈ）８．２１　
（ＩＨ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）６．７８　（
１Ｈ，ｓ　、ピリジン環の０３　Ｈ）４．２６　（２Ｈ
，Ｑ　、ＣＨ２ＣＨ３、Ｊ＝７Ｈ２）１．２９　（３Ｈ
Ｓｔ　、ＣＨ２Ｃ旦り、Ｊ＝７Ｈｚ　）実施例５８ ５−クロロ−４−エトキシカルボニルオキシ−５−クロ
ロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２、ＯＯｇを１．１
，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン３０ｍｆ２
中で一晩還流し、放冷後、過剰のジシラザンを留去した
。このとき反応によって副生するアンモニアの存在を確
かめた。次いで反応溶液に塩化メチレン１５１１１１２
を添加し、更にクロロギ酸エチル２．２０ｇの塩化メチ
レン溶液１０ｍＱを加え、室温で４時間反応させ、以下
、実施例５７と同様に処理して、未反応原料を回収する
と共に目的化合物０．１８ｇ　（収率６％）を得た。

ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ　　ｄ　ｓ　）δ １　１、９６　（１Ｈ，ｓ　、ＮＨ） ７、８４　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣ６　　Ｈ）６
、４９　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣ３　　Ｈ）４、
２９　（２日，Ｑ　、Ｃ旦１ｃＨ３　、Ｊ＝７日２）１
、３０　（３Ｈ，ｔ　、ＣＨ２　Ｃ旦り，Ｊ＝７Ｈｚ　
＞実施例５９ ４−アセトキシ−５−クロロ−２−ピリドンの製造 ５−クロロ−２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）
ピリジン３．ＯＯｇ、トリエチルアミン３、ＯｍＧ及び
アセトニトリル５０ｍ１２の混合液に臭化アセチル１．
００ｍ１２を滴下し、室温で１時間反応させた。反応終
了後、濃縮し、アセトンで再結晶して目的化合物０．６
６ｏ　　（収率３４％〉を得た。

実施例６０ ５−クロロ−４−ラウロイルオキシ−２−ピリドン及び
５−クロロ−２，４−ジ（ラウロイルオキシ）ピリジン
の製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２。

００ｏをピリジン１００１ＴＩ１２中に懸濁させ、塩化
ラウロイル４．５０ｇを滴下し、室温で６時間撹拌した
。反応後、ピリジンを留去し、残渣をエーテル中で一晩
撹拌した。析出物をン戸取し、乾燥して目的とするモノ
アシル体１．２０（］を得た。またエーテル層を濃縮し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、
クロロホルムで展開して同モノアシル体０．３８（１　
　（合計収率３５％）及びジアシル体２．１４ｇ　（収
率３１％）の各々を得た。

モノアシル体〔５−クロロ−４−ラウロイルオキシ−２
−ピリドン〕 ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ ７、８１　（１ＨＳＳ　、ピリジン環のＯｓ　　Ｈ）６
、３３　（ＩＨＳＳ　、ピリジン環の０３　　Ｈ＞２、
６１　（２Ｈ，ｔ　、ＣＨ２　Ｃｏ、Ｊ＝７Ｈｚ＞１、
２５　（１８Ｈ，ｍ　、（ＣＨ２　＞９　＞０、８５　
（３Ｈ，ｊ　、ＣＨ３　、Ｊ＝７Ｈｚ　）ジアシル体（
５−クロロ−２，４−ジ（ラウロイルオキシ）ピリジン
） ＮＭＲ　（ＣＤ０９３　）δ ８、３９　（ＩＨ，ｓ　、ピリジン環のＣ６　　Ｈ）７
、０４　（１Ｈ，Ｓ　１ピリジン環の０３　　Ｈ）２、
５２−２．７２　＜４Ｈ，ｍ　、ＣＨ２　ＣＯＸ２＞１
、２７　（３６Ｈ，ｂｓ，（ＣＨ２　＞９　Ｘ２＞０、
８８　（６Ｈ，ｔ　、ＣＨ３　Ｘ２＞実施例６１ ５−クロロ−４−ヒドロキシ−１−メチルチオメチル−
２−ピリドンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン０．５００
を、１，１．１，３，３．３−へキサメチルジシラザン
１０ｍＱ中で一晩還流した。次に過剰のへキサメチルジ
シラザンを留去し、残渣をアセトニトリル１５ｒｌｌｌ
ｌｌｌに溶解した。これにクロロメチルメチルスルフィ
ド０．７０ｇを加え、空温で６時間撹拌した。、トリエ
チルアミンを加えて中和した後、溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、２％メタ
ノール−クロロホルムで溶出して、目的化合物０．０１
ｇ　（収率２％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ ７．９４　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）５
．７７　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環のＣｓ−Ｈ１Ｄ２０
添加で消失） ４．９２　（２Ｈ，ｓ　、ＣＨ２３） ２．１２　（３Ｈ，Ｓ、ＣＨ３） 実施例６２ ５−クロロ−４−（４−クロロベンゾイル）オキシ−２
−ピリドン及び５−クロロ−２゜４−ジ（４−クロロベ
ンゾイル）オキシピリジンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２、ＯＯｃ
＋　、塩化４−クロロベンゾイル３．６０９及びピリジ
ン１００ｍ１２を用い、実施例６０゛と同様にして（但
し反応時間は一晩とした）目的とするモノアシル体１．
１１（１（収率２９％）及びジアシル体２．７０ｇ　（
収率４７％）各々を得た。

