JPS62152715A - ポリエチレンテレフタレ−トのキヤスト方法 - Google Patents
ポリエチレンテレフタレ−トのキヤスト方法Info
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- JPS62152715A JPS62152715A JP60292806A JP29280685A JPS62152715A JP S62152715 A JPS62152715 A JP S62152715A JP 60292806 A JP60292806 A JP 60292806A JP 29280685 A JP29280685 A JP 29280685A JP S62152715 A JPS62152715 A JP S62152715A
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- polyethylene terephthalate
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- casting
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はポリエチレンテレフタレートシートのキャスト
方法としては、押出し口金と回転冷却ドラムとの間にワ
イヤーあるいはナイフ状の電極を設けて高電圧を印加し
、未固化シート状物上面に静電荷を析出させながら急冷
する方法（以下静電印加キャスト法という）は、例えば
特公昭３７−６１４２号公報などで、ざらに高速キャス
１〜時でも安定や静電印加キャス１〜できるように、ポ
リエステルにアルカリ金属、アルカリ土類全屈を含有せ
しめる方法（例えば特開昭５１−７０２６９号公報など
）や、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｃ○化合物などを含有せしめる方法
（例えば特開昭５１−６７３９２号公報、特開昭５３−
３４８９４号公報など）などが知られている。
方法としては、押出し口金と回転冷却ドラムとの間にワ
イヤーあるいはナイフ状の電極を設けて高電圧を印加し
、未固化シート状物上面に静電荷を析出させながら急冷
する方法（以下静電印加キャスト法という）は、例えば
特公昭３７−６１４２号公報などで、ざらに高速キャス
１〜時でも安定や静電印加キャス１〜できるように、ポ
リエステルにアルカリ金属、アルカリ土類全屈を含有せ
しめる方法（例えば特開昭５１−７０２６９号公報など
）や、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｃ○化合物などを含有せしめる方法
（例えば特開昭５１−６７３９２号公報、特開昭５３−
３４８９４号公報など）などが知られている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかし、上記従来のキャスト方法には、次のような問題
点を有している。
点を有している。
■ 高速キャスト、すなわち冷却体の表面速度を速くし
ていくと、シート状物と冷却体表面との密着力が低下し
、フィルム表面にピン状、クレータ−状の欠点が誘発さ
れる。
ていくと、シート状物と冷却体表面との密着力が低下し
、フィルム表面にピン状、クレータ−状の欠点が誘発さ
れる。
■ ポリエチレンテレフタレート、特に直接重合法で１
ｑられるポリエチレンテレフタレートに金属化合物を添
加すると、ポリエステルの軟化点が低下するのみならず
、ジエチレングリコール（以下ＤＥＧという）が多量に
副生じポリエステルの熱安定性が極端に悪化する。
ｑられるポリエチレンテレフタレートに金属化合物を添
加すると、ポリエステルの軟化点が低下するのみならず
、ジエチレングリコール（以下ＤＥＧという）が多量に
副生じポリエステルの熱安定性が極端に悪化する。
■ ポリエステルに金属化合物を添加すると、該ポリエ
ステル溶融体と冷却体との密着力は向上するが、長時間
キャストをすると、溶融体シート特にエステル交換Ｕず
に得た直接重合法のポリエチレンテレフタレートシート
上に長手方向のスジ状の欠点が表われる様になり、単な
る公知の口金掃除では解消しきれない表面欠点が多く発
生するようになる。
ステル溶融体と冷却体との密着力は向上するが、長時間
