JP6749028B1 - プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1 本体装置
10 チャンバー(処理容器)
100 投入口
101 取出口
102 搬送部(螺旋体)
11 投入部
12 取出部
13 圧力調整部
14 気体導入部
15 プラズマ発生部
2 フレーム
20 ジャッキ部(傾斜腕部)
3 投入用ユニット
4 取出用ユニット
5 マイクロ波供給ユニット
Claims (8)
- それぞれ異なる投入口及び取出口を有し、内部の圧力を減圧調整可能な処理容器と、
前記投入口から前記処理容器内に処理対象を続けて投入可能な投入部と、
前記処理容器内で、前記投入口から続けて投入される処理対象を前記取出口まで搬送可能な搬送部と、
前記取出口から処理対象を続けて取り出すことが可能な取出部と、
前記処理容器内に気体を導入可能な気体導入部と、
前記気体導入部から導入された気体から、前記処理容器内に減圧下でマイクロ波表面波プラズマを発生させることが可能なプラズマ発生部と
を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置であって、
前記処理容器は、
回転軸を有する回転体であり、
前記投入口は、
回転軸の一端側に形成されており、
前記取出口は、
回転軸の他端側に形成されており、
前記気体導入部及びプラズマ発生部は、
回転軸の一端側又は他端側に形成されており、
前記搬送部は、
前記処理容器の内側壁に形成された螺旋体であり、
前記処理容器が、前記回転軸を中心として回転することにより、前記投入部により前記投入口から続けて投入された処理対象が、前記処理容器内に形成された前記螺旋体に沿って前記取出口側へ搬送される
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項2に記載のプラズマ処理装置であって、
前記プラズマ発生部は、
前記処理容器内で回転軸と略平行な方向へ延伸する棒状をなし、
電力を印加可能な導体と、
前記導体を棒状に覆う誘電体と
を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項2又は請求項3に記載のプラズマ処理装置であって、
前記処理容器内の圧力を調整可能な圧力調整部を備え、
前記圧力調整部は、回転軸の他端側から前記処理容器内の気体を吸引可能であり、
前記気体導入部は、回転軸の一端側から前記処理容器内へ気体を導入可能である
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置であって、
前記処理容器を傾斜させることが可能な傾斜腕部を備え、
前記傾斜腕部が、前記処理容器を傾斜させることにより、前記投入口及び取出口のうちの一方を他方より上方へ移動させることが可能である
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 密閉可能な処理容器を用いたプラズマ処理方法であって、
前記処理容器は、それぞれ異なる投入口及び取出口を有しており、
前記処理容器内の減圧及び前記処理容器内への気体の導入を行った雰囲気下で、
前記投入口からの処理対象の投入、前記処理容器に取り付けられた搬送部による投入された処理対象の取出口までの搬送、及び搬送された処理対象の取出口からの取出を続けて行い、
前記処理容器内に取り付けられているプラズマ発生部により、導入された気体からマイクロ波表面波プラズマを発生させて、前記搬送部にて搬送されている処理対象に対して照射する
ことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6に記載のプラズマ処理方法であって、
導入される気体は、酸素、水素、アルゴン、窒素及び弗化炭素のうちのいずれかを含む
ことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6又は請求項7に記載のプラズマ処理方法であって、
前記プラズマ発生部は、
棒状の誘電体を有しており、
処理対象に照射するマイクロ波表面波プラズマは、前記誘電体の表面に発生させたマイクロ波表面波プラズマである
ことを特徴とするプラズマ処理方法。
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