JPH01199992A - ２′−デオキシ−５−フルオロウリジン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規な２′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ン誘導体及びその塩に関する。

従来の技術及びその問題点 １９８６年５月１４日公開の欧州特許出願公開第０１８
０８９７号、１９８７年１２月２日公開の欧州特許出願
公開第２４７３８１号及び１９８８年１月２７日公開の
英国特許出願公開第２１９２８８０号には、成る種の２
′−デオキシ−５−フルオロウリジン化合物が開示され
ている。これら化合物は、優れた制癌作用を有するもの
である。

しかし、それらは水溶性、吸収性、持続性、安定性、毒
性等のいずれかの特性において、必ずしも高度に満足し
得るとは言えない場合がある。

問題点を解決するための手段 本発明者らは、２′−デオキシ−５−フルオロウリジン
の抗腫瘍効果向上及び低毒性化を企てＳべく鋭意検討を
重ねてきた結果、該２′−デオキシー５−フルオロウリ
ジンの３′位及び５′位の一方を特定の置換基を有する
ことのあるフラニル低級アルキル基若しくはチエニル低
級アルキル基で置換し、他方を特定の置換基を有するカ
ルボニル基で置換した新規な化合物の合成に成功すると
共に、該化合物が上記目的に合致する優れた制癌作用を
発揮すると共に、水への溶解性が高く、吸収性がよく、
持続性に優れ、安定性が良好で、治療係数も高く、しか
も低毒性であり、之等のことから抗腫瘍剤として極めて
有用であることを見出した。

本発明は、一般式 ［式中Ｒ１及びＲ２は一方がフラン環又はチオフェン環
上に置換基としてカルボキシル基、／’％ロゲン原子及
び低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有す
ることのあるフラニル低級アルキル基又はチエニル低級
アルキル基を示し、他方は置換基として基−Ｎ　ＣＲ４
（Ｒ３及びＲ４は夫々水素原子、低級アルキル基、低級
アルコキシカルボニル基又はフェニル低級アルコキシカ
ルボニル基を示す。）、カルボキシル基、低級アルキル
チオ基、フェニル環上に置換基として水酸基又はフェニ
ル低級アルコキシ基を有するフェニル基、及びフェニル
低級アルコキシカルボニル基なる群から選ばれた基を１
〜２個有する低級アルカノイル基、又は低級アルコキシ
カルボニル基を有することのあるピロリジニルカルボニ
ル基を示す。コ で表わされる２′−デオキシ−５−フルオロウリジン誘
導体又はその塩に係る。

また、本発明は、上記一般式（１）の化合物の有効量と
薬学的に許容される担体とを含有する制癌剤を提供する
ものである。

本明細書において示される各基は、より具体的にはそれ
ぞれ次の通りである。

ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子
、沃素原子を例示できる。

低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペン
チル、ヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基を例示
できる。

フラン環又はチオフェン環上に置換基としてカルボキシ
ル基、ハロゲン原子及び低級アルキル基なる群から選ば
れた基を１〜３個有することのあるフラニル低級アルキ
ル基又はチエニル低級アルキル基としては、例えば２−
フラニルメチル、３−フラニルメチル、２−（２−フラ
ニル）エチル、２−（３−フラニル）エチル、３−（２
−フラニル）プロピル、１−メチル−２−（２−フラニ
ル）エチル、４−（２−フラニル）ブチル、５−（２−
フラニル）ペンチル、６−　（２−フラニル）へキシル
、２−チエニルメチル、３−チエニルメチル、２−（２
−チエニル）エチル、３−（２−チエニル）プロピル、
１−メチル−２−（２−チエニル）プロピル、４−（２
−チエニル）ブチル、１．１−ジメチル−２−（２−チ
エニル）エチル、５−（２−チエニル）ペンチル、６−
（２−チエニル）ヘキシル、３−　（３−チエニル）プ
ロピル、６−（３−チエニル）ヘキシル、（５−クロロ
−２−フラニル）メチル、（４−クロロ−２−フラニル
）メチル、（３−クロロ−２−フラニル）メチル、（４
，５−ジクロロ−２−フラニル）メチル、（３，５−ジ
クロロ−２−フラニル）メチル、（３，４，５−トリク
ロロ−２−フラニル）メチル、（５−ブロモ−２−フラ
ニル）メチル、（４−ブロモ−２−フラニル）メチル、
（３−ブロモ−２−フラニル）メチル、（４，５−ジブ
ロモ−２−フラニル）メチル、（２，５−ジブロモ−３
＝フラニル）メチル、（３，４，５−トリブロモ−２−
フラニル）メチル、（５−フルオロ−２−フラニル）メ
チル、（３−フルオロ−２−フラニル）メチル、（４，
５−ジフルオロ−２−フラニル）メチル、（４−ヨード
−２−フラニル）メチル、（５−ヨード−３−フラニル
）メチル、（３゜４．５４リョードー２−フラニル）メ
チル、２−（４−クロロ−２−フラニル）エチル、３−
（３−ブロモ−２−フラニル）プロピル、１−メチル−
２−（３−フルオロ−２−フラニル）プロピル、５−（
４，５−ジクロロ−２−フラニル）ペンチル、６−　（
５−クロロ−３−フラニル）ヘキシル、（５−メチル−
２−フラニル）メチル、（４−エチル−２−フラニル）
メチル、（３−プロピル−２−フラニル）メチル、（２
−ブチル−３−フラニル）メチル、（５−ｔ−ブチル−
２−フラニル）メチル、（４−ペンチル−２−フラニル
）メチル、（５−へキシル−３−フラニル）メチル、（
３，５−ジメチル−２−フラニル）メチル、（３，４，
５−１リメチル−２−フラニル）メチル、２−　（５−
メチル−２−フラニル）エチル、３−　（３−エチル−
２−フラニル）プロピル、１．１−ジメチル−２−（４
，５−ジメチル−２−フラニル）エチル、４−（４−エ
チル−２−フラニル）ブチル、５−　（５−プロピル−
２−フラニル）ペンチル、６−　（５−メ、チルー３−
フラニル）ヘキシル、（５−カルボキシ−２−フラニル
）メチル、（５−カルボキシ−３−フラニル）メチル、
（５−クロロ−２−チエニル）メチル、（４−クロロ−
２−チエニル）メチル、（３−クロロ−２−チエニル）
メチル、（４，５−ジクロロ−２−チエニル）メチル、
（３，４−ジクロロ−２−チエニル）メチル、（３，４
，５−１リクロロー２−チエニル）メチル、（５−ブロ
モ−２−チエニル）メチル、（４−ブロモ−２−チエニ
ル）メチル、（３−ブロモ−２−チエニル）メチル、（
３，５−ジブロモ−２−チエニル）メチル、（４，５−
ジブロモ−２−チエニル）メチル、（３，４，５−）ジ
ブロモ−２−チエニル）メチル、（５−フルオロ−３−
チエニル）メチル、（４−フルオロ−２−チエニル）メ
チル、（３゜５−ジフルオロ−２−チエニル）メチル、
（５−ヨード−３−チエニル）メチル、（３−ヨード−
２−チエニル）メチル、２−　（４，５−ショート−２
−チエニル）エチル、３−（３−ブロモ−２−チエニル
）プロピル、１，１−ジメチル−２−（４−クロロ−２
−チエニル）エチル、４−（５−クロロ−３−チエニル
）ブチル、５−　（４，５−ジブロモ−２−チエニル）
ペンチル、６−　（５−ブロモ−２−チエニル）ヘキシ
ル、（５−メチル−２−チエニル）メチル、（４−エチ
ル−２−チエニル）メチル、（５−プロピル−２−チエ
ニル）メチル、（３−ブチル−２−チエニル）メチル、
（５−ｔ−ブチル−２−チエニル）メチル、（４−ペン
チル−２−チエニル）メチル、（５−ヘキシル−３−チ
エニル）メチル、（３，５−ジメチル−２−チエニル）
メチル、（４，５−ジエチル−２−チエニル）メチル、
（３，４，５−トリメチル−２−チエニル）メチル、２
−（５−エチル−２−チエニル）エチル、３−（３−メ
チル−２−チエニル）プロピル、１．１−ジメチル−２
−（３−エチル−２−チエニル）エチル、４−（３，５
−ジメチル−２−チエニル）ブチル、５−（５−エチル
−２−チエニル）ペンチル、６−（５−メチル−３−チ
エニル）ヘキシル、（５−カルボキシ−２−チエニル）
メチル、（５−カルボキシ−３−チエニル）メチル基等
のフラン環若しくはチオフェン環上に置換基としてカル
ボキシル基、ハロゲン原子及び炭素数１〜６のアルキル
基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのある、
アルキル部分の炭素数が１〜６であるフラニルアルキル
基若しくはアルキル部分の炭素数が１〜６であるチエニ
ルアルキル基を例示できる。

低級アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
シカルボニル基等のアルコキシ部分の炭素数が１〜６で
あるアルコキシカルボニル基を例示できる。

フェニル低級アルコキシカルボニル基としては、例えば
ベンジルオキシカルボニル、２−フェニルエトキシカル
ボニル、３−フェニルプロポキシカルボニル、１．１−
ジメチル−２−フェニルエトキシカルボニル、４−フェ
ニルブトキシカルボニル、２−フェニルペンチルオキシ
カルボニル、６−フェニルへキシルオキシカルボニル基
等のアルコキシ部分の炭素数が１〜６であるフェニルア
ルコキシカルボニル基を例示できる。

低級アルキルチオ基としては、例えばメチルチオ、エチ
ルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ
、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ
基等の炭素数１〜６のアルキルチオ基を例示できる。

フェニル環上に置換基として水酸基又はフェニル低級ア
ルコキシ基を有するフェニル基としては、例えば２−ヒ
ドロキシフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−ヒド
ロキシフェニル、２−ベンジルオキシフェニル、３−ベ
ンジルオキシフェニル、４−ベンジルオキシフェニル、
２−　（２−フェニルエトキシ）フェニル、３−　（３
−フェニルプロポキシ）フェニル、４−（１，１−ジメ
チル−２−フェニルエトキシ）フェニル、２−　（４−
フェニルブトキシ）フェニル、３−　（５−フェニルペ
ンチルオキシ）フェニル、４−　（６−フエニルヘキジ
ルオキシ）フェニル、４−（２−メチル−３−フェニル
ブトキシ）フェニル基などのフェニル環上に置換基とし
て水酸基又はアルコキシ部分の炭素数が１〜６であるフ
ェニルアルコキシ基を有するフェニル基を例示できる。

低級アルカノイル基としては、例えばホルミル、アセチ
ル、プロパノイル、ブタノイル、２−メチルプロパノイ
ル、ペンタノイル、３−メチルペンタノイル、ヘキサノ
イル基等の炭素数１〜６のアルカノイル基を例示できる
。

