JPH0580451B2

JPH0580451B2 -

Info

Publication number: JPH0580451B2
Application number: JP85269171A
Authority: JP
Inventors: Setsuo Fujii
Original assignee: Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1984-11-30
Filing date: 1985-11-27
Publication date: 1993-11-09
Also published as: JPS62155215A

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野本発明は抗腫瘍活性増強剤に関する。従来の技術本発明抗腫瘍活性増強剤の有効成分化合物は、
従来これらがかかる抗腫瘍活性増強作用を有する
ことにつき全く知られていない。発明が解決しようとする問題点本発明者等は５−フルオロウラシル（５−FU）
等の抗腫瘍剤の効力の向上、低毒性化等を企てる
べく鋭意検討を重ねた結果、ある種のピリジン誘
導体が、これを上記５−FU等の抗腫瘍剤有効成
分化合物と併用することによつて該化合物の抗腫
瘍活性を極めて強く増強する作用を発揮すること
を見い出した。本発明はこの知見により完成され
たものである。問題点を解決するための手段本発明によれば、一般式

【式】〔式中R¹は水酸基又はアシルオキシ基を示す。
R²及びR⁴は夫々水素原子、ハロゲン原子、アミ
ノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、シアノ
基、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルケニル
基又は低級アルコキシカルボニル基を示す。R³
及びR⁵は夫々水素原子、水酸基又はアシルオキ
シ基を示す。またR¹、R³及びR⁵のうち少なくと
も１つが水酸基の場合には、ケト・エノール互変
異性によりピリジン環の１位は

【式】の構造を取ることができ、該水素原子は低級アルキル基、テ
トラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル
基、低級アルコキシ低級アルキル基、フタリジル
基、カルバモイル基、低級アルコキシカルボニル
低級アルキルカルバモイル基、フエニル低級アル
コキシ低級アルキル基、フエニル環上に置換基を
有することのあるフエニルカルバモイル基、低級
アルキルカルバモイル基、カルボキシル低級アル
キルカルバモイル基、低級アルキルチオ低級アル
キル基及び低級アルケニル基からなる群から選ば
れた置換基で置換されていてもよい。但し一般式

【式】（式中αは水素原子、低級アルキル基、テトラ
ヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、低
級アルコキシ低級アルキル基、低級アルキルカル
バモイル基、低級アルキルチオ低級アルキル基又
は低級アルケニル基を示す。）で表わされる化合物を除く。〕で表わされるピリジン誘導体を含有し、５−フル
オロウラシル及び生体内で５−フルオロウラシル
生成能を有する化合物から選ばれた抗腫瘍化合物
の抗腫瘍活性増強剤が提供される。好ましいピリジン誘導体としては、４−アセト
キシ−５−クロロ−２−ピリドン、４−ベンゾイ
ルオキシ−５−クロロ−２−ピリドン、５−クロ
ロ−４−（２−フロイルオキシ）−２−ピリドン、
２−アセトキシ−５−クロロ−４−ヒドロキシピ
リジン、２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−４
−ヒドロキシピリジン、５−クロロ−４−ヒドロ
キシ−１−（２−テトラヒドロフラニル）−２−ピ
リドン、４−ベンゾイルオキシ−３−クロロ−１
−（２−テトラヒドロフラニル）−２−ピリドン、
４−ベンゾイルオキシ−２−ピリドン、５−クロ
ロ−２，４−ジアセトキシピリジン、６−ベンゾ
イルオキシ−３−シアノ−２−ヒドロキシピリジ
ン、３−シアノ−６−（２−フロイルオキシ）−２
−ヒドロキシピリジン、３−シアノ−２−ヒドロ
キシ−６−（２−テノイルオキシ）ピリジン、６
−ベンゾイルオキシ−３−クロロ−２−ヒドロキ
シピリジン等を例示できる。より好ましくは、６
−ベンゾイルオキシ−３−シアノ−２−ヒドロキ
シピリジン、６−ベンゾイルオキシ−３−クロロ
−２−ヒドロキシピリジン、４−アセトキシ−５
−クロロ−２−ピリドン、４−ベンゾイルオキシ
−５−クロロ−２−ピリドン等を例示できる。本発明の上記一般式(1)で表わされるピリジン誘
導体は、これを下記一般式（２−ａ）及び（２−
ｂ）で表わされる５−FU及び生体内で５−FU生
成能を有する化合物等の公知の制癌活性化合物と
併用することによつて、該化合物の抗腫瘍活性を
顕著に増強できる。使用される公知制癌活性化合物としては、 (a) 一般式

【式】〔式中R^a及びR^a′は夫々同一もしくは異なつて
水素原子、フタリジル基、テトラヒドロフラニル
基、テトラヒドロピラニル基、低級アルキルカル
バモイル基、低級アルコキシ低級アルキル基、フ
エニル低級アルコキシ低級アルキル基、アシル基
又は基

【式】を示す。該基においてR^b、R^c及びR^d夫々同一もしくは異なつて、水
素原子、水酸基、フエニル低級アルコキシ基、フ
エニル低級アルコキシ低級アルキルオキシ基、低
級アルカノイルオキシ基、アロイルオキシ基又は
フエニル環上に低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ニトロ基及びハロゲン原子から選ばれる置換
基の１〜３個を有することのあるアリルオキシカ
ルボニルオキシ基を示す。またR^b及びR^cが同時
に水酸基である場合、R^b及びR^cは、アルキリデ
ン基又はアリーリデン基を介して結合し、アルキ
リデンジオキシ基又はアリーリデンジオキシ基を
形成してもよい。但し、R^bが水素原子のとき、
R^c及びR^dは一方がフエニル低級アルコキシ基で
他方が低級アルカノイルオキシ基又はアロイルオ
キシ基であつてはならない。〕で表わされる５−フルオロウラシル化合物及び (b) 一般式

【式】〔式中Q¹は低級アルコキシカルボニル基を示
し、Q²が低級アルコキシ基又は基

【式】を示す。〕で表わされる化合物を挙げることができる。上記一般式（２−ａ）及び（２−ｂ）で表わさ
れる化合物としては、５−フルオロウラシル（５
−FU）、１−（２−テトラヒドロフラニル）−５−
フルオロウラシル（FT−207）、１−ヘキシルカ
ルバモイル−５−フルオロウラシル（HCFU）、
１−エトキシメチル−５−フルオロウラシル
（OFU）、５−フルオロウリジン（FUR）、5′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン（5′DFUR）、
2′−デオキシ−５−フルオロ−３−（３，４−メ
チレンジオキシベンゾイル）ウリジン（TK−
117）、2′−デオキシ−５−フルオロ−3′，5′−ビ
ス−０−（４−メトキシフエノキシカルボニル）−
３−（ｎ−プロポキシベンゾイル）ウリジン（FF
−707）、エチル（±）−６−ｔ−ブトキシ−５−
フルオロ−２，４−ジオキソヘキサヒドロピリミ
ジン−γ−５−カルボキシレート（TAC−278）、
１−フタリジル−５−フルオロウラシル、2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン（FUDR）、エチ
ル５−フルオロ−６−（ｅ）−（２−フルフリリデ
ン−アミノキシ）−１，２，３，４，５，６−ヘ
キサヒドロ−２，４−ジオキソピリミジン−５−
カルボキシレート、エチル５−フルオロ−６−
（ｚ）−（２−フルフリリデン−アミノキシ）−１，
２，３，４，５，６−ヘキサヒドロ−２，４−ジ
オキソピリミジン−５−カルボキシレート等を例
示できる。特に好ましい化合物としては、５−
FU、１−（２−テトラヒドロフラニル）−５−フ
ルオロウラシル、１−フタリジル−５−フルオロ
ウラシル、5′−デオキシ−５−フルオロウラシ
ル、５−フルオロウリジン、2′−デオキシ−５−
フルオロウリジン、１−ｎ−ヘキシルカルバモイ
ル−５−フルオロウラシル等を例示できる。また本発明のピリジン誘導体(1)は、本発明者が
別途に合成した優れた抗腫瘍活性作用を奏する下
記一般式(3)で表わされる2′−デオキシ−５−フル
オロウリジン誘導体との併用によつて、該化合物
の抗腫瘍活性を増強することができる。