キャストをすると、溶融体シート特にエステル交換Ｕず
に得た直接重合法のポリエチレンテレフタレートシート
上に長手方向のスジ状の欠点が表われる様になり、単な
る公知の口金掃除では解消しきれない表面欠点が多く発
生するようになる。
本発明は、かかる問題点を改善し、高速キャストが安定
で、しかも優れた耐熱性、表面特性を有するポリエチレ
ンテレフタレート特に直接重合法で得られたポリエチレ
ンテレフタレートシー１−のキャスＩへ法を提供するこ
とを目的としている。
で、しかも優れた耐熱性、表面特性を有するポリエチレ
ンテレフタレート特に直接重合法で得られたポリエチレ
ンテレフタレートシー１−のキャスＩへ法を提供するこ
とを目的としている。
本発明はポリエチレンテレフタレートを主体とした樹脂
を溶融してスリット状の口金よりシート状にして押出し
、該シートに静電荷を印加しながら移動冷却体表面に密
着せしめて急冷固化しシート課するキャスト方法におい
て、押出し前の該ポリエチレンテレフタレートに予め下
記のＭ、Ｐ。
を溶融してスリット状の口金よりシート状にして押出し
、該シートに静電荷を印加しながら移動冷却体表面に密
着せしめて急冷固化しシート課するキャスト方法におい
て、押出し前の該ポリエチレンテレフタレートに予め下
記のＭ、Ｐ。
Ｓを含有せしめ、かつ、キャスト後のシートのＭ。
Ｐ、Ｓの含有量を次の範囲としたことを特徴とするポリ
エチレンテレフタレートキャスト方法。
エチレンテレフタレートキャスト方法。
Ｍの含有量；２０〜１０００［ｐｐｍ］ＭとＰの含有比
（Ｍ／Ｐ）：０．８〜５Ｓの含有１：２〜１０００ ［
ｐｐｍ］ただしＭは、Ｚｎ、ＭＣＩ、Ｍｎ、Ｃｏから選
ばれた少なくとも１種の金属化合物、Ｐはリン酸、亜リ
ン酸、リン酸エステル、ホスホン酸、ホスホン酸エステ
ルより選ばれた少なくとも１種のリン酸化合物、Ｓはポ
リ有機シロキザン化合物であり、ＭとＳの数値はそれぞ
れポリエステルシートに対する脆化合物１（ｐｐｎ）を
示し、Ｍ／Ｐは該添加金属化合物とリン化合物とのモル
比を示す。
（Ｍ／Ｐ）：０．８〜５Ｓの含有１：２〜１０００ ［
ｐｐｍ］ただしＭは、Ｚｎ、ＭＣＩ、Ｍｎ、Ｃｏから選
ばれた少なくとも１種の金属化合物、Ｐはリン酸、亜リ
ン酸、リン酸エステル、ホスホン酸、ホスホン酸エステ
ルより選ばれた少なくとも１種のリン酸化合物、Ｓはポ
リ有機シロキザン化合物であり、ＭとＳの数値はそれぞ
れポリエステルシートに対する脆化合物１（ｐｐｎ）を
示し、Ｍ／Ｐは該添加金属化合物とリン化合物とのモル
比を示す。
本発明において、金属化合物（Ｍ）の含有量は、キャス
１〜後のシー１〜のポリエチレンテレフタレートに対し
てＺｎ、ＭＣＩ、Ｍｎ、Ｃｏ原子換Ｓの重：Ａｐｐｍと
して２０〜１１０００ｐｐである。２ｏｐｐｍ未満では
シート形成時の静電印加キャスト性すなわち溶融体シー
１へ状物と冷却体表面との密着性が弱く、均一なキャス
トフィルムを得ることが出来ず、’＋ｏｏｏｐｐｍを越
えると副生成物の発生が多くなり、生成ポリエチレンテ
レフタレートの品質が低下するためである。化合物とし
て１よ酢酸塩、シュウ酸塩、安息香酸塩などの有機酸塩
、炭酸塩、ハロゲン化物、水酸化物などがあげられる。
１〜後のシー１〜のポリエチレンテレフタレートに対し
てＺｎ、ＭＣＩ、Ｍｎ、Ｃｏ原子換Ｓの重：Ａｐｐｍと
して２０〜１１０００ｐｐである。２ｏｐｐｍ未満では
シート形成時の静電印加キャスト性すなわち溶融体シー
１へ状物と冷却体表面との密着性が弱く、均一なキャス
トフィルムを得ることが出来ず、’＋ｏｏｏｐｐｍを越
えると副生成物の発生が多くなり、生成ポリエチレンテ
レフタレートの品質が低下するためである。化合物とし
て１よ酢酸塩、シュウ酸塩、安息香酸塩などの有機酸塩
、炭酸塩、ハロゲン化物、水酸化物などがあげられる。
該金属化合物の反応系への添加は、エステル化反応が実
質的に終了し、ビス−（β−ヒドロキシエチル）テレフ
タレートおよび／またはその低重合体く以下ＢＨＴとい
う）の反応率が８０％以上、好ましくは９０％以上にな
った時点にて添加するのがよい。反応率が８０％未満で
金属化合物を添加すると、カルボキシ末端と金属化合物
との反応によりテレフタル酸金属塩のようなりＨＴ系に
不溶の微粒子が発生し、異物となりやすい。
質的に終了し、ビス−（β−ヒドロキシエチル）テレフ
タレートおよび／またはその低重合体く以下ＢＨＴとい