低級アルコキシカルボニル基を有することのあるピロリ
ジニルカルボニル基としては、例えば１−ピロリジニル
カルボニル、２−ピロリジニルカルボニル、３−ピロリ
ジニルカルボニル、（１−メトキシカルボニル−２−ピ
ロリジニル）カルボニル、（１−エトキシカルボニル−
３−ピロリジニル）カルボニル、（１−イソプロポキシ
カルボニル−２−ピロリジニル）カルボニル、（２−ｎ
−ブトキシカルボニル−３−ピロリジニル）カルボニル
、（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−ピロリジ
ニル）カルボニル、（３−ペンチルオキシカルボニル−
２−ピロリジニル）カルボニル、（１−へキシルオキシ
カルボニル−２−ピロリジニル）カルボニル、（３−メ
トキシカルボニル−１−ピロリジニル）カルボニル基等
のアルコキシ部分の炭素数が１〜６であるアルコキシカ
ルボニル基を有することのあるピロリジニルカルボニル
基を例示できる。

低級アルキレン基としては、例えば・メチレン、エチレ
ン、トリメチレン、１−メチルエチレン、テトラメチレ
ン、２−メチルトリメチレン、ペンタメチレン、ヘキサ
メチレン等の炭素数１〜６のアルキレン基を例示できる
。

本発明の好ましい化合物は、一般式（１）において、Ｒ
１及びＲ２の一方、特にＲ１が、チオフェン環上に置換
基としてカルボキシル基、ハロゲン原子及び低級アルキ
ル基なる群から選ばれた基を１〜３個有することのある
チエニル低級アルキル基、特にチオフェン環上にハロゲ
ン原子を１〜３個有するチエニル低級アルキル基を示す
化合物であり、この場合、Ｒ２は、（ａ）置換基として
級アルキル基を示す。）を１〜２個有する低級アルカノ
イル基又はピロリジニルカルボニル基、特に−ＮＨ２基
を１個有する低級アルカノイル基を示すか、或は（ｂ）
１又は２個のカルボキシル基を有する低級アルカノイル
基であるのが好ましい。

他の好ましい化合物は、一般式（１）において、Ｒ１が
フラン環上に置換基としてカルボキシル基、ハロゲン原
子及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個
有することのあるフラニル低級アルキル基、特にフラン
環上にハロゲン原子を１〜３個有するフラニル低級アル
キル基である化合物であり、この場合、Ｒ２は−ＮＨ２
基を１個有する低級アルカノイル基であるのが好ましい
。

上記一般式（１）で表わされる本発明化合物は、下記反
応工程式１又は２に示す方法により製造することができ
る。

〈反応工程式−１〉 ［式中Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。Ｒｌａ及びＲ２ａは
一方が水素原子を示し、他方がフラン環若しくはチオフ
ェン環上に置換基としてカルボキシル基、ハロゲン原子
及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有
することのあるフラニル低級アルキル基若しくはチエニ
ル低級アルキル基を示す。］ 本反応によれば、一般式（２）の化合物（化合物（２）
という、以下同様とする）の遊離水酸基をアシル化する
ことにより、本発明の化合物（１）が得られる。このア
シル化反応にて導入されるアびＲ４は夫々水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基又はフェニ
ル低級アルコキシカルボニル基を示す。）、カルボキシ
ル基、低級アルキルチオ基、フェニル環上に置換基とし
て水酸基又はフェニル低級アルコキシ基を有するフェニ
ル基及びフェニル低級アルコキシカルボニル基なる群か
ら選ばれた基を１〜２個有する低級アルカノイル基、又
は低級アルコキシカルボニル基を有することのあるピロ
リジニルカルボニル基により定義される。このアシル化
反応には、通常のアシル化反応方法、例えば酸無水物法
、混合酸無水物法、Ｎ、、Ｎ’　−ジシクロへキシルカ
ルボジイミド法（ＤＣＣ法）、酸ハライド法等のいずれ
をも適用することができる。

（Ａ）酸無水物法は、化合物（２）を適当な溶媒中、酸
無水物と共に反応させることにより実施される。酸無水
物としては、導入すべきアシル基に対応する酸の無水物
を使用する。該アシル基がカルボキシル基を有する低級
アルカノイル級アルキレン基）で示される分子内酸無水
物を使用するのが好ましい。

酸無水物は化合物（２）に対して少なくとも等モル量、
好ましくは１〜４倍モル量程度用いるのがよい。溶媒と
しては各種の不活性溶媒、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジオキサン
、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセ
トニトリ゛／、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ピリジン等を使用でき、無水であ
ることが好ましい。反応温度は通常Ｏ〜１００℃程度、
好ましくは室温〜６０℃程度とされ、約２０分〜３時間
程度で反応は終了する。また上記反応は塩基性化合物の
存在下に肴利に行なわれる。該塩基性化合物としては、
例えばピリジン、トリエチルアミン１．Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアニリン等の第三級アミン類等の有機塩基性化合物や
、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム
、水酸化カリウム等の無機塩基性化合物を例示できる。

（Ｂ）混合酸無水物法は、反応温度を通常−３０℃〜６
０°Ｃ程度、好ましくは一り５℃〜０℃程度とする他は
、前記酸無水物法と同様の反応条件で行なうことができ
る。混合酸無水物としては、例えば導入すべきアシル基
に対応するカルボン酸化合物と他の酸ハライド化合物、
例えば好ましくはインブチルオキシカルボニルハライド
、エトキシカルボニルハライド等の低級アルコキシカル
ボニルハライド類や２，４．６−ドリイソプロビルベン
ゼンスルホニルハライド等、との反応により得られる化
合物を使用できる。

（Ｃ）ＤＣＣ法は、化合物（２）と導入すべきアシル基
に対応する酸化合物を脱水剤の存在下に適当な溶媒中で
反応させることにより実施される。酸化合物は化合物（
２）に対して少なくとも等モル量、好ましくは１〜４倍
モル量程度用いるのがよい。溶媒としては、各種の不活
性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、酢酸
エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
等を使用でき、無水であることが好ましい。反応温度は
Ｏ℃〜室温程度とされ、約２０分〜３０時間程度で反応
は終了する。上記において脱水剤としては例えばジシク
ロへキシルカルボジイミド、１−エチル−５−（３−ジ
メチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−シクロへ
キシル−５−（２−モルホリノエチル）カルボジイミド
等を使用できる。

（Ｄ）酸ハライド法は、化合物（２）に、導入すべきア
シル基を有するアシルハライドを、脱酸剤の存在下、適
当な溶媒中で反応させることにより実施される。アシル
ハライドのハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素
、沃素原子を挙げることができる。アシルハライドは化
合物（２）に対して等モル量程度用いるのがよい。

溶媒としては前記酸無水物法と同様の不活性溶媒を使用
できる。反応温度は通常−１０℃〜１００℃程度、好ま
しくは０°Ｃ〜室温程度とされ、約２分〜３時間程度で
反応は終了する。脱酸剤としては、前記酸無水物法で用
いられる塩基性化合物と同様のものを使用できる。

上記反応工程式−１に示す方法において、導入すべきア
シル基がアミノ基（ＮＨ２）若しくはイミノ基（ンＮ）
Ｉ）等の反応に活性な窒素原子、水酸基又はカルボキシ
ル基を有するものである場合は、予め該窒素原子、水酸
基及びカルボキシル基を適当な保護基で保護した化合物
を用いて上記アシル化反応を行なった後、得られる化合
物から上記保護基を脱離反応させるのが好ましい。ここ
で用いられる窒素原子の保護基としては、低級アルコキ
シカルボニル基又はフェニル低級アルコキシカルボニル
基を示すことができ、水酸基又はカルボキシル基の保護
基としては、フェニル低級アルキル基を示すことができ
る。

フェニル低級アルキル基どしては、例えば、ベンジル、
２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、２−メチ
ル−３−フェニルブチル、４−フェニルブチル、５−フ
ェニルペンチル、６−フェニルアキル基等のアルキル部
分の炭ｆｌが１〜６であるフェニルアルキル基を例示で
きる。

また上記保護基の脱離反応は、通常の脱保護反応に慣用
される適当な方法、例えば塩化水素、臭化水素、弗化水
素、硫酸、過塩素酸等の無機酸や蟻酸、酢酸、トリフル
オロ酢酸、クロロ酢酸、プロピオン酸等の低級アルカン
酸、安息香酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸等
の有機スルホン酸等の有機酸の適当伍を用いて、通常溶
媒中で実施される。溶媒としては、通常の不活性溶媒、
例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパツール
等の低級アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル
等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸、プロピオン酸
等の低級アルカン酸、ジメチルスルホキシド、ジメチル
アセトアミド、ジメチルホルムアミド等やこれらの混合
溶媒を用いることができる。反応温度は、特に限定され
ず広い範囲から適宜選択すればよいが、通常０〜１００
℃、好ましくは室温〜８０℃程度とすればよく、反応は
３分〜２０時間程度で終了する。尚、上記酸は通常２倍
当量〜過剰量程度、好ましくは過剰量程度使用するのが
よい。

また、保護基がベンジルオキシカルボニル基やベンジル
基の場合は、接触還元法によっても、該保護基の脱離を
行なうことができる。この方法は、適当な溶媒中、パラ
ジウム−炭素、パラジウム−黒、パラジウム−硫酸バリ
ウム、パラジウム−炭酸バリウム、酸化白金、ラネーニ
ッケル等の触媒の存在下に水素を添加することにより実
施できる。

上記触媒の使用位としては、特に限定されないが、通常
原料化合物に対して１〜１０重量％程度とするのがよい
。溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロ
パツール等のアルコール類、酢、酸メチル、酢酸エチル
等のエステル類、水、酢酸、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド及びこれらの混合溶媒等を使用でき
る。

また上記反応溶液中に塩酸、硫酸、リン酸、過塩素酸等
の鉱酸又は酢酸、酒石酸、クエン酸、フマール酸、メタ
ンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸を共
存させた場合には、化合物（１）のそれぞれの塩が得ら
れる。

更に、上記低級アルコキシカルボニル基の脱離反応（脱
保護基反応）は、公知文献［Ｊ　ｏｕｒｎａｌｏｆ　ｔ
ｈｅ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　５ｏｃｉｅｔｙ、　Ｃｈｅｍ
ｉｃａｌＣｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ　　４９５　（１
９７９）コの方法に従い、適当な溶媒中、ヨードトリメ
チルシランを反応させることによっても実施できる。こ
こで溶媒としては、通常の不活性溶媒、例えばクロロホ
ルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン
、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル等を使用できる。反応温度は、通常
−２０℃〜５０℃、好ましくはＯ０Ｃ〜室温程度とすれ
ばよく、５分〜１０時間程度で終了する。尚、ヨードト
リメチルシランの使用量は、通常等モル量程度、好まし
くは１．０〜１．２倍モル量程度とするのがよい。