【式】〔式中R^e及びR^fは一方がフエニル環上に低級
アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子、
カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基及
びジ（低級アルキル）アミノ基から選ばれる置換
基を有することのあるフエニル低級アルキル基又
は置換基として低級アルキレンジオキシ基又はフ
エニル基を有するフエニル低級アルキル基、フエ
ニル低級アルケニル基又はナフチル低級アルキル
基を示し、他方が水素原子又はアシル基を示す。
R^gは水素原子、アシル基又はテトラヒドロフラ
ニル基を示す。）上記一般式(3)で表わされる化合物のうち好まし
い化合物としては、3′−０−ベンジル−2′−デオ
キシ−５−フルオロウリジン、３−ベンゾイル−
3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオロ
ウリジン、5′−０−アセチル−3′−０−ベンジル
−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン、2′−デ
オキシ−3′−０−（４−クロロベンジル）−５−フ
ルオロウリジン等を例示できる。本明細書において定義される各基は、夫々以下
の通りである。ａ）低級アルキル基としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキ
ル基を、ｂ）低級アルコキシ基としては、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基を、
ｃ）低級アルケニル基としては、ビニル、アリ
ル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチルア
リル、２−ペンテニル、２−ヘキセニル基等の炭
素数２〜６のアルケニル基を、ｄ）ハロゲン原子
としては、フツ素、塩素、臭素、沃素原子を夫々
例示できる。以下、本明細書に用いる之等各基
は、上記と同様の意味を有するものとする。一般式(1)、（２−ａ）、（２−ｂ）及び(3)の置換
基としては以下のものが例示できる。１低級アルキルカルバモイル基としては、Ｎ−
メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイ
ル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−イソプロ
ピルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、
Ｎ−ｔ−ブチルカルバモイル、Ｎ−ペンチルカ
ルバモイル、Ｎ−ヘキシルカルバモイル、Ｎ，
Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチル
カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイ
ル、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルカルバモイ
ル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ
−メチル−Ｎ−ペンチルカルバモイル、Ｎ−プ
ロピル−Ｎ−ペンチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−
ジペンチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ヘ
キシルカルバモイル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−ペン
チルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルカルバ
モイル基等の炭素数１〜６のアルキル基の１〜
２個を有するアルキルカルバモイル基を例示で
きる。２フエニル環上に置換基を有することのあるフ
エニルカルバモイル基としては、Ｎ−（２−ク
ロルフエニル）カルバモイル、Ｎ−（３，５−
ジクロルフエニル）カルバモイル、Ｎ−（３−
メトキシフエニル）カルバモイル、Ｎ−（４−
プロポキシフエニル）カルバモイル、Ｎ−（２
−メチルフエニル）カルバモイル、Ｎ−（４−
エチルフエニル）カルバモイル、Ｎ−（３−イ
ソプロピルフエニル）カルバモイル、Ｎ−（４
−ヘキシルフエニル）カルバモイル、Ｎ−フエ
ニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジフエニルカルバ
モイル基等のフエニル環上にハロゲン原子、低
級アルコキシ基及び低級アルキル基からなる群
から選ばれた置換基１〜３個を有することのあ
るフエニル基１個又は２個を有するカルバモイ
ル基を例示できる。３低級アルコキシカルボニル基としては、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、
ｔ−ブトキシカルボニル、ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
シカルボニル基等の炭素数１〜６のアルコキシ
基を有するカルボニル基を例示できる。４低級アルコキシ低級アルキル基としては、メ
トキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメ
チル、ブトキシメチル、ｔ−ブトキシメチル、
ペンチルオキシメチル、ヘキシルオキシメチ
ル、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピ
ル、４−エトキシブチル、６−プロポキシヘキ
シル、５−イソプロポキシペンチル、１，１−
ジメチル−２−ブトキシエチル、２−メチル−
３−ｔ−ブトキシプロピル、２−ペンチルオキ
シエチル、２−ヘキシルオキシエチル基等のア
ルコキシ部分及びアルキル部分が夫々炭素数１
〜６であるアルコキシアルキル基を例示でき
る。５低級アルコキシカルボニル低級アルキルカル
バモイル基としては、メトキシカルボニルメチ
ルカルバモイル、エトキシカルボニルメチルカ
ルバモイル、プロポキシカルボニルメチルカル
バモイル、ブトキシカルボニルメチルカルバモ
イル、ｔ−ブトキシカルボニルメチルカルバモ
イル、ペンチルオキシカルボニルメチルカルバ
モイル、ヘキシルオキシカルボニルメチルカル
バモイル、１−（メトキシカルボニル）エチル
カルバモイル、２−（メトキシカルボニル）エ
チルカルバモイル、３−メトキシカルボニルプ
ロピルカルバモイル、４−エトキシカルボニル
ブチルカルバモイル、６−プロポキシカルボニ
ルヘキシルカルバモイル、５−イソプロポキシ
カルボニルペンチルカルバモイル、１，１−ジ
メチル−２−ブトキシカルボニルエチルカルバ
モイル、２−メチル−３−ｔ−ブトキシカルボ
ニルプロピルカルバモイル、２−ペンチルオキ
シカルボニルエチルカルバモイル、２−ヘキシ
ルオキシカルボニルエチルカルバモイル基等の
アルコキシ部分が炭素数１〜６であつて且つア
ルキル部分が炭素数１〜６であるアルコキシカ
ルボニルアルキル基が１個置換されたカルバモ
イル基を例示できる。６低級アルキルチオ低級アルキル基としては、
例えば、メチルチオメチル、エチルチオメチ
ル、プロピルチオメチル、ブチルチオメチル、
ｔ−ブチルチオメチル、ペンチルチオメチル、
ヘキシルチオメチル、メチルチオエチル、メチ
ルチオプロピル、メチルチオブチル、メチルチ
オペンチル、メチルチオヘキシル、エチルチオ
エチル、エチルチオブチル、プロピルチオヘキ
シル基等を例示できる。７フエニル低級アルコキシ低級アルキル基とし
ては、ベンジルオキシメチル、１−ベンジルオ
キシエチル、２−ベンジルオキシエチル、３−
ベンジルオキシプロピル、４−ベンジルオキシ
ブチル、５−ベンジルオキシペンチル、６−ベ
ンジルオキシヘキシル、α−フエネチルオキシ
メチル、β−フエネチルオキシメチル、３−フ
エニルプロポキシメチル、４−フエニルブチル
オキシメチル、５−フエニルペンチルオキシメ
チル、６−フエニルヘキシルオキシメチル、２
−（β−フエネチルオキシ）エチル基等のアル
キル部分及びアルコキシ部分が夫々炭素数１〜
６であるフエニルアルコキシアルキル基を例示
できる。８テトラヒドロフラニル基としては、２−テト
ラヒドロフラニル、３−テトラヒドロフラニル
基等を例示できる。９テトラヒドロピラニル基としては、２−テト
ラヒドロピラニル、３−テトラヒドロピラニ
ル、４−テトラヒドロピラニル基等を例示でき
る。 10 カルボキシル低級アルキルカルバモイル基と
しては、Ｎ−（カルボキシルメチル）カルバモ
イル、Ｎ−（２−カルボキシルエチル）カルバ
モイル、Ｎ−（３−カルボキシルプロピル）カ
ルバモイル、Ｎ−（２−メチル−２−カルボキ
シルエチル）カルバモイル、Ｎ−（４−カルボ
キシルブチル）カルバモイル、Ｎ−（２−メチ
ル−３−カルボキシルプロピル）カルバモイ
ル、Ｎ−（２，２−ジメチル−２−カルボキシ
ルエチル）カルバモイル、Ｎ−（５−カルボキ
シルペンチル）カルバモイル、Ｎ−（６−カル
ボキシルヘキシル）カルバモイル等を例示でき
る。 11 ナフチル低級アルキル基としては、α−ナフ
チルメチル−β−ナフチルメチル、２−（α−
ナフチル）エチル、３−（β−ナフチル）プロ
ピル、４−（α−ナフチル）ブチル、５−（β−
ナフチル）ペンチル、６−（α−ナフチル）ヘ
キシル、３−（α−ナフチル）−２−メチルプロ
ピル、１−（α−ナフチル）エチル基等を例示
することができる。 12 一般式（２−ａ）の化合物のR^a又はR^a′で表
わされるアシル基及び一般式(1)の化合物のR¹，
R³、又はR⁵で表わされるアシルオキシ基のア
シル基としては、置換基としてフエニル低級ア
ルコキシカルボニル基、低級アルキルカルバモ
イル基、フエニル基又はフエノキシ基を有する
ことのある炭素数１〜20個のアルカノイル基；
置換基としてハロゲン原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、ニトロ基、フエニル低級ア
ルコキシカルボニル基、カルボキシル基、水酸
基、グアニジル基、低級アルキル基で置換され
ることのあるアミノ基及びフエニル低級アルコ
キシ基からなる群から選ばれた基の１〜３個又
は低級アルキレンジオキシ基を有することのあ
るアリールカルボニル基；低級アルコキシカル
ボニル基；フエノキシカルボニル基；ピリジル
カルボニル基；チエニルカルボニル基；フラニ
ルカルボニル基等を例示できる。之等各基の具
体例を次に示す。 (i) 置換基としてフエニル低級アルコキシカル
ボニル基、低級アルキルカルバモイル基、フ
エニル基又はフエノキシ基を有することのあ
る炭素数１〜20個のアルカノイル基として
は、例えばホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイ
ル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノ
イル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノ
イル、ドデカノイル、トリデカノイル、テト
ラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデ
カノイル、ヘプタデカノイル、オクタデカノ
イル、ノナデカノイル、エイコサノイル基等
の炭素数１〜20の未置換アルカノイル基を例
示できる。また炭素数１〜20の置換アルカノ
イル基としては、例えばα−ベンジルオキシ
カルボニルアセチル、２−ベンジルオキシカ
ルボニルプロピオニル、３−ベンジルオキシ
カルボニルプロピオニル、４−ベンジルオキ
シカルボニルブチリル、５−ベンジルオキシ
カルボニルペンタノイル、６−ベンジルオキ
シカルボニルヘキサノイル、３−（α−フエ
ネチルオキシカルボニル）プロピオニル、３
−（β−フエネチルオキシカルボニル）プロ
ピオニル、５−（ベンジルオキシカルボニル）
ヘキサノイル、７−（ベンジルオキシカルボ
ニル）ヘプタノイル、８−（α−フエネチル
オキシカルボニル）オクタノイル、９−（β
−フエネチルオキシカルボニル）ノナノイ
ル、10−（ベンジルオキシカルボニル）デカ
ノイル、11−（β−フエネチルオキシカルボ
ニル）トリデカノイル、15−（ベンジルオキ
シカルボニル）ペンタデカノイル、17−（ベ
ンジルオキシカルボニル）ヘプタデカノイ
ル、20−（ベンジルオキシカルボニル）エイ
コサノイル、メチルカルバモイルアセチル、
エチルカルバモイルアセチル、プロピルカル
バモイルアセチル、ブチルカルバモイルアセ
チル、ｔ−ブチルカルバモイルアセチル、ペ
ンチルカルバモイルアセチル、ヘキシルカル
バモイルアセチル、メチルカルバモイルプロ
ピオニル、エチルカルバモイルブチリル、プ
ロピルカルバモイルペンタノイル、エチルカ
ルバモイルヘキサノイル、エチルカルバモイ
ルヘプタノイル、メチルカルバモイルオクタ
ノイル、エチルカルバモイルノナノイル、メ
チルカルバモイルデカノイル、メチルカルバ
モイルトリデカノイル、エチルカルバモイル
ペンタデカノイル、メチルカルバモイルヘプ
タデカノイル、メチルカルバモイルエイコサ
ノイル基等を例示できる。 (ii) 置換基としてはハロゲン原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、フエニ
ル低級アルコキシカルボニル基、カルボキシ
ル基、低級アルキレンジオキシ基、水酸基、
グアニジル基及び低級アルキル基で置換され
ることのあるアミノ基からなる群から選ばれ
た基を有することのあるアリールカルボニル
基としては、例えばベンゾイル、２−クロロ
ベンゾイル、３−クロロベンゾイル、４−ク
ロロベンゾイル、２−フルオロベンゾイル、
４−フルオロベンゾイル、２−ブロモベンゾ
イル、２，３−ジクロロベンゾイル、３，４
−ジクロロベンゾイル、２，５−ジクロロベ
ンゾイル、３，４，５−トリクロロベンゾイ
ル、３，４−ジブロモベンゾイル、３−ブロ
モベンゾイル、２−メチルベンゾイル、３−
メチルベンゾイル、２，３−ジメチルベンゾ
イル、４−メチルベンゾイル、３，４−ジメ
チルベンゾイル、２−エチルベンゾイル、４
−エチルベンゾイル、３，４，５−トリメチ
ルベンゾイル、３−プロピルベンゾイル、２
−ブチルベンゾイル、４−ペンチルベンゾイ
ル、３−ヘキシルベンゾイル、２−メトキシ
ベンゾイル、３−メトキシベンゾイル、３，
５−ジメトキシベンゾイル、３，４−ジメト
キシベンゾイル、３，４，５−トリメトキシ
ベンゾイル、２，３−ジメトキシベンゾイ
ル、４−メトキシベンゾイル、２−エトキシ
ベンゾイル、３−エトキシベンゾイル、４−
エトキシベンゾイル、３−プロポキシベンゾ
イル、４−ブトキシベンゾイル、２−ペンチ
ルオキシベンゾイル、３−ヘキシルオキシベ
ンゾイル、２−ニトロベンゾイル、２，４−
ジニトロベンゾイル、４−ニトロベンゾイ
ル、２−ベンジルオキシカルボニルベンゾイ
ル、３−ベンジルオキシカルボニルベンゾイ
ル、４−ベンジルオキシカルボニルベンゾイ
ル、３−（α−フエネチルオキシカルボニル）
ベンゾイル、４−（Ｂ−フエネチルオキシカ
ルボニル）ベンゾイル、４−（３−フエニル
プロポキシカルボニル）ベンゾイル、４−
（６−フエニルヘキシルオキシカルボニル）
ベンゾイル、２−カルボキシベンゾイル、３
−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベ
ンゾイル、２，３−メチレンジオキシベンゾ
イル、３，４−メチレンジオキシベンゾイ
ル、２，３−エチレンジオキシベンゾイル、
３，４−エチレンジオキシベンゾイル、２−
ヒドロキシベンゾイル、３−ヒドロキシベン
ゾイル、２，３−ジヒドロキシベンゾイル、
３，４−ジヒドロキシベンゾイル、３，４，
５−トリヒドロキシベンゾイル、４−ヒドロ
キシベンゾイル、２−グアニジルベンゾイ
ル、３−グアニジルベンゾイル、４−グアニ
ジルベンゾイル、２−アミノベンゾイル、３
−アミノベンゾイル、４−アミノベンゾイ
ル、２−メチルアミノベンゾイル、３−メチ
ルアミノベンゾイル、４−メチルアミノベン
ゾイル、２−エチルアミノベンゾイル、３−
プロピルアミノベンゾイル、４−ブチルアミ
ノベンゾイル、３−ペンチルアミノベンゾイ
ル、４−ヘキシルアミノベンゾイル、２−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾイル、３
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾイル、
４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾイル、
３−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）ベン
ゾイル、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ベ
ンゾイル、３−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）
ベンゾイル、４−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）
ベンゾイル、４−（Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミ
ノ）ベンゾイル、４−（Ｎ，Ｎ−ジヘキシル
アミノ）ベンゾイル、２−（ベンジルオキシ）
ベンゾイル、３−（ベンジルオキシ）ベンゾ
イル、４−（ベンジルオキシ）ベンゾイル、
２−（α−フエネチルオキシ）ベンゾイル、
３−（α−フエネチルオキシ）ベンゾイル、
４−（α−フエネチルオキシ）ベンゾイル、
２−（β−フエネチルオキシ）ベンゾイル、
３−（β−フエネチルオキシ）ベンゾイル、
４−（β−フエネチルオキシ）ベンゾイル、
４−（３−フエニルプロポキシ）ベンゾイル、
４−（４−フエニルブトキシ）ベンゾイル、
４−（５−フエニルペンチルオキシ）ベンゾ
イル、４−（６−フエニルヘキシルオキシ）
ベンゾイル、α−ナフチルカルボニル、β−
ナフチルカルボニル、２−クロロ−１−ナフ
チルカルボニル、４−クロロ−１−ナフチル
カルボニル、６−クロロ−１−ナフチルカル
ボニル、８−クロロ−１−ナフチルカルボニ
ル、５−フルオロ−１−ナフチルカルボニ
ル、４−ブロモ−１−ナフチルカルボニル、
１−クロロ−２−ナフチルカルボニル、４−
ブロモ−２−ナフチルカルボニル、６−フル
オロ−２−ナフチルカルボニル、４−メチル
−１−ナフチルカルボニル、５−エチル−１
−ナフチルカルボニル、１−メチル−２−ナ
フチル−カルボニル、５−メチル−２−ナフ
チルカルボニル、８−エチル−２−ナフチル
カルボニル、４−メトキシ−１−ナフチルカ
ルボニル、５−エトキシ−２−ナフチルカル
ボニル、３−ニトロ−１−ナフチルカルボニ
ル、６−ニトロ−１−ナフチルカルボニル、
４−ニトロ−２−ナフチルカルボニル、５−
ニトロ−２−ナフチルカルボニル、３−ベン
ジルオキシカルボニル−１−ナフチルカルボ
ニル、６−（α−フエネチルオキシカルボニ
ル）−１−ナフチルカルボニル、４−ベンジ
ルオキシカルボニル−２−ナフチルカルボニ
ル、５−（α−フエネチルオキシカルボニル）
−２−（ナフチルカルボニル、３−カルボキ
シ−１−ナフチルカルボニル、６−カルボキ
シ−１−ナフチルカルボニル、４−カルボキ
シ−２−ナフチルカルボニル、５−カルボキ
シ−２−ナフチルカルボニル、２，３−メチ
レンジオキシ−１−ナフチルカルボニル、
３，４−メチレンジオキシ−１−ナフチルカ
ルボニル、５，６−メチレンジオキシ−１−
ナフチルカルボニル、６，７−メチレンオキ
シ−１−ナフチルカルボニル、７，８−メチ
レンジオキシ−１−ナフチルカルボニル、
３，４−メチレンジオキシ−２−ナフチルカ
ルボニル、５，６−メチレンジオキシ−２−
ナフチルカルボニル、６，７−メチレンジオ
キシ−２−ナフチルカルボニル、７，８−メ
チレンジオキシ−２−ナフチルカルボニル、
３，４−エチレンジオキシ−１−ナフチルカ
ルボニル、５，６−エチレンジオキシ−２−
ナフチルカルボニル、２−ヒドロキシ−１−
ナフチルカルボニル、３−ヒドロキシ−１−
ナフチルカルボニル、４−ヒドロキシ−１−
ナフチルカルボニル、５−ヒドロキシ−１−
ナフチルカルボニル、６−ヒドロキシ−１−
ナフチルカルボニル、７−ヒドロキシ−１−
ナフチルカルボニル、８−ヒドロキシ−１−
ナフチルカルボニル、１−ヒドロキシ−２−
ナフチルカルボニル、４−ヒドロキシ−２−
ナフチルカルボニル、５−ヒドロキシ−２−
ナフチルカルボニル、７−ヒドロキシ−２−
ナフチルカルボニル、２−グアニジル−１−
ナフチルカルボニル、３−グアニジル−１−
ナフチルカルボニル、５−グアニジル−１−
ナフチルカルボニル、６−グラニジル−１−
ナフチルカルボニル、８−グアニジル−１−
ナフチルカルボニル、１−グアニジル−２−
ナフチルカルボニル、４−グアニジル−２−
ナフチルカルボニル、６−グアニジル−２−
ナフチルカルボニル、８−グアニジル−２−
ナフチルカルボニル、２−アミノ−１−ナフ
チルカルボニル、３−アミノ−１−ナフチル
カルボニル、４−アミノ−１−ナフチルカル
ボニル、６−アミノ−１−ナフチルカルボニ
ル、４−アミノ−２−ナフチルカルボニル、
５−アミノ−１−ナフチルカルボニル、７−
アミノ−２−ナフチルカルボニル、８−アミ
ノ−２−ナフチルカルボニル、３−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）−２−ナフチルカルボニ
ル、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）−
１−ナフチルカルボニル、６−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）−１−ナフチルカルボニル、
７−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）−２−
ナフチルカルボニル、８−（Ｎ−メチル−Ｎ
−エチルアミノ）−１−ナフチルカルボニル、
２−ピリジルカルボニル、３−ピリジルカル
ボニル、４−ピリジルカルボニル、２−チエ
ニルカルボニル、３−チエニルカルボニル、
２−フラニルカルボニル、３−フラニルカル
ボニル基等を例示できる。 13 低級アルカノイルオキシ基としては例えばホ
ルミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニル
オキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキ
シ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ
基等を例示できる。 14 フエニル低級アルコキシ基としては、例え
ば、フエニルメトキシ、１−フエニルエトキ
シ、２−フエニルエトキシ、１−フエニルプロ
ポキシ、２−フエニルプロポキシ、３−フエニ
ルプロポキシ、３−フエニルブトキシ、４−フ
エニルブトキシ、５−フエニルペンチルオキ
シ、６−フエニルヘキシルオキシ基等を例示で
きる。 15 一般式(3)で表わされる化合物のR^e，R^fで定
義されるフエニル環上に低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ハロゲン原子及びカルボキシル
基から成る群から選ばれる置換基を有すること
のあるフエニル低級アルキル基としては例えば
ベンジル、２−メチルベンジル、３−メチルベ
ンジル、４−メチルベンジル、２−エチルベン
ジル、３−エチルベンジル、４−エチルベンジ
ル、２−プロピルベンジル、３−プロピルベン
ジル、４−プロピルベンジル、２−ブチルベン
ジル、３−ブチルベンジル、４−ブチルベンジ
ル、２−ｔ−ブチルベンジル、３−ｔ−ブチル
ベンジル、４−ｔ−ブチルベンジル、２−ペン
チルベンジル、３−ペンチルベンジル、４−ペ
ンチルベンジル、２−ヘキシルベンジル、３−
ヘキシルベンジル、４−ヘキシルベンジル、
２，３−ジメチルベンジル、２，４−ジメチル
ベンジル、２，５−ジメチルベンジル、２，６
−ジメチルベンジル、３，４−ジメチルベンジ
ル、３，５−ジメチルベンジル、２，３，４−
トリメチルベンジル、２，４，５−トリメチル
ベンジル、２，３，５−トリメチルベンジル、
２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５
−トリメチルベンジル、２，３−ジエチルベン
ジル、２，４−ジエチルベンジル、２，５−ジ
エチルベンジル、２，６−ジエチルベンジル、
２，４，６−トリエチルベンジル、２，４−ジ
プロピルベンジル、３，４，５−トリエチルベ
ンジル、３−メチル−４−エチルベンジル、１
−フエニルエチル、２−フエニルエチル、２−
フエニル−１−メチルエチル、１−（２−メチ
ルフエニル）エチル、２−（２−メチルフエニ
ル）エチル、２−（３−メチルフエニル）エチ
ル、２−（４−メチルフエニル）エチル、１−
（２，４−ジメチルフエニル）エチル、２−
（２，４−ジメチルフエニル）エチル、１−
（２，４，６−トリメチルフエニル）エチル、
２−（２，４，６−トリメチルフエニル）エチ
ル、３−フエニルプロピル、３−（４−メチル
フエニル）プロピル、４−フエニルブチル、４
−（２−メチルフエニル）ブチル、５−フエニ
ルペンチル、５−（３−メチルフエニル）ペン
チル、６−フエニルヘキシル、６−（４−メチ
ルフエニル）ヘキシル、２−メトキシベンジ
ル、３−メトキシベンジル、４−メトキシベン
ジル、２，３−ジメトキシベンジル、２，４−
ジメトキシベンジル、２，５−ジメトキシベン
ジル、３−メトキシ−４−エトキシベンジル、
２，６−ジメトキシベンジル、３，４−ジメト
キシベンジル、３，５−ジメトキシベンジル、
２，３，４−トリメトキシベンジル、２，４，
５−トリメトキシベンジル、２，３，５−トリ
メトキシベンジル、２，４，６−トリメトキシ
ベンジル、３，４，５−トリメトキシベンジ
ル、２−エトキシベンジル、４−プロポキシベ
ンジル、３−ブトキシベンジル、２−ｔ−ブト
キシベンジル、３−ペンチルオキシベンジル、
４−ヘキシルオキシベンジル、２，３−ジエト
キシベンジル、１−（４−メトキシフエニル）
エチル、２−（３，４−ジメトキシフエニル）
エチル、３−（４−メトキシフエニル）プロピ
ル、４−（２−メトキシフエニル）ブチル、５
−（４−メトキシフエニル）ペンチル、６−（４
−メトキシフエニル）ヘキシル、６−（３，４，
５−トリペンチルオキシフエニル）ヘキシル、
２−フルオロベンジル、３−フルオロベンジ
ル、４−フルオロベンジル、２，３−ジフルオ
ロベンジル、２，４−ジフルオロベンジル、
２，５−ジフルオロベンジル、２−フルオロ−
３−クロロベンジル、２−フルオロ−３−ブロ
モベンジル、２，６−ジフルオロベンジル、
２，３，４−トリフルオロベンジル、２，４，
５−トルフルオロベンジル、２，３，５−トリ
フルオロベンジル、２，４，６−トリフルオロ
ベンジル、３，４，５−トルフルオロベンジ
ル、１−（２−フルオロフエニル）エチル、２
−（２−フルオロフエニル）エチル、３−（３−
フルオロフエニル）プロピル、４−（２−フル
オロフエニル）ブチル、５−（２−フルオロフ
エニル）ペンチル、６−（３−フルオロフエニ
ル）ヘキシル、２−ブロモベンジル、３−ブロ
モベンジル、４−ブロモベンジル、２，３−ジ
ブロモベンジル、２−ブロモ−３−フルオロベ
ンジル、２−フルオロ−４−ブロモベンジル、
２，４−ジブロモベンジル、２，５−ジブロモ
ベンジル、２，６−ジブロモベンジル、２，
３，４−トリブロモベンジル、２，４，５−ト
リブロモベンジル、２，３，５−トリブロモベ
ンジル、２，４，６−トリブロモベンジル、
３，４，５−トリブロモベンジル、１−（２−
ブルモフエニル）エチル、２−（２−ブロモフ
エニル）エチル、３−（２−ブロモフエニル）
プロピル、４−（３−ブロモフエニル）ブチル、
５−（２−ブロモフエニル）ペンチル、６−（４
−ブロモフエニル）ヘキシル、２−クロロベン
ジル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジ
ル、２，３−ジクロロベンジル、２，４−ジク
ロロベンジル、２，５−ジクロロベンジル、
２，６−ジクロロベンジル、２−ブロモ−４−
クロロベンジル、２−フルオロ−４−クロロベ
ンジル、２，３，４−トリクロロベンジル、
２，４，５−トリクロロベンジル、２，３，５
−トリクロロベンジル、２，４，６−トリクロ
ロベンジル、３，４，５−トリクロロベンジ
ル、１−（４−クロロフエニル）エチル、２−
（４−クロロフエニル）エチル、３−（２−クロ
ロフエニル）プロピル、４−（４−クロロフエ
ニル）ブチル、５−（３−クロロフエニル）ペ
ンチル、６−（４−クロロフエニル）ヘキシル、
２−（３，４−ジクロロフエニル）エチル、２
−ヨードベンジル、３−ヨードベンジル、４−
ヨードベンジル、３，４−ジヨードベンジル、
３，４，５−トリヨードベンジル、２−（３−
ヨードフエニル）エチル、６−（２−ヨードフ
エニル）ヘキシル、２−カルボキシベンジル、
３−カルボキシベンジル、４−カルボキシベン
ジル、２，４−ジカルボキシベンジル、３，５
−ジカルボキシベンジル、２，６−ジカルボキ
シベンジル、２，４，６−トリカルボキシベン
ジル、３，４，５−トリカルボキシベンジル、
２−（２−カルボキシフエニル）エチル、２−
（３−カルボキシフエニル）エチル、２−（４−
カルボキシフエニル）エチル、２−（２，４−
ジカルボキシフエニル）エチル、２−（２，４，
６−トリカルボキシフエニル）エチル、１−
（４−カルボキシフエニル）エチル、１−（２，
４，６−トリカルボキシフエニル）エチル、３
−（２−カルボキシフエニル）プロピル、３−
（３−カルボキシフエニル）プロピル、３−（４
−カルボキシフエニル）プロピル、３−（２，
４−ジカルボキシフエニル）プロピル、３−
（３，４，５−トリカルボキシフエニル）プロ
ピル、３−（２，４，６−トリカルボキシフエ
ニル）プロピル、２−（４−カルボキシフエニ
ル）プロピル、４−（２−カルボキシフエニル）
ブチル、４−（３−カルボキシフエニル）ブチ
ル、４−（４−カルボキシフエニル）ブチル、
４−（２，４−ジカルボキシフエニル）ブチル、
４−（２，４，６−トリカルボキシフエニル）
ブチル、５−（４−カルボキシフエニル）ペン
チル、５−（３，４−ジカルボキシフエニル）
ペンチル、５−（３，４，５−トリカルボキシ
フエニル）ペンチル、６−（３−カルボキシフ
エニル）ヘキシル、６−（２，４−ジカルボキ
シフエニル）ヘキシル、６−（２，４，６−ト
リカルボキシフエニル）ヘキシル基等を例示で
きる。 16 低級アルキレンジオキシ基又はフエニル基を
有するフエニル低級アルキル基としては、例え
ば２，３−メチレンジオキシベンジル、３，４
−メチレンジオキシベンジル、２，３−エチレ
ンジオキシベンジル、３，４−エチレンジオキ
シベンジル、３，４−トリメチレンジオキシベ
ンジル、３，４−テトラメチレンジオキシベン
ジル、１−（３，４−メチレンジオキシフエニ
ル）エチル、２−（３，４−メチレンジオキシ
フエニル）エチル、３−（３，４−メチレンジ
オキシフエニル）プロピル、４−（３，４−メ
チレンジオキシフエニル）ブチル、５−（３，
４−メチレンジオキシフエニル）ペンチル、６
−（３，４−メチレンジオキシフエニル）ヘキ
シル、３−（３，４−トリメチレンジオキシフ
エニル）プロピル、２−フエニルベンジル、３
−フエニルベンジル、４−フエニルベンジル、
２−（３−フエニルフエニル）エチル、１−（４
−フエニルフエニル）エチル、２−（４−フエ
ニルフエニル）エチル、３−（４−フエニルフ
エニル）プロピル、４−（４−フエニルフエニ
ル）ブチル、５−（４−フエニルフエニル）ペ
ンチル、６−（４−フエニルフエニル）ヘキシ
ル基等の炭素数１〜４個のアルキレンジオキシ
基又はフエニル基が結合したフエニル基と炭素
数１〜６のアルキレン基とが結合したフエニル
アルキル基を例示できる。 17 化合物(3)におけるR^e，R^f，R^gで定義される
アシル基には以下の各群に属するものが包含さ
れる。 (i) 例えばハロゲン原子、水酸基、低級アルコ
キシ基、アリールオキシ基及び置換もしくは
無置換アリール基からなる群から選ばれる基
を置換基として有するか又は有さない炭素数
１〜20のアルカノイル基。その例としては、ホルミル、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイ
ル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイ
ル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイル、
ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイ
ル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、ヘプ
タデカノイル、オクタデカノイル、ノナデカノイ
ル、エイコサノイル基等の炭素数１〜20の未置換
アルカノイル基、及びモノクロロアセチル、モノ
ブロモアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロ
アセチル、３−クロロプロピオニル、４−クロロ
ブチリル、５−クロロペンタノイル、６−クロロ
ペンタノイル基等のハロゲン原子が１〜３個置換
した炭素数２〜６のアルカノイル基；ヒドロキシ
アセチル、３−ヒドロキシプロピオニル、５−ヒ
ドロキシペンタノイル、４−ヒドロキシブタノイ
ル、６−ヒドロキシヘキサノイル基等の水酸基置
換の炭素数２〜６のアルカノイル基；メトキシア
セチル、エトキシアセチル、３−プロポキシプロ
ピオニル、６−ヘキシルオキシヘキサノイル、３
−メトキシプロピオニル基等の炭素数１〜６のア
ルコキシ置換の炭素数２〜６のアルカノイル基；
フエノキシアセチル、２−フエノキシプロピオニ
ル、３−フエノキシプロピオニル、４−フエノキ
シブチリル、５−フエノキシペンタノイル、６−
フエノキシヘキサノイル、α−ナフチルオキシア
セチル基等のフエノキシ又はナフチルオキシ置換
の炭素数２〜６のアルカノイル基；α−フエニル
アセチル、２−フエニルプロピオニル、３−フエ
ニルプロピオニル、４−フエニルブチリル、５−
フエニルペンタノイル、６−フエニルヘキサノイ
ル、α−（２−クロロフエニル）アセチル、α−
（４−メチルフエニル）アセチル、α−（３，４、
５−トリメトキシフエニル）アセチル、α−（３，
４−ジメトキシフエニル）アセチル、６−（４−
カルボキシフエニル）ヘキサノイル、４−（４−
エトキシカルボニルフエニル）ペンタノイル、α
−（４−ニトロフエニル）アセチル、α−（４−シ
アノフエニル）アセチル、α−ナフチルアセチ
ル、β−ナフチルアセチル基等のアリール環（フ
エニル環、ナフチル環等）上に置換基としてハロ
ゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、
ニトロ基及びシアノ基からなる群から選ばれた基
の１〜３個を有するか又は有さないアリール置換
の炭素数２〜６のアルカノイル基等を例示でき
る。 (ii) アリール環上に置換基としてハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、カ
ルボキシル基、低級アルコキシカルボニル
基、ニトロ基及びシアノ基からなる群から選
ばれた置換基の１〜３個又は低級アルキレン
ジオキシ基を有することのあるアリールカル
ボニル基。その例としては、ベンゾイル、α−ナフチルカ
ルボニル、β−ナフチルカルボニル、２−メチル
ベンゾイル、３−メチルベンゾイル、４−メチル
ベンゾイル、２，４−ジメチルベンゾイル、３，
４，５−トリメチルベンゾイル、４−エチルベン
ゾイル、２−メトキシベンゾイル、３−メトキシ
ベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、２，４−
ジメトキシベンゾイル、３，４，５−トロメトキ
シベンゾイル、４−エトキシベンゾイル、２−メ
トキシ−４−エトキシベンゾイル、２−プロポキ
シベンゾイル、３−プロポキシベンゾイル、４−
プロポキシベンゾイル、２，４−ジプロポキシベ
ンゾイル、３，４，５−トリプロポキシベンゾイ
ル、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシ
ベンゾイル、４−カルボキシベンゾイル、２−ク
ロロベンゾイル、３−クロロベンゾイル、４−ク
ロロベンゾイル、２，３−ジクロロベンゾイル、
２，４，６−トリクロロベンゾイル、２−ブロモ
ベンゾイル、４−フルオロベンゾイル、２−メト
キシカルボニルベンゾイル、３−メトキシカルボ
ニルベンゾイル、４−メトキシカルボニルベンゾ
イル、２−エトキシカルボニルベンゾイル、３−
エトキシカルボニルベンゾイル、４−エトキシカ
ルボニルベンゾイル、２−プロポキシカルボニル
ベンゾイル、３−プロポキシカルボニルベンゾイ
ル、４−プロポキシカルボニルベンゾイル、２−
イソプロポキシカルボニルベンゾイル、３−イソ
プロポキシカルボニルベンゾイル、４−イソプロ
ポキシカルボニルベンゾイル、２−ブトキシカル
ボニルベンゾイル、３−ブトキシカルボニルベン
ゾイル、４−ブトキシカルボニルベンゾイル、２
−ｔ−ブトキシカルボニルベンゾイル、３−ｔ−
ブトキシカルボニルベンゾイル、４−ｔ−ブトキ
シカルボニルベンゾイル、２−ペンチルオキシカ
ルボニルベンゾイル、３−ペンチルオキシカルボ
ニルベンゾイル、４−ペンチルオキシカルボニル
ベンゾイル、２−ヘキシルオキシカルボニルベン
ゾイル、３−ヘキシルオキシカルボニルベンゾイ
ル、４−ヘキシルオキシカルボニルベンゾイル、
３，５−ジメトキシカルボニルベンゾイル、３，
４，５−トリメトキシカルボニルベンゾイル、β
−メチル−α−ナフチルカルボニル、α−メトキ
シ−β−ナフチルカルボニル、β−クロロ−α−
ナフチルカルボニル、２−シアノベンゾイル、４
−シアノベンゾイル、２−ニトロベンゾイル、４
−ニトロベンゾイル、３，４−メチレンジオキシ
ベンゾイル、３，４−エチレンジオキシベンゾイ
ル、２，３−メチレンジオキシベンゾイル基等
の、置換基として低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ニトロ
基、シアノ基及び低級アルコキシカルボニル基か
らなる群から選ばれた基を１〜３個又は低級アル
キレンジオキシ基を有するか又は有さないフエニ
ルカルボニル又はナフチルカルボニルなどのアリ
ールカルボニル基を例示できる。 (iii) ヘテロ原子として窒素原子、硫黄原子又は
酸素原子を有する５員又は６員の不飽和ヘテ
ロ環カルボニル基。その例としては２−チエニルカルボニル、３−
チエニルカルボニル、２−フラニルカルボニル、
３−フラニルカルボニル、４−チアゾリルカルボ
ニル、２−キノリルカルボニル、２−ピラジニル
カルボニル、２−ピリジルカルボニル、３−ピリ
ジルカルボニル、４−ピリジルカルボニル基など
のチエニルカルボニル、フラニルカルボニル、チ
アゾリルカルボニル、キノリンカルボニル、ピラ
ジニルカルボニル、ピリジルカルボニル基等を例
示できる。 (iv) アリールオキシカルボニル基、鎖状もしく
は環状のアルコキシカルボニル基等の炭酸エ
ステル残基。その例としては、フエノキシカルボニル、α−
ナフチルオキシカルボニル、β−ナフチルオキシ
カルボニル、２−メチルフエノキシカルボニル、
３−メチルフエノキシカルボニル、４−メチルフ
エノキシカルボニル、２，４−ジメチルフエノキ
シカルボニル、３，４，５−トリメチルフエノキ
シカルボニル、４−エチルフエノキシカルボニ
ル、２−メトキシフエノキシカルボニル、３−メ
トキシフエノキシカルボニル、４−メトキシフエ
ノキシカルボニル、２，４−ジメトキシフエノキ
シカルボニル、３，４，５−トリメトキシフエノ
キシカルボニル、４−エトキシフエノシキカルボ
ニル、２−プロポキシフエノシキカルボニル、３
−プロポキシフエノキシカルボニル、４−プロポ
キシフエノキシカルボニル、２，４−ジプロポキ
シフエノキシカルボニル、３，４，５−トリプロ
ポキシフエノキシカルボニル、２−クロロフエノ
キシカルボニル、３−クロロフエノキシカルボニ
ル、４−クロロフエノキシカルボニル、２，３−
ジクロロフエノキシカルボニル、２，４，６−ト
リクロロフエノキシカルボニル、２−ブロモフエ
ノキシカルボニル、４−フルオロフエノキシカル
ボニル、β−メチル−α−ナフチルオキシカルボ
ニル、α−メトキシ−β−ナフチルオキシカルボ
ニル、β−クロロ−α−ナフチルオキシカルボニ
ル基等のアリール環（フエニル環、ナフチル環
等）上に置換基としてハロゲン原子、低級アルコ
キシ基及び低級アルキル基からなる群から選ばれ
た基の１〜３個を有しもしくは有さないアリール
オキシカルボニル基；メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプ
ロポキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、
ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、ヘキシルオキシカルボニル、シクロプロピル
オキシカルボニル、シクロブチルオキシカルボニ
ル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘ
キシルオキシカルボニル、シクロヘプチルオキシ
カルボニル、シクロオクチルオキシカルボニル基
等のアルコキシ部分の炭素数が１〜８である鎖状
又は環状のアルコキシカルボニル基等を例示でき
る。 (v) 置換又は未置換のシクロアルキルカルボニ
ル基。その例としては、シクロプロピルカルボニル、
シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボ
ニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチ
ルカルボニル、シクロオクチルカルボニル、２−
クロロシクロヘキシルカルボニル、３−ヒドロキ
シシクロペンチルカルボニル、３−メチルシクロ
ヘキシルカルボニル、４−メトキシシクロヘキシ
ルカルボニル基等のシクロアルキル環上に置換基
としてハロゲン原子、水酸基、低級アルコキシ基
又は低級アルキル基を有することがあり、且つシ
クロアルキル環の炭素数が３〜８であるシクロア
ルキルカルボニル基を例示できる。 (vi) 低級アルケニル（又は低級アルキニル）カ
ルボニル基。その例としては、ビニルカルボニル、アリルカ
ルボニル、２−ブテニルカルボニル、３−ブテニ
ルカルボニル、１−メチルアリルカルボニル、２
−ペンテニルカルボニル、３−ヘキセニルカルボ
ニル、エチニルカルボニル、プロピニルカルボニ
ル、２−ブチニルカルボニル、１−メチル−３−
ペンチニルカルボニル、４−ヘキシニルカルボニ
ル基等の炭素数２〜６のアルケニル基又はアルキ
ニル基を有するカルボニル基を例示できる。 18 低級アルキレンジオキシ基としては、例え
ば、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、ト
リメチレンジオキシ、テトラメチレンジオキシ
基等の炭素数１〜４のアルキレンジオキシ基を
例示できる。 19 フエニル環上に置換基として低級アルキル
基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子の１〜
３個を有しもしくは有さないアリールオキシカ
ルボニルオキシ基としては、２−メチルフエノ
キシカルボニルオキシ、３−メチルフエノキシ
カルボニルオキシ、４−メチルフエノキシカル
ボニルオキシ、４−エチルフエノキシカルボニ
ルオキシ、４−ｔ−ブチルフエノキシカルボニ
ルオキシ、４−ヘキシルフエノキシカルボニル
オキシ、２，４−ジメチルフエノキシカルボニ
ルオキシ、２，４，６−トリメチルフエノキシ
カルボニルオキシ、２−メトキシフエノキシカ
ルボニルオキシ、３−メトキシフエノキシカル
ボニルオキシ、４−メトキシフエノキシカルボ
ニルオキシ、４−エトキシフエノキシカルボニ
ルオキシ、４−プロポキシフエノキシカルボニ
ルオキシ、４−ブトキシフエノキシカルボニル
オキシ、４−ペンチルオキシフエノキシカルボ
ニルオキシ、４−ヘキシルオキシフエノキシカ
ルボニルオキシ、２，４−ジメトキシフエノキ
シカルボニルオキシ、２，４，６−トリメトキ
シフエノキシカルボニルオキシ、２−フルオロ
フエノキシカルボニルオキシ、３−クロロフエ
ノキシカルボニルオキシ、４−ブロモフエノキ
シカルボニルオキシ、２，４−ジクロロフエノ
キシカルボニルオキシ、２，４，６−トリブロ
モフエノキシカルボニルオキシ基等を例示でき
る。 20 アロイルオキシ基としては、ベンゾイルオキ
シ、１−ナフトイルオキシ、２−ナフトイルオ
キシ基等を例示できる。 21 フエニル環上に置換基として低級アルキル
基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子又はニト
ロ基の１〜３個を有するアロイルオキシ基とし
ては、２−クロロベンゾイルオキシ、３−クロ
ロベンゾイルオキシ、４−クロロベンゾイルオ
キシ、２，４−ジクロロベンゾイルオキシ、
３，４，５−トリクロロベンゾイルオキシ、２
−フルオロベンゾイルオキシ、４−フルオロベ
ンゾイルオキシ、４−ブルモベンゾイルオキ
シ、２−メチルベンゾイルオキシ、３−メチル
ベンゾイルオキシ、４−メチルベンゾイルオキ
シ、２，４−ジメチルベンゾイルオキシ、２，
４，６−トリメチルベンゾイルオキシ、４−エ
チルベンゾイルオキシ、４−ブチルベンゾイル
オキシ、４−メチル−１−ナフトイルオキシ、
２−ニトロベンゾイルオキシ、３−ニトロベン
ゾイルオキシ、４−ニトロベンゾイルオキシ、
２，４−ジニトロベンゾイルオキシ、３，４−
ジニトロベンゾイルオキシ、４−ニトロ−１−
ナフトイルオキシ、２−メトキシベンゾイルオ
キシ、３−メトキシベンゾイルオキシ、４−メ
トキシベンゾイルオキシ、３，４，５−トリメ
トキシベンゾイルオキシ、４−エトキシベンゾ
イルオキシ、４−ブトキシベンゾイルオキシ、
４−メトキシ−１−ナフトイルオキシ基等を例
示できる。 22 アルキリデンジオキシ基のアルキリデン基と
しては、メチレン、エチリデン、プロピリデ
ン、ブチリデン、ペンチリデン、ヘキシリデン
基等を例示できる。 23 アリーリデンジオキシ基のアリーリデン基と
しては、ベンジリデン、１−フエニルエチリデ
ン、１−ナフチルメチレン、２−ナフチルメチ
レン基等を例示できる。 24 低級アルコキシカルボニル基としては、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、
ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
シカルボニル基等の炭素数２〜７の鎖状アルコ
キシカルボニル基を例示できる。 25 ジ（低級アルキル）アミノ基としては、ジメ
チルアミノ、メチルエチルアミノ基等を例示で
きる。 26 フエニル低級アルケニル基としては、２−フ
エニルビニル、３−フエニル−１−プロペニ
ル、３−フエニル−２−プロペニル、４−フエ
ニル−１−ブテニル、４−フエニル−２−ブテ
ニル、４−フエニル−３−ブテニル、５−フエ
ニル−４−ペンテニル、６−フエニル−５−ヘ
キセニル基等のアルケニル部分の炭素数が２〜
６であるフエニルアルケニル基を例示できる。 27 フエニル低級アルコキシ低級アルコキシ基と
しては、１−ベンジルオキシメトキシ、１−ベ
ンジルオキシエトキシ、２−ベンジルオキシエ
トキシ、３−ベンジルオキシプロポキシ、４−
ベンジルオキシブトキシ、５−ベンジルオキシ
ペントキシ、６−ベンジルオキシヘキシルオキ
シ、α−フエネチルオキシメトキシ、β−フエ
ネチルオキシメトキシ、３−フエニルプロポキ
シメトキシ、４−フエニルブチルオキシメトキ
シ、５−フエニルペンチルオキシメトキシ、６
−フエニルヘキシルメトキシ−２（β−フエネ
チルオキシ）エトキシ基等のアルコキシ部分の
炭素数が１〜６であるフエニルアルコキシアル
コキシ基を例示できる。以下、本発明において使用するピリジン誘導体
の製造法につき詳述する。該化合物は、例えば下記反応工程式−ａ〜−ｈ
に示す方法により製造することができる。 R¹，R³及びR⁵の少なくとも１つがアシルオキ
シ基である一般式(1)のピリジン化合物は、アシル
オキシ基に対応する水酸基を有する化合物をアシ
ル化することによつて製造される。アシル化の好
ましい具体例として反応工程式−ａを示す。