う）の反応率が８０％以上、好ましくは９０％以上にな
った時点にて添加するのがよい。反応率が８０％未満で
金属化合物を添加すると、カルボキシ末端と金属化合物
との反応によりテレフタル酸金属塩のようなりＨＴ系に
不溶の微粒子が発生し、異物となりやすい。
リン化合物（Ｐ）の含有量は、併用添加される金属化合
物の総モル数Ｍと、リン化合物の総モル数Ｐとの比（Ｍ
／Ｐ値）が０．８〜５の範囲であり、１．２〜３がより
好ましい。Ｍ／Ｐの値が０゜８未満の場合は、金属化合
物がたとえ２０〜１０ｏｏｐｐｍの範囲に含有されてい
てもリン化合物と何らかの形で反応して溶融体シート状
物と冷却体表面との密着性が弱くなり、静電印加キャス
ト性の向上に寄与しない。一方、Ｍ／Ｐの値が５を越え
ると、金属化合物に起因する副反応の進行により、生成
ポリエステルの着色増加や軟化点低下がおこり好ましく
ない。
物の総モル数Ｍと、リン化合物の総モル数Ｐとの比（Ｍ
／Ｐ値）が０．８〜５の範囲であり、１．２〜３がより
好ましい。Ｍ／Ｐの値が０゜８未満の場合は、金属化合
物がたとえ２０〜１０ｏｏｐｐｍの範囲に含有されてい
てもリン化合物と何らかの形で反応して溶融体シート状
物と冷却体表面との密着性が弱くなり、静電印加キャス
ト性の向上に寄与しない。一方、Ｍ／Ｐの値が５を越え
ると、金属化合物に起因する副反応の進行により、生成
ポリエステルの着色増加や軟化点低下がおこり好ましく
ない。
リン化合物の添加時期はエステル化反応終了後であれば
特に限定されないが、金属化合物を添加したあとに添加
するのが好ましい。リン化合物の具体例としては、リン
酸、亜リン酸、リン酸のモノ、ジ、おるいはトリエステ
ル（メチルアシドホスフェ−１−、エチルアシドホスフ
ェ−１〜、ブチルアシドホスフェ−１〜、トリメチルホ
スフェート、１〜リエチルホスフエート、トリフェニル
ホスフェ−１〜等）、あるいはホスホン酸、ホスホネ−
１〜（フェニルホスホン酸、ジメチルフェニルホスホネ
ート、ジフェニルフェニルホスホネート等）等があげら
れる。
特に限定されないが、金属化合物を添加したあとに添加
するのが好ましい。リン化合物の具体例としては、リン
酸、亜リン酸、リン酸のモノ、ジ、おるいはトリエステ
ル（メチルアシドホスフェ−１−、エチルアシドホスフ
ェ−１〜、ブチルアシドホスフェ−１〜、トリメチルホ
スフェート、１〜リエチルホスフエート、トリフェニル
ホスフェ−１〜等）、あるいはホスホン酸、ホスホネ−
１〜（フェニルホスホン酸、ジメチルフェニルホスホネ
ート、ジフェニルフェニルホスホネート等）等があげら
れる。
ポリ有機シロキサン化合物（Ｓ）の含有量は、ポリエチ
レンテレフタレートに対して２〜１１００ｏｐｐ、好ま
しくは１０〜２００ｐｐｍの範囲である。ＭとＭ／Ｐと
が上記範囲内にあっても、Ｓが２ｐｐｍ未満では６０ｍ
／分以上の高速キャストでは密着性が不足するのみなら
ず、ポリエチレンテレフタレー１〜、特に直接重合法で
得られたポリエチレンテレフタレートの溶融体シー１〜
上に長手方向のスジ状の欠点が表われ、このためにひど
い時にはスジの近傍の溶融体と冷却体表面の間に空気・
泡を噛み込み、均一な厚みむらのない、表面欠点のない
シートが得られないのみならず、このシートを延伸、特
に幅方向に延伸した時に延伸むら・表面欠点が顕著に表
われるようになる。
レンテレフタレートに対して２〜１１００ｏｐｐ、好ま
しくは１０〜２００ｐｐｍの範囲である。ＭとＭ／Ｐと
が上記範囲内にあっても、Ｓが２ｐｐｍ未満では６０ｍ
／分以上の高速キャストでは密着性が不足するのみなら
ず、ポリエチレンテレフタレー１〜、特に直接重合法で
得られたポリエチレンテレフタレートの溶融体シー１〜
上に長手方向のスジ状の欠点が表われ、このためにひど
い時にはスジの近傍の溶融体と冷却体表面の間に空気・
泡を噛み込み、均一な厚みむらのない、表面欠点のない
シートが得られないのみならず、このシートを延伸、特
に幅方向に延伸した時に延伸むら・表面欠点が顕著に表
われるようになる。
一方、ｉｏｏｏｐｐｍを越えると、溶融体が冷却体表面
から剥離しやすく、強い密着力が得られないばかりか得
られたフィルムにクレータ−状の欠点の発生や、接着不
良、透明性悪化、表面の粗れ、α尋〜１０万センチスト
ークス（ＣＳ）が好ましい。シα→噂Ｃ５未満のときは
溶融体シー１〜のスジ状の欠点改良効果が弱いのみなら
ず、得られたフィルムの透明性・接着性が悪化しやすく