く反応工程式−２〉 ［式中Ｘはハロゲン原子を示す。Ｒはフラン環若しくは
チオフェン環上に置換基としてカルボキシル基、ハロゲ
ン原子及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜
３個有することのあるフラニル低級アルキル基若しくは
チエニル低級アルキル基を示す。Ｒｌｂ及びＲ２ｂは一
方が水素原子で、他方が置換基として基−Ｎ　ＣＲ４（
Ｒ３及びＲ４は夫々水素原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシカルボニル基又はフェニル低級アルコキシカル
ボニル基を示す。）、カルボキシル基、低級アルキルチ
オ基、フェニル環上に置換基として水酸基又はフェニル
低級アルコキシ基を有するフェニル基及びフェニル低級
アルコキシカルボニル基なる群から選ばれた基を１〜２
個有する低級アルカノイル基、又は低級アルコキシカル
ボニル基を有することのあるピロリジニルカルボニル基
を示す。Ｒ１及びＲ２は前記に同じ。］ 上記において、化合物（３）と化合物（４）との反応、
即ちＲ基の導入反応は、通常の脱ハロゲン化水素反応の
反応条件下に行なわれる。脱ハロゲン化水素反応酸 られている各種の塩基性化合物をいずれも使用できる。

その具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム等やナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属や水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水
素化アルカリ金属類等を挙げることができる。

上記反応は、無溶媒でもあるいは溶媒の存在下でも行な
うことができる。溶媒としては通常の不活性溶媒をいず
れも使用でき、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニ
トリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等が有利に用い
られる。

化合物（３）と化合物（４）との使用割合は、特に限定
されず広い範囲から適宜選択すればよいが、通常前者に
対し後者を少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル
量〜５倍モル量用いるのがよい。反応温度も特に限定さ
れず、広い範囲から適宜選択されるが、一般には０〜１
００℃、好ましくは室温〜８０℃の範囲から選択される
のがよく、通常３０分間〜６４時間程度、好ましくは約
１〜５時間程度で反応は終了する。

上記反応工程式−２に示す方法において、ＲＬｔ）及び
Ｒ２ｂで示される基が反応に活性な窒素原子、水酸基又
はカルボキシル基を有するものである場合は、予め該窒
素原子、水酸基又はカルボキシル基を前記反応工程式−
１で定義される保護基で保護した化合物を用いて上記脱
ハロゲン化水素反応を行なった後、得られる化合物から
上記保護基を脱離反応させるのが好ましい。

該保護基の脱離反応は、前記反応工程式−１に示すそれ
と同様にして実施される。

また、反応工程式−１又は２により得られる本発明化合
物（１）において、反応に活性な窒素原子、水酸基又は
カルボキシル基を有する化合物は、例えば後記する通常
の保護基導入反応により、保護基が置換した本発明化合
物へ導くことができる。

尚、前記反応工程式−１又は２において出発原料として
用いられる化合物（２）又は（３）は新規化合物であり
、例えば下記反応工程式−３又は４に示す方法により得
られる。

く反応工程式−３〉 ［式中Ｒ１ａＳＲ２ａ及びＸは前記に同じ。Ｒｌｅ及び
Ｒ２ｃは一方が水素原子で、他方が水酸基の保護基又は
水素原子を示す。Ｒａはフラン環又はチオフェン環上に
置換基として低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原
子及び低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個
有することのあるフラニル低級アルキル基又はチエニル
低級アルキル基を示す。コ 上記において、糖部分の３′位又は５′位の水酸基の保
護基には下記各基が包含される。

（Ａ）一般式 ％式％（） ［式中Ａｒはアリール基を示す］ で表わされるトリアリール置換メチル基。数基としては
、置換基としてハロゲン原子、ニトロ基、低級アルキル
基又は低級アルコキシ基を有することのあるフェニル基
等のアリール基の３個で置換されたメチル基を例示でき
る。

（Ｂ）一般式 ［式中Ｒ′は水素原子又は低級アルキル基、ｎは２又は
３を示す］ で表わされる環状エーテル残基。数基の例としては、２
−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロピラニル
基等を例示できる。

（Ｃ）トリ低級アルキルシリル基。数基としては、トリ
メチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル基等を例示で
きる。

（Ｄ）ベンジル基。

上記各保護基を有する化合物（５）は、例えばＲ及びＲ
２ｃが共に水素原子である対応する化合Ｃ 物を原料として、これに保護基を導入するための適当な
試薬を反応させることにより収得できる。

該保護基を導入するための試薬としては前記−般式（Ａ
）で表わされる保護基を与えるトリアリール置換メチル
ハライド、前記一般式（Ｂ）で表わされる保護基を与え
る下記一般式 ［式中Ｒ′及びｎは一般式（Ｂ）におけるそれらに同じ
］ で表わされる不飽和環状エーテル及びトリ低級アルキル
シリルハライド及び前記（Ｄ）で表わされる保護基を与
えるベンジルハライドが用いられる。

上記ハライド類を利用した保護基の導入反応は、例えば
、前記反応工程式−２に示した脱ノ１０ゲン化水素反応
と同様にして行ない得る。但しハライド類は原料化合物
に対して１〜２倍モル、好ましくは１〜１．５倍モルと
し、反応温度を−３０°Ｃ〜８０℃とするのがよい。

また上記一般式（Ｂ′）で表わされる不飽和環状エーテ
ルを利用した保護基導入反応は、例えば酸触媒の存在下
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル等
の非プロトン性不活性溶媒中で行なわれる。酸触媒とし
ては臭化水素、塩化水素等のハロゲン化水素酸や、塩化
アルミニウム、弗化硼素、塩化亜鉛等のルイス酸を使用
できる。

反応は試薬を原料化合物に対して１〜１．５倍モル足程
度用いて、−３０℃〜６０℃下に約２〜５時間を要して
行なわれる。

上記反応工程式−３は、化合物（５）にハライド化合物
（４ａ）を反応させて、基Ｒａを導入し、次いで必要に
応じて３′位又は５′位の脱保護基反応を行なって、本
発明の原料化合物（２）を得るものである。

基Ｒａの導入反応は前記の反応工程式−２に示すそれと
同条件下に行なわれる。

上記反応によって得られる化合物が、３′位又は５′位
に保護基を有する場合は、引き続き該保護基の脱離反応
を行うことにより、目的とする化合物（２）が得られる
。この脱保護基反応は、通常の酸加水分解反応に慣用さ
れる適当な触媒、例えば塩酸、硫酸、過塩素酸等の無機
酸や蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の低級アルカン酸、安
息香酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸等の有機
スルホン酸等の有機酸の適当量を用いて、通常溶媒中で
実施される。溶媒としては、通常の不活性溶媒、例えば
水、メタノール、エタノール、イソプロパツール等の低
級アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、ジオキサン等のエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸、プロピオン酸等の低
級アルカン酸、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセト
アミド、ジメチルホルムアミド等やこれらの混合溶媒を
用いることができる。反応温度は、特に限定されず広い
範囲から適宜選択すればよいが、通常Ｏ〜１００℃、好
ましくは室温〜８０°Ｃ程度とすればよく、反応は３分
〜２０時間程度で終了する。尚、使用される酸としては
通常触媒量〜過剰量程度、好ましくは過剰量程度とする
のがよい。また、保護基がベンジル基の場合には、通常
の接触還元法によってもベンジル基を除去することがで
きる。この場合、使用される触媒としては、例えば酸化
白金、パラジウム−炭素、パラジウム−黒、パラジウム
−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム、ラネーニ
ッケル等の触媒を例示できる。上記接触還元法はこれら
触媒の存在下に水素添加することにより行なわれる。上
記触媒の使用量としては、特に限定されないが、通常原
料化合物に対して５〜１５重量％程度とするのがよい。

溶媒としては、通常の不活性溶媒、例えばメタノール、
エタノール、プロパツール等のアルコール類、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、酢酸、
プロピオン酸等の低級アルカン酸、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等の不活性溶媒及びこれらの
混合溶媒を例示できる。

反応工程式−３において、上記反応の反応条件が脱エス
テル化反応の条件下で行なわれる場合には、Ｒａの基の
うちで、低級アルコキシカルボニル基を有する基は、該
エステル基の脱エステル化反応がおこり、対応するカル
ボキシル基に誘導される場合もある。

また、一般式（２）の化合物の内、Ｒａが低級アルコキ
シカルボニル基を有する基である化合物は通常の脱エス
テル化反応により対応するカルボキシル基を有する化合
物へ誘導される。

上記脱エステル化反応は、例えば、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類、メタノール、エタノール
等の低級アルコール類、水等の適当な。

溶媒中、加水分解触媒の存在下、室温〜１００’Ｃで、
３０分〜６時間にて行なわれる。

上記加水分解触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等の金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウム°等のアルカリ金属炭酸化物
等の塩基性化合物を例示できる。

く反応工程式−４〉 ［式中Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ１°及びＲ２°は前記に同じ
。］上上記反応工程−４に示す化合物（５）のアシル化
反応は、前記反応工程式−１に示す化合物（２）のアシ
ル化反応と同様にして実施できる。

より好ましくは上記アシル化反応は、導入すべきアシル
基に対応する酸無水物を、化合物（５）に対して約１〜
１．５倍モル量用い、同様の不活性溶媒中、−３０〜８
０℃程度の温度条件下に、約１〜６時間を要して実施さ
れる。

上記において導入すべきアシル基が反応に活性な窒素原
子、水酸基又はカルボキシル基を有するものである場合
、該窒素原子、水酸基又はカルボキシル基を反応工程式
−１の項で詳述した方法と同様にして保護した後に、ア
シル化反応を行なうのが好ましい。

またか（して得られる化合物が、３′位又は５′位に水
酸基保護基を有する場合には、これを通常の方法に従い
脱離反応させることにより、所望の化合物（３）を収得
できる。該水酸基保護基の脱離反応は、例えば前記した
窒素原子保護基の脱離反応における弱酸性触媒を使用す
ることにより又は水素添加により選択的に実施すること
ができる。

本発明の一般式（１）で表わされる２′−デオキシ−５
−フルオロウリジン誘導体のうち、塩基性基を有する化
合物は医薬的に許容される酸を作用させることにより容
易に酸付加塩とすることができる。該酸としては、例え
ば塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸、硝酸等の無機酸、
シュウ酸、マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸
、クエン酸、安息香酸、４−メチルベンゼンスルホン酸
、メタンスルホン酸等の有機酸を挙げることができる。

また、本発明の一般式（１）で表わされる２′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン誘導体のうち、酸性基を有す
る化合物は、医薬的に許容される塩基性化合物を作用さ
せることにより容易に塩を形成されることができる。該
塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素カリウム等を挙げることができる。

かくして得られる各々の工程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、希釈法、再結晶法
、カラムクロマトグラフィー、プレバラテイブ薄層クロ
マトグラフィー等を例示できる。