【化】

【式】

【式】〔式中R²及びR⁴は前記に同じ。R^1a及びR^3aは
夫々アシル基を示す。R^oは水素原子、低級アル
キル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロ
ピラニル基、低級アルコキシ低級アルキル基、フ
タリジル基、カルバモイル基、低級アルコキシカ
ルボニル低級アルキルカルバモイル基、フエニル
低級アルコキシ低級アルキル基、フエニル環上に
置換基を有することのあるフエニルカルバモイル
基、低級アルキルカルバモイル基、カルボキシル
低級アルキルカルバモイル基、低級アルキルチオ
低級アルキル基又は低級アルケニル基を示し、
R^3dは水素原子又はアシル基を示す。〕本方法は、化合物(4)の遊離水酸基をアシル化す
る方法である。この反応には通常のアシル化反応
の条件を広く適用でき、例えば酸ハライド法、酸
無水物法、混合酸無水物法、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘ
キシルカルボジイミド法（DCC法）等のいずれ
をも適用することができる。特に本反応において
は、酸ハライド法、酸無水物法、Ｎ，Ｎ−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド法（DCC法）が有利
に適用される。酸ハライド法によれば適当な溶媒中にて化合物
(4)にアシルハライドを脱酸剤の存在下反応させる
ことにより、目的とする化合物(5)又は化合物(6)を
得ることができる。上記において、アシルハライ
ドとしては、導入しようとするアシル基のフツ化
物、塩化物、臭化物、沃化物等のいずれをも使用
できる。脱酸剤としては、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、ピリジン、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ジエ
チルアニリン等を使用できる。溶媒としては反応
に影響を与えないものであればいずれも使用で
き、例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ア
セトン、アセトニトリル、ピリジン、ジメチルス
ルホキシド等を使用できる。アシルハライドの用
量は、化合物(4)に対して少なくとも0.5モル量程
度、好ましくは0.5〜５モル量程度とするのがよ
い。特にアシルハライドを0.5〜1.5モル量用いる
場合には、モノアシルオキシ体(5)を得ることがで
き、これより多量のアシルハライドを用いる場合
には、ジアシルオキシ体(6)を得ることができる。
反応温度は通常氷冷下〜溶媒の沸点付近、好まし
くは室温〜80℃程度であり、５分〜50時間程度、
好ましくは３〜15時間程度で反応は終了する。な
お本反応においては化合物(4)の遊離水酸基の水素
原子をアルカリ金属で置換した化合物も同様に原
料として用いることができる。酸無水物法は、化合物(4)を適当な溶媒中、酸無
水物と共に加熱することにより実施される。酸無
水物としては、導入すべきアシル基に対応する酸
の無水物を使用する。その具体例としては、例え
ば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水
安息香酸等を例示できる。之等の酸無水物は化合
物(4)に対して少なくとも0.5モル量、好ましくは
１〜３倍モル量程度用いられるのがよい。反応温
度、反応時間等の反応条件は、前記酸ハライド法
と同様のものとすることができる。Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド法
（DCC法）は、化合物(4)を適当な溶媒中、縮合剤
の存在下、カルボン酸と共に反応させることによ
り実施される。カルボン酸としては、導入すべき
アシル基に対応するカルボン酸を使用する。その
具体例としては例えば酢酸、プロピオン酸、酪
酸、安息香酸等を例示できる。縮合剤としては例
えばＮ，N′−ジアルキルカルボジイミド（Ｎ，
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド等）等を
例示できる。上記反応は、酸ハライド法と同様の
条件下に実施することができる。また上記の如くして得られる化合物(5)は、更に
上記アシル化反応を繰り返すことにより化合物(6)
に導くこともできる。一般式(1)のピリジン化合物のうち、ピリジン環
の１位の窒素原子が、置換基として、基−
CONHR⁶（式中R⁶は低級アルコキシカルボニル低
級アルキル基、フエニル環上に置換基を有するこ
とのあるフエニル基、カルボキシ低級アルキル基
又は低級アルキル基を示す。）を有する化合物は、
イソシアネート化合物（R⁶NCO）と、R₁，R₂及
びR₃基のうち少なくとも１つが水酸基を示し、
１位の窒素原子が置換基を有さない対応する化合
物とを反応させることにより製造することができ
る。好ましい具体例として、反応工程式−ｂを示
す。

【化】〔式中R²，R³、R⁴，R⁵及びR⁶は前記に同じ。〕本方法は、適当な溶媒中にて塩基性化合物の存
在下に化合物(7)にイソシアネート化合物を作用さ
せて化合物(8)を得る方法である。イソシアネート
化合物としては低級アルキルイソシアネート類等
を使用できる。また、この反応において塩基性化
合物としては例えばトリエチルアミン等のアミン
類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アル
カリ金属塩、ピリジン等を使用することができ
る。イソシアネート化合物の使用量は、化合物(7)
に対して少なくとも0.5モル量程度、好ましくは
1.0〜2.0モル量程度とするのがよい。溶媒、反応
温度、反応時間等の他の反応条件は、前記反応工
程式−ａの酸ハライド法と同様のものとすること
ができる。なお、上記において原料とする化合物(7)のうち
R³及び（又は）R⁵基がアシルオキシ基であるも
のは、対応するR³及び（又は）R⁵基が水酸基を
示す化合物を、前記反応工程式−ａに示すアシル
化反応に従わせることにより、製造することがで
きる。またR⁶がカルボキシル低級アルキル基である
化合物(8)は、R⁶が低級アルコキシカルボニル低
級アルキル基である対応する化合物(8)を、通常の
加水解反応に供することによつても製造すること
ができる。

【化】〔式中R¹，R²，R^3d及びR⁴は前記に同じ。R^1b
及びR^3bは夫々トリ低級アルキルシリル基を示
す。但し、R¹及びR^3dは同時に水酸基であつては
ならない。〕本方法は、適当な溶媒中にて、ジ（トリ低級ア
ルキルシリルオキシ）ピリジン誘導体(9)に、アシ
ルハライドを作用させて目的とするアシルオキシ
化合物(10)を得る方法である。この反応において溶
媒としては反応に影響を与えないものであればい
ずれも使用でき例えば塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、アセ
トニトリル、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル等のエーテル類等を使用できる。ア
シルハライドとしては、導入しようとするアシル
基のフツ化物、塩化物、臭化物、沃化物等のいず
れをも使用できる。その使用量は、化合物(9)に対
して少なくとも0.5モル量以上であり、モノアシ
ルオキシ体を得る場合には好ましくは0.5モル〜
1.5モル量を用いるのがよく、これより多量のア
シルハライドを用いる場合にはジアシルオキシ体
を得ることができる。反応は通常、常温〜溶媒の
沸点付近にて10分〜30時間程度、好ましくは１〜
６時間程度で終了する。更に上記反応は、触媒量のルイス酸、アンモニ
ア又はアミン類の存在下に実施することもでき
る。ルイス酸存在下又は非存在下においては、２
又は４−モノアシルオキシ体を主生成物として得
ることができ、アンモニア又はアミン類の存在下
においては２−モノアシルオキシ体を主生成物と
して得ることができる。ルイス酸としては、例え
ば塩化第二錫、塩化アルミニウム等を例示でき、
またアミン類としては、モノメチルアミン、ジメ
チルアミン、トリメチルアミン等の１〜３級のア
ミンを例示することができる。

【化】〔式中R^1a，R²，R^3a及びR⁴は前記に同じ。〕本方法における化合物(11)又は化合物(12)のアシル
化反応は、前記反応工程式−ａと同様にして行な
うことができる。また、化合物(13)（ジアシルオキシ体）の加水分
解反応は、酸性条件下又は塩基性条件下において
行なうことができる。酸性条件下での反応は、化
合物(13)に、プロトン性化合物例えば水、アルコー
ル、フエノール等の水酸基を有する化合物、メチ
ルメルカプタン、エチルメルカプタン等のチオー
ル類、モノメチルアミン、ジメチルアミン、アニ
リン等の１級又は２級アミン等を少なくとも0.5
モル量を作用させることにより行うことができ
る。反応溶媒としては、上記プロトン性化合物を
そのまま用いることもでき、またこれらプロトン
性化合物と均一になる溶媒例えばアセトン、アセ
トニトリル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素
類を併用することもできる。本反応は、通常氷冷
下〜反応溶媒の沸点付近、好ましくは室温〜10℃
程度にて約５分〜30時間、好ましくは30分〜15時
間程度を要して行なわれる。塩基性条件下での加水分解反応は、アルカリ性
溶液中にて、氷冷下〜反応溶媒の沸点付近、好ま
しくは室温〜100℃程度の温度条件下に約５分〜
30時間、好ましくは１〜15時間程度を要して行な
うことができる。アルカリ性溶液としては、例え
ばリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属の水酸化物や炭酸塩等の塩類又は例えばマグ
ネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属の水
酸化物や炭酸塩等の塩類或はモノメチルアミン、
ジメチルアミン、アニリン等の１級もしくは２級
アミン類等を水及び（又は）有機溶媒に溶解した
溶液が利用できる。その用量は化合物(13)に対して
少なくとも等モル量程度とするのがよい。また上
記有機溶媒としては例えばアセトン、アセトニト
リル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メ
チレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類等
を使用できる。

【化】

【式】

【式】〔式中R^1a，R²，R^3a及びR⁴は前記に同じ。〕本方法は、適当な溶媒中にて化合物(14)（ジアシ
ルオキシ体）にピリドン誘導体(15)を反応させるこ
とにより化合物(16)及び（又は）化合物(17)（モノア
シルオキシ体）を得る方法である。この反応にお
いて溶媒としては、反応に影響を与えないもので
あればいずれも使用でき、例えばアセトン、アセ
トニトリル、酢酸エチル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等を
使用することができる。ピリドン誘導体(15)の使用
割合は、化合物(14)に対して少なくとも0.5モル量
程度、好ましくは等モル量程度とするのがよい。
本反応は通常室温〜反応溶媒の沸点にて約10分〜
50時間好ましくは５〜20時間程度にて終了する。
また反応系内には、化合物(14)に対して約0.1〜10
モル量のトリメチルアミン、トリエチルアミン等
のアミン類を添加することもできる。一般式(1)のピリジン化合物のうち、ピリジン環
の１位の窒素原子が置換基として基R⁷（R⁷は低級
アルキル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒ
ドロピラニル基、低級アルコキシ低級アルキル
基、フタリジル基又はフエニル低級アルコキシ低
級アルキル基を示す。）を有する化合物は、R¹，
R²及びR³のうち少なくとも１つが水酸基を示し
１位の窒素原子が置換基を有さない対応する化合
物をシリル化し、次いでアルキル化することによ
つて製造される。更に、目的化合物はアルキル化
化合物の水酸基をアシル化することによつて製造
される。アシル化の好ましい具体例として、反応
工程式−ｆ〜ｈを示す。

【化】〔式中、R^1b，R²，R^3d，R^3a，R⁴及びR⁷は前記
に同じ。R^3cはトリアルキルシリル基又はアシル
基を示す。〕本方法の前半は適当な溶媒中にて化合物(18)に、
アルキル化剤を反応させてピリジン環のＮ位をア
ルキル化する反応である。この反応において溶媒
としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル類、塩化メチ
レン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、ベ
ンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、アセトニ
トリル、アセトン、酢酸エチル等を使用できる。
アルキル化剤としては例えば塩化メチル、臭化エ
チル等のハロゲン化低級アルキル又は基R⁸−CO
−Ｏ−R^7a（R⁸は低級アルキル基、R^7aはテトラヒ
ドロフラニル基、低級アルコキシ低級アルキル
基、フタリジル基又はフエニル低級アルコキシ低
級アルキル基を示す）等を例示することができ
る。アルキル化剤の使用量は、化合物(18)に対して
0.5モル〜５モル量、好ましくは１〜２モル量と
するのがよい。本反応は、氷冷下〜反応溶媒の沸
点付近、好ましくは室温〜60℃程度にて、10分〜
30時間、好ましくは１〜４時間程度で終了する。
また本反応においては好ましくは、前記ルイス酸
の触媒量を反応系内に添加存在させるのがよい。本方法の後半は、R^3dが水素原子の場合の化合
物(19)の遊離水酸基をアシル化する反応であり、こ
の反応は前記反応工程式−ａに示す方法と同様に
して行なうことができる。

【化】〔式中R^1b，R²，R^3b及びR⁴は前記に同じ。〕本方法は、適当な溶媒中にて、化合物（21）に
シリル化剤を反応させてピリジン環の２位及び４
位又は２位及び６位を同時にシリル化する方法で
ある。この反応においてシリル化剤としては例え
ば１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラ
ザン等のビス（トリアルキルシリル）アミン類、
トリメチルクロロシラン、ジメチル−ｔ−ブチル
クロロシラン等のハロゲン化トリアルキルシラン
類又はＮ，Ｏ−ビストリメチルシリルアセトアミ
ド等のシリル化アセトアミド類を使用できる。該
シリル化剤は、通常化合物（21）に対して少なく
とも２倍モル量使用することができる。シリル化
剤として前記ハロゲン化トリアルキルシラン類を
用いる場合には、トリエチルアミン、トリメチル
アミン等のアミン類又はピリジンをシリル化剤に
対して少なくとも２倍モル量用いるのがよい。溶
媒としては反応に影響を与えないものであればい
ずれも使用でき、例えば前記ハロゲン化トリアル
キルシラン類、シリル化アセトアミド等のシリル
化剤を使用する場合にはジエチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、塩
化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素類、アセトニトリル等を使用できる。また、シ
リル化剤としてビス（トリアルキルシリル）アミ
ン類を使用する場合には該シリル化剤それ自身を
溶媒として用いることもできる。本反応は通常室
温〜反応溶媒の沸点付近、好ましくは反応溶媒の
沸点付近にて10分〜24時間程度、好ましくは１〜
15時間程で終了する。

【化】〔式中R^1b，R²，R^3a及びR⁴は前記に同じ。〕本方法は、化合物（23）をシリル化する方法で
あり、反応はシリル化剤を化合物（23）に対して
少なくとも等モル量用いる以外は、前記反応工程
式−ｇと同様の条件下で行なうことができる。上記各反応工程で得られる目的化合物及び本発
明化合物は、通常の分離手段により反応系内より
分離され、更に精製される。この分離及び精製手
段としては、例えば再沈澱法、再結晶法、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー、イオン交換カラ
ムクロマトグラフイー、ゲルクロマトグラフイ
ー、親和クロマトグラフイー等を採用できる。以下、本発明化合物により、その抗腫瘍活性を
増強される新規な制癌剤有効成分化合物（前記化
合物（３））の製法につき詳述する。化合物（３）は、例えば下記反応工程式−ｉ〜
−ｍに示す方法により製造することができる。

【化】〔式中R^gは前記に同じ。R^1e及びR^1fは少なく
とも一方が、水素原子であり、他方はアシル基又
は保護基を示す。Ｒはフエニル環上に低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子及びカル
ボキシル基からなる群から選ばれる置換基を有す
ることのあるフエニル低級アルキル基、低級アル
コキシカルボニル基、ジ（低級アルキル）アミノ
基、置換基として低級アルキレンジオキシ基又は
フエニル基を有するフエニル低級アルキル基、フ
エニル低級アルケニル基又はナフチル低級アルキ
ル基を示す。R^e及びR^fは前記に同じ。Ｘはハロ
ゲン原子を示す。〕上記においてR^1e又はR^1fで示される保護基に
は、下記の各基が包含される。 (A) 一般式

【化】〔式中Arはアリール基を示す〕で表わされるトリアリール置換メチル基。該基と
しては、置換基としてハロゲン原子、ニトロ基、
低級アルキル基又は低級アルコキシ基を有するこ
とのあるフエニル基等のアリール基の３個で置換
されたメチル基を例示できる。 (B) 一般式

【化】〔式中R′は低級アルキル基及びｎは２又は３
を示す〕で表わされる環状エーテル残基。該基の例として
は、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒ
ドロピラニル基等を例示できる。 (C) 低級アルコキシメチル基。該基としては、メ
トキシメチル、エトキシメチル、ヘキシルオキ
シメチル基等を例示できる。 (D) トリ（低級アルキル）シリル基。該基として
は、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシ
リル基等を例示できる。本反応は、化合物（25）にフエニル低級アルキ
ルハライド（RX）を反応させて、該化合物
（25）の3′位又は5′位の水素原子を目的とするＲ
基に置換させ、次いで必要に応じて脱保護反応を
行なつて、化合物（26）を得るものである。上記においてＲ基の導入反応は通常の脱ハロゲ
ン化水素反応の反応条件下に行なわれる。脱ハロ
ゲン化水素剤としては、この種の反応に通常用い
られている各種の塩基性化合物をいずれも使用で
きる。その具体例としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
や、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属や水
素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化アル
カリ金属類等を挙げることができる。上記反応は、無溶媒でもあるいは溶媒の存在下
でも行なうことができる。溶媒としては通常の不
活性溶媒をいずれも使用でき、例えば水、テトラ
ヒドロフラン（THF）、ジオキサン等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等のニトリル類等が有利に用いられ
る。化合物（25）とフエニル低級アルキルハライド
（RX）との使用割合は、特に限定されず広い範
囲から適宜選択すればよいが、通常前者に対し後
者を少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル
量〜５倍モル量用いるのがよい。反応温度も特に
限定されず広い範囲から適宜選択されるが、一般
には０〜100℃、好ましくは室温〜80℃の範囲か
ら選択されるのがよく、通常30分〜64時間程度、
好ましくは１〜５時間程度で反応は終了する。上記反応によつて得られる化合物が、その3′位
又は5′位に保護基を有する場合は、引続き該保護
基の脱離反応を行なうことにより、目的とする化
合物（26）が得られる。この脱保護基反応は、通
常の酸加水分解反応に慣用される適当な触媒、例
えば塩酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸や蟻酸、酢
酸、プロピオン酸等の低級アルカン酸、安息香
酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベン
ゼンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸
等の有機スルホン酸等の有機酸の適当量を用い
て、通常溶媒中で実施される。溶媒としては、通
常の不活性溶媒、例えば水、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール等の低級アルコール類、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジ
エチルエーテル、THF、ジオキサン等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸、プロピオン
酸等の低級アルカン酸等やこれらの混合溶媒を用
いることができる。反応温度は、特に限定されず
広い範囲から適宜選択すればよいが、通常０〜
100℃、好ましくは室温〜80℃程度とすればよく、
反応は３分〜20時間程度で終了する。尚、使用さ
れる酸としては通常触媒量〜過剰量程度、好まし
くは過剰量程度とするのがよい。また上記反応工程式−ｉにおいて得られる化合
物（26）中３位、3′位及び5′位の少なくとも１つ
にアシル基を有する化合物は、これを加水分解反
応させることにより、該アシル基のいずれか１つ
又は全部を水素原子に変換させ得る。この加水分
解反応は通常の酸又はアルカリ加水分解の条件下
に行なわれる。この際使用される触媒としては、
通常の酸又はアルカリ加水分解反応に用いられる
ものがいずれも使用できる。代表的なものとして
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バ
リウム等の塩基性化合物及び塩酸、硫酸、硝酸等
の無機酸を例示できる。之等触媒の使用量は特に
限定がなく広い範囲から適宜選択すればよい。本
反応は一般に溶媒中で有利に進行し、この際使用
される溶媒としては、通常の不活性溶媒を広く使
用できる。例えば水、メタノール、エタノール、
イソプロパノール等の低級アルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類やこれらの
混合溶媒等を有利に用いることができる。反応温
度も特に限定されず広い範囲から適宜選択すれば
よいが、通常０〜100℃、好ましくは室温〜80℃
程度で反応を行なうのがよい。本反応は30分〜10
時間程度で終了する。

【化】（式中R^2e及びR^2fは一方が上記Ｒ基で、他方が
水素原子、アシル基又は保護基を示す。R^1gはア
シル基を示す。）本反応は、ピリミジン骨格の３位にアシル基を
導入する反応（アシル化反応）であり、通常の方
法例えば酸ハライド法にしたがつて実施できる。
該酸ハライド法によれば化合物（27）にアシルハ
ライド（R^1gＸ）を、脱酸剤の存在下、適当な溶
媒中で作用させることにより、目的とする化合物
（28）が収得される。上記において脱酸剤として
は例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、ピリジン、トリエチルアミンなど
を使用できる。溶媒としては、例えばベンゼン、
クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、ジオ
キサン、テトラヒドロフランなどが用いられる。
アシルハライドの用量は、化合物（27）に対し少
なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜３モ
ル程度とするのがよい。反応温度は通常−30〜
100℃、好ましくは室温〜80℃程度であり、20分
〜20時間程度で反応は終了する。尚上記反応において化合物（27）が、その3′位
又は５位に遊離水酸基を有する場合は、これらの
部位も３位と同時にアシル化される。従つて之等
化合物の上記アシル化に当つては、予め3′位又は
5′位の水酸基を、保護しておき、アシル化後、保
護基の脱離を行なうのが好ましい。この保護基の
導入反応については後記する。また該保護基の脱
離反応は、前記反応工程式−ｉの項で説明した方
法と同様にして行ない得る。

【化】〔式中R^e及びR^fは前記に同じ。Ａはトリ（低
級アルキル）シリル基及びＢは低級アルカノイル
基を示す。またR^3e及びR^3fは一方が前記Ｒ基で他
方が上記Ａ基又はアシル基を示す。〕上記によれば、化合物（29）にビス−Ｎ，Ｏ−
トリ（低級アルキル）シリルアセトアミドを反応
（トリアルキルシリル化反応）させて化合物（30）
を得、次いでこれに２−低級アルカノイルオキシ
テトラヒドロフランを反応（テトラヒドロフラニ
ル化反応）させることにより、化合物（31）を収
得できる。トリアルキルシリル化反応は、適当な不活性溶
媒、例えばジオキサン、THF等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、
DMF，DMSO、アセトニトリル等の溶媒中、約
０〜100℃、好ましくは室温〜50℃の温度下に30
分〜６時間を要して行なわれる。上記においてビ
ス−Ｎ、０−トリ（低級アルキル）シリルアセト
アミドは、反応させるべき官能基１個に対して少
なくとも当量、好ましくは１〜２倍当量となる量
で用いられるのがよい。上記に引き続くテトラヒドロフラニル化反応
は、上記と同様の溶媒中、約０〜100℃、好まし
くは室温〜50℃の温度下に30分〜６時間で行なわ
れる。２−低級アルカノイルオキシテトラヒドロ
フランの使用量は化合物（30）に対して少なくと
も等モル量、好ましくは１〜２倍モル量とするの
がよい。この反応はまた、反応系内に塩化第２錫
（SnC₄）、塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のル
イス酸を通常化合物（30）に対して約0.1モル以
上存在させることにより有利に進行する。また該
テトラヒドロフラニル化反応において、R^3e又は
R^3fがトリ（低級アルキル）シリル基である化合
物（30）を用いる場合には、引き続き該トリ（低
級アルキル）シリル基の脱離反応を行なうことに
より、目的とする化合物（31）が収得される。こ
の脱離反応は、反応工程式−ｉの項で述べた脱保
護基反応と同様にして実施される。かくして得られる目的化合物は通常の分離手段
例えば再沈澱、再結晶、シリカゲルクロマトグラ
フイー、イオン交換クロマトグラフイー、ゲルク
ロマトグラフイー、親和クロマトグラフイー等に
より容易に単離精製される。尚前記反応工程式−ｉにおいて保護基である化
合物は、例えば下記反応工程式−又は−ｍに示
す方法により得られる。

【化】

【化】〔R^4fはアシル基及びR^4eは保護基を示す〕化合物３２のアシル化反応は、通常のアシル化
反応方法、例えば酸ハライド法、酸無水物法、混
合酸無水物法、Ｎ，N′−ジシクロヘキシルカル
ボジイミド法（DCC法）等のいずれをも適用す
ることができ、特に酸無水物法が有利に適用され
る。酸無水物法は、化合物３２を適当な溶媒中、酸
無水物と共に加熱することにより実施される。酸
無水物としては、化合物３２の5′位に導入すべき
アシル基に対応する酸の無水物を使用する。その
具体例としては例えば無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水酪酸、無水安息香酸等を例示できる。之
等の酸無水物は化合物３２に対して約１〜1.5倍
モル量程度用いられるのがよい。溶媒としては各
種の不活性溶媒、例えばピリジン、クロロホル
ム、ジクロルメタン等のハロゲン化炭化水素類、
ジオキサン、THF等のエーテル類、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルム
アミド（DMF）、ジメチルスルホキシド
（DMSO）、アセトニトリル等を使用できる。反
応温度は通常−30℃〜80℃程度とされ、約１〜６
時間で反応は終了する。また上記反応は、塩基性
化合物の存在下に有利に行なわれる。該塩基性化
合物としては、例えばピリジン、トリエチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の第三級アミン
類等の有機塩基や、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウム、酢酸ナトリウム等の無機塩基性化合物を
例示できる。上記反応により5′位がアシル化された化合物３
３が主成分として得られ、副成分として3′位がア
シル化された化合物も得られる。上記により得られる化合物３３は、次いでその
3′位水酸基の保護反応に供される。この保護反応
は反応工程式−ｉの項で説明した保護基を化合物
３３の3′位に導入するものであり、該保護基を導
入するための試薬としては前記一般式(A)で表わさ
れる保護基を与えるトリアリール置換メチルハラ
イド、前記一般式(B)で表わされる保護基を与える
下記一般式

【化】〔式中R′及びｎは一般式(B)におけるそれらに
同じ〕で表わされる不飽和環状エーテル、低級アルコキ
シメチルハライド及びトリ（低級アルキル）シリ
ルハライドが用いられる。上記ハライドを利用する保護基導入反応は、前
記反応工程式−ｉに示した脱ハロゲン化水素反応
と同様にして行なわれる。但し試薬量を化合物３
３に対して１〜２倍モル量、好ましくは１〜1.5
倍モル量とし、反応温度を−30℃〜80℃とするの
がよい。上記一般式（B′）で表わされる不飽和環状エ
ーテルを利用した保護基導入反応は、酸触媒の存
在下、例えばTHF、ジオキサン、アセトニトリ
ル等の非プロトン性不活性溶媒中で行なわれる。
酸触媒としては臭化水素、塩化水素等のハロゲン
化水素酸や、塩化アルミニウム、弗化硼素、塩化
亜鉛等のルイス酸を使用できる。反応は試薬を化
合物３３に対して１〜1.5倍モル量用い、−30℃〜
60℃下に約２〜５時間を要して行なわれる。かくして得られる化合物３４の5′位アシル基の
脱離反応は、アルカリ加水分解条件下に行なわれ
る。該条件は触媒として塩基性化合物を用いる前
記反応工程式−ｉの項で説明した加水分解反応と
同様である。