なるためであり、１０万ＣＳを越えるときは、ポリエチ
レンテレフタレートとの相溶性、分散性が悪くなり、上
記スジ状の欠点改良効果もほとんどなくなってしまうた
めである。ポリ有機シロキサンはケイ素と酸素との結合
よりなるシロキサン結合を有する有機高分子化合物の総
称であり、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポ
リシロキサン、メチルエチルポリシロキサン、メチルブ
チルポリシロキサン、などのアルキル、アリル、アルア
ルキル、フェニルなどを含有ポリシロキサン、ざらには
他のポリ有機シロキサンやその共重合体、ブレンド体な
どがあるが、本発明の場合、ジメチルポリシロキサン、
メチルフェニルポリシロキサンざらにメチルフェニルポ
リシロキサンが特に好ましい。ポリ有機シロキサンを添
加時期はポリエチレンテレフタレー１〜の重合前、特に
エステル化反応前に添加するのが好ましいが、必ずしも
これに限定されず、少々効果は弱くなるが、重合後で溶
融押出し前に添加してもよい。
から剥離しやすく、強い密着力が得られないばかりか得
られたフィルムにクレータ−状の欠点の発生や、接着不
良、透明性悪化、表面の粗れ、α尋〜１０万センチスト
ークス（ＣＳ）が好ましい。シα→噂Ｃ５未満のときは
溶融体シー１〜のスジ状の欠点改良効果が弱いのみなら
ず、得られたフィルムの透明性・接着性が悪化しやすく
なるためであり、１０万ＣＳを越えるときは、ポリエチ
レンテレフタレートとの相溶性、分散性が悪くなり、上
記スジ状の欠点改良効果もほとんどなくなってしまうた
めである。ポリ有機シロキサンはケイ素と酸素との結合
よりなるシロキサン結合を有する有機高分子化合物の総
称であり、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポ
リシロキサン、メチルエチルポリシロキサン、メチルブ
チルポリシロキサン、などのアルキル、アリル、アルア
ルキル、フェニルなどを含有ポリシロキサン、ざらには
他のポリ有機シロキサンやその共重合体、ブレンド体な
どがあるが、本発明の場合、ジメチルポリシロキサン、
メチルフェニルポリシロキサンざらにメチルフェニルポ
リシロキサンが特に好ましい。ポリ有機シロキサンを添
加時期はポリエチレンテレフタレー１〜の重合前、特に
エステル化反応前に添加するのが好ましいが、必ずしも
これに限定されず、少々効果は弱くなるが、重合後で溶
融押出し前に添加してもよい。
ポリエチレンテレフタレートの製造方法としては、ジメ
チルテレフタレートとエチレングリコールとのＴステル
交換反応によりビス−（β−ヒドロキシエチル）テレフ
タレートを得、しかるのち重縮合反応せしめる方法のＤ
ＭＴ法と、テレフタル酸とエチレングリコールとからの
エステル化反応によりビス−（β−ヒドロキシエチル）
テレフタレートを得、しかるのち、重縮合反応ぜしめる
方法の直接重合法とがあるが、本発明の場合、特に直接
重合法のポリエチレンテレフタレートのキャスト法に効
果が顕著にあられれ有効である。もちろんポリエチレン
テレフタレートとは、その構成単位の８０％以上がエチ
レンテレフタレート単位から成るもので２０％未満の範
囲内で他の共重合成分を含んでいてもよい、また、ポリ
マーにＭ。
チルテレフタレートとエチレングリコールとのＴステル
交換反応によりビス−（β−ヒドロキシエチル）テレフ
タレートを得、しかるのち重縮合反応せしめる方法のＤ
ＭＴ法と、テレフタル酸とエチレングリコールとからの
エステル化反応によりビス−（β−ヒドロキシエチル）
テレフタレートを得、しかるのち、重縮合反応ぜしめる
方法の直接重合法とがあるが、本発明の場合、特に直接
重合法のポリエチレンテレフタレートのキャスト法に効
果が顕著にあられれ有効である。もちろんポリエチレン
テレフタレートとは、その構成単位の８０％以上がエチ
レンテレフタレート単位から成るもので２０％未満の範
囲内で他の共重合成分を含んでいてもよい、また、ポリ
マーにＭ。
Ｐ、Ｓ以外に公知の任意の添加剤、例えば滑剤、酸化防
止剤、顔料、染料、核剤、ブロッキング防止剤、熱安定
剤、充填材、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、着色
防止剤、などを含有さけてもよい。
止剤、顔料、染料、核剤、ブロッキング防止剤、熱安定