モノアシル体〔５−クロロ−４−（４−クロロベンゾイ
ル）オキシ−２−ピリドン〕 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ Ｊ＝８Ｈ２）　　　　　’ ７．８９　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）６
．５７　（１ＨＳＳ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）ジア
シル体〔５−クロロ−２，４−ジ（４−クロロベンゾイ
ル）オキシピリジン〕 ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ Ｊ＝８Ｈｚ　＞ ５−クロロ−４−（４−メトキシベンゾイルオキシ）−
２−ピリドン及び５−クロロ−２゜４−ジ（４−メトキ
シベンゾイルオキシ）ピリジンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２、ＯＯａ
をピリジン１５０１Ｆ１１２に懸濁させ、これに塩化４
−メトキシベンゾイル２．ＢＯＱを滴下し、空温で４時
間反応させた。反応終了後、ピリジンを留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて、石油エーテ
ル−クロロホルム（１：４）で展開して目的とするジベ
ンゾイル体２．７４ｇ　（収率４８％）を得た。また次
にクロロホルムで展開してモノベンゾイル体１．２７Ｃ
Ｉ（収率３３％）を得た。

モノベンゾイル体（５−クロロ−４−（４−メトキシベ
ンゾイルオキシ）−２−ピリドン〕ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ
　ｓ　）δ １１．９５　（１Ｈ，ｓ　、ＮＨ＞ ７．８６　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）６
．５１　（ＩＨ，ｓ　、ピリジン環の０３　Ｈ）３．８
８　（３Ｈ，ｓ　、ＣＨ３０） ジベンゾイル体〔５−クロロ−２，４−ジ（４−メトキ
シベンゾイルオキシ）ピリジン〕ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　
）δ ７．３７　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ＞３
．９１　（３Ｈ，Ｓ　、ＣＨ３０） ３．８９　（３Ｈ，ｓ　、ＣＨ３０） 実施例６４ ５−クロロ−４−（４−ジメチルアミノベンゾイルオキ
シ）−２−ピリドン及び５−クロロ−２，４−ジ（４−
ジメチルアミノベンゾイルオキシ）ピリジンの製造 ４−ジメチルアミノ安息香酸２．７０（＋、塩化チオニ
ル２．０ｍＱ、ベンゼン５０ｍＱの混合物を一晩還流し
、放冷後、ベンゼンを留去し、ピリジン７０ｍ１２で希
釈した。これを５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリ
ドン２．００ｇのピリジン溶液８０ｍ（ＩＩに加え、室
温で３時間反応させた。ピリジンを留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、クロロホルム
で展開して、目的とするジアシル体１．３４ＣＩ　　（
収率２４％）を得た。また２％メタノール−クロロホル
ムで展開して目的とするモノアシル体１．８９ｏ（収率
４７％）を得た。

モノアシル体〔５−クロロ−４−（４−ジメチルアミノ
ベンゾイルオキシ）−２−ピリドン〕ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ　６　）δニ ア、８０　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ、　　Ｈ）
６．４５　（ＩＨ，ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）３
．０５　　（６Ｈ，ｓ　、ＣＨ３ｘ２＞ジアシル体〔５
−クロロ−２，４−ジ（４−ジメチルアミノベンゾイル
オキシ）ピリジン〕ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３　）δ ８．４５　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環の０６　　Ｈ）Ｊ
＝９Ｈｚ＞ ７．３６　（１Ｈ，Ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）３
．０８　（６Ｈ，Ｓ　、ＣＨ３） ３．０７　（６Ｈ，Ｓ　、ＣＨ３） 実施例６５ ５−クロロ−２，４−ジ（４−メチルベンゾイルオキシ
）ピリジンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．００Ｃ
Ｉのピリジン溶液５０ｍ１２に、塩化４−メチルベンゾ
イル２．６６ｇを滴下し、室温で一晩反応させた。ピリ
ジンを留去し、残渣をエーテル中で６時間撹拌し、析出
した固体を乾燥して目的化合物１．７１０を得た。また
エーテルを濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、石油エーテル−クロロホルム（１：２＞で展
開して同一化合物０．８５１ｊ　　（合計収量２．５６
Ｇ、合計収率９７％）を得た。

ＮＭＲ（’ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ ８．７１　（１Ｈ，ｓ、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７．
７３　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣ３Ｈ）３．２９　
（６Ｈ，ｓ　、ＣＨ３Ｘ２＞実施例６６ ４−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−５−ク
ロロ−２−ピリドンの製造 ピリジン１００１ｄ中に５−クロロ−４−ヒドロキシ−
２−ピリドン３．００ａを懸濁させ、これに撹拌しなが
らｖ温で４−ヘンシルオキシベンゾイルクロライド５．
５９ｇ加えた。反応溶液を９０’Ｃで１．５時間撹拌し
た。溶媒を留去した後、残渣に酢酸エチルを加え、空温
で一晩撹拌した。

酢酸エチル層を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにかけ、２％メタノール−クロロホルムで
溶出して目的化合物７７０ｍｇ（収率１０．５％）を得
た。