【化】〔式中R^4eは保護基を示す。〕上記によれば、化合物３２に直接保護基導入反
応を行なうことにより、5′位に保護基の導入され
た化合物３６が得られる。この保護基導入反応
は、反応工程式−ｌに示すそれと同条件下に行な
われる。上記反応工程式−ｌ及び−ｍに示す反応によ
り、3′位又は5′位のいずれか一方にアシル基又は
保護基の導入された原料化合物を収得できる。本発明に用いられる一般式(1)のピリジン誘導
体、これを抗腫瘍活性増強剤として用いるに当つ
ては、単独で製剤加工し、得られる製剤を抗腫瘍
剤と併用して投与してもよく、また抗腫瘍剤有効
成分化合物と同一の製剤に製剤加工して投与して
もよい。いずれの場合にも、抗腫瘍剤有効成分化
合物１モルに対する本発明化合物の併用割合は、
約0.1〜10倍モル量、好ましくは0.5〜1.5倍モル量
の範囲とするのが好ましい。本発明抗腫瘍活性増強剤は、通常使用される充
填剤、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活
性剤、滑沢剤等の希釈剤あるいは賦形剤を用いて
通常の医薬製剤の形態に調整される。この医薬製
剤としては各種の形態が治療目的に応じて選択で
き、その代表的なものとして錠剤、丸剤、散剤、
液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐
剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）、軟膏剤等が挙げ
られる。錠剤の形態に成形するに際しては、担体
としては公知のものを広く使用でき、例えば乳
糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デ
ンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロ
ース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロ
パノール、単シロツプ、ブドウ糖液、デンプン
液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロー
ス、セラツク、メチルセルロース、リン酸カリウ
ム、ポリビニルピロリドン等の結合剤、乾燥デン
プン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラミ
ナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウ
ム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステ
ル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モ
ノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白
糖、ステアリン、カカオバター、水素添加油等の
崩壊抑制剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル
硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリン、デ
ンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、
ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精
製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチ
レングリコール等の滑沢剤等を使用できる。さら
に錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例
えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フイル
ムコーテイング錠あるいは二重錠、多層錠とする
ことができる。丸剤の形態に成形するに際して
は、担体として公知のものを広く使用でき、例え
ばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植
物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴ
ム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の
結合剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使
用できる。坐剤の形態に成形するに際しては、担
体として公知のものを広く使用でき、例えばポリ
エチレングリコール、カカオ脂、高級アルコー
ル、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半
合成グリセライド等を使用できる。カプセル剤は
常法に従い通常有効成分化合物を上記で例示した
各種の担体と混合して硬質ゼラチンカプセル、軟
質カプセル等に充填して調製される。注射剤とし
て調製される場合、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌
され、かつ血液と等張であるのが好ましく、これ
らの形態に成形するに際しては、希釈剤として公
知のものを広く使用でき例えば水、エチルアルコ
ール、マクロゴール、プロピレングリコール、エ
トキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ
化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル類等を使用できる。
なお、この場合等張性の溶液を調製するに充分な
量の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを医薬製
剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶解補助
剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。更に
必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘
味剤等や他の医薬品を医薬製剤中に含有せしめて
もよい。ペースト、クリーム及びゲルの形態に成
形するに際しては、希釈剤として例えば白色ワセ
リン、パラフイン、グリセリン、セルロース誘導
体、ポリエチレングリコール、シリコン、ベント
ナイト等を使用できる。上記の医薬製剤中に含有されるべき前述の化合
物の量は、特に限定されず広範囲に適宜選択され
るが、通常医薬製剤中１〜70重量％とするのがよ
い。上記医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各
種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、患
者の程度等に応じて決定される。例えば錠剤、丸
剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤
は経口投与される。注射剤は単独であるいはブド
ウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内
投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内、皮
内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤は直腸
内投与される。上記医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性
別その他の条件、疾患の程度等により適宜選択さ
れるが、通常有効成分である抗腫瘍化合物２−
ａ，２−ｂ，３の量が１日当り体重１Kg当り約
0.5〜20mg程度とするのがよく、該製剤は１日に
１〜４回に分けて投与することができる。実施例以下に参考例、実施例、薬理試験例及び製剤例
を挙げる。参考例及び実施例におけるNMRデータに関
し、「Ｃ」、「Ｈ」又は「Ｎ」の右下に付された数
字は、化合物中の位置を示す。例えば、「C₆−
Ｈ」とは、６位の炭素原子に結合した水素原子を
示す。同様に、例えば「C₃′，₄′，₅′−Ｈ」は、
3′位、4′位、5′位の炭素原子に結合した水素原子
を示す。また、例えば「H₁」は１位の炭素原子
に結合した水素原子を示し、更に例えば、「N₃−
Ｈ」は、３位の窒素原子に結合した水素原子を示
す。参考例１ 5′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジンの製造 5′−Ｏ−アセチル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロ−3′−Ｏ−トリチルウリジン1.00ｇのメタノー
ル30ml溶液に、1N−水酸化ナトリウム水溶液を
加え、室温で４時間攪拌した。酢酸を加えて中和
後、濃縮し、残渣を石油エーテルで洗浄し、乾燥
した。これをベンゼン20mlとジオキサン20mlとの
混液に溶解し、臭化ベンジル0.27mlと水酸化カリ
ウム0.15ｇの細粉とを加えて一夜還流した。溶媒
を留去し、残渣を80％酢酸50mlに溶解し、80℃で
４時間放置した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムを用い、クロロホルム〜２％メタノール
−クロロホルムで溶出して、5′−Ｏ−ベンジル−
2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに対応する
フラクシヨンを集め、濃縮し、エタノールから再
結晶して、目的化合物0.33ｇ（52％）を得た。融点 129〜130℃ 元素分析値：C₁₆H₁₇FN₂O₅として計算値（％）：Ｃ 57.14；Ｈ 5.09；Ｎ 8.33 実測値（％）：Ｃ 57.14；Ｈ 5.35；Ｎ 8.34 NMR（DMSO−d₆）δ： 11.76（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失） 7.95（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.34（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.15（1H，ｔ，Ｊ＝7Hz，C₁′−Ｈ） 5.33（1H，bs，3′−OH，D₂Ｏ添加で消失） 4.55（2H，ｓ，

【式】） 4.34−4.16（1H，ｍ，C₃′−Ｈ） 4.00−3.89（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 3.69−3.63（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.14（2H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₂′−Ｈ）参考例２ 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジンの製造ベンゼン50mlとジオキサン50mlとの混液に、
2′−デオキシ−５−フルオロ−5′−Ｏ−トリチル
ウリジン1.00ｇ、臭化ベンジル0.30ml及び水酸化
カリウム0.23ｇの粉末を加え、25時間還流した。
不溶物を去し、液を濃縮した後、残渣を80％
酢酸５mlに溶解し、80℃で２時間放置した。溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムを用い、クロ
ロホルム〜２％メタノール−クロロホルムで溶出
して、3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フ
ルオロウリジンに対応するフラクシヨンを集め、
濃縮し、エタノールから再結晶して、目的化合物
0.14ｇ（20％）を得た。融点 138〜139℃ 元素分析値：C₁₆H₁₇FN₂O₅として計算値（％）：Ｃ 57.14；Ｈ 5.09；Ｎ 8.33 実測値（％）：Ｃ 57.16；Ｈ 5.30；Ｎ 8.13 NMR（DMSO−d₆）δ： 11.82（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失）、 8.21（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.35（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.16（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.22（1H，bs，5′−OH，D₂Ｏ添加で消失） 4.54（2H，ｓ，

【式】） 4.24−4.19（1H，ｍ，C₃′−Ｈ） 4.09−4.06（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 3.65−3.53（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.51−2.16（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例３ 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−Ｏ−（３，
４−メチレンジオキシベンジル）ウリジンの製
造参考例２において反応溶媒として用いるジオキ
サンをアセトニトリルに代える以外は同様に反応
させて、目的化合物を23％の収率で得た。融点 186〜188℃ 元素分析値：C₁₇H₁₇FN₂O₇・0.5H₂Ｏとして計算値（％）：Ｃ 52.44；Ｈ 4.66；Ｎ 7.19 実測値（％）：Ｃ 52.60；Ｈ 4.62；Ｎ 7.03 NMR（CDCl₃）δ： 11.80（1H，ｄ，Ｊ＝5Hz，−NH−，D₂Ｏ添加で
消失）、 8.18（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 6.90−6.85（3H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.11（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.99（2H，ｓ，Ｏ−CH₂−Ｏ−） 5.17（1H，ｔ，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加で
消失） 4.42（2H，ｓ，

【式】） 4.18−4.00（2H，ｍ，C₃′，C₄′−Ｈ） 3.64−3.61（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.30−2.20（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例４及び５ 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン及び5′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジンの製造水350mlとジオキサン100mlとの混液に水酸化カ
リウム11.4ｇを溶解し、室温攪拌下、2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン10.0ｇ及び臭化ベンジ
ル3.0mlを加えた。この後24時間おきに５％水酸
化カリウム水溶液100mlと臭化ベンジル3.0mlとを
３回加え、さらに一夜攪拌を続けた。反応溶液を
エーテル200mlで２回洗浄後、水層を6N−HClで
中和し約200mlまで濃縮した。これを再び6N−
HClでPH約３−４に調製し、酢酸エチル100mlで
２回抽出した。酢酸エチル層を分取し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、濃縮した。油状残渣をシリ
カゲルカラムを用い、クロロホルム〜２％メタノ
ール−クロロホルムで溶出し3′−Ｏ−ベンジル−
2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに対応する
フラクシヨンを集め、濃縮し、エタノールから再
結晶して目的化合物3.57ｇ（26.1％）を得た。融点 138〜139℃ 元素分析値：C₁₆H₁₇FN₂O₅として計算値（％）：Ｃ 57.14；Ｈ 5.09；Ｎ 8.33 実測値（％）：Ｃ 57.12；Ｈ 5.28；Ｎ 8.24 ついで溶出した5′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジンに対応するフラクシヨ
ンを集め、濃縮し、エタノールから再結晶して、
目的化合物0.40ｇ（2.9％）を得た。融点 129〜130℃ 元素分析値：C₁₆H₁₇FN₂O₅として計算値（％）：Ｃ 57.14；Ｈ 5.09；Ｎ 8.33 実測値（％）：Ｃ 57.29；Ｈ 5.30；Ｎ 8.26 参考例６〜17 参考例４及び５と同様にして下記各化合物を得
た。参考例６ 3′−Ｏ−（２−フルオロベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン収率 34％融点 121〜123℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.82（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失） 8.21（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.67−7.19（4H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.15（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.26（1H，bs，5′−OH−，D₂Ｏ添加で消失） 4.60（2H，ｓ，

【式】） 4.28−4.05（2H，ｍ，C₃′，C₄′−Ｈ） 3.77−3.67（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.41−2.18（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例７ 5′−Ｏ−（２−フルオロベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン収率 5.2％融点 −（油状） NMR（DMSO−d₆）δ： 11.7（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失） 7.92（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.52−7.07（4H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.62（2H，ｓ，

【式】） 4.44−3.97（2H，ｍ，C₃′，C₄′−Ｈ） 3.84−3.57（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.21−2.08（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例８ 3′−Ｏ−（３−フルオロベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン収率 27％融点 113℃〜115℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.81（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失） 8.21（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.46−7.01（4H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.17（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.22（1H，bt，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.58（2H，ｓ，

【式】） 4.31−4.06（2H，ｍ，C₃′，C₄′−Ｈ） 3.74−3.59（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.38−2.03（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例９ 5′−Ｏ−（３−フルオロベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン収率 5.9％融点（油状） NMR（CDCl₃）δ： 10.4（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失） 7.92（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.41−6.77（4H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.28（1H，bs，C₁′−Ｈ） 4.63−3.51（6H，ｍ，C₃′，C₄′，C₅′−Ｈ，

【式】） 2.49−1.93（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 10 3′−Ｏ−（２−ブロモベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン収率 33％融点 122〜124℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.81（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失）、 8.20（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.67−7.32（4H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.15（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.21（1H，ｔ，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加で
消失） 4.57（2H，ｓ，

【式】） 4.25−4.05（2H，ｍ，C₃′，C₄′−Ｈ） 3.70−3.52（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.40−1.94（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 11 5′−Ｏ−（２−ブロモベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン収率５％融点 −（油状） NMR（DMSO−d₆）δ： 11.78（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 7.91（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.69−7.32（4H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.15（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.35（1H，ｔ，Ｊ＝7Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.60（2H，ｓ，

【式】） 4.31−3.42（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.20−2.09（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 12 3′−Ｏ−（３−ブロモベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン収率 19％融点 166〜168℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.80（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.18（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.69−7.31（4H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.15（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.19（1H，ｔ，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.54（2H，ｓ，

【式】） 4.23−4.03（2H，ｍ，C₃′，₄′−Ｈ） 3.71−3.57（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.34−2.21（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 13 5′−Ｏ−（３−ブロモベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン収率３％融点 −（油状） NMR（DMSO−d₆）δ： 11.90（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.00（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.67−7.34（4H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.12（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.46（1H，bs，3′−OH，D₂Ｏ添加により消失） 4.54（2H，ｓ，

【式】） 4.30−3.90（2H，ｍ，C₃′，₄′，−Ｈ） 3.74−3.68（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.13（2H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₂′−Ｈ）参考例 14 3′−Ｏ−（４−ブロモベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン収率 12％融点 214〜217℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.80（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.18（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.55と7.30（各々2H，ｄ，Ｊ＝8Hz、フエニル−
Ｈ） 6.11（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.19（1H，ｔ，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.51（2H，ｓ，

【式】） 4.23−4.02（2H，ｍ，C₃′，₄′−Ｈ） 3.73−3.60（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.36−2.07（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 15 3′−Ｏ−（４−ｔ−ブチルベンジル）−2′−デオ
キシ−５−フルオロウリジン収率 17％融点 −（粉末） NMR（DMSO−d₆）δ： 11.80（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.18（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.48と7.30（各々2H，ｄ，Ｊ＝8Hz、フエニル−
Ｈ） 6.12（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.18（1H，ｔ，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.48（2H，ｓ，

【式】） 4.30−4.04（2H，ｍ，C₃′，₄′−Ｈ） 3.76−3.60（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.24−2.08（2H，ｍ，C₂′−Ｈ） 1.27（9H，ｓ，CH₃×３）参考例 16 5′−Ｏ−（４−ｔ−ブチルベンジル）−2′−デオ
キシ−５−フルオロウリジン収率２％融点 −（油状） NMR（DMSO−d₆）δ： 11.80（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 7.94（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.34と7.16（各々2H，ｄ，Ｊ＝8Hz、フエニル−
Ｈ） 6.14（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.31（1H，bs，3′−OH，D₂Ｏ添加により消失） 4.51（2H，ｓ，

【式】） 4.28−3.94（2H，ｍ，C₃′，₄′−Ｈ） 3.74−3.64（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.13（2H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₂′−Ｈ） 1.27（9H，ｓ，CH₃×３）参考例 17 3′−Ｏ−（４−フエニルベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン収率 12％融点 207〜209℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.90（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.69−7.39（9H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.15（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.25（1H，ｔ，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.58（2H，ｓ，

【式】） 4.29−4.07（2H，ｍ，C₃′，₄′−Ｈ） 3.83−3.63（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.26−2.06（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例18及び19 3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン及び5′−Ｏ−（４−ク
ロロベンジル）−2′−デオキシ−５−フルオロ
ウリジンの製造。水150mlとジオキサン40mlとの混液に、水酸化
カリウム4.0ｇを溶解し、室温攪拌下、2′−デオ
キシ−５−フルオロウリジン2.00ｇと４−クロロ
ベンジルクロリド5.5ｇとを加えた。２日後参考
例４及び５と同様に後処理し、シリカゲルカラム
を用い、クロロホルム〜２％メタノール−クロロ
ホルムで溶出し、3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）
−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに対応す
るフラクシヨンを集め、濃縮して目的化合物0.50
ｇ（17％）を得た。融点 196〜198℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.81（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.20（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.38（4H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.14（1H，ｔ，Ｊ＝7Hz，C₁′−Ｈ） 5.21（1H，bt，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.53（2H，ｓ，

【式】） 4.23−4.14（1H，ｍ，C₃′−Ｈ） 4.10−4.03（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 3.71−3.58（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.41−2.02（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）元素分析値：C₁₆H₁₆ClFN₂O₅として計算値（％）：Ｃ 51.83；Ｈ 4.35；Ｎ 7.56 実測値（％）：Ｃ 51.82；Ｈ 4.60；Ｎ 7.41 ついで溶出した5′−Ｏ−（４−クロロベンジル）
−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンに対応す
るフラクシヨンを集め、濃縮して粉末状の目的物
質を0.12ｇ（4.0％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 11.79（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 7.91（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.38（4H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.13（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.33（1H，bs，3′−OH，D₂Ｏ添加で消失） 4.53（2H，ｓ，

【式】） 4.38−4.21（1H，ｍ，C₃′−Ｈ） 4.04−3.82（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 3.78−3.74（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.25−1.98（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）元素分析値：C₁₆H₁₆ClFN₂O₅として計算値（％）：Ｃ 51.83；Ｈ 4.35；Ｎ 7.56 実測値（％）：Ｃ 51.73；Ｈ 4.80；Ｎ 7.97 参考例 20〜22 参考例18及び19と同様にして下記各化合物を得
た。参考例 20 3′−Ｏ−（２，４−ジクロロベンジル）−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン収率 14％融点 88〜90℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.82（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.20（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.60−7.37（3H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.14（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.21（1H，ｔ，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.59（2H，ｓ，

【式】） 4.28−4.03（2H，ｍ，C₃′，₄′−Ｈ） 3.69−3.60（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.37−2.19（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 21 5′−Ｏ−（２，４−ジクロロベンジル）−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン収率 3.3％融点 109〜111℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.77（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 7.89（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.60−7.36（3H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.14（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.33（1H，bs，3′−OH，D₂Ｏ添加により消失） 4.61（2H，ｓ，

【式】） 4.36−3.83（2H，ｍ，C₃′，₄′−Ｈ） 3.74−3.60（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.14（2H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₂′−Ｈ）参考例 22 3′−Ｏ−（４−メトキシベンジル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジン収率 8.1％融点 164〜166℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.81（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.27と6.91（各々2H，ｄ，Ｊ＝8Hz、フエニル−
Ｈ） 6.12（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.19（1H，bt，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.45（2H，ｓ，

【式】） 4.19−4.02（2H，ｍ，C₃′，₄′−Ｈ） 3.70−3.50（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.31−2.13（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 23 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−（２−メチ
ルベンジル）ウリジンの製造水33mlとアセトニトリル16mlとの混液に、水酸
化カリウム1.14ｇを溶解し、室温攪拌下、2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン1.00ｇと２−臭化
メチルベンジル1.50ｇを加えた。その後参考例４
及び５と同様に後処理して、目的化合物0.29ｇ
（20％）を得た。融点；114〜116℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.79（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.30−7.17（4H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.11（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.19（1H，ｔ，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.45（2H，ｓ，

【式】） 4.22−4.02（2H，ｍ，C₃′，C₄′−Ｈ） 3.66−3.62（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.29−2.21（5H，ｍ，C₂′−ＨとCH₃）元素分析値：C₁₇H₁₉FN₂O₅として計算値（％）：Ｃ 58.28；Ｈ 5.46；Ｎ 7.99 実測値（％）：Ｃ 58.12；Ｈ 5.64；Ｎ 8.01 参考例24及び25 参考例23と同様にして下記各化合物を得た。参考例 24 3′−Ｏ−（３−メチルベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン収率 23％融点 129〜131℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.80（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.15（4H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.12（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.18（1H，ｔ，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.49（2H，ｓ，

【式】） 4.21−4.02（2H，ｍ，C₃′，C₄′−Ｈ） 3.66−3.61（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.31−2.22（5H，ｍ，C₂′−ＨとCH₃）参考例 25 3′−Ｏ−（４−メチルベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン収率 21％融点 178〜180℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.81（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.18（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.30−7.13（4H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.12（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.17（1H，ｔ，Ｊ＝5Hz，5′−OH，D₂Ｏ添加に
より消失） 4.20−4.01（2H，ｍ，C₃′，C₄′−Ｈ） 3.65−3.60（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.29−2.12（5H，ｍ，C₂′−ＨとCH₃）参考例 26 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロ−5′−Ｏ−ニコチノイルウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン0.20ｇのピリジン10ml溶液に、塩化ニ
コチノイル・塩酸塩0.21ｇを加え、80℃で３時間
放置した。溶媒を留去後残渣を酢酸エチル30mlに
溶解し、水20mlで２回洗浄した。酢酸エチル層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮し、油状残渣
をシリカゲルカラムを用い、クロロホルムで溶出
して目的化合物0.18ｇ（69％）を得た。融点 130〜132℃ NMR（CDCl₃）δ： 11.14（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 9.22（1H，ｓ，

【式】） 8.81（1H，ｄ，Ｊ＝4Hz，

【式】） 8.24（1H，ｄ，Ｊ＝8Hz，

【式】） 7.53−7.28（7H，ｍ，

【式】C₆− Ｈ，

【式】） 6.22（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.71−4.21（6H，ｍ，

【式】C₃′，₄ ′，₅′−Ｈ） 2.75−2.04（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）元素分析値：C₂₂H₂₀FN₃O₆として計算値（％）：Ｃ 59.86；Ｈ 4.57；Ｎ 9.52 実測値（％）：Ｃ 60.01；Ｈ 4.56；Ｎ 9.58 参考例 27〜38 参考例26と同様にして下記各化合物を得た。参考例 27 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−ベンゾイル−2′−
デオキシ−５−フルオロウリジン収率 75％融点 125〜127℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.94（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.00−7.41（6H，ｍ，

【式】C₆− Ｈ） 7.33（5H，ｓ，

【式】） 6.17（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.59（6H，ｍ，

【式】 C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.40−2.27（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 28 3′−Ｏ−ベンジル−５−Ｏ−フエノキシカルボ
ニル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン収率 38％融点 −（油状） NMR（DMSO−d₆）δ： 12.00（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 7.95（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.55−7.16（10H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.17（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.56−4.21（6H，ｍ，

【式】C₃′，₄ ′，₅′−Ｈ） 2.39−2.28（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 29 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−ｎ−ヘキサノイル
−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン収率 51％融点 −（油状） NMR（DMSO−d₆）δ： 11.94（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 7.90（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.33（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.19（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.54（2H，ｓ，

【式】） 4.29−4.12（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.38−2.23（4H，ｍ，C₂′−Ｈ，−CH₂CO−） 1.61−1.15（6H，ｍ，CH₃（ＣＨ ₂）₃CH₂CO−） 0.84（3H，ｔ，Ｊ＝6Hz，ＣＨ ₃CH₂−）参考例 30 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−ベンジルカルボニ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン収率 42％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 10.06（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 7.42−7.23（11H，ｍ，フエニル−Ｈ，C₆−Ｈ） 6.15（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.43（2H，ｓ，

【式】） 4.33−4.11（3H，ｍ，C₃′，₅′−Ｈ） 3.96−3.83（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 3.64（2H，ｓ，

【式】） 2.47−2.27，1.65−1.49（2H，ｍ，C₂−Ｈ）参考例 31 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−エトキシカルボニ
ル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン収率 37％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 10.18（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 7.68（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.23（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.31（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.40（2H，ｓ，

【式】） 4.37−4.10（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ，OCＨ ₂
CH₃） 2.67−2.42，2.23−1.92（2H，ｍ，C₂′−Ｈ） 1.30（3H，ｔ，Ｊ＝7Hz，−OCH₂ＣＨ ₃）参考例 32 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−（３−メチルベン
ゾイル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ン収率 67％融点 131〜133℃ NMR（CDCl₃）δ： 9.61（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消失）、 7.78−7.73（2H，ｍ，

【式】） 7.60（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.38−7.22（7H，ｍ，

【式】

【式】） 6.25（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.55−4.35（5H，ｍ，C₃′，₅′−Ｈ，

【式】） 4.28−4.18（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 2.73−2.47，2.16−1.87（2H，ｍ，C₂′−Ｈ） 2.38（3H，ｓ，

【式】）参考例 33 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−（４−ｎ−プロポ
キシベンゾイル）−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン収率 78％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 9.27（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消失）、 7.91（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 7.62（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.32（5H，ｓ，

【式】） 6.91（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 6.25（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.55−4.52（4H，ｍ，

【式】C₅′− Ｈ） 4.45−4.39（1H，ｍ，C₃′−Ｈ） 4.29−4.15（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 3.97（2H，ｔ，Ｊ＝7Hz，−CH₂Ｏ−） 2.74−2.52，2.16−1.64（4H，ｍ，CH₃ＣＨ ₂CH₂
−Ｏ−，C₂′−Ｈ） 1.04（3H，ｔ，Ｊ＝7Hz，ＣＨ ₃CH₂−）参考例 34 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−フエノキシメチル
カルボニル−2′−デオキシ−５−フルオロウリ
ジン収率 90％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 10.03（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 7.58（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.35−6.77（10H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.22（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.65（2H，ｓ，

【式】） 4.42−4.23（5H，ｍ，C₃′，₅′−Ｈ，

【式】） 3.97−3.84（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 2.49−2.23，1.96−1.65（1H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 35 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−α−ナフチルカル
ボニル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン収率 48％融点 158〜160℃ NMR（CDCl₃）δ： 9.20（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消失）、 8.87−8.73（1H，ｍ，

【式】） 8.10−7.38（12H，ｍ，C₆−Ｈ，

【式】

【式】） 6.25（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.68−4.56（4H，ｍ，C₅′−Ｈ，

【式】） 4.45−4.38（1H，ｍ，C₃′−Ｈ） 4.32−4.18（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 2.70−2.43，2.17−1.86（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 36 3′−Ｏ−（４−クロロベンゾイル）−5′−Ｏ−ベ
ンジル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン収率 57％融点 215〜217℃ NMR（CMSO−d₆）δ： 11.83（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加により消
失）、 8.06−7.97（3H，ｍ，C₆−Ｈ，

【式】） 7.61（2H，ｄ，Ｊ＝8Hz，

【式】） 7.35（5H，ｓ，

【式】） 6.27（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.54−5.47（1H，ｍ，C₃′−Ｈ） 4.60（2H，ｓ，

【式】） 4.42−4.32（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 3.80−3.71（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.52−2.38（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 37 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−（３，４，５−ト
リメトキシベンゾイル）−2′−デオキシ−５−
フルオロウリジン収率 63％ NMR（CMSO−d₆）δ： 11.87（1H，ｓ，−NH−，D₂Ｏ添加で消失）、 7.93（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.33（5H，ｓ，

【式】） 7.25（2H，ｓ，

【式】） 6.17（1H，ｔ，Ｊ＝7Hz，C₁′−Ｈ） 4.61−4.35（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ，

【式】） 3.82，3.77（計9H、各々ｓ，

【式】） 2.54−2.39（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 38 3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−5′−Ｏ−アセ
チル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン収率 90％ NMR（CDCl₃）δ： 7.67（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.28（5H，ｓ，フエニル−Ｈ） 6.22（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.50（2H，ｓ，

【式】） 4.40−4.11（4H、ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.71−2.46，2.28−1.93（5H，ｍ，C₂′−Ｈ，CH₃
CO−）参考例 39 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロ−３−フエノキシカルボニルウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン0.50ｇのジオキサン20ml溶液にトリメ
チルクロロシラン0.38mlとトリエチルアミン1.04
mlとを加え、室温で２時間攪拌した後、60℃で30
分放置した。ついでフエノキシカルボニルクロリ
ド0.40ｇとトリエチルアミン1.00mlとを加え、さ
らに60℃で３時間放置した。溶媒を留去し、残渣
を酢酸エチル50mlに溶解し、飽和食塩水で洗浄
し、酢酸エチル層を分取した。これを濃縮し、残
渣をメタノール30mlに溶解した。ここに酢酸0.5
mlを加え、一夜放置し、濃縮した。残渣をシリカ
ゲルカラムを用い、クロロホルム〜２％メタノー
ル−クロロホルムで溶出して目的化合物0.58ｇ
（86％）を得た。融点 110〜112℃ NMR（CDCl₃）δ： 8.16（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ）、 7.34−7.22（10H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.27（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.49（2H，ｓ，