剤、充填材、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、着色
防止剤、などを含有さけてもよい。
かくして得られたポリエチレンテレフタレー１〜を円柱
状あるいは立方体状の押出しチップ（ペレット〉に成形
する。つづいて該チップを熱風あるいは２ｍｍＨ（］以
下の真空下で乾燥したのち、ポリエチレンテレフタレー
トの融点により１０〜４０℃高温の２７０〜３１０℃程
度で溶融させ、脱泡、計量後、口金から溶融体シー１〜
を押出す。該シー１〜を、１０〜６０’Ｃに冷却された
鏡面ロールあるいは畳ナンドブラストロール上に、静電
荷を印加させながらキャストし、シート化する。なお、
シートの厚さは特に限定されないが、２５〜８００μｍ
であるのが好ましく、５０〜５００μｍであるのがより
好ましい。
状あるいは立方体状の押出しチップ（ペレット〉に成形
する。つづいて該チップを熱風あるいは２ｍｍＨ（］以
下の真空下で乾燥したのち、ポリエチレンテレフタレー
トの融点により１０〜４０℃高温の２７０〜３１０℃程
度で溶融させ、脱泡、計量後、口金から溶融体シー１〜
を押出す。該シー１〜を、１０〜６０’Ｃに冷却された
鏡面ロールあるいは畳ナンドブラストロール上に、静電
荷を印加させながらキャストし、シート化する。なお、
シートの厚さは特に限定されないが、２５〜８００μｍ
であるのが好ましく、５０〜５００μｍであるのがより
好ましい。
静電荷を印加しながら冷却体表面に密着急冷するキャス
ト法は、特に限定されず、例えば特公昭３７−６１４２
などで公知の方法であればいずれの方法でもよいが、６
０ｍ／分以上の高速キャストにするには下記０〜０項の
方法が好ましい。
ト法は、特に限定されず、例えば特公昭３７−６１４２
などで公知の方法であればいずれの方法でもよいが、６
０ｍ／分以上の高速キャストにするには下記０〜０項の
方法が好ましい。
■ 静電荷を印加する電極をビン状電極（例えば特公昭
４８−４０９０４、特開昭５１−４１７６２号など）に
したり、口金（例えば特開昭５９−１３８４１６号など
）にしたり、キャスティングドラムなどの冷却体（例え
ば特公昭５０−８７４３号など）にしたり、ダブル電極
（例えば特公昭５０−２８１０８号、特公昭５３−６１
８０号など）にしたりする方法。
４８−４０９０４、特開昭５１−４１７６２号など）に
したり、口金（例えば特開昭５９−１３８４１６号など
）にしたり、キャスティングドラムなどの冷却体（例え
ば特公昭５０−８７４３号など）にしたり、ダブル電極
（例えば特公昭５０−２８１０８号、特公昭５３−６１
８０号など）にしたりする方法。
■ 静電荷を印加する雰囲気を特定のガス気流下で行な
う（例えばＵＳＰ３，６８６，３７４号など）方法や、
加圧下にて行なう（例えば特開昭５９−１９６２２１号
、特開昭５９−１９６２２３号など）方法。
う（例えばＵＳＰ３，６８６，３７４号など）方法や、
加圧下にて行なう（例えば特開昭５９−１９６２２１号
、特開昭５９−１９６２２３号など）方法。
■ 静電印加法と他のキャスト法を併用する方法として
、エアーナイフと併用（たとえば特公昭５１−１３４９
６号など）、小径押出ロールと併用（例えば特開昭５１
−１４６５６０など）、エアー吸引法と併用（例えば特
公昭５５−２２２５７号など）する方法。
、エアーナイフと併用（たとえば特公昭５１−１３４９
６号など）、小径押出ロールと併用（例えば特開昭５１
−１４６５６０など）、エアー吸引法と併用（例えば特
公昭５５−２２２５７号など）する方法。
■ 静電印加をかける冷却体表面の材質をリントブラス
トのような表面粗面ロールを用いる方法（例えば特開昭
４６−４３９号など） ■ 静電荷を印加する電流を交流にする方法（例えば特
開昭４９−１１６１６０号など）〔発明の効果〕 このようにポリエチレンテレフタレートに添加する金属
化合物、リン化合物の量を最適化し、しかもポリ有機シ
ロキザンを特定量だけ併存させたので、高速度で安定に
キャストでき、しかも得られたフィルム表面にはクレー
タ−１泡状マーク、スジ、うねりなどの表面欠点のない
、厚みむらの小さい高品質なキャストフィルムが得られ
る。
トのような表面粗面ロールを用いる方法（例えば特開昭
４６−４３９号など） ■ 静電荷を印加する電流を交流にする方法（例えば特
