JPS621536B2 - - Google Patents
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- JPS621536B2 JPS621536B2 JP1847183A JP1847183A JPS621536B2 JP S621536 B2 JPS621536 B2 JP S621536B2 JP 1847183 A JP1847183 A JP 1847183A JP 1847183 A JP1847183 A JP 1847183A JP S621536 B2 JPS621536 B2 JP S621536B2
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- cylinder
- plasma
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/18—Details relating to the spatial orientation of the reactor
- B01J2219/187—Details relating to the spatial orientation of the reactor inclined at an angle to the horizontal or to the vertical plane
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、低温プラズマを用いて粉体物質の表
面改質を行うためのものであつて、特に減圧下の
粉体貯槽から装置内に安定に粉体の供給、取り出
しを行いながら、重合モノマー利用効率の高い処
理操作が行える装置に関するものである。
面改質を行うためのものであつて、特に減圧下の
粉体貯槽から装置内に安定に粉体の供給、取り出
しを行いながら、重合モノマー利用効率の高い処
理操作が行える装置に関するものである。
最近、多くの工業分野において、その表面に一
定の特性を持つ粉体物質が利用されている。例え
ば、吸着剤、充填剤、顔料、触媒などであるが、
こうした粉体物質の性質を改良するために、様々
の表面改質技術が用いられている。
定の特性を持つ粉体物質が利用されている。例え
ば、吸着剤、充填剤、顔料、触媒などであるが、
こうした粉体物質の性質を改良するために、様々
の表面改質技術が用いられている。
改質方法は、粉体物質の種類、表面の反応性等
によつて個々に大きく異なるのが通常であるが、
プラズマ処理による場合、類似の操作でほとんど
あらゆる固体物質の表面特性を変えることが可能
である。
によつて個々に大きく異なるのが通常であるが、
プラズマ処理による場合、類似の操作でほとんど
あらゆる固体物質の表面特性を変えることが可能
である。
しかし、従来プラズマ処理は、膜状、板状、管
状、繊維状といつた多種の形状の物体の表面処理
に多く用いられているが、粉体処理に用いた例は
多くない（例えば、特開昭52―124068、特開昭52
―140570など）。しかも、処理装置に関する記述
はなされていない。類似物として、ビーズ状物質
の処理に用いたベルジヤー型反応装置に関する報
告はあるが、振動する皿の上にビーズを置くもの
であり、本発明の装置とは異なる。〔ACS Sym
―po.Series 108、PP.315―330（1979）〕しか
も、連続処理がスムーズに行われ、処理気体やプ
ラズマとの接触が均一に効率よく達成されるため
の考慮も払われていない。
状、繊維状といつた多種の形状の物体の表面処理
に多く用いられているが、粉体処理に用いた例は
多くない（例えば、特開昭52―124068、特開昭52
―140570など）。しかも、処理装置に関する記述
はなされていない。類似物として、ビーズ状物質
の処理に用いたベルジヤー型反応装置に関する報
告はあるが、振動する皿の上にビーズを置くもの
であり、本発明の装置とは異なる。〔ACS Sym
―po.Series 108、PP.315―330（1979）〕しか
も、連続処理がスムーズに行われ、処理気体やプ
ラズマとの接触が均一に効率よく達成されるため
の考慮も払われていない。
プラズマ発生部には、ラジオ波コイルあるい
は、電極など一般に使用されているプラズマ処理
装置のものを用いることができる。粉体の種類に
よつては、熱に弱いものがあるがプラズマ発生部
に与えられるラジオ波電力、処理円筒との距離を
適当にすることにより発熱を抑えることができ
る。
は、電極など一般に使用されているプラズマ処理
装置のものを用いることができる。粉体の種類に
よつては、熱に弱いものがあるがプラズマ発生部
に与えられるラジオ波電力、処理円筒との距離を
適当にすることにより発熱を抑えることができ
る。
ちなみに、反応管のこの部分は、パイレツク
ス、石英など絶縁物から成り、他の部分は金属
（ステンレス等）であつてもかまわない。排気系
は、粉の飛散を防ぐため荒い多孔性フイルターを
管路に取り付けたものを用いる。
ス、石英など絶縁物から成り、他の部分は金属
（ステンレス等）であつてもかまわない。排気系
は、粉の飛散を防ぐため荒い多孔性フイルターを
管路に取り付けたものを用いる。
また、回転円筒の一端（排気系側）にも荒いフ
イルターが付けられている。ただし、排気がすみ
やかに行われるようにフイルター中心に直径５mm
程度の小穴を必要に応じてあけてある。
イルターが付けられている。ただし、排気がすみ
やかに行われるようにフイルター中心に直径５mm