【式】） 4.26−4.17（2H，ｍ，C₃′，₄′−Ｈ） 3.95−3.60（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.63−1.98（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）元素分析値：C₂₃H₂₁FN₂O₇として計算値（％）Ｃ 60.53；Ｈ 4.64；Ｎ 6.14 実測値（％）Ｃ 60.60；Ｈ 4.72；Ｎ 6.08 参考例 40 参考例39と同様にして下記各化合物を得た。 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−３−（４−
プロポキシベンゾイル）−５−フルオロウリジ
ン収率 65％融点 −（ガラス状粉末） NMR（CDCl₃）δ： 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.85（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 7.27（5H，ｓ，

【式】） 6.90（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 6.25（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.44（2H，ｓ，

【式】） 4.20−3.55（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ，−CH₂ＣＨ
_２Ｏ−） 2.57−1.58（4H，ｍ，C₂′−Ｈ，CH₃ＣＨ ₂CH₂Ｏ
−） 0.99（3H，ｔ，Ｊ＝7Hz，ＣＨ ₃CH₂−）参考例 41 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−３−ベンゾ
イル−５−フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン0.50ｇのジオキサン20ml溶液にトリメ
チルクロロシラン0.75mlとトリエチルアミン2.00
mlを加え、室温で２時間攪拌した後、60℃で30分
間放置した。次いで臭化ベンゾイル0.42ｇとトリ
エチルアミン1.00mlとを加え、更に60℃で１時間
放置した。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル50ml
に溶解し、飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層
を分取し、濃縮し、残渣をメタノール30mlに溶解
し、ここに酢酸0.5mlを加えて室温で一夜放置し
た。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムを用
い、クロロホルム〜２％メタノール−クロロホル
ムで溶出して、粉末状の目的化合物0.35ｇ（54
％）を得た。融点 −（ガラス状粉末） NMR（CDCl₃）δ： 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.94−7.85（2H，ｍ、

【式】） 7.64−7.21（8H，ｍ，

【式】

【式】） 6.24（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.46（2H，ｓ，

【式】） 4.24−4.12（2H，ｍ，C₃′，₄′−Ｈ） 3.92−3.56（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.60−1.96（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 42 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−３−ベ
ンゾイル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ンの製造 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン0.20ｇのジオキサ
ン10ml溶液に塩化ベンゾイル0.29ｇとトリエチル
アミン0.73mlとを加え、80℃で２時間放置した。
溶媒を留去した後、残渣を酢酸エチル50mlに溶解
し水洗した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濃縮した後、残渣をシリカゲルカラム
を用い、クロロホルムで溶出して油状の目的化合
物0.20ｇ（78％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ： 7.95−7.27（11H，ｍ、フエニル−Ｈ，C₆−Ｈ） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.45（2H，ｓ，

【式】） 4.23−4.08（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.60−2.05（5H，ｍ，C₂′−Ｈ，COCH₃）元素分析値：C₂₅H₂₃FN₂O₇として計算値（％）Ｃ 62.24；Ｈ 4.80；Ｎ 5.81 実測値（％）Ｃ 62.34；Ｈ 5.06；Ｎ 5.77 参考例 43〜53 参考例42と同様にして下記各化合物を得た。参考例 43 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−アセチル−2′−デ
オキシ−３−（４−プロポキシベンゾイル）−５
−フルオロウリジン収率 38％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 7.85（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 7.75（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.30（5H，ｓ，

【式】） 6.92（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.45（2H，ｓ，

【式】） 4.23−4.08（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 3.96（2H，ｔ，Ｊ＝6Hz，−OCＨ ₂CH₂CH₃） 2.70−1.68（7H，ｍ，C₂′−Ｈ，COCH₃，−
OCH₂ＣＨ ₂CH₃） 1.01（3H，ｔ，Ｊ＝7Hz，−Ｏ（CH₂）₂ＣＨ ₃）参考例 44 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−アセチル−2′−デ
オキシ−３−（４−クロロベンゾイル）−５−フ
ルオロウリジン収率 73％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 7.84（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 7.78（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.44（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 7.30（5H，ｓ，

【式】） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.51（2H，ｄ，Ｊ＝1Hz，

【式】） 4.28−4.08（4H、ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.70−2.43，2.25−2.03（5H，ｍ，C₂′−Ｈ，
COCH₃）参考例 45 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−アセチル−2′−デ
オキシ−３−（２−メチルベンゾイル）−５−フ
ルオロウリジン収率 44％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 7.62−7.32（10H，ｍ，C₆−Ｈ、フエニル−Ｈ） 6.19（1H，ｔ，Ｊ＝7Hz，C₁′−Ｈ） 4.47（2H，ｄ，Ｊ＝1Hz，

【式】） 4.25−4.07（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.67−2.00（8H、ｍ，C₂′−Ｈ，COCH₃，

【式】）参考例 46 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−アセチル−2′−デ
オキシ−３−（４−メチルベンゾイル）−５−フ
ルオロウリジン収率 68％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 7.81−7.65（3H，ｍ，C₆−Ｈ，

【式】） 7.47−7.16（7H，ｍ，

【式】

【式】） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.46（2H，ｓ，

【式】） 4.25−4.08（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.67−2.00（8H，ｍ，C₂′−Ｈ，COCH₃，

【式】）参考例 47 3′−Ｏ−ベンジル−5′−アセチル−2′−デオキ
シ−３−（４−メチルベンゾイル）−５−フルオ
ロウリジン収率 84％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 7.79（2H，ｄ，Ｊ＝8Hz，

【式】） 7.78（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.27（5H，ｓ，

【式】） 7.22（2H，ｄ，Ｊ＝8Hz，

【式】） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.45（2H，ｓ，

【式】） 4.24−4.08（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.60−2.05（8H，ｍ，C₂′−Ｈ，COCH₃，

【式】）参考例 48 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−アセチル−2′−デ
オキシ−３−（４−メトキシベンゾイル）−５−
フルオロウリジン収率 70％融点 −（粉末） NMR（CDCl₃）δ： 7.85（2H，ｄ，Ｊ＝8Hz，

【式】） 7.77（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.28（5H，ｓ，

【式】） 6.91（2H，ｄ，Ｊ＝8Hz，

【式】） 6.21（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.47（2H，ｓ，

【式】） 4.25−4.09（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 3.80（3H，ｓ，ＣＨ ₃Ｏ−） 2.49−2.07（5H，ｍ，C₂′−Ｈ，COCH₃）参考例 49 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−ベンゾイル−2′−
デオキシ−３−ベンゾイル−５−フルオロウリ
ジン収率 94％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 8.03−7.32（16H，ｍ、フエニル−Ｈ，C₆−Ｈ） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.48−4.16（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ，

【式】） 2.70−2.42，2.25−1.95（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 50 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−フエノキシカルボ
ニル−2′−デオキシ−３−フエノキシカルボニ
ル−５−フルオロウリジン収率 48％融点 −（油状） NMR（DMSO−₆）δ： 8.21（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.57−7.16（15H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝7Hz，C₁′−Ｈ） 4.59−4.28（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ，

【式】） 2.54−2.38（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 51 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−α−ナフチルカル
ボニル−2′−デオキシ−３−α−ナフチルカル
ボニル−５−フルオロウリジン収率 29％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 9.11−8.79（2H，ｍ，

【式】） 8.11−7.19（13H，ｍ，

【式】 C₆−Ｈ） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝7Hz，C₁′−Ｈ） 4.71−4.10（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ，

【式】） 2.64−2.36，2.15−1.85（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 52 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−（３−メチルベン
ゾイル）−2′−デオキシ−３−（３−メチルベン
ゾイル）−５−フルオロウリジン収率 18％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 7.81−7.62（5H，ｍ，

【式】） 7.43−7.24（9H，ｍ，

【式】） 6.23（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.60−4.20（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ，

【式】） 2.78−2.50，2.24−1.93（2H，ｍ，C₂′−Ｈ） 2.39，2.37（各々、ｓ，3H，

【式】）参考例 53 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−アセチル−2′−デ
オキシ−３−ヘキサノイル−５−フルオロウリ
ジン収率 48％融点 −（油状） NMR（CDCl₃）δ： 7.66（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.32（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.54（2H，ｓ，

【式】） 4.38−4.07（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.82（2H，ｔ，Ｊ＝9Hz，−CH₂−CO−） 2.59−2.44，2.22−2.02（5H，ｍ，C₂′−ＨとCH₃
CO−） 1.92−1.67（2H，ｍ，−ＣＨ ₂CH₂CO−） 1.56−1.22（4H，ｍ，CH₃ＣＨ ₂ＣＨ ₂CH₂CO−） 0.90（3H，ｔ，Ｊ＝5Hz，ＣＨ ₃CH₂）参考例 54 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−アセチル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン3.95ｇのピリジン30ml溶液に、無水酢
酸3.33mlを加え、40℃で一夜放置した。溶媒を留
去し、残渣を酢酸エチル30mlに溶解し、水15mlで
２回洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、濃縮し、シリカゲルカラムを用いク
ロロホルムで溶出して目的化合物3.62ｇ（81.5
％）を得た。融点 87−88℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.86（1H，ｄ，Ｊ＝4Hz，−NH−，D₂Ｏ添加で
消失） 7.93（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.35（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.15（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.55（2H，ｓ，

【式】） 4.32−4.20（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.39−2.28（2H，ｔ，Ｊ＝6Hz，CH₂′−Ｈ） 2.04（3H，ｓ，COCH₃）元素分析値：C₁₈H₁₉FN₂O₆として計算値（％）Ｃ 57.14；Ｈ 5.06 Ｎ 7.40 実測値（％）Ｃ 56.99；Ｈ 5.22 Ｎ 7.37 参考例 55 3′−Ｏ−アセチル−5′−Ｏ−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造参考例54と同様にして、5′−Ｏ−ベンジル−
2′−デオキシ−５−フルオロウリジン1.00ｇを用
いて反応させて、目的化合物1.00ｇ（88.9％）を
得た。融点 114−116℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.85（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失） 7.95（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.34（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.17（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.25−5.23（1H，ｍ，C₃′−Ｈ） 4.57（2H，ｓ，

【式】） 4.32−4.20（1H，ｍ，C₄′−Ｈ）、 3.84−3.73（2H，ｍ，C₅′−Ｈ）、 2.37−2.25（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）、 2.06（3H，ｓ，COCH₃）元素分析値：C₁₈H₁₉FN₂O₆として計算値（％）Ｃ 57.14；Ｈ 5.06 Ｎ 7.40 実測値（％）Ｃ 56.91；Ｈ 5.32 Ｎ 7.25 参考例 56 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−クロロアセチル−
2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン0.20ｇのピリジン10ml溶液に無水クロ
ロ酢酸を加え、室温で一夜放置した。後処理を参
考例54と同様にして、目的化合物0.11ｇ（45％）
を油状物として得た。 NMR（CDCl₃）δ： 10.22（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失） 7.60（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.32（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.23（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.53（2H，ｄ，Ｊ＝3Hz，

【式】） 4.45−4.08（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ，ClCH₂CO
−） 2.69−2.06（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）元素分析値：C₁₈H₁₈ClFN₂O₆として計算値（％）Ｃ 52.37；Ｈ 4.39 Ｎ 6.79 実測値（％）Ｃ 52.43；Ｈ 4.63 Ｎ 6.80 参考例 57 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−３−（２−
テトラヒドロフラニル）−５−フルオロウリジ
ンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン0.40ｇの乾燥ジクロロメタン８ml懸濁
液に、室温攪拌下、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシ
リル）アセトアミド1.32ｇを加えた。４時間後、
２−アセトキシテトラヒドロフラン0.32ｇと塩化
第二錫0.1mlの乾燥ジクロロメタン1.6ml溶液を加
え、さらに1.5時間攪拌した。次いでトリエチル
アミン0.64mlを加えて中和し、水洗した。ジクロ
ロメタン層を濃縮し、残渣をメタノール16mlに溶
解し、ここに酢酸0.24mlを加えて40℃で３時間放
置した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
を用い、クロロホルム〜４％メタノール−クロロ
ホルムで溶出して目的化合物0.37ｇ（77％）を得
た。 NMR（CDCl₃）δ： 8.01（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.30（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.58（1H，bt，Ｊ＝6Hz，

【式】） 6.26（1H，bt，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.51（2H，ｓ，

【式】） 4.39−3.50（7H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ，C₆′−OH，

【式】） 2.60−1.86（6H，ｍ，C₂′−Ｈ，

【式】）元素分析値：C₂₀H₂₃FN₂O₆として計算値（％）Ｃ 59.11；Ｈ 5.70 Ｎ 6.89 実測値（％）Ｃ 59.02；Ｈ 6.11 Ｎ 6.78 参考例 58 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−３−
（３−カルボメトキシベンゾイル）−2′−デオキ
シ−５−フルオロウリジンの製造 5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベンジル−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジン3.00ｇの乾燥ジオ
キサン100ml溶液にイソフタロイルクロリド2.40
ｇとトリエチルアミン8.5mlを加え２時間還流し
た。ここにメタノール５mlとトリエチルアミン
9.60mlの乾燥ジオキサン100ml懸濁液を加えさら
に２時間還流した。不溶物を去し、液を濃
縮、残渣を酢酸エチル100mlに溶解し、飽和食塩
水30mlで２回洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥後濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムを用いクロロホルム〜２％メタノール−クロ
ロホルムで溶出し、目的物に対応するフラクシヨ
ンを集め濃縮乾固して目的化合物の粉末を収率69
％で得た。 NMR（CDCl₃）δ： 8.54−7.47（5H，ｍ，C₆−Ｈと

【式】）−CO 7.28（5H，ｓ，

【式】） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.50（2H，ｓ，

【式】） 4.48−4.13（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 3.89（3H，ｓ，−COOCＨ ₃） 2.50−1.93（5H，ｍ，C₂′−ＨとCOCＨ ₃）参考例 59 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロ−5′−Ｏ−（３，４−メチレンジオキシベン
ゾイル）ウリジンの製造参考例26と同様に反応及び後処理して目的化合
物を収率72％で得た。融点：169−171℃ NMR（CDCl₃）δ： 9.72（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失） 7.71−7.52（2H，ｍ，C₆−Ｈと

【式】） 7.38（1H，ｄ，Ｊ＝2Hz，

【式】） 7.32（5H，ｓ，

【式】） 6.83（1H，ｄ，Ｊ＝8Hz，

【式】） 6.23（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 6.03（2H，ｓ，−OCH₂Ｏ−） 4.57−4.14（6H，ｍ，

【式】とC₃′，₄ ′，₅′−Ｈ） 2.75−2.49と2.19−1.89（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 60 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−（４−クロロベン
ゾイル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ンの製造参考例26と同様に反応および後処理して目的化
合物を収率53％で得た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 11.9（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失） 7.95（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 7.92（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，C₆−Ｈ） 7.59（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 7.33（5H，ｓ，

【式】） 6.15（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 4.58−4.31（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈと

【式】） 2.42−2.31（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 61 3′−Ｏ−（３−クロロベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジンの製造水75mlとジオキサン40mlとの混液に水酸化カリ
ウム2.00ｇを溶解し、これに2′−デオキシ−５−
フルオロウリジン1.00ｇと３−クロロベンジルク
ロライド2.50ｇとを加え、45℃で３日間攪拌し
た。反応後、参考例４及び５と同様に後処理し、
シリカゲルカラムクロマトグラフイーにてクロロ
ホルム〜２％メタノール−クロロホルムで溶出し
て目的化合物0.21ｇ（収率14％）を得た。融点 153〜155℃ 参考例 62 3′−Ｏ−（２−クロロベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジンの製造水150mlとジオキサン40mlとの混液に水酸化カ
リウム3.75ｇを溶解し、これに2′−デオキシ−５
−フルオロウリジン1.00ｇと２−クロロベンジル
クロライド10mlとを加え、30℃で３日間攪拌し
た。反応後、参考例４及び５と同様に後処理し、
シリカゲルカラムクロマトグラフイーにて２％メ
タノール−クロロホルムで溶出して目的化合物
0.34ｇ（収率23％）を得た。融点 78〜80℃ 参考例 63 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−Ｏ−（４−
フルオロベンジル）ウリジンの製造水300mlとジオキサン80mlとの混液に水酸化カ
リウム7.5ｇを溶解し、これに2′−デオキシ−５
−フルオロウリジン2.00ｇと４−フルオロベンジ
ルクロライド4.9mlとを加え、35℃で２日間攪拌
した。反応後、参考例４及び５と同様に後処理
し、シリカゲルカラムクロマトグラフイーにて２
％メタノール−クロロホルムで溶出して目的化合
物0.57ｇ（収率20％）を得た。融点 130〜131℃ 参考例 64 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−Ｏ−（１−
ナフチルメチル）ウリジンの製造水酸化カリウム1.3ｇ、2′−デオキシ−５−フ
ルオロウリジン1.00ｇ及び１−ナフチルメチルブ
ロマイド2.7ｇを用い、参考例４及び５と同様に
して目的化合物0.28ｇ（収率18％）を得た。融点 159〜160℃ 参考例 65 5′−Ｏ−アセチル−３−Ｏ−ベンゾイル−3′−
Ｏ−（４−クロロベンジル）−2′−デオキシ−５
−フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−5′−Ｏ−アセ
チル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン0.25
ｇのジオキサン30ml溶液にベンゾイルクロライド
0.26ｇとトリエチルアミン0.51mlとを加え、90℃
で２時間攪拌した。反応溶液を濃縮し、残渣を酢
酸エチル50mlに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液で３回次いで飽和食塩水で３回洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥の後、酢酸エチルを留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
にかけクロロホルム溶出して目的化合物0.29ｇ
（収率92％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ： 7.98−7.87（2H，ｍ，

【式】） 7.77（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，H₆） 7.69−7.32（3H，ｍ，

【式】） 7.27（4H，ｄ，Ｊ＝3Hz、フエニル−Ｈ） 6.21（1H，ｔ，Ｊ＝4Hz，H₁′） 4.90（2H，ｄ，Ｊ＝1Hz，

【式】） 4.32−4.03（4H，ｍ，H₃′，H₄′，H₅′） 2.72−1.96（5H，ｍ，H₂とCH₃CO−）参考例 66 5′−Ｏ−アセチル−３−（４−クロロベンゾイ
ル）−3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−2′−デ
オキシ−５−フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−5′−Ｏ−アセ
チル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン0.30
ｇのジオキサン30ml溶液に４−クロロベンゾイル
クロライド0.38ｇとトリエチルアミン0.61mlとを
加え、40℃で３時間攪拌した。不溶物を去し、
残渣を酢酸エチル50mlに溶解し、水洗し、乾燥
後、酢酸エチルを留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーにかけクロロホルム−ｎ−
ヘキサン（３：２）で溶出して目的化合物0.33ｇ
（収率82％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 7.86（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 7.77（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，H₆） 7.48（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 7.27（4H，ｄ，Ｊ＝4Hz，

【式】） 6.20（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，H₁′） 4.49（2H，ｓ，

【式】） 4.32−4.03（4H，ｍ，H₃′，H₄′，H₅′） 2.75−1.95（5H，ｍ，H₂′とＣH₃ CO−）参考例 67 5′−Ｏ−アセチル−３−（４−ｎ−プロポキシ
ベンゾイル）−3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）
−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−5′−Ｏ−アセ
チル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン0.30
ｇのジオキサン30ml溶液に４−ｎ−プロポキシベ
ンゾイルクロライド0.44ｇとトリエチルアミン
0.61mlとを加え、70℃で３時間攪拌した。不溶物
を去し、残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗し、
乾燥後、酢酸エチルを留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにかけクロロホルム−
石油エーテル（１：１）で溶出して目的化合物
0.15ｇ（収率36％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 7.87（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 7.74（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，H₆） 7.27（4H，ｄ，Ｊ＝3Hz，

【式】） 6.94（2H，ｄ，Ｊ＝9Hz，

【式】） 6.21（1H，ｔ，Ｊ＝4Hz，H₁′） 4.49（2H，ｓ，

【式】） 4.31−3.93（6H，ｍ，H₃′，H₄′，H₅′と−Ｏ−
ＣH₂ CH₂CH₃） 2.72−1.65（7H，ｍ，H₂′，CH₃CO−と−Ｏ−
CH₂ＣH₂ CH₃） 1.04（3H，ｔ，Ｊ＝7Hz，−OCH₂CH₂ＣH₃ ）参考例 68 ３−ベンゾイル−3′−Ｏ−（４−クロロベンジ
ル）−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの
製造 3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン0.50ｇを用い、参考例41
と同様にして、粉末状の目的化合物0.46ｇ（収率
72％）を得た。融点 −（粉末） NMR（CDCl₃）δ 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，H₆） 7.90（2H，bd，Ｊ＝7Hz，

【式】） 7.65−7.35（3H，ｍ，

【式】） 7.24（4H，ｓ，

【式】） 6.24（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，H₁′） 4.42（2H，ｓ，

【式】） 4.24−4.15（2H，ｍ，H₃′，H₄′） 3.95−3.60（2H，ｍ，H₅′） 2.59−1.98（2H，ｍ，H₂′）参考例 69 ３−ベンゾイル−5′−Ｏ−ベンゾイル−3′−Ｏ
−（４−クロロベンジル）−2′−デオキシ−５−
フルオロウリジンの製造 3′−Ｏ−（４−クロロベンジル）−2′−デオキシ
−５−フルオロウリジン0.25ｇのピリジン溶液に
ベンゾイルクロライド0.23mlを加え、室温で２時
間攪拌した。溶媒を留去後、残渣に酢酸エチルと
水とを加え、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにかけクロロホルムで
溶出して、目的化合物0.27ｇ（収率70％）を得
た。 NMR（CDCl₃）δ 8.05−7.85（4H，ｍ，

【式】） 7.71（1H，ｄ，Ｊ＝6Hz，H₆） 7.63−7.32（6H，ｍ，

【式】） 7.25（4H，ｓ，

【式】） 6.21（1H，ｔ，Ｊ＝4Hz，H₁′） 4.63−4.20（6H，ｍ，H₃′，H₄′，H₅′と

【式】） 2.77−2.02（2H，ｍ，H₂′）参考例 70 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロ−３−ニコチノイル−5′−Ｏ−ニコチノイル
ウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン0.50ｇのジオキサン40ml溶液に、塩酸
塩化ニコチノイル0.40ｇとトリエチルアミン1.0
mlとを加え、６時間還流した。溶媒を留去後、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにかけ
１％メタノール−クロロホルムで溶出して、目的
化合物0.23ｇ（収率29％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 9.27と9.11（各1H，ｄ，

【式】） 8.97−8.81（2H，ｍ，

【式】） 8.57−8.16（3H，ｍ，H₆と

【式】） 7.73−7.50（2H，ｍ，

【式】） 7.32（5H，ｓ，

【式】） 6.10（1H，ｍ，Ｊ＝6Hz，H₁′） 4.59（2H，ｓ，

【式】） 4.54−4.33（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.37−2.20（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 71 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−Ｏ−（４−
カルボキシベンジル）ウリジンの製造 2′−デオキシ−５−フルオロ−5′−Ｏ−トリチ
ルウリジン3.00ｇのジオキサン200ml溶液に水酸
化カリウム4.30ｇ及び４−メトキシカルボニルベ
ンジルブロマイド1.70ｇを加え室温下１日攪拌し
た。反応溶液を減圧濃縮し、残渣に水200mlを加
え室温下15分間攪拌した。反応溶液を酢酸酸性と
した後酢酸エチル抽出を行なつた。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、残渣を80％酢
酸水溶液50mlに溶かし100℃で２時間加熱した。
溶媒を留去し残渣を３％メタノール−クロロホル
ムを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイーに付したところ、目的とする化合物が
650mg（28％）を得られた。 NMR（DMSO−d₆）δ： 11.83（1H，bs，N₃−Ｈ，D₂Ｏ添加により消失） 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝7Hz，C₆−Ｈ） 7.94（2H，ｄ，Ｊ＝8Hz，

【式】） 7.46（2H，ｄ，Ｊ＝8Hz，

【式】） 6.14（1H，ｔ，Ｊ＝6Hz，C₁′−Ｈ） 5.20（1H，bs，C₅′−OH，D₂Ｏ添加により消失） 4.63（2H，ｓ，

【式】） 4.22−3.64（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.35−2.04（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 72 2′−デオキシ−3′−Ｏ−ベンジル−５−フルオ
ロウリジンの製造 2′−デオキシ−5′−Ｏ−トリチル−５−フルオ
ロウリジン10ｇをジオキサン50mlに溶解し、これ
に臭化ベンジル2.9ml及び水酸化カリウムの細粉
14.6ｇを加え、室温で１時間攪拌した。水40mlを
加え、酢酸でPHを約３〜４に調製後、酢酸エチル
で抽出し、酢酸エチル層を食塩水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを
別し、溶媒を留去して、中間体として2′−デオキ
シ−3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリチル−５−
フルオロウリジン16.0ｇを得た。この化合物を、80％酢酸80mlに溶解し、50〜60
℃で２時間反応させた後、１時間氷冷し、5.1ｇ
のトリチルアルコールを別し、母液を濃縮後、
エタノールを加え攪拌し、析出晶を別し、乾燥
して、目的化合物5.3ｇ（75.7％）を得た。融点 138〜139℃ このもののNMR分析結果は、参考例２で得た
化合物のそれと一致した。参考例 73 2′−デオキシ−3′−Ｏ−ベンジル−５−フルオ
ロウリジンの製造 2′−デオキシ−5′−Ｏ−（ジフエニル−ｐ−メ
トキシフエニル）メチル−５−フルオロウリジン
を用い、参考例72と同様にして目的化合物を得
た。収率 63％融点 138〜139℃ このもののNMR分析結果は、参考例72で得た
化合物のそれと一致した。参考例 74 2′−デオキシ−3′−０−ベンジル−５−フルオ
ロウリジンの製造 2′−デオキシ−5′−０−トリチル−５−フルオ
ロウリジン10ｇをジオキサン100mlに溶解し、こ
れに塩化ベンジル2.9ml、水酸化カリウムの細粉
6.9ｇ及び沃化ナトリウム3.56ｇを加え、40℃で
４時間攪拌後、更に塩化ベンジル2.9ml及び水酸
化カリウム1.15ｇを加え、１時間攪拌した。水を
加え水酸化カリウムを溶解した後、酢酸でPHを約
３に調製し、エチレンジクロライドで抽出し、水
洗し、エチレンジクロライド層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを別し溶媒を
留去して油状の2′−デオキシ−3′−０−ベンジル
−5′−０−トリチル−５−フルオロウリジン８ｇ
を得た。この化合物を80％酢酸80mlに溶解し、50〜60℃
で２時間反応させた後、１時間氷冷し、トリチル
アルコールを別し、液を濃縮し、エタノール
から再結晶して目的化合物の一次結晶を得た（収
率70.6％）。さらにエタノール母液を濃縮し、少量のエタノ
ールを加え再結晶して目的化合物の二次結晶を得
た（収率15.9％）。全収率 86.5％融点 138〜139℃ このもののNMR分析結果は、参考例72で得た
化合物のそれと一致した。参考例 75 2′−デオキシ−3′−０−ベンジル−５−フルオ
ロウリジンの製造 2′−デオキシ−5′−０−トリチル−５−フルオ
ロウリジン10ｇをジオキシサン50mlに溶解し、こ
れに臭化ベンジル2.9ml及び水酸化カリウムの細
粉14.6ｇを加え、室温で１時間攪拌した。溶媒を
留去し、残渣を80％酢酸80mlに溶解し、50〜60℃
で２時間反応させた後、１時間氷冷し、トリチル
アルコールを別し、母液を濃縮後、エタノール
を加えて攪拌し、析出晶を別し、乾燥して目的
化合物5.0ｇ（収率72％）を得る。融点 138〜139℃ このもののNMR分析結果は、参考例72で得た
化合物のそれと一致した。参考例 76〜104 参考例72と同様にして、参考例１及び参考例３
〜25，61〜64，71に記載の各化合物を得た。参考例 105〜133 参考例74と同様にして、参考例１及び参考例３
〜25，61〜64，71に記載の各化合物を得た。参考例 134 3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロ−5′−０−ステアロイルウリジンの製造参考例26と同様に反応及び後処理して目的化合
物の油状物を収率78％で得た。 NMR（CDCl₃）δ： 7.65（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C₆−Ｈ） 7.32（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.23（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，C₁′−Ｈ） 4.54（2H，ｄ，Ｊ＝２Hz、