開昭４９−１１６１６０号など）〔発明の効果〕 このようにポリエチレンテレフタレートに添加する金属
化合物、リン化合物の量を最適化し、しかもポリ有機シ
ロキザンを特定量だけ併存させたので、高速度で安定に
キャストでき、しかも得られたフィルム表面にはクレー
タ−１泡状マーク、スジ、うねりなどの表面欠点のない
、厚みむらの小さい高品質なキャストフィルムが得られ
る。
以下に本発明の効果を比較実施例にて説明する。
実施例１
テレフタル酸とエチレングリコールとから得たエステル
化反応率が９７．４％、エチレンユニットとテレフタル
酸ユニットのモル比が１．２であるＢＨＴ１００部を反
応器に２５０’Ｃで貯留し、これにエチレングリコール
７０．４部とテレフタル酸１５７．６部とからなるスラ
リーを一定速度で連続的に添加しつつ常圧下、２５０’
Ｃにてエステル化反応を行ない、生成する水を精留塔か
ら連続的に系外に留出させ、エステル化反応を終了させ
た。得られたエステル化反応生成物１００部を反応器に
残し、前記と同様の方法にて再度エステル化反応を行な
った。これらの操作を合計３回繰返して行ない反応率７
５．８％のＢＨＴを得た。
化反応率が９７．４％、エチレンユニットとテレフタル
酸ユニットのモル比が１．２であるＢＨＴ１００部を反
応器に２５０’Ｃで貯留し、これにエチレングリコール
７０．４部とテレフタル酸１５７．６部とからなるスラ
リーを一定速度で連続的に添加しつつ常圧下、２５０’
Ｃにてエステル化反応を行ない、生成する水を精留塔か
ら連続的に系外に留出させ、エステル化反応を終了させ
た。得られたエステル化反応生成物１００部を反応器に
残し、前記と同様の方法にて再度エステル化反応を行な
った。これらの操作を合計３回繰返して行ない反応率７
５．８％のＢＨＴを得た。
該ＢＨＴに可溶化させたのち、トリメチルホスフェート
１５０ｐｐｍを添加した。その後、三酸化マンチモン０
．０２５部を添加し、常法により２８３°Ｃ真空度０．
４ｍｍＨＯのもとに重縮合反応を行ない固有粘度０．６
３のポリエチレンテレフタレートを得た。
１５０ｐｐｍを添加した。その後、三酸化マンチモン０
．０２５部を添加し、常法により２８３°Ｃ真空度０．
４ｍｍＨＯのもとに重縮合反応を行ない固有粘度０．６
３のポリエチレンテレフタレートを得た。
該生成ポリエチレンテレフタレー１〜を常法により押出
機に供給し、２８０℃にて溶融させ、ギヤーポンプによ
り一定量訓測しつつ、Ｔダイ口金から溶融シートを吐出
させ、８０ｍ／分の周速で回転する冷却体キャスティン
グドラム表面に接する直前に１０ｋｖの直流電圧による
静電印加キャストを行ない、キャスティングドラムに溶
融体を密着させ、固化させた。該キャストシートを１０
０°Ｃに加熱されたロール上で長手方向に４．５倍延伸
し、つづいて、９５°Ｃに加熱されたテンター内で巾方
向に４．０倍延伸し、ざらに２００ ’Ｃで巾方向に２
％のリラックスを許しながら５秒間熱処理をして、厚さ
２５μｍの２軸配向ポリエチレンテレフタレートフイル
ムを得た。フィルムの特性を表１に示した。
機に供給し、２８０℃にて溶融させ、ギヤーポンプによ
り一定量訓測しつつ、Ｔダイ口金から溶融シートを吐出
させ、８０ｍ／分の周速で回転する冷却体キャスティン
グドラム表面に接する直前に１０ｋｖの直流電圧による
静電印加キャストを行ない、キャスティングドラムに溶
融体を密着させ、固化させた。該キャストシートを１０
０°Ｃに加熱されたロール上で長手方向に４．５倍延伸
し、つづいて、９５°Ｃに加熱されたテンター内で巾方
向に４．０倍延伸し、ざらに２００ ’Ｃで巾方向に２
％のリラックスを許しながら５秒間熱処理をして、厚さ
２５μｍの２軸配向ポリエチレンテレフタレートフイル
ムを得た。フィルムの特性を表１に示した。
同表から該フィルムのキャスｌ〜速度は８０ｍ／分と高
速であるにもかかわらず、溶融体と、キャスティングド
ラムとの密着性は良好であり、しかも吐出時にスジ状の
表面欠陥が発生することなく安定した品質の得られるキ
ャスト法であることがわかる。
速であるにもかかわらず、溶融体と、キャスティングド
ラムとの密着性は良好であり、しかも吐出時にスジ状の
表面欠陥が発生することなく安定した品質の得られるキ
ャスト法であることがわかる。
比較例１〜２
実施例１で添加したメチルフェニルポリシロキサンのポ
リエステル中での含有母を表のように変える以外は、実