尚、本発明は、光学異性体及び立体異性体も当然に包含
するものである。

かくして得られる本発明の誘導体及びその塩は、いずれ
も優れた制癌作用を有し、しかも低毒性であり、例えば
体重減少等の副作用もなく、従って人及び動物の癌治療
のための抗腫瘍剤として非常に有用である。特に本発明
化合物は、（１）水溶性が高い、（２）吸収性がよい、
（３）持続性がよい、（４）安定性がよい、（５）下痢
、おうと、消化管出血等の消化管毒性が極めて少なく低
毒性である、（６）その本来の制癌作用を奏する投与。

量と毒性等の副作用を惹起するおそれのある投与量との
差が大きく、治療係数が優れており、安全性が高い、等
の優れた特徴を具備している。従って、本発明化合物は
、例えば注射剤、経口投与剤、串刺等の製剤形態で、上
記抗腫瘍剤として患者に適用して優れた薬理効果を奏し
得る。

本発明化合物は、通常−船釣な医薬製剤の形態で用いら
れる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、結合剤、
付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤あるい
は賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤としては各
種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的なも
のとして錠剤、火剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒
剤、カプセル剤、串刺、注射剤（液剤、懸濁剤等）、軟
膏剤等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際しては
、担体として例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブド
ウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結
晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プ
ロパツール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼ
ラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、
メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリ
ドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム
、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭
酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノ
グリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステア
リン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４
級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収
促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、
乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の
吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリ
エチレングリコール等の滑沢剤等を使用できる。さらに
錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣
錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング
錠あるいは二重錠、多層錠とすることができる。火剤の
形態に成形するに際しては、担体として例えばブドウ糖
、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、
タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼ
ラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、カンテン
等の崩壊剤等を使用できる。串刺の形態に成形するに際
しては、担体として例えばポリエチレングリコール、カ
カオ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル類
、ゼラチン、半合成グリセライド等を使用できる。カプ
セル剤は常法に従い通常本発明化合物を上記で例示した
各種の担体と混合して硬質ゼラチンカプセル、軟質カプ
セル等に充填して調製される。注射剤として調製される
場合、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等
張であるのが好ましく、これらの形態に成形するに際し
ては、希釈剤として例えば水、エチルアルコール、マク
ロゴール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステ
アリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコ
ール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類
等を使用できる。なお、この場合等張性の溶液を調整す
るに充分な量の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを医
薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶解補助剤
、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。ペースト、ク
リーム及びゲルの形態に成形するに際しては、希釈剤と
して例えば白色ワセリン、パラフィン、グリセリン、セ
ルロース誘導体、ポリエチレングリコール、シリコン、
ベントナイト等を使用できる。

更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味
剤等や他の医薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよい。

本発明医薬製剤中に含有されるべき本発明化合物の量と
しては、特に限定されず広範囲に適宜選択されるが、通
常医薬製剤中に１〜７０重量％とするのがよい。

上記医薬製剤の投与方法は特に制限がなく、各種製剤形
態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等に応
じて決定される。例えば錠剤、火剤、液剤、懸濁剤、乳
剤、顆粒剤及びカプセル剤は経口投与される。注射剤は
単独で又はブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合し
て静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内、皮
内、皮下もしくは腹腔的投与される。串刺は直腸内投与
される。

上記医薬製剤の投与ｉは、用法、患者の年齢、性別その
他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通常
有効成分である本発明化合物の量が１日当り体重１ｋｇ
当り約０．５〜２０［ｏｇ程度とするのがよく、該製剤
は１日に１回又は２〜４回に分けて投与することができ
る。

下記の実施例及び参考例におけるＮＭＲ測定結果に関し
、「Ｃ」又はｒＮＪの右下に添えられた数字は化合物中
の位置を示す。従って、例えば、ｒｃｓ　　ＨＪとある
のは、６位の炭素原子に結合した水素を示し、同様に、
例えば、ｒｅ３’。

４’１５’　　”Ｊとあるのは、３’　、　４’及び５
′−位の炭素原子に結合した水素を示す。

参考例１ ２′−デオキシ−５−フルオロ−３′−０−フルフリル
ウリジンの製造 ２′−デオキシ−５−フルオロ−５’　−０−）リチル
ウリジン１．ＯＯｇのジオキサン３０帷溶液に水酸化カ
リウムの細粉０．３５ｇとフルフリルクロライド０．２
９ｇとを加え、８０℃で２時間攪拌した。溶媒を留去後
、残渣を酢酸エチル３０軛に溶解し、水洗、乾燥後、濃
縮した。残渣を８０％酢酸１５ｍ！に溶解し、８０℃で
２時間放置した。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル３０
軛に溶解し、水洗、乾燥後、濃縮した。残渣をクロロホ
ルムで処理し、不溶物を枦取し、エタノールから再結晶
して、　２′−デオキシ−５−フルオロ−３’−０−フ
ルフリルウリジン０．３７ｇ　（５５％）を得た。

融点１８６〜１８８℃。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １１、　８２　（ＩＨ，ｂｓ、　Ｎ’Ｈ）８．１９　（
ＩＨ，ｄ　、Ｊ−６Ｈｚ　、Ｃ６−Ｈ）７．６５−７．
６３　（ＩＨ，ｍ、フラン環のＣ５−Ｈ） ６．６０−６．４０　（２Ｈ，ｍ、７ラン環のＣ３ｒ　
　４　　”） ６．０９　（ＬＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃ１’　−Ｈ）５
．２２　（ＬＨ，ｂｓ、Ｃｓ’　　　０Ｈ）４−４９　
（２Ｈ、ｓ　、ＣＨ２Ｍ　）４．２１　４．１２　（Ｉ
Ｈ，ｍ、Ｃ３’　　　Ｈ）４．０１　３．９２　（ＩＨ
，ｍ、Ｃａ’　　　Ｈ）３．６４　３．５５　　（２Ｈ
，ｍ、Ｃｓ’　　　Ｈ）２．２５　２．１１　　（２Ｈ
，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ）参考例　２〜１３ 参考例１と同様にして第１Ａ表に示す下記一般式の各化
合物を製造した。

第１Ｂ表に、得られた各化合物のＮＭＲ測定結果を示す
。

第　　ＩＡ　　表 第１Ｂ表 実施例１ ５’　−０−［Ｎ　−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリ
シル］　−３’−０−（３−クロロ−２−テニル）−２
′−デオキシ−５−フルオロウリジン及び３’　−０−
（５−クロロ−２−テニル）−２′−デオキシ−５−フ
ルオロ−５’　−０−グリシルウリジン塩酸塩の製造 Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシン１１．７０ｇ
のアセトニトリル２００１１１ｉ１！溶液に１．３−ジ
シクロへキシルカルボジイミド８．２７ｇを加え水冷下
３時間攪拌した。

反応溶液を減圧濃縮し、生成した無水物をピリジン２０
０軛に溶解し、３’　−０−（５−クロロ−２−テニル
）−２′−デオキシ−５−フルオロウリジン６．２８ｇ
を加え室温下３日間反応させた。溶媒を留去し、残渣を
酢酸エチル及び水に分配した。有機層を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し
濃縮した。

得られた残渣をシリカゲルカラムを用いクロロホルムで
溶出して精製し、５’　−Ｑ　−［Ｎ　−（ｔ　−ブト
キシカルボニル）グリシル］　−３’　−０−（３−ク
ロロ−２−テニル）−２′−デオキシ−５−フルオロウ
リジン７．２４ｇを得た。

元素分析：Ｃ２１Ｈ２５ＣｆＦＮ３０ＢＳ”Ｈ２Ｏとし
て 計算値：　Ｃ，４５，７０％：　Ｈ，４，９３％：　Ｎ
、　７．６１％実測値：　Ｃ，４６，０Ｌ％：　Ｈ，５
，１３％：　Ｎ、　７．６８％ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ）
δ： １１．８５　（ＩＨ，ｂ’ｓ、Ｎ５−Ｈ）７．９２　（
ＩＨ，ｄ、Ｊ”７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．２０　（ＩＨ
，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ０ＮＨ）４、、６６　（２Ｈ，ｓ
、〜ＣシーイＹＣ乏）４、２４−４．　１４　（４Ｈ，
ｍ。

Ｃ３′・４′・　／　　Ｈ） ３．７１　　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ０ＣＨ２
）２．３４　２．２２　　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ
）１．３４　　（９Ｈ，ｓ、ＣＨ３Ｘ３）次いで、上記
生成物を４規定塩酸−ジオキサン２０軛に溶かし室温下
１時間攪拌した。

反応溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムを用い
８％メタノール−クロロホルムで溶出して精製し、目的
とする３’　−０−（５−クロロ−２−テニル）−２′
−デオキシ−５−フルオロ−５′−〇−グリシルウリジ
ン塩酸塩３．７７ｇ（４８％）を得た。

性状：吸湿性粉末 元素分析：Ｃｌ６ＨＩ□Ｃ！！ＦＮ３０６Ｓ−ＨＣｌ・
５／２Ｈ２０として 計算値：　Ｃ，３７，２９％：　Ｈ，４，５０％：　Ｎ
、　８．１５％実測値：　Ｃ，３７，３７％：　Ｈ，４
，６８％：　Ｎ、　８．Ｑ６％ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ
　）δ： ９．２７　（３Ｈ，ｂｓ、ＮＨ２、ＨＣＪり８．０１　
　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ−７Ｈｚ、Ｃｓ　　　Ｈ）４−６
８　（２Ｈ、ｓ　、ＣＨ２＋ＣＺ　）４、　３８−４．
　０５　　（４Ｈ，ｍ。

Ｃ３’　　＋　　　’　　＋　　５’　　　”）３．８
１　　（２Ｈ，ｓ、ＣＩ（２Ｃｏ）２．４７−２．２６
　　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　−Ｈ）実施例２ 実施例１と同様にして下記構造式で示される、第２表に
示す化合物を得た。

（Ｊ−Ｒ’ 実施例３ ５’　−０−［Ｎ　−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリ
シル］−２′−デオキシー５−フルオロ−３′−〇二（
２−テニル）ウリジン及び２′−デオキシ−５−フルオ
ロ−５′−〇−グリシルー３’−０−（２−テニル）ウ
リジン塩酸塩の製造 まず、実施例１と同様にして５’−０−［Ｎ−（ｔ−ブ
トキシカルボニル）グリシル］−２’−デオキシー５−
フルオロ−３’　−０−（２−テニル）ウリジン１．０
４ｇを得た。

元素分析：Ｃ２１Ｈ２６ＦＮ３０８Ｓ・ｌ／２Ｈ２０と
して 計算値：　Ｃ，４９，６０％：　Ｈ，５，３５％：　Ｎ
、　８．２６％実測値：　Ｃ，４９，８７％：　Ｈ，５
，８６％：　Ｎ、　８．１８％ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ）
δ： １１．８４　（ＩＨ，ｂｓ、Ｎ３　Ｈ）７．９２　（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７、５５　７　、４
８　（Ｌ　Ｈ，ｍ、ＣＨ２＋　）７、　２８−６．　９
６　　（３Ｈ，ｍ、ＮＨ。