Ｊ＝９Ｈｚ＞ ７．５２　（ＩＨ，ｓ　、ピリジン環のＣ６Ｈ）Ｊ＝９
Ｈｚ＞ ６．６４　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）５
．１７　　（２ＨＳ　Ｓ　、−ＣＨ２＞実施例６７ ５−クロロ−４−ヒドロキシ−１−メトキシメチル−２
−ピリドンの製造 ２．４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５−クロロ
ピリジン１．７５（１、クロロメチルメチルエーテル０
．６６ＣＩ及びアセトニトリル２０鵬を用い、実施例６
１と同様にして目的化合物０．６３（］　　（収率４９
％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ １１．５５　（ＩＨ，ｂｓ、０Ｈ） ７．８７　（ＩＨ，Ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）５
、７６　（１Ｈ’、　Ｓ　、ピリジン環のＣ３Ｈ）５．
１２　（２Ｈ，Ｓ　、ＮＣＨ２＞ ３．２４　（３Ｈ，ｓ　、ＯＣＨ３） 実施例６８ ５−クロロ−４−（１−ナフトイルオキシ）−２−ピリ
ドンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．０（］
ｌ　、α−ナフトイルクロライド３．９３ｇ及びピリジ
ン１００ｍ１２を用い、実施例４５と同様にして目的化
合物１．１５ＣＩ　　（収率２８％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ １２、０７　（１Ｈ，ｂｓ、　ＮＨ） ８．８９−７．６４　（７Ｈ，ｍ　、ナフチル−Ｈ）７
．９４　（ＩＨ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）６．
６８　（ＩＨ，Ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）実施例
６９ ５−クロロ−２，４−ジ（１−ナフトイルオキシ）ピリ
ジンの製造 ５−クロロ−４−ヒトＯキシー２−ピリドン２．０ＯＣ
Ｉ　、α−ナフトイルクロライド３．９３９及びピリジ
ン１００ｍＧを用い、実施例４５と同様にして目的化合
物３．８３！；］　　（収率６１％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６　　）δ ８．９２−７．６０　（１４Ｈ，ｍ　、ナフチル−Ｈ）
８．８１　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７
．９８　（１ＨＳｓ　、ピリジン環のＣ３Ｈ）実施例７
０ ４−（４−ベンジルオキシカルボニル）ベンゾイルオキ
シ−２−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン１．８０ＣＩ及びトリエ
チルアミン７．５０（！のジオキサン溶液２０ｍ１２に
、塩化（４−ベンジルオキシカルボニル）ベンゾイル４
．６０（］のジオキサン溶液２０ｍ１２を加え、６時間
還流した。放冷後、濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出し
、水洗後、酢酸エチルを留去し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにかけ、２％メタノール−クロロホルム
で展開して目的化合物０．８０（］　　（収率１４％）
を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ １１　、９０　（１Ｈｌｂｓ、　ＮＨ＞７．３９−７．
５０　（６Ｈ，ｍ　、フェニル−Ｈとピリジン環のＣｓ
　　Ｈ） ６．２２−７．３４　（２Ｈ，ｍ　、ピリジン環のＣ３
，５Ｈ＞ ５、４１　（２Ｈ，ｓ　、−Ｃ止３０）実施例７１ ２−ベンゾイルオキシ−５−ブロモ−４−ヒドロキシピ
リジンの製造 フッ化カリウム０．１５（］　、］１８−クラウンー６
０３５ＣＩ及びアセトニトリル５０ｍ１２混合液を３０
分間還流した後、これに５−ブロモ−２゜４−ジベンゾ
イルオキシピリジン０．５０ｇを加え、−晩還流した。

放冷後、濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出し、水洗した
。次に酢酸エチルを濃縮し、残渣をエーテルで処理して
目的化合物０．２３（１（収率６２％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−６６）δ １２、　１０　（Ｉ　Ｈ，ｂｒｏａｄ　、　０Ｈ）８．
３６　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）６．８
１　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環のＣ３Ｈ＞実施例７２ ５−ブロモ−４−ベンゾイルオキシ−２−ピリドン及び
５−ブロモ−２，４−ジベンゾイルオキシピリジンの製
造 ５−ブロモ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．０００
をピリジン１００ＩＴＩ２に懸濁させ、これに塩化ベン
ゾイル２．２０ｑを滴下し、空温で４時間反応させた。

反応終了後、濃縮し、残渣をエーテル中で一晩撹拌した
。析出した結晶をｉ月収して目的とするモノベンゾイル
オキシ体１．０１（］（収率３３％）を得た。またエー
テルを濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
かけ、石油エーテル−クロロホルム（１：２＞で展開し
てジベンゾイルオキシ体１．４４Ｑ　　（収率３４％）
を得た。

モノベンゾイルオキシ体〔５−ブロモ−４−ベンゾイル
オキシ−２−ピリドン〕 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ ６．６５　（１Ｈ，ｓ　、ピリジン環の０３　　Ｈ）ジ
ベンゾイルオキシ体〔５−ブロモ−２，４−ジベンゾイ
ルオキシピリジン〕 ＮＭＲ（ＣＤＣ９！３）δ ８．６３　（ＩＨ，ｓ　、ピリジン環のＣｓ　　Ｈ）７
．４０−７．６５　（７Ｈ１ｍ　１ピリジン環の実施例
７３ ２．４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５−クロロ
ピリジンの製造 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−ピリドン９
．６ｇにヘキサメチルジシラザン５０ｍＧを加え、油浴
中１４０℃で一夜撹拌した。不溶物を枦去し、炉液を減
圧蒸留し沸点１２０°Ｃ／７ｍｍＨ１）の目的化合物１
４．４ＣＩ　（７５％）を得た。

実施例７４ ２−アセトキシ−５−クロロ−４−ヒドロキシピリジン
の製造 ２．４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５−クロロ
ピリジン５．０ＯＣＩの乾燥ジクロロメタン２５０ｍ！
２溶液に、アセチルプロミド２．０９ｍＱと塩化第２錫
０．１０１１１１２を加え、空温で３．５時間撹拌した
。トリエチルアミンで中和後、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムを用い、４０％酢酸エチル−ベンゼンで
溶出し、目的化合物２．０７ＣＪ　（６４％）を得た。