【式】） 4.29−4.01（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.33−1.83（4H，ｍ，C₂′−Ｈと−OCOCH₂−） 1.25（30H，bs，−（CH₂）₁₅−） 0.88（3H，ｔ，−CH₃）参考例 135 5′−０−シクロヘキシル−2′−デオキシ−3′−
０−（２，４−ジクロロベンジル）−５−フルオ
ロウリジンの製造参考例26と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率77％で得た。 NMR（CDCl₃）δ： 9.50（1H，ｂ，NH） 7.67（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C₆−Ｈ） 7.40−7.16（3H，ｍ、フエニル−Ｈ） 6.25（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，C₁′−Ｈ） 4.58（2H，ｓ、

【式】） 4.37−4.08（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.77−2.51と2.48−1.04 （13H，ｍ，C₂′−Ｈとシクロヘキシル−Ｈ）参考例 136 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−０−（４−
メトキシベンジル）−5′−０−（２−テノイル）
ウリジンの製造参考例26と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率91％で得た。 NMR（CDCl₃）δ： 9.20（1H，bs，NH） 7.82（1H，dd，J₄，₅＝４Hz、J₃，₅＝２Hz、

【式】 7.63（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C₆−Ｈ） 7.59（1H，dd，J₃，₄＝５Hz，J₄，₅＝４Hz，

【式】 7.29−7.08（3H，ｍ，

【式】と

【式】） 6.87（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz、

【式】） 6.25（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.56−4.10（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈと

【式】） 3.78（3H，Ｓ，−OCH₃） 2.74−2.48と2.22−1.78（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 137 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−（３−メチ
ルベンジル）−5′−０−（２−フロイル）ウリジ
ンの製造参考例26と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率85％で得た。 NMR（CDCl₃）δ： 9.14（1H，bs，NH） 7.93（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C₆−Ｈ） 7.58（1H，bs，

【式】） 7.29−7.10（5H，ｍ，フラニル−Ｈ、

【式】） 6.55（1H，dd，J₃，₄＝４Hz、J₄，₅＝２Hz、

【式】） 6.35（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 4.77−4.10（6H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈと

【式】 2.71−2.44と2.34−1.97（5H，ｍ，C₂′−ＨとCH₃）参考例 138 3′−０−ベンジル−5′−０−クロトノイル−
2′−デオキシ−５−フルオロウリジンの製造参考例54と同様に反応及び後処理して目的化合
物の粉末を収率75％で得た。 NMR（CDCl₃）δ： 8.63（1H，bs，NH） 7.67（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C₆−Ｈ） 7.32（5H，ｓ，フエニル−Ｈ） 7.14−6.89（1H，ｍ，−CH＝CHCH₃） 6.24（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz、C₁′−Ｈ） 5.84（1H，dd，Jα，β＝16Hz、 Jα，γ＝２Hz，−CH＝CHCH₃） 4.54（2H，ｓ，

【式】） 4.42−4.05（4H，ｍ，C₃′，₄′，₅′−Ｈ） 2.73−2.44と2.20−2.02 （2H，ｍ，C₂′−Ｈ） 1.90（3H，dd，Jβ，γ＝７Hz、 Jα，γ＝２Hz，−CH＝CHCH₃）参考例 139 3′−（２−ブロモベンジル）−2′−デオキシ−
5′−０−エトキシアセチル−５−フルオロウリ
ジンの製造 3′−（２−ブロモベンジル）−2′−デオキシ−５
−フルオロウリジン１ｇとエトキシ酢酸0.63ｇの
ピリジン10ml溶液にDCC1.24ｇを加え、室温で24
時間攪拌した。不溶物を去し、液を濃縮し、
残渣をイソプロパノール−エーテルで精製して目
的化合物の粉末1.06ｇ（80％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ： 9.49（1H，bs，NH） 7.74（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz，C₆−Ｈ） 7.60−7.06（4H，ｍ，フエニル−Ｈ） 6.34（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，C₁′−Ｈ） 4.60（2H，ｓ，

【式】） 4.39−4.13（6H，ｍ， C₃′，₄′，₅′−Ｈと−COCH₂Ｏ−） 3.59（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz， −OCH₂CH₃） 2.73−2.48，2.31−2.00 （2H，ｍ，C₂′−Ｈ） 1.22（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz， −OCH₂CH₃）参考例 140 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−０−（２，
４，６−トリメチルベンジル）ウリジンの製造 2′−デオキシ−５−フルオロ−5′−０−トリチ
ルウリジン4.00ｇ、水酸化カリウム2.30ｇ及びヨ
ウ化ナトリウム1.47ｇの乾燥ジオキサン50ml溶液
に２，４，６−トリメチルベンジルクロリド1.66
ｇを加え、60℃で３時間攪拌した。溶媒を留去し
残渣に酢酸エチルと水を加え、酢酸エチル層を水
洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチル
を留去し、残渣を80％酢酸50mlに溶解して70℃で
２時間放置した。反応溶液を濃縮し残渣に水を加
え、水酸化ナトリウム水溶液で弱塩基性としエー
テル洗浄した。水層を6N−塩酸で弱酸性にし、
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後無
水硫酸ナトリウムで乾燥濃縮した。残渣にエーテ
ルを加え、固化し、ついでエタノールから再結晶
して目的化合物1.69ｇ（55％）を得た。融点 179〜181℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 11.82（1H，bs，NH） 8.20（1H，ｄ，ｊ＝７Hz、C₆−Ｈ） 6.83（2H，ｓ，

【式】 6.07（1H，bt，Ｊ＝６Hz，C₁′−Ｈ） 5.19（1H，bt，Ｊ＝５Hz，5′−OH） 4.47（2H，ｓ，

【式】） 4.20−4.10（1H，ｍ，C₃′−Ｈ） 4.02−3.91（1H，ｍ，C₄′−Ｈ） 3.69−3.57（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.29−2.12（11H，ｍ，CH₃×３と C₂′−Ｈ）参考例 141 ２，６−ジトリメチルシリルオキシピリジンの
製造２，６−ジヒドロキシピリジン8.00ｇをヘキサ
メチルジシラザン60ml中で１晩還流する。過剰の
ジシラザンを留去した後、減圧蒸留し、沸点72
℃／１mmHgで表記化合物10.78ｇ（61％）を得
た。参考例 142 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−０−（４−
メトキシカルボニルベンジル）ウリジンの製造 2′−デオキシ−５−フルオロ−5′−０−トリチ
ルウリジン3.00ｇのジオキサン200ml溶液に、水
酸化カリウム4.30ｇと４−メトキシカルボニルベ
ンジルブロマイド1.70ｇを加え、室温下１日間攪
拌し、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチル200mlを
加えて抽出し、抽出物を水で洗浄、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濃縮した。残渣を80％酢酸20mlに
溶解した。融点 169〜170℃ NMR（CDCl₃）δ： 9.85（1H，bs，N₃−Ｈ） 8.04−7.94（3H，ｍ，C₆−Ｈ、

【式】） 7.37（2H，ｄ，Ｊ＝８Hz、

【式】） 6.24（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，C₁′−Ｈ） 4.58（2H，ｓ，3′−０−CH₂−） 4.31−3.70（7H，ｍ， C₃′，₄′，₅′−Ｈ，−COCH₃） 3.19（1H，bs，C₅′−OH） 2.66−2.04（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 143 2′−デオキシ−3′−０−シンナミル−５−フル
オロウリジンの製造参考例142と同様にして目的化合物を得た。（収
率23％） NMR（DMSO−d₆）δ： 11.75（1H，bs，N₃−Ｈ） 8.20（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz，C₆−Ｈ） 7.53−7.24（5H，ｍ，

【式】） 6.64（1H，ｄ，Ｊ＝16Hz，

【式】） 6.47−6.08（2H，ｍ，C₁′−Ｈ，

【式】） 5.20（1H，bs，C₅′−OH） 4.17（2H，ｄ，Ｊ＝５Hz， C₃′−０−CH₂−） 4.20−4.03（2H，ｍ，C₃，₄′−Ｈ） 3.74−3.59（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.34−2.21（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 144 2′−デオキシ−3′−０−（４−ジメチルアミノ
ベンジル）−５−フルオロウリジン４−ジメチルアミノベンジルアルコール1.60ｇ
のベンゼン20ml溶液に、ピリジン0.86mlと三臭化
燐1.19mlを加え80℃で１時間還流した。反応溶液
を濃縮し、残渣を水−アセトニトリル（２：１）
混液50mlに溶解し、水酸化カリウムを添加してPH
11に調整した。これに更に2′−デオキシ−５−フ
ルオロウリジン1.00ｇを加え、室温下２日間攪拌
した。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。
有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにか
け１％メタノール−クロロホルムで溶出して目的
化合物70mg（収率５％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 11.98（1H，bs，N₃−Ｈ） 8.18（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz，C₆−Ｈ） 7.15（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz，

【式】） 6.69（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz，

【式】） 6.09（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，C₁′−Ｈ） 5.18（1H，bs，C₅′−OH） 4.38（2H，ｓ，

【式】） 4.18−3.96（2H，ｍ， C₃′，₄′−Ｈ） 3.70−3.58（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 2.88（6H，ｓ，CH₃×２） 2.28−2.09（2H，ｍ，C₂′−Ｈ）参考例 145 2′−デオキシ−５−フルオロ−3′−０−（３−
フエニルプロピル）ウリジンの製造参考例143で製造された2′−デオキシ−3′−０
−シンナミル−５−フルオロ−5′−０−トリチル
ウリジン500mgのメタノール30ml溶液に、５％パ
ラジウム炭素50mgを加え、室温下１時間接触還元
した。反応液を過し濃縮し、残渣を80％酢酸20mlに
溶解し、65℃で２時間攪拌した。反応液を濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
にかけ１％メタノール−クロロホルムで溶出し、
目的化合物190mg（収率63％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 11.80（1H，bs，N₃−Ｈ） 8.19（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz，C₆−Ｈ） 7.22（5H，ｓ，

【式】） 6.12（1H，ｔ，Ｊ＝６Hz，C₁′−Ｈ） 5.18（1H，ｔ，Ｊ＝５Hz，C₅′−OH） 4.06−3.93（2H，ｍ， C₃′，₄′−Ｈ） 3.66−3.62（2H，ｍ，C₅′−Ｈ） 3.41（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz， C₃′−０−CH₂−） 2.72−1.66（6H，ｍ，C₂′−Ｈ，

【式】）実施例１５−クロロ−２，４−ジステアロイルオキシピ
リジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇをピリジン150ml中で還流して均一化した
後、塩化ステアロイル5.85ｇを加え室温で一晩反
応させた。反応終了後、ピリジンを濃縮し、残渣
を石油エーテルで抽出した。次に石油エーテルを
濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフイーに
て、石油エーテル−クロロホルム（１：９）で展
開して目的化合物1.40ｇ（収率15％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.39（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.04（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.50−2.63（4H，ｍ，CH₂CO×２） 0.81−1.77と1.26（66H，ｍとbs， CH₂×30とCH₃×２）実施例２５−クロロ−ステアロイルオキシ−２−ピリド
ンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇを用いて実施例１と同様に反応させ、反応
終了後、ピリジンを濃縮し、残渣を石油エーテル
で洗浄し、次いで水洗し、得られた固体をシリン
ゲルカラムクロマトグラフイーにかけ、２％メタ
ノール−クロロホルムで溶出して目的化合物1.42
ｇ（収率25％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.87（1H，bs，−NH−） 7.80（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.32（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.60（2H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CHH₂CO） 1.24（3OH，bs，CH₂×15） 0.85（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH₃）実施例３５−クロロ−４−（３−メチルベンゾイル）オ
キシ−２−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇ及び塩化３−メチルベンゾイル3.00ｇを用
い、実施例２と同様にして（但し洗浄溶媒として
はジエチルエーテルを用いた）目的化合物1.09ｇ
（収率30％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 12.00（1H，bs，−NH−） 7.94−7.88（3H，ｍ、ピリジン環の C₆−Ｈ及び

【式】） 7.57−7.49（2H，ｍ，

【式】） 6.54（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.42（3H，ｓ，CH₃）実施例４４−ブタノイルオキシ−５−クロロ−２−ピリ
ドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇ及びブタノイルオキシクロライド2.20ｇか
ら実施例３と同様にして目的化合物0.38ｇ（収率
13％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.90（1H，bs，−NH−） 7.82（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.34（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.60（2H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH₂CO） 1.66（2H，ｍ，CH₂） 0.97（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH₃）実施例５５−クロロ−２，４−ジブタノイルオキシピリ
ジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇ及び塩化ブタノイル2.20ｇから実施例１と
同様にして（但し抽出溶媒としてはジエチルエー
テルを用いた）目的化合物2.43ｇ（収率50％）を
得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.40（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.05（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.49−2.70（4H，ｍ，CH₂CO×２） 1.66−1.93（4H，ｍ，CH₂×２） 1.04（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH₃×２）実施例６４−ヘキサノイルオキシ−５−クロロ−２−ピ
リドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇ及び塩化ヘキサノイル2.75ｇから実施例３
と同様にして目的化合物1.33ｇ（収率40％）を得
た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.96（1H，bs，−NH−） 7.82（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.34（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.61（2H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH₂CO） 1.20−1.79（6H，ｍ，CH₂×３） 0.88（3H，ｔ，Ｊ＝６Hz，CH₃）実施例７５−クロロ−２，４−ジヘキサノイルオキシピ
リジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇ及び塩化ヘキサノイル2.75ｇから実施例５
と同様にして目的化合物1.22ｇ（収率26％）を得
た。 NMR（CDCl₃）δ 8.40（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.05（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.30−2.75（4H，ｍ，CH₂CO×２） 1.28−1.90（12H，ｍ，（CH₂）₃×２） 0.86−1.03（6H，ｍ，CH₃×２）実施例８５−クロロ−２，４−ジ（３−メチルベンゾイ
ルオキシ）ピリジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇと塩化３−メチルベンゾイル3.00ｇとか
ら、実施例５と同様にして目的化合物1.64ｇ（収
率32％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.51（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.03（4H，bs、

【式】） 7.48−7.41（4H，ｍ，

【式】） 7.37（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.46と2.44（6H，各々ｓ，CH₃）実施例９４−ベンゾイルオキシ−２−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇ及び塩化
ベンゾイル1.35mlのピリジン溶液50mlを６時間還
流した。溶媒を留去した後、残渣に水を加え不溶
物を取し、これを少量のエタノールで洗浄にし
て目的化合物0.86ｇ（収率44％）を得た。融点 194〜196℃ 実施例 10 ４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２−ピリ
ドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
1.00ｇ及び塩化ベンゾイル0.96mlを用い、実施例
９と同様にして目的化合物0.64ｇ（収率37％）を
得た。融点 196〜197℃ 実施例 11 ４−（３−ベンジルオキシカルボニルベンゾイ
ルオキシ）−２−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン2.80ｇ及び塩化
３−ベンジルオキシカルボニルベンゾイル14.70
ｇを用い、実施例１と同様にして目的化合物4.29
ｇ（収率49％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.80−8.84（1H，ｍ，

【式】） 8.35（2H，dd，J2，４＝２Hz，J4，５＝８Hz、

【式】 7.66−7.37（7H，ｍ、フエニル−Ｈと

【式】とピリジン環のC₆−Ｈ） 6.53（1H，ｄ、ピリジン環のC₃−Ｈ、Ｊ＝２Hz） 6.30（1H，dd、ピリジン環のC₅−Ｈ、 J3，５＝２Hz、J5，６＝８Hz）実施例 12 ４−アセトキシ−２−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン5.00ｇ及び塩化
アセチル3.84mlを用い、実施例２と同様にして
（但し反応時間は５時間で、抽出溶媒としては酢
酸エチルを用いた）、目的化合物4.15ｇ（収率60
％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.45（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 7.43（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝８Hz） 6.10−6.04（2H，ｍ、ピリジン環の C₃，₅−Ｈ） 2.24（3H，ｓ，CH₃CO）実施例 13 ４−プロパノイルオキシ−２−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇ及び塩化
プロパノイル0.94mlを用い、実施例12と同様にし
て目的化合物350mg（収率23％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.61（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 7.43（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ、Ｊ＝８Hz） 6.10−6.02（2H，ｍ、ピリジン環の C₃，₅−Ｈ） 2.58（2H，ｑ，−CH₂−，Ｊ＝８Hz） 1.11（3H，ｔ，−CH₃，Ｊ＝８Hz）実施例 14 ４−ｎ−デカノイルオキシ−２−ピリドンの製
造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇ及び塩化
ｎ−デカノイル2.05ｇを用い、実施例12と同様に
して目的化合物370mg（収率15％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.60（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 7.42（1H，ｄ，ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝８Hz） 6.06−6.03（2H，ｍ、ピリジン環の C₃，₅−Ｈ） 1.62（2H，ｔ，CO−CH₂，Ｊ＝６Hz） 1.39−0.91（14H，ｍ，（CH₂）₇） 0.79（3H，ｔ，−CH₃，Ｊ＝６Hz）実施例 15 ４−（２−クロロベンゾイルオキシ）−２−ピリ
ドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇ及び塩化
２−クロロベンゾイル1.36mlを用い、実施例12と
同様にして目的化合物1.42ｇ（収率68％）を得
た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.74（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 8.12−7.62（4H，ｍ，

【式】） 7.51（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝８Hz） 6.29−6.20（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ）実施例 16 ２，４−ジニコチノイルオキシピリジンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇ及び塩酸
ニコチン酸クロライド3.53ｇを、室温下、ピリジ
ン30ml中で２日間反応させ、以後実施例12と同様
に処理して目的化合物260mg（収率９％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 9.40−7.40（9H，ｍ、ピリジン環のC₆−Ｈと

【式】） 7.36−7.29（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ）実施例 17 ２，４−ジ（４−エトキシベンゾイルオキシ）
ピリジンの製造４−エトキシベンゾイルクロライド3.32ｇを用
い、実施例16と同様にして目的化合物220mg（収
率６％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 8.50（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝６Hz） 8.14−7.07（8H，ｍ，

【式】） 7.48−7.40（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ） 4.17（4H，ｑ，Ｏ−CH₂×２，Ｊ＝７Hz） 1.37（6H，ｔ，CH₃×２，Ｊ＝７Hz）実施例 18 ４−アセトキシ−５−クロロ−２−ピリドンの
製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
5.00ｇ及び塩化アセチル3.66mlをピリジン250ml
中、室温で３時間攪拌した。反応溶液を濃縮し、
残渣を酢酸エチル及び水で順次洗浄することによ
り目的化合物3.39ｇ（収率52％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.91（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 7.81（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.35（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.32（3H，ｓ，CH₃）実施例 19 ４−（２−ナフトイルオキシ）−２−ピリドンの
製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇ及びβ−
ナフトイルクロライド2.57ｇを用い、実施例18と
同様にして目的化合物1.65ｇ（収率69％）を得
た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.72（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 8.81−7.64（7H，ｍ、ナフタレン環のＨ） 7.51（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝８Hz） 6.33−6.25（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ）実施例 20 ４−（４−ニトロベンゾイルオキシ）−２−ピリ
ドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇの乾燥ジ
オキサン50ml懸濁液に、４−ニトロベンゾイルク
ロライド2.17ｇの乾燥ジオキサン30ml溶液とトリ
エチルアミン3.78mlとを加え、６時間還流した。
溶媒を留去後、残渣を水洗し、次いでメタノール
−アセトン（１：１）混液で洗浄して目的化合物
1.72ｇ（収率73.4％）を得た。融点 255〜256℃ 実施例 21 ４−アセトキシ−２−ベンゾイルオキシ−５−
クロロピリジンの製造４−アセトキシ−５−クロロ−２−ピリドン
500mg及び塩化ベンゾイル0.37mlを用い、実施例
20と同様にしてして目的化合物720mg（収率93％）
を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.46（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.24−7.49（5H，ｍ、ベンゾイル環のＨ） 7.20（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.38（3H，ｓ，CH₃）実施例 22 ２，４−ジアセトキシピリジンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇ及びアセ
チルブロマイド4.00ｇを用い、実施例18と同様に
してして目的化合物0.90ｇ（収率56.7％）を得
た。 NMR（CDCl₃）δ 8.36（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝６Hz） 7.06（1H，dd、ピリジン環のC₅−Ｈ、J3，５＝２
Hz，J5，６＝６Hz） 6.96（1H，ｄ、ピリジン環のC₃−Ｈ，Ｊ＝2.0Hz） 2.31（3H，ｓ，CH₃） 2.30（3H，ｓ，CH₃）実施例 23 ４−（３−ベンジルオキシカルボニルプロパノ
イルオキシ）−２−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇと３−ベ
ンジルオキシカルボニルプロピオン酸2.00ｇのジ
メチルホルムアミド30ml溶液に、室温攪拌下に
Ｎ，N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1.90ｇ
を加え、一夜攪拌した。生成した結晶を去し、
液を濃縮した。残渣を酢酸エチル50mlに溶解
し、水20mlで３回洗浄した。酢酸エチル層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーにかけ、２％メタ
ノール−クロロホルムで溶出して、目的化合物
0.62ｇ（収率23％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.66（1H，bs，−NH−，D₂Ｏ添加で消失） 7.48−7.37（6H，ｍ，フエニル−Ｈとピリジン環
上のC₆−Ｈ） 6.06−5.96（2H，ｍ、ピリジン環上のC₃，₅−Ｈ） 5.15（2H，ｓ，

【式】） 2.90−2.75（4H，ｍ，−COCH₂CH₂CO−）実施例 24 ４−（３−カルボキシベンゾイルオキシ）−２−
ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇをピリジ
ン50mlに懸濁し、これに塩化イソフタロイル3.65
ｇを加え、1.5時間加熱還流した。放冷後、反応
溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧濃縮し、残渣をエーテルで洗浄して目的化合物
1.00ｇ（収率43％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 8.58−7.68（4H，ｍ、ベンゾイル環のＨ） 7.50（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝８Hz） 6.31−6.25（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ）実施例 25 １−（カルボメトキシメチルカルバモイル）−４
−ヒドロキシ−２−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン2.00ｇのジオキ
サン50ml懸濁液に、カルボキシメチルイソシアネ
ート2.49ｇを加え、80℃で２時間攪拌した。反応
終了後、溶媒を留去し、残渣にジエチルエーテル
を加え、固化させて目的化合物2.20ｇ（収率54.0
％）を得た。融点 124〜126℃ NMR（DMSO−d₆）δ： 10.87（2H，bs，−CONH−，OH） 8.22（1H，ｄ，C₆−Ｈ、＝８Hz） 6.18（1H，dd，C₅−Ｈ，J₃，₅＝２Hz，J₅，₆＝８Hz） 5.77（1H，ｄ，C₃−Ｈ，Ｊ＝２Hz） 4.17（2H，ｄ，CH₂′，Ｊ＝４Hz） 3.69（3H，ｓ，CH₃）実施例 26 ６−ベンゾイルオキシ−２−ピリドンの製造２，６−ビス（トリメチルシリルオキシ）ピリ
ジン1.60ｇをアセトニトリル10mlに溶解し、これ
に塩化ベンゾイル1.30ｇのアセトニトリル溶液５
mlを滴下した。室温で１日反応させた後、濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフイーにか
け、クロロホルムで溶出して目的化合物0.50ｇ
（収率33％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.28−8.18（2H，ｍ，

【式】） 7.26−7.72（4H，ｍ、ピリジン環のC₄−Ｈと

【式】） 6.77（1H，ｄ、ピリジン環のC₃−Ｈ又はC₅−Ｈ，
Ｊ＝８Hz） 6.64（1H，ｄ、ピリジン環のC₅−Ｈ又はC₃−Ｈ，
Ｊ＝８Hz）実施例 27 ２−ベンゾイルオキシ−４−ヒドロキシピリジ
ンの製造塩化メチレン50ml中、２，４−ビス（トリメチ
ルシリルオキシ）ピリジン4.0ｇに塩化ベンゾイ
ル２，65ｇ及び塩化第二錫0.2mlを加え、室温で
約１時間攪拌した。溶媒を留去した後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーにかけ、酢酸
エチル−ベンゼン（２：３）で溶出して目的化合
物1.00ｇ（収率29.6％）を得た。融点 124〜127℃ 実施例 28 ４−ヒドロキシ−２−（４−メチルベンゾイル
オキシ）ピリジンの製造塩化メチレン50ml中、２，４−ビス（トリメチ
ルシリルオキシ）ピリジン3.5ｇにｐ−メチルベ
ンゾイルクロライド2.34ｇを加え、室温で約１時
間攪拌した。以後実施例27と同様にして目的化合
物1.86ｇ（収率59.2％）を得る。融点 120〜127℃ NMR（DMSO−d₆）δ 10.92（1H，bs，−OH） 8.09（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝６Hz） 8.00（2H，ｄ，