６．２０　６．０３　　（ＩＨ，ｍ、Ｃ＋　’　　　Ｈ
）４、　２３−４．　１４　　（４Ｈ，ｍ。

Ｃ３’　　＊　　　’　　＋　　５’　　　Ｈ）３．７
１　　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝６Ｈｚ、ＣＯＣＨ２）２．
３４−２．２１　　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　−Ｈ）１．
３７　　（９Ｈ，ｓ、ＣＨ３ｘ３）　　　　。

上記生成物を無水アセトニトリル５０雁に溶解し、系内
を窒素置換及氷冷しヨードトリメチルシラン０．６５ｍ
ｆ２を加え１０分間反応させた。

次いで、メタノール０．３４ｍｆ２を加え１時間放置後
１規定塩酸２．０８ｍｅを加えた。

反応溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムを用い
８％メタノール−クロロホルムで溶出して精製し、２′
−デオキシ−５−フルオロ−５′−〇−グリシルー３’
　−０−（２−テニル）ウリジン塩酸塩０．２１ｇ　（
２３％）を得た。

性状：吸湿性粉末 元素分析：　Ｃ，６Ｈ，、ＦＮ３ｏｓ　５−ａｃｚ　−
Ｈ２Ｏとして 計算値：　Ｃ，４２，３４％：　Ｈ，４，８６％：　Ｎ
、　９．２６％実測値：　Ｃ，４２，０４％：　Ｈ，５
，０１％：　Ｎ、　９．４３％Ｎ。ＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ
ｓ　）δ： １１．５０　（ＩＨ，ｂｓ、ＮＨ） ８．３０　（３Ｈ，ｂｓ、ＮＨ２，ＨＣＪ）７．９７　
（ＩＨ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．５２　（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝ＩＨｚ。

６、２５　６．０７　（ＩＨ，ｍ、　Ｃ＋　’　−Ｈ）
４、７４　（２Ｈ，ｓ、　　ＣＨ２Ｖ　）４’、　３９
−４．　１１　（４Ｈ，ｍ。

Ｃ３’　＋　　４’　ｐ　　５’　　　Ｈ）３．８４　
（２Ｈ，ｓ、ＣＨ２Ｃｏ） ２、３９−２．、２６　（２Ｈ，ｍ、　Ｃ２’　−Ｈ）
実施例４ ３’　−０−（５−ブロモ−２−テニル）−５′−Ｏ−
［Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリジルコ−２′　
−デオキシ−５−フルオロウリジン及び３’　−０−（
５−ブロモ−２−テニル）−２′−デオキシ−５−フル
オロ−５’　−０−グリシルウリジン塩酸塩の製造 ３’　−０−（５−ブロモ−２−テニル）−２′−デオ
キシ−５−フルオロウリジン１．００ｇのピリジン３０
ＴＩｆ２溶液にＮ−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシ
ン０．６２ｇ及びトリイソプロピルベンゼンスルホニル
クロリド１．４４ｇを加え、室温下４８時間攪拌した。

反応溶液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル及び飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液に分配した。有機層を１規定塩酸
及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムを用い１％
メタノール−クロロホルムで溶出して精製し、３’　−
０−（５−ブロモ−２−テニル）−５’　−０−［Ｎ−
（ｔ−ブトキシカルボニル）グリジルコ−２′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン１＝　　３３ｇを得た。

元素分析：　Ｃ２、Ｎ２５　ＢｒＦＮ３０Ｂ　Ｓとシテ
計算値：　Ｃ，４３，８１％：　Ｈ，４，３６％：　Ｎ
、　７．２６％実測値：　Ｃ，４３，３７％：　Ｈ，４
，７２％：　Ｎ、　７．０８％ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ
　）δ： １１．８５　（ＬＨ，ｂｄ、Ｎ３−Ｈ）７．９２　（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．２７−７．０９
　（２，Ｈ，ｍ、Ｃ０ＮＨ。

６．９４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−４Ｈｚ。

６．１１　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ１’　−Ｈ）４
、６７　（２Ｈ，ｓ　、　　ＣＮ２　＋　Ｂ　ｒ　）４
．３３−４．　１４　　（４Ｈ，ｍ。

０３′　・　４′　・　ｓ’　　−Ｈ）３．７１　　（
２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、ＣＯＣＨ２）２．３４−２．２
２　　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　−Ｈ）１．３７　　（９
Ｈ，ｓ、ＯＨ３Ｘ３）次いで、上記反応生成物に４規定
塩酸−ジオキサン５配を加え室温下１５分間放置した。

反応溶液を濃縮後、残渣にエーテル５０加を加え生成し
た沈澱を炉底した。得られた沈澱をシリカゲルカラムを
用い４％−７％メタノール−クロロホルムで溶出して精
製し、目的とする３’−０−（３−ブロモ−２−テニル
）−２′−デオキシ−５−フルオロ−５’　−０−グリ
シルウリジン塩酸塩０．７３ｇ　（５８％）を得た。

性状：吸湿性粉末 元素分析：Ｃ２６Ｈ４７ＢｒＦＮ３０６Ｓ−ＨＣｌ・３
／２　Ｎ２０として 計算値：　Ｃ，８５，４７％：　Ｈ，３，９１％：　Ｎ
、　７．７Ｂ％実測値：　Ｃ，３５，６４％：　Ｈ，４
，０８％：　Ｎ、　７．８８％ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ）
　　δ： １１．７０　　（ＩＨ，ｂｓ、ＮＨ） ９．１５　　（３Ｈ，ｂｓ、ＮＮ２．ＨＣＪＩり８．０
１　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　　Ｈ）７、　
１２　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝４Ｈｚ。

６．９０　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ−４Ｈｚ。

６．１１　　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、ｃ、’　　−Ｈ
）４、７０　（２Ｈ，Ｓ、　−ＣＨ２＋Ｅ３　ｒ）４、
　３９−４．　０６　　（４Ｈ，ｍ。

Ｃ３’＋　　　’＋５’　　　Ｈ） ３．８１　　（２Ｈ，ｓ、ＣＨ２Ｃｏ）２．４９　２．
２６　　（２Ｈ，ｍ、　　Ｃ２’　　　Ｈ）実施例５ ５’　−０−（３−カルボキシプロパノイル）−２′　
−デオキシ−５−フルオロ−３’　−０−（２−テニル
）ウリジンの製造 ２′−デオキシ−５−フルオロ−３’　−０−（２−テ
ニル）ウリジン１．２４ｇのピリジン３０′ｗ２溶液に
無水コハク酸１．０６ｇを加え８０°Ｃで１晩反応させ
た。

反応溶液を減圧濃縮し、残渣をクロロホルムと水に分配
した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後再度減圧
濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムを用い２％
メタノール−クロロホルムで溶出して精製し、目的とす
る５’　−０−（３−カルボキシプロパノイル）−２′
−デオキシ−５−フルオロ−３’　−０−（２−テニル
）ウリジン１．４４ｇ　（９０％）を得た。

性状：粉末 元素分析：Ｃｌ８Ｈ１９ＦＮ２０８Ｓ・ｌ／２Ｈ２０と
して 計算値：　Ｃ，４７，８９％：　Ｈ，４，４７％：　Ｎ
、　６．２Ｌ％実測値：　Ｃ，、４７，８９％：Ｈ１４
゜６９％：　Ｎ、　５．９６％ＮＭＲ（ＤＭＳ　Ｏ−ｄ
ｓ　）　　δ；１２．１６　　（ＩＨ，ｂｓ、Ｃ００Ｈ
）１１．８６　　（ＩＨ，ｂｓ、ＮＨ） ７．９２　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ、Ｃ６−Ｈ）７．
５１　　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２Ｈｚ。

Ｊ　＝５Ｈｚ、　−ＣＨ２訳テ’） ７、　１１−６．　９６　　（２Ｈ，ｍ。

６、　１７　６．０２　　（ＩＨ，ｍ、Ｃ＋’　　　Ｈ
）４、７２　（２Ｈ，ｓ、−Ｃシフｈ） ４．２０　　（４Ｈ，ｂｓ、Ｃ３’　　、　　　’　　
、５’　　−Ｈ）２．５２　　（４Ｈ，ｓ、　ＣＯＣＨ
２ＣＨ２Ｃｏ　　）２．３５　２．２３　　（２Ｈ，ｍ
、Ｃ２’　　−Ｈ）実施例６ 実施例５と同様にして第３表に示す下記構造式の化合物
を得た。

実施例７ ５’　−０−［Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−β−
アラニル］　−３’−０−（３−クロロ−２−テニル）
−２′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−β−アラニン２．０
１ｇのアセトニトリル５０ｍｅ溶液に１゜３−ジシクロ
へキシルカルボジイミド１．３１ｇを加え、水冷下２時
間攪拌した。

反応溶液をｊ濾過濃縮し、残渣にピリジン５０雁及び３
’　−〇−（５−クロロ−２−テニル）−２′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン１．００ｇを加え、室温下１
晩反応させた。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル３０軛
に溶解し、水洗、乾燥後、再度濃縮した。残渣をシリカ
ゲルカラムを用い、クロロホルムで溶出して精製し、目
的とする５′−Ｏ−［Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）
−β−アラニルコー３’　−０−（５−クロロ−２−テ
ニル）−２′−デオキシ−５−フルオロウリジン０．８
５ｇ　（５９％）を得た。

元素分析：　Ｃ２２Ｎ２７　ＣＩＦＮ３０６　Ｓ・Ｎ２
０として 計算値：　Ｃ，４６，６９％：　Ｈ，５，１６％：　Ｎ
、　７．４２％実測値：　Ｃ，４６，８９％：　Ｈ，５
，２８％：　Ｎ、　７．６０％性状：吸湿性粉末 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）δ： １１．８３　（ＩＨ，ｂｓ、Ｎ３−Ｈ）７．９２　（Ｌ
Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７、　０３−６．　
９４　（２Ｈ，ｍ。

６．２０−６．０１　（ＩＨ，ｍ、０１　’　−Ｈ）４
、６６　（２Ｈ，Ｓ、　　ＣＨ２＋　ＣＪり４．１９　
（４Ｈ，ｂｓ、Ｃ３’　、　　’　、５’　−Ｈ）３、
２８−３．０６　（２Ｈ，ｍ、ＮＨＣＨ２）２．５７−
２．２４　（ｍ、ＤＭＳＯに重複。

Ｃ２’−ＨとＣ０ＣＨ２） １．３６　　（９Ｈ，ｓ、ＣＨ３ｘ３．）実施例８ ３’　−０−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシル
）−２′−デオキシ−５−フルオロ−５′−〇−フルフ
リルウリジン Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシン２．５６ｇのア
セトニトリル５０ｍ２溶液に１．３−ジシクロへキシル
カルボジイミド１．５２ｇを加え、水冷下２時間攪拌し
た。