融点　２７０−２７２℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ １１．９０　（１Ｈ，ｂｓ、０ｆ−１＞８．２０　（１
Ｈ，Ｓ、Ｃｓ　　　Ｈ）６．６９　（ＩＨ，Ｓ、０３　
　　Ｈ）２．２７　（３Ｈ，Ｓ、ＣＯＣＨ３） 実施例７５ ５−クロロ−４−ヒドロキシ−１−（２−テトラヒドロ
フラニル）−２−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒド
ロキシ−２（ＩＨ）−ピリドン１．ＯＯＣ］にヘキサメ
チルジシラザン１０鵬を加え６時間還流した。ついで過
剰のへキサメチルジシラザンを留去し、油状残渣をジク
ロロメタン５０ｍ１２に溶解した。ここに２−アセトキ
シテトラヒドロフラン１．０ＯＣ１と塩化第２錫０．１
鵬を添加し、室温で一夜撹拌した。トリエチルアミンで
中和後溶媒を留去し、残渣にメタノールを加えて室温で
２時間撹拌した。再度溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムを用い２％メタノール−クロロホルムで溶出し、
目的化合物１．０７ｇ（７３，５％）を得た。

融点　１７０−１７３℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ １１．６　（１Ｈ，ｂｓ、０Ｈ） ７．５９　（１Ｈ，Ｓ、Ｃ６Ｈ＞ ５．７６　（１Ｈ，Ｓ、０３　　Ｈ） 実施例７６ ４−ヒドロキシ−１−（３−フタリジル）−２−ピリド
ンの製造 ４−ヒトキロシー２−ピリドン１．０ＯＣＩにヘキサメ
チルジシラザン１０ｍ１２を加え、６時間還流した。つ
いで反応溶液を減圧濃縮し、残渣をアセトニトリル２０
ｍＱに溶解した。これに３−ブロモフタリド２．２９０
を添加し、室温で一夜撹拌した。反応溶液にメタノール
を加えて室温で１５分間撹拌した。次に反応溶液を減圧
濃縮し、残渣を１％メタノール−クロロホルムを溶出液
としたシリカゲルカラムに付し、目的化合物０．６２Ｃ
Ｊ（３０％）を得た。

融点　２３９−２４１℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ ６．９９　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈ２，Ｃ６Ｈ＞５．８８
　（１ＨＳｄｄ、Ｊ：Ｉ　、　５＝２Ｈ２、Ｊｓ　、６
　＝８Ｈ２，Ｃｓ　　Ｈ） ５．６５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈ２，Ｃ３Ｈ）実施例７
７ １−ベンジルオキシメチル−５−クロロ−４−ヒドロキ
シ−２−ピリドンの製造 実施例７５で２−アセトキシテトラヒドロフランに代え
ベンジルオキシメチルクロリドを用い、溶媒としてジク
ロロメタンに代えてアセトニトリルを用い、目的化合物
を収率５７％で得た。

融点　１６５−１６７℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ　）δ １１．６５　（１Ｈ，ｂｓ、０Ｈ） ７．９２　（１Ｈ，ｓ、Ｃ６−Ｈ＞ ７．３１　（５Ｈ，ｓ、フェニル−Ｈ）５．７７　（１
Ｈ，Ｓ、０３　　Ｈ） ５．２７　（２ＨＳｓ、−ＮＣＣａ２Ｏ）４．５５　（
２Ｈ，ｓ、　０ＣＨ２ぺ））実施例７８ ５−クロロ−１−エトキシメチル−４−ヒドロキシ−２
−ピリドンの製造 実施例７５で２−アセトキシテトラヒド口フランを用い
る代りにクロロメチルエチルエーテルを用い、５−クロ
ロ−１−エトキシメチル−４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）
−ピリドンを収率３９％で得た。

融点　２１７−２１９°Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ １　’１．６３　（１Ｈ，ｂｓ、０日）７．８７　（１
Ｈ，ｓ、Ｃｓ　　Ｈ） ５．７５　（１Ｈ，Ｓ、０３　　Ｈ） ５．１６（２Ｈ，Ｓ、Ｎ　　ＣＲ２０＞３．４９　（２
Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ、 ０ＣＨ２ＣＨ３） １．０９　（３ｔ−１，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ。

−〇〇Ｈ２ＣＨ３） 実施例７９ ２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−４−ヒドロキシピ
リジンの製造 実施例７５で２−アセトキシテトラヒドロフランを用い
る代りにベンゾイルクロリドを用い、目的化合物を収率
５１％で得た。

融点　１８４°Ｃで軟化 Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ−ｄ　６　）δ８．２７　
（１Ｈ，Ｓ、Ｃｓ　−Ｈ） ６．９１　（ＩＨ，ｓ、０３　　Ｈ） 実施例８０ ４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２−ピリドンの製
造 ５−クロロ−２，４−ジベンゾイルオキシピリジン１．
０ＯＣＩのジオキサン３０ｍ１２溶液にアニリン０．３
１戒を加え９０〜１００℃で５時間放置した。ここにざ
らに０．１５１１ｔｆ２のアニリンを加え２時間反応を
続けた。溶媒を留去後残渣を水洗し、不溶物を更改した
。これをシリカゲルカラムを用い、クロロホルム〜２％
メタノーメルークロロホルムで溶出して目的化合物０．
２６にＪ　（３７％）を得た。これは実施例１０で得た
ものと融点、ＮＭＲスペクトルが一致した。