程度の小穴を必要に応じてあけてある。
本発明の実施例を図面を用いて説明すると、第
１図の中の１はいずれも真空ポンプに継がれて、
４の未処理粉体貯槽、１０の粉体処理回転円筒、
１２の処理粉体回収容器内等の排気に用いられ
る。
１図の中の１はいずれも真空ポンプに継がれて、
４の未処理粉体貯槽、１０の粉体処理回転円筒、
１２の処理粉体回収容器内等の排気に用いられ
る。
未処理粉体は、１１のバルブ、３の粉体送入機
構を通じて１０の回転円筒に送られ、１５のラジ
オ波発振器から１４のマツチング回路を通じて、
８のラジオ波コイルに送られた電力により励起さ
れたプラズマに曝露され表面処理が行われる。
構を通じて１０の回転円筒に送られ、１５のラジ
オ波発振器から１４のマツチング回路を通じて、
８のラジオ波コイルに送られた電力により励起さ
れたプラズマに曝露され表面処理が行われる。
また、この円筒壁の一部は、軸方向に長く多孔
フイルター１６になつており、２の処理気体導入
系からのプラズマ気体を筒内軸方向に均一に分布
する働きをする。これによつて、プラズマ気体と
して重合性のモノマーを用いた場合、反応効率が
高められる。
フイルター１６になつており、２の処理気体導入
系からのプラズマ気体を筒内軸方向に均一に分布
する働きをする。これによつて、プラズマ気体と
して重合性のモノマーを用いた場合、反応効率が
高められる。
また、１０の円筒部には、９の回転軸（一部柔
軟なプラスチツク管から成る。）７の真空回転導
入機構によつて処理中回転し、６の粉体分散ロツ
ド（棒）が内側をころがりながら粉体同士の付着
を防ぎ、プラズマとの接触を助け、同時に粉体
は、棒表面にラセン状に分布した突起と１０の内
面に付けられた浅いラセン溝によつて、粉体回収
部５，１１，１２に移動して行く。この移動速
度、すなわち粉体処理時間は、筒回転速さ、筒出
口のせきの高さ、反応管全体の傾斜度によつても
制御可能である。なお、１３は、排気中の粉体飛
散を防止するためのフイルターである。
軟なプラスチツク管から成る。）７の真空回転導
入機構によつて処理中回転し、６の粉体分散ロツ
ド（棒）が内側をころがりながら粉体同士の付着
を防ぎ、プラズマとの接触を助け、同時に粉体
は、棒表面にラセン状に分布した突起と１０の内
面に付けられた浅いラセン溝によつて、粉体回収
部５，１１，１２に移動して行く。この移動速
度、すなわち粉体処理時間は、筒回転速さ、筒出
口のせきの高さ、反応管全体の傾斜度によつても
制御可能である。なお、１３は、排気中の粉体飛
散を防止するためのフイルターである。
１１の粉体バルブを詳しく説明したのが、第２
図及び第３図である。
図及び第３図である。
第２図において粉体は上から下に流れるが、バ
ルブ内の孔がラツパ状になつており、閉状態でバ
ルブ内に滞留しにくい。このようなバルブ動作を
第３図に説明した。
ルブ内の孔がラツパ状になつており、閉状態でバ
ルブ内に滞留しにくい。このようなバルブ動作を
第３図に説明した。
なお、第２図に示したようにバルブはＯ―リン
グを用いて減圧下で使用できるようになつてい
る。
グを用いて減圧下で使用できるようになつてい
る。
処理例として、平均直径30μのガラス粉末を用
いて、その表面のピリジンプラズマ処理を行つ
た。この時、管内圧力を0.08torrに調整した後、
約1mlのガラス粉末の処理を筒回転速度、１回毎
秒程度、50W（ラジオ波電力）で１時間行つた
が、粉末が出口付近に滞つて長時間処理が可能と
なつた。反応後、筒回転速度を４回毎秒程度に上
げ、管傾斜度を調節すると粉末が受器に落下し
た。粉体は薄茶色に着色しておりピリジン膜が粉
末表面に生成していることが明らかであつた。顕
微鏡観察によつても均一な膜生成が認められた。
いて、その表面のピリジンプラズマ処理を行つ
た。この時、管内圧力を0.08torrに調整した後、
約1mlのガラス粉末の処理を筒回転速度、１回毎
秒程度、50W（ラジオ波電力）で１時間行つた
が、粉末が出口付近に滞つて長時間処理が可能と
なつた。反応後、筒回転速度を４回毎秒程度に上
げ、管傾斜度を調節すると粉末が受器に落下し
た。粉体は薄茶色に着色しておりピリジン膜が粉
末表面に生成していることが明らかであつた。顕
微鏡観察によつても均一な膜生成が認められた。
また、本発明の装置は、粉体を断続的に加え供
給気体を変えて処理を繰り返すことにより多層膜
処理も可能であり、管型反応管を用いるため気体
の更新がすみやかで、シヤープな層構造が得られ
る。
給気体を変えて処理を繰り返すことにより多層膜
処理も可能であり、管型反応管を用いるため気体
の更新がすみやかで、シヤープな層構造が得られ
る。
以上のように、本発明においては、粉体表面改
質が、半連続的に均一かつ高効率で実現できる点
で既存の汎用プラズマ処理装置にない特徴を持つ
ている。
質が、半連続的に均一かつ高効率で実現できる点
で既存の汎用プラズマ処理装置にない特徴を持つ
ている。
第１図は正面断面図、第２図は１１の粉体バル
ブの側面断面図、第３図は同粉体バルブの動作図
である。 １……真空排気系、２……処理気体導入系、３
……粉体送入機構、４……未処理粉体貯槽、５…
…粉体出口部、６……粉体分散ロツド、７……真
空回転導入器、８……ラジオ波コイル、９……回
転軸（柔軟構造）、１０……粉体処理回転円筒、
１１……粉体バルブ、１２……処理粉体回収容
器、１３……フイルター、１４……マツチング回
路、１５……ラジオ波発振器、１６……多孔フイ
ルター（処理気体流入口）、ａ……開、ｂ……入