反応溶液を濾過濃縮し、残渣にピリジン５０′ｗ２及び
２′−デオキシ−５−フルオロ−５’　−０−フルフリ
ルウリジン１．ＯＯｇを加え、室温下１日反応させた。

溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル３０齢に溶解した。こ
れを飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、乾燥、濃
縮した。残渣をシリカゲルカラムを用い、１％メタノー
ル−クロロホルムで溶出して精製し、３’　−〇−（Ｎ
−ベンジルオキシカルボニルグリシル）−２′−デオキ
シ−５−フルオロ−５’　−０−フルフリルウリジン１
．２０ｇ　（７６％）を得た。

性状：粉末 元素分析：　Ｃ２Ａ　Ｎ２４ＦＮ３０ｇとして計算値：
　Ｃ，５５，７１％：　Ｈ，４，８８％：　Ｎ、　８．
１２％実測値：　Ｃ，５５，８３％：　Ｈ，４，９７％
：　Ｎ、　８．３５％実施例９ ３’　−０−［Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシ
ル］−２′−デオキシー５−フルオロ−５’　−〇−（
２−テニル）ウリジンの製造Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボ
ニル）グリシン２．０５ｇのアセトニトリル５０ｍ！溶
液に１．３−ジシクロへキシルカルボジイミド１．４５
ｇを加え、水冷下３時間攪拌した。

反応溶液を濾過濃縮し、残渣にピリジン５０１Ｔｌｅ及
び２′−デオキシ−５−フルオロ−５’　−０−（２−
テニル）ウリジン１．ＯＯｇを加え、室温下１日反応さ
せた。溶媒を留去後、残渣を酢酸エチル３０楔に溶解し
、水洗、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムを用
い、１％メタノール−クロロホルムで溶出して精製し、
３’　−０−［Ｎ−（１−ブトキシカルボニル）グリジ
ルコ−２′−デオキシ−５−フルオロ−５’　−〇−（
２−テニル）ウリジン１．１７ｇ　（８０％）を得た。

性状：吸湿性粉末 元素分析：　Ｃ２，Ｎ２６　ＦＮ３ｏａ　５−Ｎ２０と
して 計算値二〇、　４８．７４％：　Ｈ，５，４５％：　Ｎ
、　８．１２％実測値：　Ｃ，４８，８５％：　Ｈ，５
，２１％：Ｎ、７゜９３％実施例１０−１８ 実施例７と同様にして第４表に示す下記構造式の化合物
を得た。

実施例１９ ５′−〇−β−アラニルー３’　−０−（５−クロロ−
２−テニル）−２′−デオキシ−５−フルオロウリジン
塩酸塩の製造 実施例７で得られた５’　−０−［Ｎ−（ｔ−ブトキシ
カルボニル）−β−アラニル］　−３’　−０−（３−
クロロ−２−テニル）−２′−デオキシ−５−フルオロ
ウリジン０．８２ｇに４規定塩酸−ジオキサン１０楔を
加え、室温下３０分間攪拌した。

反応溶液を減圧下濃縮し、残渣を熱酢酸エチルで洗浄し
たところ、目的とする５′−〇−β−アラニルー３’　
−０−（５−クロロ−２−テニル）−２′−デオキシ−
５−フルオロウリジン塩酸塩が０．６９ｇ　（９５％）
得られた。

性状：吸湿性粉末 元素分析；　Ｃｒｙ　ＨＩ９　ＣＩ　Ｆ　Ｎ３０６５−
ＨＣＩ・２．５Ｈ２０として 計算値：　Ｃ，８８，５７％：　Ｈ，４，７６％：　Ｎ
、　７．９４％実測値：　Ｃ，３８，５６％：　Ｈ，５
，１２％：　Ｎ、　７．６１％ＮＭＲ（ＤＭＳ　Ｏ−ｄ
ｓ　）　　δ：１１．８５　（ＩＨ，ｂｓ、Ｎ３−Ｈ）
８．２４−７．８８　（４Ｈ，ｍ、Ｃｓ　−Ｈ。

ＮＨ２，ＨＣ，Ｚ） ７．０５−６．９５　（２Ｈ，ｍ。

６．１７　６．０３　　（ＩＨ，ｍ、Ｃｒ　’　　−Ｈ
）４．３５−４．２０　　（４Ｈ，ｍ、Ｃａ　’　。

Ｃ４’　　、Ｃ５’　　−Ｈ） ３．１８−２．９７　（２Ｈ，ｍ、ＣＨ２ＮＨ２）２．
７５　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、ＣＯＣＨ２）２．３７
　２．２５　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ）実施例２０
〜２３ 実施例１９と同様にして第５表に示す下記構造式の化合
物を得た。

実施例２４ ２′−デオキシ−５−フルオロ−３′−〇−フルフリル
ー５’　−０−Ｌ−チロシルウリジンの製造 実施例１４で得られた５’　−０−（０−ベンジル−Ｎ
−ベンジルオキシカルボニル−し−チロシル）−２′−
デオキシ−５−フルオロ−３′−〇−フルフリルウリジ
ン１．１０ｇのメタノール５０軛溶液に５％パラジウム
−炭素０．１１ｇを加え、水素気流中常温常圧で２時間
攪拌した。触媒を枦去し、溶媒を減圧濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムを用い、５％メタノール−クロロホル
ムで溶出して精製し、２′−デオキシ−５−フルオロ−
３′−〇−フルフリルー５’　−０−Ｌ−チロシルウリ
ジン０．１３ｇ　（１７％）を得た。

性状：吸湿性粉末 元素分析：　Ｃ２３Ｈ２４ＦＮ３０８　・１．　５Ｈ２
０として 計算値：　Ｃ，５３，４９％：　Ｈ，５，２７％：　Ｎ
、　８．１４％実測値：　Ｃ，５３，８８％：　Ｈ，５
，５８％：　Ｎ、　７．７８％ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６
　）　　δニ ア、９１　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ””７Ｈｚ、Ｃｓ　　　Ｈ
）７．６５−７．６２　　（ＩＨ，ｍ。

６．６４　　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝９Ｈｚ。

６．４７−６．３９　　（２Ｈ，ｍ。

６．１６　５．９８　（ＩＨ，ｍ、Ｃ＋　’　　−Ｈ）
５．０３　　（ＬＨ，ｂｓ、０Ｈ） ４．１３−３．９４　　（５）（、ｍ、０３’　　、４
’　　。

５’−Ｈ，Ｃ０ＣＨ） ３．６１−３．４１　　（２Ｈ，ｍ、ＮＨ２）２．７２
　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、ＣＨＣＨ２）２．２３−
２．１０　　（２’Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　−Ｈ）実施例２
５ 実施例２４と同様にして第６表に示す下記構造式の化合
物を得た。

実施例２６ ３’　−０−（５−クロロ−２−テニル）−２′−デオ
キシ−５’　−０−［３−（ジエチルアミノ）プロパノ
イル］−５−フルオロウリジン２．４．６−トリイソプ
ロビルベンゼンスルホン酸塩の製造 ３’　−０−（５−クロロ−２−テニル）−２′−デオ
キシ−５−フルオロウリジン１．ＯＯｇのピリジン５０
域溶液に、塩酸Ｎ、Ｎ−ジエチルーβ−アラニン０．７
２ｇ及びトリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド
１．６１ｇを加え、室温下−日攪拌した。反応溶液を減
圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムを用い、２％メタノ
ール−クロロホルムで溶出して精製し、３’　−０−（
５−クロロ−２−テニル）−２′−デオキシ−５′−〇
−［３−（ジエチルアミノ）プロパノイル］−５−フル
オロウリジン２，４．６−トリイソプロビルベンゼンス
ルホン酸塩０．９７ｇ、（４６％）を得た。

性状：吸湿性粉末 元素分析：Ｃ２１Ｈ２７Ｃ２ＦＮ３０６Ｓ・Ｃ４５Ｈ２
３ＳＯ３Ｈ−Ｈ２Ｏとして 計算値：Ｃ，５３，８２％：　Ｈ，６，８２％：　Ｎ、
　５．２１％実測値：　Ｃ，５３，４３％：　Ｈ，６，
５１％：　Ｎ、　４．９３％ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　
）δ： １１．９２　（ＩＨ，ｄ、ＮＨ） ８．９２　（ＩＨ，ｂｓ、５Ｏ３Ｈ） ７．９５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ、Ｃ６−Ｈ）７、　
０５−６．　５９　（４Ｈ，ｍ。

６、２０−６．０２　（ＩＨ，ｍ、　Ｃ５’　−Ｈ）４
．７２−４．４２　（４Ｈ，ｍ。

４．３０−３．５４　　（９Ｈ，ｍ。

２　Ｃ ＼ ２．３５　２．２１　　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ）
１．２７−１．０７　（２４Ｈ，ｍ、ＣＨ３ｘ８）実施
例２７ ５’　−０−［Ｎ　−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ
−プロリル］　−３’　−０−（５−クロロ−２−テニ
ル）−２′　−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ゾロリン２．２
９ｇのアセトニトリル５０ｗ２溶液に、１゜３−ジシク
ロへキシルカルボジイミド１．３１ｇを加え、水冷下１
．５時間攪拌した。

反応溶液を濾過濃縮し、残渣にピリジン５０輔及び３’
　−０−（５−クロロ−２−テニル）−２′−デオキシ
−５−フルオロウリジン１．００ｇを加え、室温下１７
時間反応させた。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル３０
軛に溶解し、水洗、乾燥後、再度濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムを用い、クロロホルムで溶出して精製し、
目的とする５’　−０−［Ｎ　−（ｔ−ブトキシカルボ
ニル）−Ｌ−プロリル］　−３’　−０−（５−クロロ
−２−テニル）−２′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ン１．２１ｇ　（８０％）を得た。

性状：吸湿性粉末 元素分析：Ｃ２４Ｈ２９ＣＩ２ＦＮ３０８Ｓ・２Ｈ２０
として 計算値：　Ｃ，４７，２５％：　Ｈ，５，４５％：　Ｎ
、　６．８９％実測値：　Ｃ，４６，８１％：　Ｈ，５
，０６％：　Ｎ、　８．５５％ＩＲ：ＫＢｒ　　　ν　
　　（ｃｍ−’）：１７５０゜ｃｍ０ １７１８、　１６６５ 実施例２８ ３’　−０−（５−クロロ−２−テニル）−２′−デオ
キシ−５−フルオロ−５’　−０−Ｌ−プロリルウリジ
ン塩酸塩の製造 実施例２７で得られた５’　−〇　−［Ｎ　−（ｔ　−
ブトキシカルボニル）−Ｌ−プロリル］−３’−０−（
３−クロロ−２−テニル）−２７−ジオキシ−５−フル
オロウリジン１．２１ｇに４規定、°１酸−ジオキサン
２０ｖ１を加え、室温下３０分攪拌した。