実施例８１ ６−ペンゾイルオキシー３−シアノ−２−ヒドロキシピ
リジンの製造 ３−シアノ−２，６−シヒドロキシピリジン１．００Ｃ
ＩのＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド４０ｍＱ溶液にトリ
エチルアミン０．５１ｍＱ及び塩化ベンゾイル０．４３
ｍＧを加え空温下１５分間撹拌した。更に反応溶液にト
リエチルアミン０．５１ｍＱ及び塩化ベンゾイル０．４
３ｍＱを加え空温下１５分間撹拌した。反応溶液をｔ濾
過し、炉液を減圧濃縮し、残渣をクロロホルム及び水で
洗浄して、目的化合物１．０６ｇ（６０％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　）δ １２．７６　（Ｉ　Ｈ，ｂｓ、ＯＨ又はＮＨ）８．３３
　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣ４Ｈ） ６．９５　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣｓ
　　　Ｈ） 実施例８２〜８６ 実施例８１と同様にして以下の化合物を得た。

実施例８２ ３−シアノ−６−（２，４−ジクロロベンゾイルオキシ
）−２−ヒドロキシピリジンＮＭＲ（（ＣＤ３　）２　
Ｃｏ）δ ８．２９　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン１（１）
Ｃ，−Ｈ） ８．１７　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、 ７．７４　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ、 ７．６１　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝８ＨｚＳＪ＝２Ｈｚ、Ｃ
ｓ　　　Ｈ） 実施例８３ ３−シアノ−６−（２−フロイルオキシ）−２−ヒドロ
キシピリジン ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ ８．３２　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣ
ｔ　　Ｈ） ８．１４　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１Ｈｚ、Ｊ＝２Ｈｚ、７
．６３　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１ｔ−１ｚ、Ｊ＝４Ｈｚ、
６．９５　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣｓ
　　　Ｈ） ６．８２　（１Ｈ，ｄｄ−１Ｊ＝２Ｈｚ、Ｊ＝４Ｈｚ、
実施例８４ ３−シアノ−６−（３，４，５−トリメトキシベンゾイ
ルオキシ）−２−ヒドロキシピリジン ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ　ｓ　　）δ ８．３２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣ，
−Ｈ＞ ６．９３　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣｓ
　　　Ｈ） 実施例８５ ３−シアノ−６−（２−テノイルオキシ）−２−ヒドロ
キシピリジンの製造 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　ｓ　）δ ８．３２　（ＩＨ，ｄＸＪ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣａ
　−Ｈ＞ ８．１５　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１Ｈｚ、Ｊ＝５Ｈｚ、８
．０６　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１ＨｚＳＪ＝４Ｈｚ。

７．３３　（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝４Ｈｚ、Ｊ＝５Ｈｚ、６
．９６　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣｓ　
　　Ｈ） 実施例８６ °３−クロロ−６−（４−フルオロベンゾイルオキシ）
−２−ヒドロキシピリジンの製造ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−６
６）δ １２．２７　（１１−１１ｂｓ、ＯＨ又はＮＨ＞７．９
６　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環の０４　　Ｈ
） ６．７９　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣｓ
　　　Ｈ） 実施例８７ ４−（２−テノイルオキシ）−２−ピリドンの製造 ４−ヒドロキシ−２−ピリドン２．０ＯＣＩと２−テノ
イルクロライド３．１７Ｃ１を用い、実施例１８と同様
にして目的化合物２．９８ＣＩ　（収率７５％）を得た
。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ−ｄ　ｓ　）δ：１１．６
９　（ＩＨ，ｂｓ、Ｎ−Ｈ，Ｄ２０添加により消失） ８．１４−７．９９　（２Ｈ，ｍ、チオフェン環の０３
．５　　Ｈ） ７．４８　（コ）−１，ｄ、Ｊ＝８）−ＩＺ、ピリジン
環のＣｓ　　Ｈ） ７．３５−７．２６　（ＩＨ，ｍ、チオフェン環の０４
　　Ｈ） ６．２６−６．１７　（２Ｈ，ｍ、ピリジン環のＣ３，
５Ｈ） 実施例８８ ６−ペンゾイルオキシー３−クロロ−２−ヒドロキシピ
リジンの製造 ３−クロロ−２，６−シヒドロキシピリジン３．７４Ｃ
Ｉのピリジン１００ｍＱ溶液に無水安息香酸５．８１Ｃ
］を加え空温下１．５時間撹拌した。

反応溶液を減圧濃縮し、残渣をエーテルで洗浄し、アセ
トンから再結晶し、目的化合物３．０７ｃ＋（収率４８
％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ　）δ： １２．２５　（１Ｈ，ｂｓｌｏＨ又はＮＨ）６．８０　
（１）（１ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ１ピリジン環のＣｓ　　Ｈ） 実施例８９ ４−アセトキシ−２−ベンゾイルオキシピリジンの製造 ４−アセトキシ−２−ピリドン０．７７ＣＩをジオキサ
ン３０ｍ１２に懸濁し、これにトリエチルアミン２．０
９ｍＱと塩化ベンゾイル０．５８ｍ１２を加え空温下２
．５時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、残）査をシ
リカゲルカラムクロマドグラフイーにかけクロロホルム
で溶出し、目的化合物０．９５Ｃ］　（収率７３％）を
得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ： ８．４２（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、ピリジン環のＣｓ　
　Ｈ） ７．２５−７．０６　（２Ｈ，ｍ、ピリジン環の０３　
、　ｓ　−Ｈ） ２．２９　（３Ｈ，Ｓ、ＣＯＣＨ３） 実施例９０ ６−ペンゾイルオキシー２−（４−ブロモベンゾイルオ
キシ）−３−シアノピリジンの製造 ６−ペンゾイルオキシー３−シアノ−２−ヒドロキシピ
リジン２．ＯＯＱのジオキサン５０ｍｆ２を８液に、ト
リエチルアミン３．４６ｍＱと塩化４−プロモベンゾイ
ルコ、８２ｑを加え室温下１時間撹拌した。生成した塩
をン戸去し、１戸液を濃縮した。