口閉、ｃ……半開、ｄ……閉。
ブの側面断面図、第３図は同粉体バルブの動作図
である。 １……真空排気系、２……処理気体導入系、３
……粉体送入機構、４……未処理粉体貯槽、５…
…粉体出口部、６……粉体分散ロツド、７……真
空回転導入器、８……ラジオ波コイル、９……回
転軸（柔軟構造）、１０……粉体処理回転円筒、
１１……粉体バルブ、１２……処理粉体回収容
器、１３……フイルター、１４……マツチング回
路、１５……ラジオ波発振器、１６……多孔フイ
ルター（処理気体流入口）、ａ……開、ｂ……入
口閉、ｃ……半開、ｄ……閉。
Claims (1)
- １ 一端に低温プラズマ発生部を取り付けた管型
の減圧容器内に、もう一方の端から真空回転導入
機構を介して円筒を取り付け、その中で円筒の回
転により半連続的に粉体表面をプラズマ処理する
ための装置であつて、粉体の送入、取り出しにラ
ツパ状の孔を持つ摺合わせバルブ、円筒内に粉体
分散移動のための突起を持つ棒状物を設け、円筒
壁の一部を多孔壁とし、処理気体を粉体上に均一
に供給できるようにした粉体表面改質装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1847183A JPS59145038A (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 粉体表面改質装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1847183A JPS59145038A (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 粉体表面改質装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59145038A JPS59145038A (ja) | 1984-08-20 |
| JPS621536B2 true JPS621536B2 (ja) | 1987-01-14 |
Family
ID=11972553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1847183A Granted JPS59145038A (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 粉体表面改質装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59145038A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6331536A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-10 | Natl Res Inst For Metals | プラズマ気相反応による微粒子製造装置 |
| JPS63245445A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-12 | Tome Sangyo Kk | 粉粒体表面のプラズマ処理方法およびそれに用いる装置 |
| DE4423471A1 (de) * | 1994-07-05 | 1996-01-11 | Buck Chem Tech Werke | Vorrichtung zur Plasmabehandlung von feinkörnigen Gütern |
| DE19654603C2 (de) * | 1996-12-20 | 2003-05-22 | Iveco Gmbh & Co Kg | Anlage zur Niederdruck-Plasmabehandlung |
| DE19847032A1 (de) * | 1998-10-13 | 2000-04-20 | Kaco Gmbh Co | Verfahren zur Herstellung von Teilen aus pulverförmigen antiadhäsiven organischen Stoffen, nach einem solchen Verfahren hergestelltes Teil und Gerät zur Durchführung eines solchen Verfahrens |
| AU2003280787A1 (en) | 2003-06-20 | 2005-01-04 | Hosokawa Powder Technology Research Institute | Powder treatment method, powder treatment device, and method of manufacturing porous granulated matter |
| JP6749028B1 (ja) * | 2019-09-12 | 2020-09-02 | 株式会社ニッシン | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
-
1983
- 1983-02-07 JP JP1847183A patent/JPS59145038A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59145038A (ja) | 1984-08-20 |
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