反応溶液を減圧下濃縮し、残渣を熱酢酸エチルで洗浄し
たところ、目的とする３’　−〇−（５−クロロ−２−
テニル）−２′−デオキシ−５−フルオロ−５’　−０
−Ｌ−プロリルウリジン塩酸塩０．８８ｇ　（８２％）
を得た。

性状：吸湿性粉末 元素分析：Ｃｌ９Ｈ２ＩＣ乏ＦＮａＯｓＳ・ＨＣＪ！・
１．５Ｈ２０として 計算値：　Ｃ，４２，４７％：　Ｈ，４，８９％：　Ｎ
、　７．８２％実測値：　Ｃ，４２，１７％：　Ｈ，５
，０５％：　Ｎ、　７．６４％ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ
　　）　　：　　δ１１．８６　（ＩＨ，ｂｓ、Ｎ３　
　Ｈ）９．７９　（２Ｈ，ｂｓ、ＮＨ，ＨＣ／り７．９
９　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．０５−
６．９７　（２Ｈ，ｍ。

６．２０　６．０２　（ＩＨ，ｍ、Ｃｌ　’　　Ｈ）４
．４６　４．１３　（５Ｈ，ｍ、Ｃ３’　。

４’　、５　’　−Ｈ，Ｃ０ＣＨ） ３．２６　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ、ＣＨ２ＮＨ）２．
３７．１．７９　（６Ｈ，ｍ、Ｃ２’　−Ｈ。

ＮＨＣＮ２Ｃ旦２ＣＨ２） 実施例２９ ５’　−０−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシル
）−２′−デオキシ−５−フルオロ−３′−〇−フルフ
リルウリジンの製造 ２′−デオキシ−５−フルオロ−３′−〇−フルフリル
ウリジン１．００ｇのピリジン５０輔溶液に塩化Ｎ−ベ
ンジルオキシカルボニルグリシル１．３９ｇを加え、室
温下１晩反応させた。

溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル３０ｍ２に溶解し、水
洗、乾燥後、再度濃縮した。残渣をシリカゲルカラムを
用い、１％メタノール−クロロホルムで溶出して精製し
、目的とする５’−０−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ルグリシル）−２’　−デオキシ−５−フルオロ−３′
−〇−フルフリルウリジン０．３２ｇ　（２０％）を得
た。

性状：粉末 元素分析：　Ｃ２４Ｎ２４　ＦＮａ　０９として計算値
：　Ｃ，５５，７１％：　Ｈ，４，６８％：　Ｎ、　８
．１２％実測値：　Ｃ，５５，３４％：　Ｈ，５，０１
％：　Ｎ、　７．９８％ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄａ　）：　
δ １１．８４　　（ＬＨ，ｂｄ、Ｎ３　　　Ｈ）７．９０
　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　　Ｈ）７．７２
−７．６３　　（２Ｈ，ｍ、ＮＨ。

６．１０　５．９５　　（ＩＨ，ｍ、Ｃｓ　’　　　Ｈ
）４、４８　（２Ｈ，ｓ、−Ｃジーや） ４．２７　４．１０　　（４Ｈ，ｍ、０３　’　　。

４’＋５”） ３．８２　　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ０ＣＨ２
）２．３０　２．　１７　　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　
Ｈ）実施例３０ ３’　−０−（５−カルボキシフルフリル）−２′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン及び５’　−０−［Ｎ−
（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシル］　−３’　−０
−（５−カルボキシフルフリル）−２′−デオキシ−５
−フルオロウリ−ジンの製造 ２′−デオキシ−５−フルオロ−５’　−〇−）リチル
ウリジン５．ＯＯｇのジオキサン１００Ｔｒｖ２溶液に
水酸化カリウムの細粉５．７４ｇと５−メトキシカルボ
ニルフルフリルクロライド２．６７ｇを加え、８０℃で
２．５時間攪拌した。反応溶液を濃縮後、残渣を水１０
０鶴に溶解した。反応溶液を１規定塩酸でｐＨ４とした
後、酢酸エチル抽出を行なった。有機層を乾燥、濃縮し
、残渣に８０％酢酸１００雁を加え、８０℃で１時間放
置した。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル及びメタノー
ルで洗浄して、３’　−０−（５−カルボキシフルフリ
ル）−２′−デオキシ−５−フルオロウリジン２．５３
ｇ　（６７％）を得た。

性状：吸湿性粉末 元素分析：　Ｃ＋　ｓ　Ｈ＋　ｓ　ＦＮ２０ａ・Ｎ２０
として 計算値：　Ｃ，４６，４０％：　Ｈ，４，４１％：　Ｎ
、　７．２１％実測値：　Ｃ，４８，３２％：　Ｈ，４
，５１３％：　Ｎ、　７．１３％ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ
ｓ　）：　δ １２．６８　（ＩＨ，ｂｓ、Ｃ００Ｈ）１１．７６　（
ＩＨ，ｂｄ、ＮＨ） ８．１８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　−Ｈ）７．
１７　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ。

６．６２　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ。

４．７７　（ＩＨ，ｂｓ、Ｃ５’　　　０Ｈ）４、５６
　（２Ｈ，ｓ、　−Ｃ肛＋Ｃ００Ｈ）４．１９　４．１
２　（ＩＨ，ｍ、Ｃ３’　　　Ｈ）３．９９　３．８８
　（ＬＨ，ｍ、Ｃ４’　　　Ｈ）３．６０　　（２Ｈ，
ｂｓ、Ｃ５’　　−Ｈ）２．２９　２．０６　　（２Ｈ
，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ）次にＮ−（ｔ−ブトキシカルボ
ニル）グリシン１．１９ｇのアセトニトリル３０加溶液
に１，３−シンクロヘキシルカルボジイミド０．８４ｇ
を加え、水冷下１時間攪拌した。

反応溶液を濾過濃縮し残渣にピリジン３０雁及び３’　
−０−（５−カルボキシフルフリル）−２′−デオキシ
−５−フルオロウリジン０．６３ｇを加え、室温下２時
間反応させた。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
を用い、５％メタノール−クロロホルムで溶出して精製
し、目的とする５’　−０−［Ｎ−（ｔ−ブトキシカル
ボニル）グリシル］　−３’　−〇−（５−カルボキシ
フルフリル）−２′　−デオキシ−５−フルオロウリジ
ン０．５９ｇ　（６６％）を得た。

性状：吸湿性粉末 元素分析：　Ｃ２２Ｈ２ｓ　ＦＮ３０＋１・Ｎ２０とし
計算値：　Ｃ，４８，４４％：Ｎ１５゜１７％：　Ｎ、
　７．７０％実測値：　Ｃ，４８，０３％：　Ｈ，５，
３５％：　Ｎ、　７．８８％ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　
）：δ １１．８３　（ＬＨ，ｂｓ、Ｎ３　Ｈ）７．９２　（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）７．２４−７．１４
　（２Ｈ，ｍ、ＮＨ。

６、６２　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ、　　　　　′４
、５７　（２Ｈ，ｓ、　−Ｃ肛イアｃＯＯＨ’）４．２
８−４．１４　（４１ｔ（、ｍ、Ｃ３’　。

４・、５／　　　）（） ３．７２　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ０ＣＨ２）２、
’２８　２．　１７　（２Ｈ，ｍ、　Ｃ２’　　Ｈ）１
．３７　（９Ｈ，ｓ、ＣＨ３ｘ３） 実施例３１ ２′−デオキシ−５−フルオロ−３’　−〇−（３，４
，５−）ジブロモ−２−テニル）ウリジン、５’−０−
［Ｎ　−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシル］−２′
−デオキシー５−フルオロ−３’　−０−（３，４，５
−トリブロモ−２−テニル）ウリジン及び２′−デオキ
シ−５−フルオロ−５′−〇−グリシルー３’　−０−
（５，４，５−トリブロモ−２−テニル）ウリジン塩酸
塩の製造 ２′−デオキシ−５−フルオロ−５’　−０−トリチル
ウリジン５．００ｇのジオキサン１００加溶液に水酸化
カリウムの細粉５．７４ｇ及び２゜３．４−）ジブロモ
−５−クロロメチルチオフェン５．６５ｇを加え、８０
℃で２時間攪拌した。

反応溶液を濃縮後、残渣を酢酸エチル１００雁に溶解し
、酢酸水溶液で洗浄後、乾燥、濃縮した。

残渣に８０％酢酸１００軛を加え、８０°Ｃで１時間放
置した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルヵラムを用い
、２％メタノール−クロロホルムで溶出して精製し、目
的とする２′−デオキシ−５−フルオロ−３’−０−（
５，４，５−）ジブロモ−２−テニル）ウリジン１．０
７ｇ　（１８％）を得た。

性状：粉末 元素分析：Ｃ１４Ｈ１２ＦＮ２０５Ｓとして計算値：　
Ｃ，２９，０４％：　Ｈ，２，０９％：　Ｎ、　４．８
４％実測値：　Ｃ，２９，００％：　Ｈ，２，２５％：
　Ｎ、　４．３８％ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）：δ １１．８１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−５Ｈｚ、ＮＨ）８．１８
　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　−）（）６．１６−
６．０１　（１Ｈ，ｍ、Ｃ１’　−Ｈ）５．２１　（Ｉ
Ｈ，ｂｓ、Ｃｓ’　−０Ｈ）４．２９−４．２４　（Ｉ
Ｈ，ｍ、Ｃ３’　−Ｈ）４．０３　４．０１　（ＬＨ，
ｍ、Ｃ４’　　Ｈ）３．６２　　（２Ｈ，ｂｓ、Ｃ５’
　　−Ｈ）２．３５　２．２５　　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’
　　　Ｈ）次にＮ−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシ
ン１．２１ｇのアセトニトリル５０軛溶液に１，３−ジ
シクロへキシルカルボジイミド０．８６ｇを加え、水冷
下１′時間攪拌した。

反応溶液を濾過濃縮し、残渣にピリジン５０Ｔ１１ｉ２
及び２′−デオキシ−５−フルオロ−３’　−〇−（３
，４，５−）ジブロモ−２−テニル）ウリジン１．００
ｇを加え、室温下２時間反応させた。

溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル５０加に溶解し飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去した。得られた残
渣をシリカゲルカラムを用い、１％メタノール−クロロ
ホルムで溶出して精製し、目的とする５’　−０−［Ｎ
　−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリジルコ−２′−デ
オキシ−５−フルオロ−３’　−〇−（３，４，５−ト
リブロモ−２−テニル）ウリジン１．００ｇ　（７９％
）を得た。

