JPS62153366U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS62153366U JPS62153366U JP3744786U JP3744786U JPS62153366U JP S62153366 U JPS62153366 U JP S62153366U JP 3744786 U JP3744786 U JP 3744786U JP 3744786 U JP3744786 U JP 3744786U JP S62153366 U JPS62153366 U JP S62153366U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- plasma cvd
- cvd apparatus
- raw material
- material gas
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 11
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案のプラズマＣＶＤ装置の一実施
例の模式図、第２図は本考案の副生成物捕獲除去
装置の一実施例を示すもので、第２図ａ図は装置
全体の模式図、第２図ｂ図はフイルタ部の正面図
、第３図は副生成物捕獲除去装置の他の実施例の
概念図である。第４図は副生成物捕獲装置の一従
来例の概念図、第５図は同じく他の従来例の概念
図である。 １０……反応容器、１１……原料ガス導入管、
１２……排気管、１３……カソード、１４……電
源、１５……アノード、１６……基体、１７……
メカニカルブースタポンプ、１８……ロータリポ
ンプ、１９……副生成物捕獲除去装置、２１……
フイルタ、２２……モータ、２３……ブレード（
ブラシ）、２４……ホルダー、２５……容器。
例の模式図、第２図は本考案の副生成物捕獲除去
装置の一実施例を示すもので、第２図ａ図は装置
全体の模式図、第２図ｂ図はフイルタ部の正面図
、第３図は副生成物捕獲除去装置の他の実施例の
概念図である。第４図は副生成物捕獲装置の一従
来例の概念図、第５図は同じく他の従来例の概念
図である。 １０……反応容器、１１……原料ガス導入管、
１２……排気管、１３……カソード、１４……電
源、１５……アノード、１６……基体、１７……
メカニカルブースタポンプ、１８……ロータリポ
ンプ、１９……副生成物捕獲除去装置、２１……
フイルタ、２２……モータ、２３……ブレード（
ブラシ）、２４……ホルダー、２５……容器。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 所定の排気装置によつて所望圧に減圧可能
な反応容器内に堆積膜の構成成分を含む原料ガス
を導入し、該原料ガスを放電により分解して所定
の基体上に堆積膜を形成するプラズマＣＶＤ装置
において、前記排気装置の前段に前記原料ガスの
分解によつて生じる粉末状副生成物を捕獲するフ
イルタと捕獲された粉末状副生成物をフイルタよ
り除去する手段とを有する副生成物捕獲除去装置
を設けたことを特徴とするプラズマＣＶＤ装置。 (2) 実用新案登録請求の範囲第１項記載のプラ
ズマＣＶＤ装置において、副生成物捕獲除去装置
にフイルタより除去した副生成物を貯えておく容
器を設けたことを特徴とするプラズマＣＶＤ装置
。 (3) 実用新案登録請求の範囲第１項記載のプラ
ズマＣＶＤ装置において、副生成物捕獲除去装置
にフイルタを冷却する手段を設けたことを特徴と
するプラズマＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3744786U JPS62153366U (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3744786U JPS62153366U (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62153366U true JPS62153366U (ja) | 1987-09-29 |
Family
ID=30848780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3744786U Pending JPS62153366U (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62153366U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59427B2 (ja) * | 1978-04-21 | 1984-01-06 | プルマン・インコ−ポレイテツド | タンク車用堰排流装置 |
| JPS6129849A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-10 | Toshiba Corp | 非晶質シリコン成膜装置 |
| JPS6169967A (ja) * | 1984-09-12 | 1986-04-10 | Toshiba Corp | 成膜装置 |
-
1986
- 1986-03-14 JP JP3744786U patent/JPS62153366U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59427B2 (ja) * | 1978-04-21 | 1984-01-06 | プルマン・インコ−ポレイテツド | タンク車用堰排流装置 |
| JPS6129849A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-10 | Toshiba Corp | 非晶質シリコン成膜装置 |
| JPS6169967A (ja) * | 1984-09-12 | 1986-04-10 | Toshiba Corp | 成膜装置 |
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