【式】Ｊ＝８Hz） 7.41（2H，ｄ，

【式】Ｊ＝８Hz） 6.78（1H，dd、ピリジン環のC₅−Ｈ，J3，５＝２
Hz，J5，６＝６Hz） 6.62（1H，ｄ、ピリジン環のC₃−Ｈ，Ｊ＝2.0Hz） 2.43（3H，ｓ，CH₃−）実施例 29 ４−ヒドロキシ−２−（２−メチルプロパノイ
ル）オキシピリジンの製造塩化メチレン20ml中、２，４−ビス（トリメチ
ルシリルオキシ）ピリジン2.0ｇに２−メチルプ
ロピオニルクロライド1.01ｇを加え、室温で約１
時間攪拌した。以後、実施例27と同様にして目的
化合物230mg（収率16.1％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 7.37（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝７Hz） 6.34（1H，ｄ、ピリジン環のC₃−Ｈ，Ｊ＝２Hz） 6.17（1H，dd、ピリジン環のC₅−Ｈ，J3，５＝２
Hz，J5，６＝７Hz） 2.96−2.56（1H，ｍ，（CH₃）₂CH−） 1.29（6H，ｄ，CH₃−×２，Ｊ＝７Hz）実施例 30 ４−ヒドロキシ−２−（２−メチルベンゾイル
オキシ）ピリジンの製造２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）ピリ
ジン4.0ｇ及び２−メチルベンゾイルクロライド
2.92ｇを用い、実施例27と同様にして目的化合物
1.59ｇ（収率44.18％）を得た。融点 116〜119℃ 実施例 31 ２，４−ジ−ｎ−ペンタノイルオキシピリジン
の製造２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）ピリ
ジン1.00ｇ、ジクロロメタン50ml、ペンタノイル
クロライド1.02ml及び塩化第二錫0.10mlを用い、
実施例27と同様にして目的化合物200mg（収率18
％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.35（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝６Hz） 7.05（1H，dd、ピリジン環のC₅−Ｈ，J3，５＝６
Hz，J5，６＝２Hz） 6.95（1H，ｄ、ピリジン環のC₃−Ｈ，Ｊ＝2.0Hz） 2.67−2.48（4H，ｍ，CO−CH₂−×２） 1.83−1.02（8H，ｍ，CH₂×４） 0.87（6H，ｔ，CH₃×２，Ｊ＝７Hz）実施例 32 ５−クロロ−２，４−ジベンゾイルオキシピリ
ジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
1.00ｇのピリジン30ml懸濁液に、ベンゾイルクロ
ライド1.76mlを加え、室温で２時間攪拌した。溶
媒を留去後、残渣に酢酸エチル60mlと水30mlとの
混液を加えて溶解し、酢酸エチル層を分離した。
これを水30mlで２回洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、濃縮した。残渣を少量のエタノー
ルで洗浄して目的化合物2.11ｇ（収率86.8％）を
得た。融点 124〜125℃ 実施例 33 ２，４−ジベンゾイルオキシピリジンの製造ジクロロメタン50ml中、２，４−ビス（トリメ
チルシリルオキシ）ピリジン4.0ｇにベンゾイル
クロライド2.65ｇと塩化第二錫0.2mlを加え、室
温で約１時間攪拌した。溶媒を留去した後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにかけ、
酢酸エチル−ベンゼン（２：３）で溶出して目的
化合物0.74ｇ（収率14.8％）を得た。融点 100〜102℃ 実施例 34 ５−クロロ−４−（２−テノイルオキシ）−２−
ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇをピリジン100mlに懸濁し、これに２−テ
ノイルクロライド2.42ｇを加え、室温下4.5時間
攪拌した。次に反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エ
チル及び水で洗浄して目的化合物0.82ｇ（収率23
％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 8.19−8.04（2H，ｍ、チオフエン環のC₃，₅−Ｈ） 7.88（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.38−7.28（1H，ｍ、チオフエン環のC₄−Ｈ） 6.56（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ）実施例 35 ４−フエノキシアセチルオキシ−２−ピリドン
の製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇをピリジ
ン30mlに懸濁し、これにフエノキシアセチルクロ
ライド1.86mlを加え、室温下４時間攪拌した。反
応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチル、水及びクロ
ロホルムで順次で洗浄して目的化合物500mg（収
率23％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.51（1H，bs，Ｎ−Ｈ，D₂Ｏ添加により消失） 7.51−6.91（6H，ｍ、ピリジン環のC₆−Ｈとフエ
ニル−Ｈ） 6.16−6.07（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ） 5.05（2H，ｓ，CH₂）実施例 36 １−エチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−２
−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン3.00ｇのピリジ
ン20ml懸濁液に、エチルイソシアネート2.50mlを
加え、室温で１時間攪拌した。溶媒を留去後、残
渣を酢酸エチル50mlに溶解し、水30mlで２回洗浄
した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、濃縮し、エタノール−エーテルから再結晶し
て目的化合物1.48ｇ（収率30.1％）を得た。融点272℃（発泡） NMR（DMSO−d₆）δ 11.05（1H，bs，OH） 10.52（1H，ｔ，Ｊ＝５Hz、−CONH−） 8.25（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.15（1H，dd，J3，５＝３Hz、J5，６＝８Hz、ピ
リジン環のC₅−Ｈ） 5.73（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz、ピリジン環のC₃−Ｈ） 3.50−3.20（2H，ｍ，−CH₂CH₃） 1.16（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz、−CH₂CH₃）実施例 37 １−メチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−２
−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇのピリジ
ン20ml懸濁液に、メチルイソシアネート0.64mlを
加え、室温で１時間攪拌した。以下実施例36と同
様にして目的化合物を収率30％で得た。融点268℃（発泡） NMR（DMSO−d₆）δ 11.27（1H，bs，OH） 10.36（1H，bs，−CONH−） 8.23（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.13（1H，dd，J3，５＝２Hz，J5，６＝８Hz、ピ
リジン環のC₅−Ｈ） 5.71（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.88（3H，ｄ，Ｊ＝５Hz，CH₃）実施例 38 ４−（４−ｎ−プロポキシベンゾイルオキシ）−
２−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇをピリジ
ン30mlに懸濁し、これに４−ｎ−プロポキシベン
ゾイルクロライド2.14ｇを加え、室温下４時間攪
拌した。次に反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチ
ル及び水で洗浄して目的化合物1.98ｇ（収率81
％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 8.03（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz、

【式】） 7.47（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.23（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz、

【式】） 6.24−6.17（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ） 4.05（2H，ｔ，Ｊ＝７Hz、Ｏ−CH₂） 1.88−1.65（2H，ｍ，CH₂−CH₃） 0.99（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH₃）実施例 39 ５−クロロ−４−ニコチノイルオキシ−２−ピ
リドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇをピリジン100mlに懸濁し、これに塩酸ニ
コチノイルクロライド2.93ｇを加え、室温下９時
間攪拌した。反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチ
ル及び水で洗浄して目的化合物1.77ｇ（収率51
％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 9.26（1H，ｄ、ニコチノイル環のC₂−Ｈ，Ｊ＝２
Hz） 8.94（1H，dd，J4，６＝２Hz，J5，６＝５Hz、ニ
コチノイル環のC₆−Ｈ） 8.47（1H，td，J2，４＝２Hz，J4，５＝８Hz、ニ
コチノイル環のC₄−Ｈ） 7.90（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.75−7.61（1H，ｍ、ニコチノイル環のC₅−Ｈ） 6.61（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ）実施例 40 ５−クロロ−４−フエニルアセチルオキシ−２
−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇをピリジン60mlに懸濁し、これにフエニル
アセチルクロライド3.63mlを加え、以下実施例39
と同様にしてして目的化合物500mg（収率14％）
を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 7.81（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.35（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.36（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 4.02（1H，ｓ，−CH₂−）実施例 41 ５−クロロ−４−（２−フロイルオキシ）−２−
ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇをピリジン100mlに懸濁し、これに２−フ
ロイルクロライド2.15ｇを加え、以下実施例39と
同様にして目的化合物1.13ｇ（収率34％）を得
た。 NMR（DMSO−d₆）δ 8.15（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz、フラン環のC₅−Ｈ） 7.88（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.64（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz、フラン環のC₃−Ｈ） 6.82（1H，dd，J4，５＝２Hz，J3，４＝４Hz、フ
ラン環のC₄−Ｈ） 6.54（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ）実施例 42 ５−クロロ−４−（３，４，５−トリメトキシ
ベンゾイルオキシ）−２−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇをピリジン100mlに懸濁し、これに３，４，
５−トリメトキシベンゾイルクロライド3.80ｇを
加え、室温下2.5時間攪拌した。反応溶液を濃縮
し、残渣を酢酸エチル及び水で洗浄して目的化合
物1.60ｇ（収率34％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 7.88（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.39（2H，ｓ、フエニル−Ｈ） 6.82（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 3.87（6H，ｓ，−OCH₃×２） 3.80（3H，ｓ，−OCH₃）実施例 43 ２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−４−ニコ
チノイルオキシピリジンの製造５−クロロ−４−ニコチノイルオキシ−２−ピ
リドン300mgを、ジオキサン30mlとピリジン10ml
との混合溶媒に懸濁させ、これにベンゾイルクロ
ライド0.17ml及びトリエチルアミン0.83mlを加
え、３時間還流した。反応溶液を濃縮し、残渣を
クロロホルムを溶出溶媒とするシリカゲルカラム
クロマトグラフイーで精製して、目的化合物230
mg（収率54％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 9.41−8.37（3H，ｍ、ニコチノイル環のC₂，₄，₆−
Ｈ） 8.51（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.24−8.14（2H，ｍ，

【式】） 7.64−7.31（4H，ｍ、ニコチノイル環のC₅−Ｈと

【式】） 7.44（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ）実施例 44 ２，４−ジアセトキシ−５−クロロピリジンの
製造ピリジン40ml中に、５−クロロ−４−ヒドロキ
シ−２−ピリドン1.00ｇを懸濁させ、これに攪拌
しながら室温でアセチルブロマイド3.38ｇを徐々
に加えた。反応溶液を70℃で１時間攪拌した。生
成した沈澱物を去し、液を濃縮し、残渣をエ
ーテルで洗浄し、次いでアセトンで洗浄後、エー
テル層及びアセトン層を合せて濃縮し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーにかけ、クロ
ロホルムで溶出して目的化合物1.52ｇ（収率96.4
％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.41（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.06（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.36と2.32（各3H，ｓ，CH₃）実施例 45 ５−クロロ−４−ピペロニロイルオキシ−２−
ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇをピリジン60mlに懸濁させ、これにピペロ
ニロイルクロライド3.80ｇを加え、室温下2.5時
間攪拌した。反応溶液を過し、液を濃縮し、
残渣を酢酸エチル、水及びクロロホルムで順次洗
浄し、次いで２％メタノール−クロロホルムを溶
出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーで精製して目的化合物200mg（収率５％）を得
た。 NMR（DMSO−d₆）δ 12.01（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 7.86（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.78（1H，dd，J2，６＝２Hz，J5，６＝８Hz，

【式】） 7.52（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，

【式】） 7.11（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，

【式】） 6.51（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.20（2H，ｓ，CH₂）実施例 46 ５−クロロ−２，４−ジピペロニロイルオキシ
ピリジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇとピペロニロイルクロライド3.80ｇとを用
い実施例45と同様にして目的化合物180mg（収率
３％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 8.68（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.86−7.72（2H、ｍ，

【式】） 7.68（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 7.59−7.54（2H，ｍ，

【式】） 7.20−7.08（2H，ｍ，

【式】） 6.21と6.20（各2H，ｓ，−CH₂−）実施例 47 ４−（３−ベンジルオキシカルボニルベンゾイ
ルオキシ）−５−クロロ−２−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.20ｇと３−ベンジルオキシカルボニルベンゾイ
ルクロライド5.31ｇとを用い、実施例24と同様に
して目的化合物1.73ｇ（収率29％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 12.22（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 8.65−7.80（4H，ｍ，

【式】 7.89（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.52−7.34（5H，ｍ，CH₂） 6.60（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 5.42（2H，ｓ，−CH₂−）実施例 48 ４−（ｎ−ペンタノイルオキシ）−２−ピリドン
の製造２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）ピリ
ジン1.00ｇとｎ−ペンタノイルクロライド1.02ml
とを用い、実施例31と同様にして目的化合物310
mg（収率41％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.62（1H，bs，Ｎ−Ｈ） 7.42（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.11−6.00（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ） 2.55（2H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CO−CH₂−） 1.69−1.23（4H，ｍ，CH₂×２） 0.90（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，CH₃）実施例 49 ２−アセトキシ−４−ベンゾイルオキシ−５−
クロロピリジンの製造２−アセトキシ−５−クロロ−４−ヒドロキシ
ピリジン200mg、ベンゾイルクロライド0.15ml、
トリエチルアミン0.74ml及びアセトニトリル20ml
を用い、実施例21と同様にして目的化合物300mg
（収率96％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.43（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.23−7.48（5H，ｍ，フエニル−Ｈ） 7.27（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.29（3H，ｓ，CH₃）実施例 50 ４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−１−エト
キシメチル−２−ピリドンの製造５−クロロ−１−エトキシメチル−４−ヒドロ
キシ−２−ピリドン200mg、ベンゾイルクロライ
ド0.14ml、トリエチルアミン0.68ml及びジオキサ
ン20mlを用い、実施例49と同様にして目的化合物
280mg（収率93％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.21−7.42（5H，ｍ、フエニル−Ｈ） 7.58（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.61（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 5.35（2H，ｓ，Ｎ−CH₂） 3.65（2H，ｑ，Ｊ＝５Hz，CH₂−CH₃） 1.23（3H，ｔ，Ｊ＝５Hz，CH₂−CH₃）実施例 51 １−アリル−５−クロロ−４−ヒドロキシ−２
−ピリドンの製造２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５
−クロロピリジン878mg、アリルブロマイド0.35
ml、塩化第二錫0.10ml及びアセトニトリル15mlを
用い、実施例50と同様にして目的化合物60mg（収
率９％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 7.80（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.11−5.69（1H，ｍ，−CH＝） 5.81（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 5.30−4.94（1H，ｍ、＝CH₂） 4.60−4.36（1H，ｍ，Ｎ−CH₂）実施例 52 ２，４−ジ（３−クロロベンゾイルオキシ）ピ
リジンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇをピリジ
ン30mlに懸濁させ、これに３−クロロベンゾイル
クロライド3.46ｇを加え、室温下２日間攪拌し
た。反応溶液を過し、液を濃縮し、残渣を酢
酸エチルで抽出した。抽出液を濃縮後、残渣を水
及びメタノールで洗浄して目的化合物1.74ｇ（収
率50％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.56（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.16−7.66（8H，ｍ、

【式】 7.57−7.52（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ）実施例 53 ２，４−ジ（２−メトキシベンゾイルオキシ）
ピリジンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン2.00ｇを、ピリ
ジン60mlに懸濁させ、これに２−アニソイルクロ
ライド5.52ｇを加え、室温で１日間攪拌した。反
応溶液を濃縮し、残渣をベンゼンで洗浄し、酢酸
エチルで抽出し、抽出液を濃縮後、残渣をクロロ
ホルム−アセトン（30：１）を溶出溶媒として用
いたシリカゲルカラムクロマトグラフイーにて精
製して、目的化合物120mg（収率２％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.45（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.14−6.96（8H，ｍ，

【式】） 7.27−7.21（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ） 3.93（6H，ｓ，−OCH₃×２）実施例 54 １−カルボキシメチルカルバモイル−４−ヒド
ロキシ−２−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−１−メトキシカルボニルメチ
ルカルバモイル−２−ピリドン600mgのメタノー
ル10ml溶液に、1N−水酸化ナトリウム5.40mlを
加え、室温で１時間攪拌した。次いで1N−塩酸
で反応溶液を弱酸性にし、生じた沈澱を取し、
乾燥して目的化合物410mg（収率71.9％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 10.82（1H，ｔ，CO−NH−CH₂−，Ｊ＝５Hz，
D₂Ｏ添加により消失） 8.10（1H，ｄ、ピリジン環のC₆−Ｈ，Ｊ＝８Hz） 6.02（1H，dd、ピリジン環のC₅−Ｈ，Ｊ＝２Hz，
Ｊ＝８Hz） 5.50（1H，ｄ、ピリジン環のC₃−Ｈ，Ｊ＝２Hz） 3.75（2H，ｄ，−NH−CH₂−COOH，Ｊ＝５Hz）実施例 55 ４−（３−ベンジルオキシカルボニルプロポキ
シ）−１−エトキシメチル−２−ピリドンの製
造１−エトキシメチル−４−ヒドロキシ−２−ピ
リドン0.22ｇとモノベンジルコハク酸0.43ｇとを
テトラヒドロフラン５mlに溶解し、これに氷冷下
にジシクロヘキシルカルボジイミド0.45ｇを加え
た。室温で一晩反応させた後、析出物を去し、
液を濃縮し、クロロホルムを展開溶媒として用
いたシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製
して目的化合物0.41ｇ（収率88％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 7.34（6H，bs、フエニル−Ｈとピリジン環のC₆−
Ｈ）？6.30（1H，ｄ、ピリジン環のC₃−Ｈ，Ｊ＝
２Hz） 6.06（1H，dd、ピリジン環のC₅−Ｈ，Ｊ＝７Hz，
２Hz） 5.33（2H，ｓ，−CH₂Ｎ） 5.15（2H，ｓ，−CH₂OCO） 3.60（2H，ｑ，CH₂CH₃，Ｊ＝７Hz） 2.68−2.82（4H，ｍ，CH₂CH₂） 1.20（3H，ｔ，CH₃，Ｊ＝７Hz）実施例 56 ５−クロロ−２，４−ジベンゾイルオキシピリ
ジン及び４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−
２−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
0.50ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド15mlに溶
解し、これに水素化ナトリウム0.45ｇを加え、室
温で２時間攪拌した。次いで塩化ベンゾイル1.10
ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液５mlを滴
下し１時間反応させた。反応終了後、溶媒を留去
し、残渣をクロロホルムで抽出し、抽出物を濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフイーにて展
開して、始めに目的とするジベンゾイルオキシ体
0.80ｇ（収率66％）を、次いで目的とする４−ベ
ンゾイルオキシ体0.04ｇ（収率５％）を各々得
た。ジベンゾイルオキシ体〔５−クロロ−２，４−
ベンゾイルオキシピリジン〕融点 124〜125℃ ４−ベンゾイルオキシ体〔４−ベンゾイルオキ
シ−５−クロロ−２−ピリドン〕融点 196〜197℃ 実施例 57 ５−クロロ−２−エトキシカルボニルオキシ−
４−ヒドロキシピリジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇを１，１，１，３，３，３−ヘキサメチル
ジシラザン中で一晩還流し、放冷後、過剰のジシ
ラザンを留去した。更に真空ポンプで残渣に含ま
れるアンモニアを除去した後、アセトニトリル20
mlで希釈した。次いでクロロギ酸エチル3.00ｇの
アセトニトリル溶液20mlを加えた後、混合液に塩
化第二錫0.10mlを滴下し５時間還流した。反応液
を濃縮後、残渣を酢酸エチルに溶解させ、メタノ
ールで処理した。析出した原料（５−クロロ−４
−ヒドロキシ−２−ピリドン）を去した後、酢
酸エチル層を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーにかけ１％メタノール−クロロ
ホルムで溶出して目的化合物0.68ｇ（収率23％）
を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 12.0（1H，broad，OH） 8.21（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.78（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 4.26（2H，ｑ，CH₂CH₃，Ｊ＝７Hz） 1.29（3H，ｔ，CH₂CH₃，Ｊ＝７Hz）実施例 58 ５−クロロ−４−エトキシカルボニルオキシ−
２−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇを１，１，１，３，３，３−ヘキサメチル
ジシラザン30ml中で一晩還流し、放冷後、過剰の
ジシラザンを留去した。このとき反応によつて副
生するアンモニアの存在を確かめた。次いで反応
溶液に塩化メチレン15mlを添加し、更にクロロギ
酸エチル2.20ｇの塩化メチレン溶液10mlを加え、
室温で４時間反応させ、以下、実施例57と同様に
処理して、未反応原料を回収すると共に目的化合
物0.18ｇ（収率６％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.96（1H，ｓ，NH） 7.84（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.49（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 4.29（2H，ｑ，CH₂CH₃，Ｊ＝７Hz） 1.30（3H，ｔ，CH₂CH₃，Ｊ＝７Hz）実施例 59 ４−アセトキシ−５−クロロ−２−ピリドンの
製造５−クロロ−２，４−ビス（トリメチルシリル
オキシ）ピリジン3.00ｇ、トリエチルアミン3.0
ml及びアセトニトリル50mlの混合液に臭化アセチ
ル1.00mlを滴下し、室温で１時間反応させた。反
応終了後、濃縮し、アセトンで再結晶して目的化
合物0.66ｇ（収率34％）を得た。実施例 60 ５−クロロ−４−ラウロイルオキシ−２−ピリ
ドン及び５−クロロ−２，４−ジ（ラウロイル
オキシ）ピリジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇをピリジン100ml中に懸濁させ、塩化ラウ
ロイル4.50ｇを滴下し、室温で６時間攪拌した。
反応後、ピリジンを留去し、残渣をエーテル中で
一晩攪拌した。析出物を取し、乾燥して目的と
するモノアシル体1.20ｇを得た。またエーテル層
を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイーにかけ、クロロホルムで展開して同モノア
シル体0.38ｇ（合計収率35％）及びジアシル体
2.14ｇ（収率31％）の各々を得た。モノアシル体〔５−クロロ−４−ラウロイルオ
キシ−２−ピリドン〕 NMR（DMSO−d₆）δ 7.81（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.33（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.61（2H，ｔ，CH₂CO，Ｊ＝７Hz） 1.25（18H，ｍ，（CH₂）₉） 0.85（3H，ｔ，CH₃，Ｊ＝７Hz）ジアシル体〔５−クロロ−２，４−ジ（ラウロ
イルオキシ）ピリジン〕 NMR（CDCl₃）δ 8.39（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.04（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 2.52−2.72（4H，ｍ，CH₂CO×２） 1.27（36H，bs，（CH₂）₉×２） 0.88（6H，ｔ，CH₃×２）実施例 61 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−１−メチルチオ
メチル−２−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
0.50ｇを、１，１，１，３，３，３−ヘキサメチ
ルジシラザン10ml中で一晩還流した。次に過剰の
ヘキサメチルジシラザンを留去し、残渣をアセト
ニトリル15mlに溶解した。これにクロロメチルメ
チルスルフイド0.70ｇを加え、室温で６時間攪拌
した。トリエチルアミンを加えて中和した後、溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイーにかけ、２％メタノール−クロロホルム
で溶出して、目的化合物0.01ｇ（収率２％）を得
た。 NMR（DMSO−d₆）δ 7.94（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 5.77（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ，D₂Ｏ添加で
消失） 4.92（2H，ｓ，CH₂Ｓ） 2.12（3H，ｓ，CH₃）実施例 62 ５−クロロ−４−（４−クロロベンゾイル）オ
キシ−２−ピリドン及び５−クロロ−２，４−
ジ（４−クロロベンゾイル）オキシピリジンの
製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇ、塩化４−クロロベンゾイル3.60ｇ及びピ
リジン100mlを用い、実施例60と同様にして（但
し反応時間は一晩とした）目的とするモノアシル
体1.11ｇ（収率29％）及びジアシル体2.70ｇ（収
率47％）各々を得た。モノアシル体〔５−クロロ−４−（４−クロロ
ベンゾイル）オキシ−２−ピリドン〕 NMR（DMSO−d₆）δ 12.01（1H，bs，NH） 8.12（2H，ｄ，

【式】Ｊ＝８Hz） 7.89（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.70（2H，ｄ，

【式】Ｊ＝８Hz） 6.57（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ）ジアシル体〔５−クロロ−２，４−ジ（４−ク
ロロベンゾイル）オキシピリジン〕 NMR（CDCl₃）δ 8.51（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.15（4H，ｄ，

【式】Ｊ＝８ Hz） 7.39−7.57（5H，ｍ、ピリジン環のC₃−Ｈと

【式】）実施例 63 ５−クロロ−４−（４−メトキシベンゾイルオ
キシ）−２−ピリドン及び５−クロロ−２，４
−ジ（４−メトキシベンゾイルオキシ）ピリジ
ンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇをピリジン150mlに懸濁させ、これに塩化
４−メトキシベンゾイル2.80ｇを滴下し、室温で
４時間反応させた。反応終了後、ピリジンを留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
にて、石油エーテル−クロロホルム（１：４）で
展開して目的とするジベンゾイル体2.74ｇ（収率
48％）を得た。また次にクロロホルムで展開して
モノベンゾイル体1.27ｇ（収率33％）を得た。モノベンゾイル体〔５−クロロ−４−（４−メ
トキシベンゾイルオキシ）−２−ピリドン〕 NMR（DMSO−d₆）δ 11.95（1H，ｓ，NH） 8.07（2H，ｄ，

【式】Ｊ＝９Hz） 7.86（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.14（2H，ｄ，

【式】Ｊ＝９Hz） 6.51（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 3.88（3H，ｓ，CH₃Ｏ）ジベンゾイル体〔５−クロロ−２，４−ジ（４
−メトキシベンゾイルオキシ）ピリジン〕 NMR（CDCl₃）δ 8.49（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.17（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝９Hz） 8.16（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝９Hz） 7.37（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 7.01（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝９Hz） 6.98（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝９Hz） 3.91（3H，ｓ，CH₃Ｏ） 3.89（3H，ｓ，CH₃Ｏ）実施例 64 ５−クロロ−４−（４−ジメチルアミノベンゾ
イルオキシ）−２−ピリドン及び５−クロロ−
２，４−ジ（４−ジメチルアミノベンゾイルオ
キシ）ピリジンの製造４−ジメチルアミノ安息香酸2.70ｇ、塩化チオ
ニル2.0ml、ベンゼン50mlの混合物を一晩還流し、
放冷後、ベンゼンを留去し、ピリジン70mlで希釈
した。これを５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−
ピリドン2.00ｇのピリジン溶液80mlに加え、室温
で３時間反応させた。ピリジンを留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイーにかけ、ク
ロロホルムで展開して、目的とするジアシル体
1.34ｇ（収率24％）を得た。また２％メタノール
−クロロホルムで展開して目的とするモノアシル
体1.89ｇ（収率47％）を得た。モノアシル体〔５−クロロ−４−（４−ジメチ
ルアミノベンゾイルオキシ）−２−ピリドン〕 NMR（DMSO−d₆）δ： 11.88（1H，bs，−NH−） 7.91（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝９Hz） 7.80（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.81（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝９Hz） 6.45（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 3.05（6H，ｓ，CH₃×２）ジアシル体〔５−クロロ−２，４−ジ（４−ジ
メチルアミノベンゾイルオキシ）ピリジン〕 NMR（CDCl₃）δ 8.45（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.05（4H，ｄ、

【式】Ｊ＝９Hz） 7.36（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 6.69（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝９Hz） 6.67（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝９Hz） 3.08（6H，ｓ，CH₃） 3.07（6H，ｓ，CH₃）実施例 65 ５−クロロ−２，４−ジ（４−メチルベンゾイ
ルオキシ）ピリジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
1.00ｇのピリジン溶液50mlに、塩化４−メチルベ
ンゾイル2.66ｇを滴下し、室温で一晩反応させ
た。ピリジンを留去し、残渣をエーテル中で６時
間攪拌し、析出した固体を乾燥して目的化合物
1.71ｇを得た。またエーテルを濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーにかけ、石油エーテ
ル−クロロホルム（１：２）で展開して同一化合
物0.85ｇ（合計収量2.56ｇ、合計収率97％）を得
た。 NMR（DMSO−d₆）δ 8.71（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.07（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝８Hz） 8.04（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝８Hz） 7.73（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 7.46（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝８Hz） 7.45（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝８Hz） 3.29（6H，ｓ，CH₃×２）実施例 66 ４−（４−ベンジルオキシベンゾイルオキシ）−
５−クロロ−２−ピリドンの製造ピリジン100ml中に５−クロロ−４−ヒドロキ
シ−２−ピリドン3.00ｇを懸濁させ、これに攪拌
しながら室温で４−ベンジルオキシベンゾイルク
ロライド5.59ｇ加えた。反応溶液を90℃で1.5時
間攪拌した。溶媒を留去した後、残渣に酢酸エチ
ルを加え、室温で一晩攪拌した。酢酸エチル層を
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イーにかけ、２％メタノール−クロロホルムで溶
出して目的化合物770mg（収率10.5％）を得た。 NMR（CDCl₃）δ 8.14（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝９ Hz） 7.52（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.40（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 7.07（2H，ｄ、

【式】Ｊ＝９ Hz） 6.64（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 5.17（2H，ｓ、−CH₂）実施例 67 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−１−メトキシメ
チル−２−ピリドンの製造２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５
−クロロピリジン1.75ｇ、クロロメチルメチルエ
ーテル0.66ｇ及びアセトニトリル20mlを用い、実
施例61と同様にして目的化合物0.63ｇ（収率49
％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.55（1H，bs，OH） 7.87（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 5.76（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ） 5.12（2H，ｓ，NCH₂） 3.24（3H，ｓ，OCH₃）実施例 68 ５−クロロ−４−（１−ナフトイルオキシ）−２
−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇ、α−ナフトイルクロライド3.93ｇ及びピ
リジン100mlを用い、実施例45と同様にして目的
化合物1.15ｇ（収率28％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 12.07（1H，bs，NH） 8.89−7.64（7H，ｍ、ナフチル−Ｈ） 7.94（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 6.68（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ）実施例 69 ５−クロロ−２，４−ジ（１−ナフトイルオキ
シ）ピリジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇ、α−ナフトイルクロライド3.93ｇ及びピ
リジン100mlを用い、実施例45と同様にして目的
化合物3.83ｇ（収率61％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 8.92−7.60（14H，ｍ、ナフチル−Ｈ） 8.81（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.98（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ）実施例 70 ４−（４−ベンジルオキシカルボニル）ベンゾ
イルオキシ−２−ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.80ｇ及びトリ
エチルアミン7.50ｇのジオキサン溶液20mlに、塩
化（４−ベンジルオキシカルボニル）ベンゾイル
4.60ｇのジオキサン溶液20mlを加え、６時間還流
した。放冷後、濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出
し、水洗後、酢酸エチルを留去し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーにかけ、２％メタノール
−クロロホルムで展開して目的化合物0.80ｇ（収
率14％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 11.90（1H，bs，NH） 8.20（4H，bs、