性状：粉末 元素分析：Ｃ２１Ｈ２３Ｂｒ３ＦＮ３０ＢＳとして 計算値：　Ｃ，３４，２６％：　Ｈ，３，１５％：　Ｎ
、　５．７１％実測値：　Ｃ，３４，４１％：　Ｈ，３
，２２％：　Ｎ、　５．５８％ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−δ６
　）：δ １１．８６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｎ３　　Ｈ）７
．９３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　−Ｈ）７．２
０　（ＬＨ，ｂｔ、ＮＨ） ６、　１８−６．０２　（ＩＨ，ｍ、　Ｃ１’　−Ｈ）
４−　２７　４−　１５　（４Ｈｌｍ、　　Ｃ３’　。

４・、５・　−Ｈ） ３．７２　（２Ｈ，ｄ、Ｊ”’６Ｈ２，Ｃ０ＣＨ２）２
、４０　２．２７　（２Ｈ，ｍ、　Ｃ２’　　Ｈ）１．
３７　（９Ｈ，ｓ、ＣＨ３Ｘ３） 次いで、上記化合物を実施例１と同様に４Ｎ塩酸−ジオ
キサン混合物中で処理し、２′−デオキシ−５−フルオ
ロ−５′−〇−グリシルー３′−〇−（３，４，５−）
ジブロモ−２−テニル）ウリジン塩酸塩を得た。

収率：９６％ 性状：吸湿性粉末 元素分析：Ｃ１６Ｈｌ　５　Ｂｒ３　ＦＮ３０６　Ｓ・
）ＩＣ／！−Ｈ２０として 計算値：　Ｃ，２７，８３％：　Ｈ，２，６３％：　Ｎ
、　８．０８％実測値：Ｃ，２７゜５１％二Ｈ，２，８
２％：　Ｎ、　５．９４％ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）
：δ １１．８６　（ＩＨ，ｂｓ、Ｎａ　−Ｈ）８．４１　（
３Ｈ，ｂｓ、ＮＨ２，ＨＣ／り７．９９　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃ６Ｈ）６．２１−６．０７　（ＬＨ，ｍ
、Ｃ１’　−Ｈ）４．４２−４．１５　　（４Ｈ，ｍ、
Ｃ３’　　。

Ｃ４’　　ｒ　　Ｃｓ　’　　　Ｈ） ３．８４　　（２Ｈ，ｂ　ｓ、ＣＯＣＨ２）２．５４　
２．３７　　（ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ，ＤＭＳＯに重複） 実施例３２ ２′−デオキシ−３’−〇−（４，５−ジクロロ−２−
テニル）−５−フルオロウリジン、５’　−０−［Ｎ　
−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシル］−２′−デオ
キシ−３’　−〇−（４゜５−ジクロロ−２−テニル）
−５−フルオロウリジン及び２′−デオキシ−３’　−
０−（４゜５−ジクロロ−２−テニル）−５−フルオロ
−５′−〇−グリシルウリジン塩酸塩の製造２′−デオ
キシ−５−フルオロ−５’−０−トリチルウリジン５．
００ｇのジオキサン１００軛溶液に水酸化カリウムの細
粉２．５０ｇ及び２゜３−ジクロロ−５−クロロメチル
チオフェン２．５０ｇを加え、８０℃で２時間攪拌した
。反応溶液を濃縮後、残渣を酢酸エチル１００ＴＩｌｆ
２に溶解し、酢酸水溶液で洗浄後、乾燥、濃縮した。残
渣に８０％酢酸１００軛を加え、８０℃で１時間放置し
た。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムを用い、２
％メタノール−クロロホルムで溶出して精製し、目的と
する２′−デオキシ−３′−〇−（４，５−ジクロロ−
２−テニル）−５−フルオロウリジン３．１２ｇ　（７
４％）を得た。

融点＝１４７〜１４９℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）：δ １１．８１　（ＩＨ，ｂｄ、ＮＨ） ８．１８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　−Ｈ）６．
１８　６．０４　（ＩＨ，ｍ、Ｃ＋　’　　Ｈ）５．２
０　（ＩＨ，ｂｓ、Ｃｓ’　　Ｈ）４、’　　２２　　
（ＬＨ，ｂｓ、Ｃａ’　　　Ｈ）４．０１　　（ＩＨ，
ｂｓ、Ｃ４’　　　Ｈ）３．６１　　（２Ｈ，ｂｓ、Ｃ
ｓ’　　　Ｈ）２．２９−２．１６　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２
’　　−Ｈ）次にＮ−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリ
シン０．６６ｇのアセトニトリル３０１ｄ溶液に１，３
−ジシクロへキシルカルボジイミド０．４７ｇを加え、
水冷下２時間攪拌した。

反応溶液を濾過濃縮し、残渣にピリジン３０ｍｅ及び２
′−デオキシ−３’　−０−（４，５−ジクロロ−２−
テニ／ｌ、）　−５−フルオロウリジン０．３６ｇを加
え、室温下１２時間反応させた。

溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル３０１１ｄに溶解し飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した
。無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去した。得られ
た残渣をシリカゲルカラムを用い、１％メタノール−ク
ロロホルムで溶出して精製し、目的とする５’　−０−
［Ｎ　−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリジルコ−２′
−デオキシ−３′−〇−（４，５−ジクロロ−２−テニ
ル）−５−フルオロウリジン０．３６ｇ　（７２％）を
得た。

性状：粉末 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）：δ １１．８６　（ＩＨ，ｂｄ、Ｎ５−Ｈ）７．９２　（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　−Ｈ）７．２９−７．１２
　（２Ｈ，ｍ、ＮＨ。

６．２１−６．０７　（ＬＨ，ｍ、　Ｃ１’　−Ｈ）４
．３１−４．１２　（４Ｈ，ｍ、Ｃ３’　。

４’＋５’　　Ｈ） ３．７２　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、ＣＯＣＨ２）２．
３６　２．２４　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ）１．３
７　　（９Ｈ，ｓ、ＣＨ３Ｘ３）次いで、上記化合物を
実施例１と同様に４Ｎ塩酸−ジオキサン混合物中で処理
し、２′−デオキシ−３’　−０−（４，５−ジクロロ
−２−テニル）＝５−フルオロ−５’　　−ｏ−グリシ
ルウリジン塩酸塩０．２８ｇ　（９６％）を得た。

性状：吸湿性粉末 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ １１．８６　（ＩＨ，ｂｓ、Ｎ３−Ｈ）８．７３　（３
Ｈ，ｂｓ、ＮＨ２，ＨＣｆｆｉ）８．０３　（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝７Ｈｚ、Ｃｓ　　Ｈ）６．２１−６．０８　（Ｉ
Ｈ，ｍ、Ｃ１’　−Ｈ）４−４１　４．１６　（４Ｈｌ
ｍ、Ｃ３’　ｒ　　Ｃ４／　　、Ｃ５／　　　Ｈ） ３．８３　　（２Ｈ，ｂ　ｓ、ＣＯＣＨ２）２．４２　
２．３２　　（２Ｈ，ｍ、Ｃ２’　　　Ｈ）薬理試験例 ＩＣＲ系マウスに腹水として、継代したザルコーマ（Ｓ
　ａｒｃｏｍａ）　−１８０を、生理食塩水で希釈して
１匹当り２Ｘ１０７個となる貴を同系マウスの背部皮下
に移植し実験に供した。腫瘍移植２４時間後より１日１
回、７日間、滅菌した生理食塩水に溶解した下記供試化
合物を連日尾静脈より投与した。

腫瘍移植１００日間背部皮下の固型癌を摘出し、腫瘍重
量を測定し、薬剤投与群の腫瘍重量（Ｔ）と薬剤未投与
の対照群の腫瘍重量（Ｃ）との比（Ｔ／Ｃ）を求め、薬
剤投与量と読比（Ｔ／Ｃ）の用量−反応曲線よりＴ／Ｃ
が０．５となる５０％腫瘍抑制用ｍ　（Ｅ　Ｄ　５０値
）を求めた。結果を第７表に示す。

く供試化合物１〉 ３’−０−（３−クロロ−２−テニル）−２′−デオキ
シ−５−フルオロ−５′−０−グリシルウリジン塩酸塩 く供試化合物２〉 ３’−０−（３−ブロモ−２−テニル）−２′−デオキ
シー５−フルオロ−５’　−ｏ−グリシルウリジン塩酸
塩 く供試化合物３〉 ５’　−０−Ｄ−アラニル−３’　−０−（５−クロロ
−２−テニル）−２７−ジオキシ−５−フルオロウリジ
ン塩酸塩 〈供試化合物４〉 ５’　−０−（５−クロロ−２−テニル）−２′−デオ
キシ−５−フルオロ−３′−〇−グリシルウリジン塩酸
塩 第７表 以下、本発明化合物を用いた製剤例を挙げる。

製剤例１ 実施例１の最終の化合物　　　　　５０ｍｇ乳　　糖　
　　　　　　　　　　　　　　９７ｍｇ結晶セルロース
　　　　　　　　　５０ｍｇステアリン酸マグネシウム
　　　　　３ｎ＋ｇ上記配合割合で１カプセル当たり２
００ｍｇのカプセル剤を調製する。

製剤例２ 実施例４の最終の化合物　　　　　　１０ｍｇ乳　　糖
　　　　　　　　　　　　　　　　１８４ｍｇ結晶セル
ロース　　　　　　　　　１００ｍｇステアリン酸マグ
ネシウム　　　　　　６ｍｇ上記配合割合で１カプセル
当たり３００ｍｇのカプセル剤を調製する。

製剤例３ 実施例６の化合物　　　　　　　　　１０ｍｇ乳　　糖
　　　　　　　　　　　　　　　　２４０　ｍｇコーン
スターチ　　　　　　　　　３４０ｍｇヒドロキシプロ
ピルセルロース　　　　１０ｍｇ０ｍｇ上記配で１包当
たり６０Ｑｍｇの顆粒剤を調製する。

製剤例４ 実施例２の化合物　　　　　　　　　１０ｍｇマクロゴ
ール３００　　　　　　　５００ｍｇ注射用蒸留水　　
　　　　　　　　適量上記配合割合で１アンプル当たり
５ｍｇの注射用剤を調製する。

（以　上）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ［１］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中Ｒ＾１及びＲ＾２は一方がフラン環又はチオフェ
   ン環上に置換基としてカルボキシル基、ハロゲン原子及
   び低級アルキル基なる群から選ばれた基を１〜３個有す
   ることのあるフラニル低級アルキル基又はチエニル低級
   アルキル基を示し、他方は置換基として基 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＾３及びＲ＾４
   は夫々水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシカル
   ボニル基又はフェニル低級アルコキシカルボニル基を示
   す。）、カルボキシル基、低級アルキルチオ基、フェニ
   ル環上に置換基として水酸基又はフェニル低級アルコキ
   シ基を有するフェニル基、及びフェニル低級アルコキシ
   カルボニル基なる群から選ばれた基を１〜２個有する低
   級アルカノイル基、又は低級アルコキシカルボニル基を
   有することのあるピロリジニルカルボニル基を示す。］ で表わされる２′−デオキシ−５−フルオロウリジン誘
   導体又はその塩。