施例１と全く同様にして、４８時間連続して厚さ２５μ
ｍの２軸配向ポリエチレンテレフタレー１−フィルムを
得た。フィルムの評価結果を表１に示した。
リエステル中での含有母を表のように変える以外は、実
施例１と全く同様にして、４８時間連続して厚さ２５μ
ｍの２軸配向ポリエチレンテレフタレー１−フィルムを
得た。フィルムの評価結果を表１に示した。
表 １
表１からＭとＭ／Ｐが特定の範囲内にあっても、Ｓ、す
なわちポリ有機シロキサンの量が最適口添加されていな
いと、８０ｍ／分という高速キャス１〜が安定にできな
いことが判る。
なわちポリ有機シロキサンの量が最適口添加されていな
いと、８０ｍ／分という高速キャス１〜が安定にできな
いことが判る。
特許出願人 東 し 株 式 会 社１、事件の表
示 昭和６０年特許願第２９２８０６号 ２、発明の名称 ポリエチレンテレフタレートのキャスト方法３、補正を
する者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都中央区日本橋室町２丁目２番地５、補正に
より増加する発明の数 なし６、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」および「発明の（１）
明ＩＩＩ書 第１頁 特許請求の範囲を別紙の通り補正する。
示 昭和６０年特許願第２９２８０６号 ２、発明の名称 ポリエチレンテレフタレートのキャスト方法３、補正を
する者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都中央区日本橋室町２丁目２番地５、補正に
より増加する発明の数 なし６、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」および「発明の（１）
明ＩＩＩ書 第１頁 特許請求の範囲を別紙の通り補正する。
（２）同 第４頁１１〜１２行目
「シート課」を「シート化」と補正する。
（３）同 第１４頁５行目
ｒ５００ｐｌ）ｍｌをｒ７０ｐｐｍＪと補正する。
（４）同 第１５頁１３行目
「比較例１〜２」を「比較例１〜３」と補正する。
［別紙］
特許請求の範囲
「ポリエチレンテレフタレートを主体とした樹脂を溶融
してスリット状の口金よりシート状にして押出し、該シ
ートに静電荷を印加しながら移動冷却体表面に密着せし
めて急冷固化しシート化するキャスト方法において、押
出し前のポリエチレンテレフタレートに予め下記のＭ、
Ｐ、Ｓを含有せしめ、かつ、キャスト後のシートのＭ、
Ｐ、Ｓの含有量を次の範囲としたことを特徴とするポリ
エチレンテレフタレートのキャスト方法。
してスリット状の口金よりシート状にして押出し、該シ
ートに静電荷を印加しながら移動冷却体表面に密着せし
めて急冷固化しシート化するキャスト方法において、押
出し前のポリエチレンテレフタレートに予め下記のＭ、
Ｐ、Ｓを含有せしめ、かつ、キャスト後のシートのＭ、
Ｐ、Ｓの含有量を次の範囲としたことを特徴とするポリ
エチレンテレフタレートのキャスト方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ポリエチレンテレフタレートを主体とした樹脂を溶融し
てスリット状の口金よりシート状にして押出し、該シー
トに静電荷を印加しながら移動冷却体表面に密着せしめ
て急冷固化しシート課するキャスト方法において、押出
し前のポリエチレンテレフタレートに予め下記のＭ．Ｐ
．Ｓを含有せしめ、かつ、キャスト後のシートのＭ．Ｐ
．Ｓの含有量を次の範囲としたことを特徴とするポリエ
チレンテレフタレートのキャスト方法。 Ｍの含有量；２０〜１０００［ｐｐｍ］ ＭとＰの含有比（Ｍ／Ｐ）；０．８〜５ Ｓの含有量；２〜１０００［ｐｐｍ］ ただしＭは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｃｏから選ばれた少な
くとも１種の金属化合物、Ｐはリン酸、亜リン酸、リン
酸エステル、ホスホン酸、ホスホン酸エステルより選ば
れた少なくとも１種のリン酸化合物、Ｓはポリ有機シロ
キサン化合物であり、ＭとＳの数値はそれぞれポリエス
テルシートに対する総化合物量（ｐｐｍ）を示し、Ｍ／