残）告をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけク
ロロホルムで溶出し、目的化合物２．９７ＣＩ（収率８
４％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： ８．８０　（１Ｈ，ｄ１Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環の０４
　Ｈ＞ 実施例９１ ６−ペンゾイルオキシー２−（４−クロロベンゾイルオ
キシ）−３−シアノピリジンの製造 ６−ペンゾイルオキシー３−シアノ−２−ヒドロキシピ
リジン１．ＯＯＣ］と塩化４−クロロベンゾイル０．７
２ＣＩを用い、実施例９０と同様にして目的化合物１．
２９ｇ（収率８２％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　）δ： ８．８２　（コｌ−１．ｄ、Ｊ＝８日ｚ１ピリジン環の
Ｃｔ　　Ｈ） 実施例９２ ３−シアノ−２，６−ジベンシイルオキシピリジンの製
造 ６−ペンゾイルオキシー３−シアノ−２−ヒドロキシピ
リジン１．ＯＯＱと塩化ベンゾイル０．５８ＣＩを用い
、実施例９０と同様にして目的化合物１．１５０（収率
８０％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： ８．８１　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピ１，１シン１ｍ
（７）Ｃｔ　　Ｈ） ８．２４−８．１１　（４Ｈ，ｍ。

実施例９３ ６−（２−りＯロペンゾイルオキシ）−３−シアノ−２
−ヒドロキシピリジンの製造３−シアノ−２，６−シヒ
ドロキシピリジン２゜００９と２−りＯロペンゾイルク
ロライド２．５７０を用い、実施例８１と同様にして目
的化合物２．２１ＣＩ（収率５５％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： ８．３５　（１Ｈ，ｄ１Ｊ＝８Ｈｚ１ピリジン環のＣａ
　　　Ｈ） ８．１０　（１！−１，ｄｄ、Ｊ＝７ｔ−１ｚ、Ｊ＝１
ｔ−１ｚ。

Ｃ５−Ｈ） 実施例９４ ３−シアノ−６−（３−メチルベンゾイルオキシ）−２
−ヒドロキシピリジンの製造３シアノ−２，６−シヒド
ロキシピリジン２．０ＯＣＩと３−メチルベンゾイルク
ロライド２．２７０を用い、実施例８１と同様にして目
的化合物２．１６１収率５８％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： ８．３３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピｌＪシンｔｍ（
７）Ｃ４−Ｈ） ６．９４　（１Ｈ，ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、ピリジン環のＯｓ
　　　Ｈ＞ 実施例９５ ６−　（２，４−ジクロロベンゾイルオキシ）−２−ヒ
ドロキシピリジンの製造 ２．６−シヒドロキシピリジン塩酸塩３．００９と２，
４−ジクロロベンゾイルクロライド４．２６Ｃ１を用い
、実施例８１と同様にして目的化合物４．４９Ｃｌ　（
収率７８％）を得た。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： ８．１０　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、 Ｃ９ とピリジン環のＣａ　　Ｈ） ６．７８　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣｓ
　　Ｈ） ６．６４　（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ピリジン環のＣ３
Ｈ） 実施例９６ ２．６−ジじドロキシ−３−クロロピリジンの製造 四塩化炭素３０ｍＱに、２，６−ジペンジルオキシピリ
ジン１．４６ＣＩと炭とカリウム１．４５Ｃ］を加え、
更に塩化スルフリル０．４ｍＱの四塩化炭素１０ｍ１２
溶液を室温下２時間かけて滴下した。１時間撹拌後反応
液をン濾過し、１戸液を濃縮した。

残渣をシワカゲルカラムクロマトグラフイーにかけｎ−
ヘキサン−ベンゼン（７：１）混液で溶出し、無色のオ
イル１．２ＣＩ（収率７４％）を得た。

元素分析値 計算値（％）　：　Ｃ７０，０５：　Ｈ４，９５：　Ｎ
　４．３０実測値（％）　：　Ｃ７０，０２；　Ｈ４，
８２：　Ｎ　４．２５次いで得られた２、６−ジペンジ
ルオキシー３−クロロピリジン６．５ｇをエタノール１
３０ｍＱに溶解し、５％パラジウム炭素４２９ｍｃ＋を
加え、常圧にて接触還元した。反応液を）濾過し、１戸
液を濃縮して赤色結晶を得、これをメタノール−酢酸エ
チルから再結晶して、淡緑色綾状晶の目的化合物４１０
ｍｃ＋（収率１４％）を得た。融点３００’Ｃ以上（分
解＞（２２０’Ｃ以上で変色、２５０’Ｃ以上で黒化） 薬理試験例工 ＩＣＲ系マウスに腹水として継代したザルコー？　（３
ａｒｃｏｍａ＞−１８０を、生理食塩水で希釈して１匹
当り２Ｘ１０７となる量を２グループの同系マウスの背
部皮下に移植し実験に供した。

（即ち、一方のグループには薬剤を投与し、他方のグル
ープ（コントロール）には薬剤を投与しない。）腫瘍移
植２４時間後より１日１回、７日間、５％アラビアゴム
で懸濁させた薬剤を連日経口投与した。

腫瘍移植１０日回転背部皮下の固型病を摘出し、癌重量
を測定し、薬剤投与群の腫瘍重量（Ｔ）と薬剤未投与の
対照群の腫瘍重量（Ｃ）との比（Ｔ／Ｃ）を求め、薬剤
投与量と該比（Ｔ／Ｃ）の用量−反応曲線よりＴ／Ｃが
０．５となる５０％癌抑制用量（ＥＤ５０値）を求めた
。

供試薬剤として各種抗腫瘍剤を単独で用いた場合及び各
種抗腫瘍剤と本発明の抗腫瘍活性増強上合物とを１：１
（モル比）で併用した場合の結果を第１表に示す。比較
例として、抗腫瘍剤と２゜４−ジヒドロピリジン（２，
４−ＤＨＰ＞とを１：１（モル比）で併用した場合の結
果を第２表に示す。尚抗腫瘍剤及び本発明抗腫瘍活性増
強化合物は、夫々以下の略号又は記号にて、第１表及び
第２表に示す。

〈抗腫瘍剤〉 ５−ＦＵ・・・５−フルオロウラシル ＦＴ−２０７・・・１−（２−テトラヒドロフリル）−
５−フルオロウラシル ＨＣＦＵ・・・１−ｎ−へキシルカルバモイル−５−フ
ルオロウリジン ５’　ＤＦＵＲ・・・５′−デオキシ−５−フルオロウ
リジン ＦＵｄＲ・・・２′−デオキシ−５−フルオロウリジン ＯＦＵ・・・１−エトキシメチル−５−フルオロウラシ
ル ＴＫ−１１７・・・２′−デオキシ−５−フルオロ−３
−（３，４−メチレンジオキシベンゾイル）ウリジン ＦＵＲ・・・５−フルオロウリジン ＦＦ−７０７・・・２′−デオキシ−５−フルオロー３
’　、５’−ビス−０−（４−メトキシフェノキシカル
ボニル ゾイル）ウリジン Ａｎｔｉ　−Ｔ　−　１　・＝２’　−デオキシ−３′
−〇ーペンシルー５ーフルオロウリジン Ａｎｔｉ　−Ｔ−２・＝５’ー０ーアセチルー３′−〇
−ベンジル−２７−ジオキシ−５−フルオロウリジン Ａｎｔｉ　−Ｔ−３−２”−デオキシ−３′−〇ーベン
ジルー３ーベンゾイルー５−フルオロウリジン Ａｎｔｉ　−　Ｔ−４−２’−デオキシ−３’−０−（
４−クロロベンジル）−５−フルオロウリジン く本発明抗腫瘍活性増強化合物〉 化合物１：２．４−ジヒドロキシ−５−クロロピリジン 化合物２：２．６−シヒドロキシー３−クロロピリジン 化合物３：２．４−ジヒドロキシ−５−ブロモピリジン 化合物４：２，４−ジ亡ドロキシー５ーメチルピリジン 化合物５：２．６ージじドロキシ−３−シアノピリジン 化合物６：２，６−シヒドロキシー３−二トロピリジン 化合物７：２．６−シヒドロキシピリジン化合物８：２
．４−ジヒドロキシ−５−カルボキシピリジン 化合物９：２，４−ジヒドロキシ−５−エトキシカルボ
ニルピリジン 化合物１０：２．４−ジヒドロキシ−３，５−ジク　ロ
ロピリジン 化合物１１：２，４−ジヒドロキシ−３，５−ジブロモ
ピリジン 化合物１２：２，４−ジヒドロキシ−３−クロロピリジ
ン 化合物１３：２．４−ジヒドロキシ−３−ブロモピリジ
ン 化合物１４：２．４−ジヒドロキシ−３−メチルピリジ
ン 化合物１５：２．４−ジヒドロキシ−３−アミノピリジ
ン 化合物１６：２．６−シヒドロキシー３−カルバモイル
ピリジン 化合物１７：２．４．６−トリヒドロキシピリジン 化合物１８：５−クロｏ−４−オクタデカノイルオキシ
−２−ピリドン 化合物１９：２．４−ジベンゾイルオキシピリジン 化合物２０：６−ペンゾイルオキシ−２−ピリドン 化合物２１：２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−４−
ヒドロキシピリジン 化合物２２：５−クロロ−４−（２−メチルベンゾイル
オキシ〉−２−ピリドン 化合物２３：４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２−
ピリドン 化合物２４：２．４−ビス（４−エトキシベンゾイルオ
キシ）ピリジン 化合物２５：５−クロロ−１，２−ジヒドロ−４−ヒド
ロキシ−２−オキソ−１−（２−テトラヒドロフラニル
）ピリジン 化合物２６：５−クロロ−１，２−ジヒドロ−４−ヒド
ロキシ−２−オキソ−１−メトキシメチルピリジン 化合物２７：１．２−ジヒドロ−４−ヒドロキシ−２−
オキンー１−（２−テトラヒドロフラニル）ピリジン 化合物２８：６−ペンゾイルオキシ−３−シアン−２−
ヒドロキシピリジン 化合物２９：３−シアノ−６−（３，４，５−トリメト
キシベンゾイル）−２−ヒドロキシピリジン 化合物３０：３−シアノ−６−（２−フロイルオキシ）
−２−ヒドロキシピリジン 化合物３１：３−シアノ−６−（３，４−ジクロロベン
ゾイルオキシ）−２−ヒドロキシピリジン 化合物３２：６−ペンゾイルオキシ−２−（４−ブロモ
ベンゾイルオキシ）−３−シアノピリジン 第　　　１　　　表 以上の結果より、本発明化合物を抗腫瘍剤と併用すると
、抗腫瘍剤の抗腫瘍活性を著しく増強させ得ることがわ
かる。

薬理試験例■（急性毒性） ３′−〇−ベンジルー２′−デオキシー５−フルオロウ
リジン及び３′−〇−ベンジルー５′−〇−アセチル−
２′−デオキシ−５−フルオロウリジンを、各々５週齢
のＩＣＲ雄性マウス（１群８例）に経口投与し、一般症
状、体重の推移及び生死の有無を投与１４日間に亘り観
察した゛。また死亡率からりツチフイールドーウイルコ
ツクソン（Ｌ　ｉｔｃＭｉｅｌｄ　−Ｗｉｌｃｏｘｏｎ
　）法に従い、ＬＤ５Ｑ値を求めた。結果を下記第３表
に示す。

薬理試験例■（急性毒性） ２．６−シヒドロキシー３−シアノピリジンを、５週齢
のＩＣＲ雄性マウス（１群８例）に静脈内投与し、一般
症状、体重の推移及び生死の有無を投与１４日間に亘り
観察した。また死亡率からリッチフィールドーウイルコ
ツクラン法に従い、ＬＤ５Ｑ値を求めた。ＬＤ５０値は
３１５ｍＭｋｇであった。

製剤例１ ２．６−シヒドロキシー３−クロ ロピリジン　　　　　　　　　　　　　２０ｍｇ２′−
デオキシ−３′−〇−・ベン ジル−５′−〇−アセチルー５− フルオロウリジン　　　　　　　　　　５０＋ｎｃ＋乳
　　　糖　　　　　　　　　　　　　　　　　　１１０
ｍｇ結晶セルロース　　　　　　　　　　　６７ｍｇス
テアリン酸マグネシウム　　　　　　　３＋ｎｃ＋上記
組成で１カプセル当り２５０ｍａのカプセル剤を調製し
た。

製剤例２ ２．６−ジヒドロキシ−３−クロ ロピリジン　　　　　　　　　　　　　１０ｍＣＩ２′
−デオキシー３′−〇−ベン ジル−５−フルオロウリジン　　　　　２０ＩＴ１ｇ乳
　　　糖　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０７
ｍｇ結晶セルロース　　　　　　　　　　　６０ｍＣｌ
ステアリン酸マグネシウム　　　　　　　３ｍＱ上記組
成で１カプセル当り２００ｍｇのカプセル剤を調製した
。

゛製剤例３ ２．６−シヒドロキシー３−クロ Ｏピリジン　　　　　　　　　　　　１０ｍ。

５−フルオロウリジン　　　　　　　　’＋ｏｍａ乳　
　　糖　　　　　　　　　　　　　　　　　　１８０ｍ
（］コーンスターチ　　　　　　　　　　２９０ｍＧヒ
ドロキシプロピルメチルセルロ ース　　　　　　　　　　　　　　　　１０ｍｇ上記組
成で１包当り５００１１ＩＣＩの顆粒剤を調製した。

製剤例４ ２．６−シヒドロキシー３−クロ ロピリジン　　　　　　　　　　　　　２０＋ｎｃ＋２
′−デオキシ−３′−〇−ベン ジル−５′−〇−アセチルー５− フルオロウリジン　　　　　　　　　　　１０ｍ（Ｊマ
クロゴール３００　　　　　　　　５００ｍ（１注射用
蒸留水　　　　　　　　　　　　適　量゛上記組成で１
アンプル当り５ｍＧの注射用剤を調製した。

製剤例５ ２．６−シヒドロキシー３−クロ ロピリジン　　　　　　　　　　　　　ｌ０ＣＩ５−フ
ルオロウラシル　　　　　　　　１０ｇ乳　　　糖　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０ｇコーンス
ターチ　　　　　　　　　　　２４Ｑ結晶セルロース　
　　　　　　　　　　２５ＣＩメチルセルロース　　　
　　　　　　１．５ｇステアリン酸マグネシウム　　　
　　　　１Ｑ２．６−シヒドロキシー３−クロロピリジ
ン、５−フルオロウラシル、乳糖、コーンスターチ及び
結晶セルロースを十分混合し、メチルセルロースの５％
水溶液で顆粒化し、２００メツシユの篩に通して注意深
く乾燥した。乾燥した顆粒を２００メツシユの篩に通し
てステアリン酸マグネシウムと混合して錠剤にプレスし
、経口使用のための錠剤１０００錠を得た。

（以　上）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） 〔式中Ｒ＾１は水酸基又はアシルオキシ基を示す。 Ｒ＾２及びＲ＾３は夫々水素原子、ハロゲン原子、アミ
   ノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、シアノ基、ニ
   トロ基、低級アルキル基、低級アルケニル基又は低級ア
   ルコキシカルボニル基を示す。Ｒ＾３及びＲ＾５は夫々
   水素原子、水酸基又はアシルオキシ基を示す。またＲ＾
   １、Ｒ＾３及びＲ＾５のうち少なくとも１つが水酸基の
   場合には、ケト・エノール互変異性によりピリジン環の
   １位は▲数式、化学式、表等があります▼の構造を取る
   ことができ、該水素原子は低級アルキル基、テトラヒド
   ロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、低級アルコキ
   シ低級アルキル基、フタリジル基、カルバモイル基、低
   級アルコキシカルボニル低級アルキルカルバモイル基、
   フェニル低級アルコキシ低級アルキル基、フェニル環上
   に置換基を有することのあるフェニルカルバモイル基、
   低級アルキルカルバモイル基、カルボキシル低級アルキ
   ルカルバモイル基、低級アルキルチオ低級アルキル基及
   び低級アルケニル基からなる群から選ばれた置換基で置
   換されていてもよい。但し一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中αは水素原子、低級アルキル基、テトラヒドロフ
   ラニル基、テトラヒドロピラニル基、低級アルコキシ低
   級アルキル基、低級アルキルカルバモイル基、低級アル
   キルチオ低級アルキル基又は低級アルケニル基を示す。 ） で表わされる化合物を除く。〕 で表わされるピリジン誘導体を含有し、５−フルオロウ
   ラシル及び生体内で５−フルオロウラシル生成能を有す
   る化合物から選ばれた抗腫瘍化合物の抗腫瘍活性増強剤
   。