【式】） 7.39−7.50（6H，ｍ、フエニル−Ｈとピリジン環
のC₆−Ｈ） 6.22−7.34（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ） 5.41（2H，ｓ、

【式】）実施例 71 ２−ベンゾイルオキシ−５−ブロモ−４−ヒド
ロキシピリジンの製造フツ化カリウム0.15ｇ、18−クラウン−６
0.35ｇ及びアセトニトリル50ml混合液を30分間還
流した後、これに５−ブロモ−２，４−ジベンゾ
イルオキシピリジン0.50ｇを加え、一晩還流し
た。放冷後、濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出
し、水洗した。次に酢酸エチルを濃縮し、残渣を
エーテルで処理して目的化合物0.23ｇ（収率62
％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 12.10（1H，broad，OH） 8.36（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.07−8.17（2H，ｍ、

【式】） 7.60−7.73（3H，ｍ、

【式】） 6.81（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ）実施例 72 ５−ブロモ−４−ベンゾイルオキシ−２−ピリ
ドン及び５−ブロモ−２，４−ジベンゾイルオ
キシピリジンの製造５−ブロモ−４−ヒドロキシ−２−ピリドン
2.00ｇをピリジン100mlに懸濁させ、これに塩化
ベンゾイル2.20ｇを滴下し、室温で４時間反応さ
せた。反応終了後、濃縮し、残渣をエーテル中で
一晩攪拌した。析出した結晶を取して目的とす
るモノベンゾイルオキシ体1.01ｇ（収率33％）を
得た。またエーテルを濃縮し、シリカゲルカラム
クロマトグラフイーにかけ、石油エーテル−クロ
ロホルム（１：２）で展開してジベンゾイルオキ
シ体1.44ｇ（収率34％）を得た。モノベンゾイルオキシ体〔５−ブロモ−４−ベ
ンゾイルオキシ−２−ピリドン〕 NMR（DMSO−d₆）δ 8.08−8.17（2H，ｍ、

【式】） 7.92（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.62−7.73（3H，ｍ、

【式】） 6.65（1H，ｓ、ピリジン環のC₃−Ｈ）ジベンゾイルオキシ体〔５−ブロモ−２，４−
ジベンゾイルオキシピリジン〕 NMR（CDCl₃）δ 8.63（1H，ｓ、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.19−8.27（4H，ｍ、

【式】） 7.40−7.65（7H，ｍ、ピリジン環のC₃−Ｈと

【式】）実施例 73 ２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５
−クロロピリジンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリ
ドン9.6ｇにヘキサメチルジシラザン50mlを加え、
油浴中140℃で一晩攪拌した。不溶物を去し、
液を減圧蒸留し沸点120℃／７mmHgの目的化合
物14.4ｇ（75％）を得た。実施例 74 ２−アセトキシ−５−クロロ−４−ヒドロキシ
ピリジンの製造２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５
−クロロピリジン5.00ｇの乾燥ジクロロメタン
250ml溶液に、アセチルブロミド2.09mlと塩化第
２錫0.10mlを加え、室温で3.5時間攪拌した。ト
リエチルアミンで中和後、溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムを用い、40％酢酸エチル−ベン
ゼンで溶出し、目的化合物2.07ｇ（64％）を得
た。融点 270−272℃ NMR（DMSO−d₆）δ 11.90（1H，bs，OH） 8.20（1H，ｓ，C₆−Ｈ） 6.69（1H，ｓ，C₃−Ｈ） 2.27（3H，ｓ，COCH₃）実施例 75 ５−クロロ−４−ヒドロキシ−１−（２−テト
ラヒドロフラニル）−２−ピリドンの製造５−クロロ−４−ヒドロキシ−２（1H）−ピリ
ドン1.00ｇにヘキサメチルジシラザン10mlを加え
６時間還流した。ついで過剰のヘキサメチルジシ
ラザンを留去し、油状残渣をジクロロメタン50ml
に溶解した。ここに２−アセトキシテトラヒドロ
フラン1.00ｇと塩化第２錫0.1mlを添加し、室温
で一晩攪拌した。トリエチルアミンで中和後溶媒
を留去し、残渣にメタノールを加えて室温で２時
間攪拌した。再度溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムを用い２％メタノール−クロロホルムで
溶出し、目的化合物1.07ｇ（73.5％）を得た。融点 170−173℃ NMR（DMSO−d₆）δ 11.6（1H，bs，OH） 7.59（1H，ｓ，C₆−Ｈ） 6.09−5.99（1H，ｑ、

【式】） 5.76（1H，ｓ，C₃−Ｈ） 4.39−3.73（2H，ｍ、

【式】） 2.42−1.82（4H，ｍ、

【式】）実施例 76 ４−ヒドロキシ−１−（３−フタリジル）−２−
ピリドンの製造４−ヒドロキシ−２−ピリドン1.00ｇにヘキサ
メチルジシラザン10mlを加え、６時間還流した。
ついで反応溶液を減圧濃縮し、残渣をアセトニト
リル20mlに溶解した。これに３−ブロモフタリド
2.29ｇを添加し、室温で一夜攪拌した。反応溶液
にメタノールを加えて室温で15分間攪拌した。次
に反応溶液を減圧濃縮し、残渣を１％メタノール
−クロロホルムを溶出液としたシリカゲルカラム
に付し、目的化合物0.62ｇ（30％）を得た。融点 239−241℃ NMR（DMSO−d₆）δ 11.05（1H，bs，OH） 8.29−7.52（5H，ｍ、

【式】） 6.99（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz，C₆−Ｈ） 5.88（1H，dd，J₃，₅＝２Hz，J₅，₆＝８Hz，C₅−Ｈ） 5.65（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz，C₃−Ｈ）実施例 77 １−ベンジルオキシメチル−５−クロロ−４−
ヒドロキシ−２−ピリドンの製造実施例75で２−アセトキシテトラヒドロフラン
に代えベンジルオキシメチルクロリドを用い、溶
媒としてジクロロメタンに代えてアセトニトリル
を用い、目的化合物を収率57％で得た。融点 165−167℃ NMR（DMSO−d₆）δ 11.65（1H，bs，OH） 7.92（1H，ｓ，C₆−Ｈ） 7.31（5H，ｓ、フエニル−Ｈ） 5.77（1H，ｓ，C₃−Ｈ） 5.27（2H，ｓ，−NCH₂Ｏ−） 4.55（2H，ｓ、

【式】）実施例 78 ５−クロロ−１−エトキシメチル−４−ヒドロ
キシ−２−ピリドンの製造実施例75で２−アセトキシテトラヒドロフラン
を用いる代りにクロロメチルエチルエーテルを用
い、５−クロロ−１−エトキシメチル−４−ヒド
ロキシ−２（1H）−ピリドンを収率39％で得た。融点 217−219℃ NMR（DMSO−d₆）δ 11.63（1H，bs，OH） 7.87（1H，ｓ，C₆−Ｈ） 5.75（1H，ｓ，C₃−Ｈ） 5.16（2H，ｓ，Ｎ−CH₂−Ｏ−） 3.49（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz，−OCH₂CH₃） 1.09（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz，−OCH₂CH₃）実施例 79 ２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−４−ヒド
ロキシピリジンの製造実施例75で２−アセトキシテトラヒドロフラン
を用いる代りにベンゾイルクロリドを用い、目的
化合物を収率51％で得た。融点 184℃で軟化 NMR（DMSO−d₆）δ 8.27（1H，ｓ，C₆−Ｈ） 8.16−8.07（2H，ｍ、

【式】） 7.78−7.51（3H，ｍ、

【式】 6.91（1H，ｓ，C₃−Ｈ）実施例 80 ４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−２−ピリ
ドンの製造５−クロロ−２，４−ジベンゾイルオキシピリ
ジン1.00ｇのジオキサン30ml溶液にアニリン0.31
mlを加え90〜100℃で５時間放置した。ここにさ
らに0.15mlのアニリンを加え２時間反応を続け
た。溶媒を留去後残渣を水洗し、不溶物を取し
た。これをシリカゲルカラムを用い、クロロホル
ム〜２％メタノーメル−クロロホルムで溶出して
目的化合物0.26ｇ（37％）を得た。これは実施例
10で得たものと融点、NMRスペクトルが一致し
た。実施例 81 ６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ−２−ヒド
ロキシピリジンの製造３−シアノ−２，６−ジヒドロキシピリジン
1.00ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド40ml溶液
にトリエチルアミン0.51ml及び塩化ベンゾイル
0.43mlを加え室温下15分間攪拌した。更に反応溶
液にトリエチルアミン0.51ml及び塩化ベンゾイル
0.43mlを加え室温下15分間攪拌した。反応溶液を
過し、液を減圧濃縮し、残渣をクロロホルム
及び水で洗浄して、目的化合物1.06ｇ（60％）を
得た。 NMR（DMSO−d₆）δ 12.76（1H，bs，OH又はNH） 8.33（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 8.17−8.07（2H，ｍ、

【式】） 7.94−7.58（3H，ｍ、

【式】） 6.95（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₅−Ｈ）実施例 82〜86 実施例81と同様にして以下の化合物を得た。実施例 82 ３−シアノ−６−（２，４−ジクロロベンゾイ
ルオキシ）−２−ヒドロキシピリジン NMR（（CD₃）₂CO）δ 8.29（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 8.17（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、

【式】） 7.74（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz、

【式】） 7.61（1H，dd，Ｊ＝８Hz，Ｊ＝２Hz、

【式】） 7.01（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₆−Ｈ）実施例 83 ３−シアノ−６−（２−フロイルオキシ）−２−
ヒドロキシピリジン NMR（DMSO−d₆）δ 8.32（1H，dd，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 8.14（1H，dd，Ｊ＝１Hz、Ｊ＝２Hz、

【式】） 7.63（1H，dd，Ｊ＝１Hz，Ｊ＝４Hz、

【式】） 6.95（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₅−Ｈ） 6.82（1H，dd，Ｊ＝２Hz，Ｊ＝４Hz、

【式】）実施例 84 ３−シアノ−６−（３，４，５−トリメトキシ
ベンゾイルオキシ）−２−ヒドロキシピリジン NMR（DMSO−d₆）δ 8.32（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 7.39（2H，ｓ、

【式】） 6.93（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₆−Ｈ） 3.87（6H，ｓ、

【式】） 3.80（3H，ｓ、

【式】）実施例 85 ３−シアノ−６−（２−テノイルオキシ）−２−
ヒドロキシピリジンの製造 NMR（DMSO−d₆）δ 8.32（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 8.15（1H，dd，Ｊ＝１Hz，Ｊ＝５Hz、

【式】） 8.06（1H，dd，Ｊ＝１Hz，Ｊ＝４Hz、

【式】） 7.33（1H，dd，Ｊ＝４Hz，Ｊ＝５Hz、

【式】） 6.96（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₅−Ｈ）実施例 86 ３−クロロ−６−（４−フルオロベンゾイルオ
キシ）−２−ヒドロキシピリジンの製造 NMR（DMSO−d₆）δ 12.27（1H，bs，OH又はNH） 8.26−8.10（2H，ｍ、

【式】） 7.96（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 7.43（2H，ｔ，Ｊ＝９Hz、

【式】） 6.79（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₅−Ｈ）実施例 87 ４−（２−テノイルオキシ）−２−ピリドンの製
造４−ヒドロキシ−２−ピリドン2.00ｇと２−テ
ノイルクロライド3.17ｇを用い、実施例18と同様
にして目的化合物2.98ｇ（収率75％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 11.69（1H，bs，Ｎ−Ｈ，D₂Ｏ添加により消失） 8.14−7.99（2H，ｍ、チオフエン環のC₃，₅−Ｈ） 7.48（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₆−Ｈ） 7.35−7.26（1H，ｍ、チオフエン環のC₄−Ｈ） 6.26−6.17（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ）実施例 88 ６−ベンゾイルオキシ−３−クロロ−２−ヒド
ロキシピリジンの製造３−クロロ−２，６−ジヒドロキシピリジン
3.74ｇのピリジン100ml溶液に無水安息香酸5.81
ｇを加え室温下1.5時間攪拌した。反応溶液を減
圧濃縮し、残渣をエーテルで洗浄し、アセトンか
ら再結晶し、目的化合物3.07ｇ（収率48％）を得
た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 12.25（1H，bs，OH又はNH） 8.15−7.92（3H，ｍ、ピリジン環のC₄−Ｈと

【式】） 7.79−7.61（3H，ｍ、

【式】） 6.80（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₅−Ｈ）実施例 89 ４−アセトキシ−２−ベンゾイルオキシピリジ
ンの製造４−アセトキシ−２−ピリドン0.77ｇをジオキ
サン30mlに懸濁し、これにトリエチルアミン2.09
mlと塩化ベンゾイル0.58mlを加え室温下2.5時間
攪拌した。反応溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーにかけクロロホル
ムで溶出し、目的化合物0.95ｇ（収率73％）を得
た。 NMR（CDCl₃）δ： 8.42（1H，ｄ，Ｊ＝６Hz、ピリジン環のC₆−Ｈ） 8.25−7.98（2H，ｍ、

【式】） 7.63−7.39（3H，ｍ、

【式】） 7.25−7.06（2H，ｍ、ピリジン環のC₃，₅−Ｈ） 2.29（3H，ｓ，COCH₃）実施例 90 ６−ベンゾイルオキシ−２−（４−ブロモベン
ゾイルオキシ）−３−シアノピリジンの製造６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ−２−ヒド
ロキシピリジン2.00ｇのジオキサン50ml溶液に、
トリエチルアミン3.46mlと塩化４−ブロモベンゾ
イル1.82ｇを加え室温下１時間攪拌した。生成し
た塩を去し、液を濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーにかけクロロホルム
で溶出し、目的化合物2.97ｇ（収率84％）を得
た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 8.80（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 8.19−7.53（10H，ｍ、ピリジン環のC₅−Ｈと

【式】と

【式】）実施例 91 ６−ベンゾイルオキシ−２−（４−クロロベン
ゾイルオキシ）−３−シアノピリジンの製造６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ−２−ヒド
ロキシピリジン1.00ｇと塩化４−クロロベンゾイ
ル0.72ｇを用い、実施例90と同様にして目的化合
物1.29ｇ（収率82％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 8.82（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 8.23−7.59（10H，ｍ、ピリジン環の C₅−Ｈと

【式】と

【式】）実施例 92 ３−シアノ−２，６−ジベンゾイルオキシピリ
ジンの製造６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ−２−ヒド
ロキシピリジン1.00ｇと塩化ベンゾイル0.58ｇを
用い、実施例90と同様にして目的化合物1.15ｇ
（収率80％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 8.81（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 8.24−8.11（4H，ｍ、

【式】） 7.81−7.63（7H，ｍ、ピリジン環のC₅−Ｈと

【式】）実施例 93 ６−（２−クロロベンゾイルオキシ）−３−シア
ノ−２−ヒドロキシピリジンの製造３−シアノ−２，６−ジヒドロキシピリジン
2.00ｇと２−クロロベンゾイルクロライド2.57ｇ
を用い、実施例81と同様にして目的化合物2.21ｇ
（収率55％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 8.35（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 8.10（1H，dd，Ｊ＝７Hz，Ｊ＝１Hz、

【式】） 7.75−7.40（3H，ｍ，ｍ、

【式】） 7.00（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₅−Ｈ）実施例 94 ３−シアノ−６−（３−メチルベンゾイルオキ
シ）−２−ヒドロキシピリジンの製造３シアノ−２，６−ジヒドロキシピリジン2.00
ｇと３−メチルベンゾイルクロライド2.27ｇを用
い、実施例81と同様にして目的化合物2.16ｇ（収
率58％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 8.33（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₄−Ｈ） 8.00−7.85（2H，ｍ、

【式】） 7.65−7.41（2H，ｍ、

【式】） 6.94（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₅−Ｈ）実施例 95 ６−（２，４−ジクロロベンゾイルオキシ）−２
−ヒドロキシピリジンの構造２，６−ジヒドロキシピリジン塩酸塩3.00ｇと
２，４−ジクロロベンゾイルクロライド4.26ｇを
用い、実施例81と同様にして目的化合物4.49ｇ
（収率78％）を得た。 NMR（DMSO−d₆）δ： 8.10（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz、

【式】） 7.90−7.58（3H，ｍ、

【式】とピリジン環のC₄−Ｈ） 6.78（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₅−Ｈ） 6.64（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz、ピリジン環のC₃−Ｈ）実施例 96 ２，６−ジヒドロキシ−３−クロロピリジンの
製造四塩化炭素30mlに、２，６−ジベンジルオキシ
ピリジン1.46ｇと炭酸カリウム1.45ｇを加え、更
に塩化スルフリル0.4mlの四塩化炭素10ml溶液を
室温下２時間かけて滴下した。１時間攪拌後反応
液を過し、液を濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイーにかけｎ−ヘキサン−
ベンゼン（７：１）混液で溶出し、無色のオイル
1.2ｇ（収率74％）を得た。元素分析値計算値（％）：C70.05；H4.95；N4.30 実測値（％）：C70.02；H4.82；N4.25 次いで得られた２，６−ジベンジルオキシ−３
−クロロピリジン6.5ｇをエタノール130mlに溶解
し、５％パラジウム炭素429mgを加え、常圧にて
接触還元した。反応液を過し、液を濃縮して
赤色結晶を得、これをメタノール−酢酸エチルか
ら再結晶して、淡緑色綾状晶の目的化合物410mg
（収率14％）を得た。融点300℃以上（分解）（220
℃以上で変色、250℃以上で黒化）薬理試験例 ICR系マウスに腹水として継代したザルコーマ
（Sarcoma）−180を、生理食塩水で希釈して１匹
当り２×10⁷となる量を２グループの同系マウス
の背部皮下に移植し実験に供した。（即ち、一方
のグループには薬剤を投与し、他方のグループ
（コントロール）には薬剤を投与しない。）腫瘍移
植24時間後より１日１回、７日間、５％アラビア
ゴムで懸濁させた薬剤を連日経口投与した。腫瘍移植10日目に背部皮下の固型癌を摘出し、
癌重量を測定し、薬剤投与群の腫瘍重量（Ｔ）と
薬剤未投与の対照群の腫瘍重量（Ｃ）との比
（Ｔ／Ｃ）を求め、薬剤投与量と該比（Ｔ／Ｃ）
の用量−反応曲線よりＴ／Ｃが0.5となる50％癌
抑制用量（ED50値）を求めた。供試薬剤として各種抗腫瘍剤を単独で用いた場
合及び各種抗腫瘍剤と本発明の抗腫瘍活性増強化
合物とを１：１（モル比）で併用した場合の結果
を第１表に示す。比較例として、抗腫瘍剤と２，
４−ジヒドロピリジン（２，４−DHP）とを
１：１（モル比）で併用した場合の結果を第２表
に示す。尚抗腫瘍剤及び本発明抗腫瘍活性増強化
合物は、夫々以下の略号又は記号にて、第１表及
び第２表に示す。〈抗腫瘍剤〉５−FU……５−フルオロウラシル FT−207……１−（２−テトラヒドロフリル）−５
−フルオロウラシル HCFU……１−ｎ−ヘキシルカルバモイル−５
−フルオロウリジン 5′DFUR……5′−デオキシ−５−フルオロウリジ
ン FUdR……2′−デオキシ−５−フルオロウリジン OFU……１−エトキシメチル−５−フルオロウ
ラシル TK−117……2′−デオキシ−５−フルオロ−３−
（３，４−メチレンジオキシベンゾイル）ウリ
ジン FUR……５−フルオロウリジン FF−707……2′−デオキシ−５−フルオロ−3′，
5′−ビス−Ｏ−（４−メトキシフエノキシカル
ボニル）−３−（ｎ−プロポキシベンゾイル）ウ
リジン Anti−Ｔ−１……2′−デオキシ−3′−Ｏ−ベンジ
ル−５−フルオロウリジン Anti−Ｔ−２……5′−Ｏ−アセチル−3′−Ｏ−ベ
ンジル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジン Anti−Ｔ−３……2′−デオキシ−3′−Ｏ−ベンジ
ル−３−ベンゾイル−５−アルオロウリジン Anti−Ｔ−４……2′−デオキシ−3′−Ｏ−（４−
クロロベンジル）−５−フルオロウリジン〈本発明抗腫瘍活性増強化合物〉化合物１：２，４−ジヒドロキシ−５−クロロピ
リジン化合物２：２，６−ジヒドロキシ−３−クロロピ
リジン化合物３：２，４−ジヒドロキシ−５−ブロモピ
リジン化合物４：２，４−ジヒドロキシ−５−メチルピ
リジン化合物５：２，６−ジヒドロキシ−３−シアノピ
リジン化合物６：２，６−ジヒドロキシ−３−ニトロピ
リジン化合物７：２，６−ジヒドロキシピリジン化合物８：２，４−ジヒドロキシ−５−カルボキ
シピリジン化合物９：２，４−ジヒドロキシ−５−エトキシ
カルボニルピリジン化合物10：２，４−ジヒドロキシ−３，５−ジク
ロロピリジン化合物11：２，４−ジヒドロキシ−３，５−ジブ
ロモピリジン化合物12：２，４−ジヒドロキシ−３−クロロピ
リジン化合物13：２，４−ジヒドロキシ−３−ブロモピ
リジン化合物14：２，４−ジヒドロキシ−３−メチルピ
リジン化合物15：２，４−ジヒドロキシ−３−アミノピ
リジン化合物16：２，６−ジヒドロキシ−３−カルバモ
イルピリジン化合物17：２，４，６−トリヒドロキシピリジン化合物18：５−クロロ−４−オクタデカノイルオ
キシ−２−ピリドン化合物19：２，４−ジベンゾイルオキシピリジン化合物20：６−ベンゾイルオキシ−２−ピリドン化合物21：２−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−
４−ヒドロキシピリジン化合物22：５−クロロ−４−（２−メチルベンゾ
イルオキシ）−２−ピリドン化合物23：４−ベンゾイルオキシ−５−クロロ−
２−ピリドン化合物24：２，４−ビス（４−エトキシベンゾイ
ルオキシ）ピリジン化合物25：５−クロロ−１，２−ジヒドロ−４−
ヒドロキシ−２−オキソ−１−（２−テトラヒ
ドロフラニル）ピリジン化合物26：５−クロロ−１，２−ジヒドロ−４−
ヒドロキシ−２−オキソ−１−メトキシメチル
ピリジン化合物28：６−ベンゾイルオキシ−３−シアノ−
２−ヒドロキシピリジン化合物29：３−シアノ−６−（３，４，５−トリ
メトキシベンゾイル）−２−ヒドロキシピリジ
ン化合物30：３−シアノ−６−（２−フロイルオキ
シ）−２−ヒドロキシピリジン化合物31：３−シアノ−６−（３，４−ジクロロ
ベンゾイルオキシ）−２−ヒドロキシピリジン化合物32：６−ベンゾイルオキシ−２−（４−ブ
ロモベンゾイルオキシ）−３−シアノピリジン

【表】

【表】以上の結果より、本発明化合物を抗腫瘍剤と併
用すると、抗腫瘍剤の抗腫瘍活性を著しく増強さ
せ得ることがわかる。薬理試験例（急性毒性） 3′−０−ベンジル−2′−デオキシ−５−フルオ
ロウリジン及び3′−０−ベンジル−5′−０−アセ
チル−2′−デオキシ−５−フルオロウリジンを、
各々５週齢のICR雄性マウス（１群８例）に経口
投与し、一般症状、体重の推移及び生死の有無を
投与14日間に亘り観察した。また死亡率からリツ
チフイールド−ウイルコツクソン（Litchfield−
Wilcoxon）法に従い、LD₅₀値を求めた。結果を
下記第３表に示す。

【表】薬理試験例（急性毒性）２，６−ジヒドロキシ−３−シアノピリジン
を、５週齢のICR雄性マウス（１群８例）に静脈
内投与し、一般症状、体重の推移及び生死の有無
を投与14日間に亘り観察した。また死亡率からリ
ツチフイールド−ウイルコツクソン法に従い、
LD₅₀値を求めた。LD50値は315mg／Kgであつた。製剤例１２，６−ジヒドロキシ−３−クロロピリジン20mg 2′−デオキシ−3′−０−ベンジル−5′−０−アセ
チル−５−フルオロウリジン 50mg 乳糖 110mg 結晶セルロース 67mg ステアリン酸マグネシウム３mg 上記組成で１カプセル当り250mgのカプセル剤
を調製した。製剤例２２，６−ジヒドロキシ−３−クロロピリジン10mg 2′−デオキシ−3′−０−ベンジル−５−フルオロ
ウリジン 20mg 乳糖 107mg 結晶セルロース 60mg ステアリン酸マグネシウム３mg 上記組成で１カプセル当り200mgのカプセル剤
を調製した。製剤例３２，６−ジヒドロキシ−３−クロロピリジン10mg ５−フルオロウリジン 10mg 乳糖 180mg コーンスターチ 290mg ヒドロキシプロピルメチルセルロース 10mg 上記組成で１包当り500mgの顆粒剤を調製した。製剤例４２，６−ジヒドロキシ−３−クロロピリジン20mg 2′−デオキシ−3′−０−ベンジル−5′−０−アセ
チル−５−フルオロウリジン 10mg マクロゴール300 500mg 注射用蒸留水適量上記組成で１アンプル当り５mlの注射用剤を調
製した。製剤例５２，６−ジヒドロキシ−３−クロロピリジン10ｇ５−フルオロウラシル 10ｇ乳糖 10ｇコーンスターチ 24ｇ結晶セルロース 25ｇメチルセルロース 1.5ｇステアリン酸マグネシウム１ｇ２，６−ジヒドロキシ−３−クロロピリジン、
５−フルオロウラシル、乳糖、コーンスターチ及
び結晶セルロースを十分混合し、メチルセルロー
スの５％水溶液で顆粒化し、200メツシユの篩に
通して注意深く乾燥した。乾燥した顆粒を200メ
ツシユの篩に通してステアリン酸マグネシウムと
混合して錠剤にプレスし、経口使用のための錠剤
1000錠を得た。

Claims

【特許請求の範囲】１一般式【式】〔式中R¹は水酸基又はアシルオキシ基を示す。
R²及びR⁴は夫々水素原子、ハロゲン原子、アミ
ノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、シアノ
基、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルケニル
基又は低級アルコキシカルボニル基を示す。R³
及びR⁵は夫々水素原子、水酸基又はアシルオキ
シ基を示す。またR¹，R³及びR⁵のうち少なくと
も１つが水酸基の場合には、ケト・エノール互変
異性によりピリジン環の１位は【式】の構造を取ることができ、該水素原子は低級アルキル基、
テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル
基、低級アルコキシ低級アルキル基、フタリジル
基、カルバモイル基、低級アルコキシカルボニル
低級アルキルカルバモイル基、フエニル低級アル
コキシ低級アルキル基、フエニル環上に置換基を
有することのあるフエニルカルバモイル基、低級
アルキルカルバモイル基、カルボキシル低級アル
キルカルバモイル基、低級アルキルチオ低級アル
キル基及び低級アルケニル基からなる群から選ば
れた置換基で置換されていてもよい。但し一般式【式】（式中αは水素原子、低級アルキル基、テトラ
ヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、低
級アルコキシ低級アルキル基、低級アルキルカル
バモイル基、低級アルキルチオ低級アルキル基又
は低級アルケニル基を示す。）で表わされる化合物を除く。）で表わされるピリジン誘導体を含有し、５−フル
オロウラシル及び生体内で５−フルオロウラシル
生成能を有する化合物から選ばれた抗腫瘍化合物
の抗腫瘍活性増強剤。