Ｐは該添加金属化合物とリン化合物とのモル比を示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60292806A JPH068026B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | ポリエチレンテレフタレ−トのキヤスト方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60292806A JPH068026B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | ポリエチレンテレフタレ−トのキヤスト方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62152715A true JPS62152715A (ja) | 1987-07-07 |
| JPH068026B2 JPH068026B2 (ja) | 1994-02-02 |
Family
ID=17786588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60292806A Expired - Fee Related JPH068026B2 (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | ポリエチレンテレフタレ−トのキヤスト方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH068026B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0873844A3 (en) * | 1997-04-23 | 1999-01-27 | Mitsubishi Polyester Film Corporation | Process for producing polyester composition |
| US8987408B2 (en) | 2005-06-16 | 2015-03-24 | Grupo Petrotemex, S.A. De C.V. | High intrinsic viscosity melt phase polyester polymers with acceptable acetaldehyde generation rates |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50139896A (ja) * | 1974-04-30 | 1975-11-08 | ||
| JPS59108058A (ja) * | 1982-12-14 | 1984-06-22 | Toray Ind Inc | ポリエステル組成物 |
-
1985
- 1985-12-27 JP JP60292806A patent/JPH068026B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50139896A (ja) * | 1974-04-30 | 1975-11-08 | ||
| JPS59108058A (ja) * | 1982-12-14 | 1984-06-22 | Toray Ind Inc | ポリエステル組成物 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0873844A3 (en) * | 1997-04-23 | 1999-01-27 | Mitsubishi Polyester Film Corporation | Process for producing polyester composition |
| US8987408B2 (en) | 2005-06-16 | 2015-03-24 | Grupo Petrotemex, S.A. De C.V. | High intrinsic viscosity melt phase polyester polymers with acceptable acetaldehyde generation rates |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH068026B2 (ja) | 1994-02-02 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |