JPS62151772A - 高周波回路チップの試験装置 - Google Patents

高周波回路チップの試験装置

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JPS62151772A
JPS62151772A JP61299013A JP29901386A JPS62151772A JP S62151772 A JPS62151772 A JP S62151772A JP 61299013 A JP61299013 A JP 61299013A JP 29901386 A JP29901386 A JP 29901386A JP S62151772 A JPS62151772 A JP S62151772A
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coplanar
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center conductor
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    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は試験装置に適合した適合特性インピーダンスの
高周波ラインにより高周波集積回路の出入力を伝達する
高周波集積回路チップの試験装置に関するものである。
本発明は高周波集積回路の製造分野に用いられる。高周
波集積回路の製造中または製造終了時、これ等の回路を
有するチップは、簡単で特に極めて精密なやり方で試験
せねばならない。
現在は集積回路チップに直接に試験を行うことは非常に
難しい。他面において、試験信号を、チップの入出力接
点に接続した単純なワイヤを経て伝送することは不可能
である。この信号は、必ず所定の特性インピーダンスを
もった高周波ラインを経て伝送せねばならない。
したがって、集積回路チップは、既知のインピーダンス
を有する多数の高周波ラインを有する基板上に置かれる
。チップの入出力接点はこれ等のラインの一端に接続さ
れ、一方、試験結果を記録する測定装置は、適合した特
性インピーダンスをもった普通の同軸コネクタによって
前記のラインの他端に接続される。
集積回路の試験装置は米国特許第3,882.597号
より知られている。けれどもこの文献は、被試験回路と
試験装置間の接触および接続部の問題をはっきり説明し
てはいるが、信号が高周波ラインによって伝送される高
周波回路の試験に対する解決に何等言及していない。
特にこの装置は、集積回路を、試験装置に接続された同
軸コネクタに接続するのに用いられる高周波ライン間の
結合が、装置の大面積部(mass)と高周波ラインの
大面積部間の圧力によってきまるので、高周波ラインを
有する試験の使用には合わない。前記のラインの大面積
面への測定装置の圧力が適当でなければ、これ等ライン
間の結合は強くなりすぎ、測定が妨害される。
したがって、本発明は冒頭に記載した場合に用いられ、
この問題を解決することのできる新しい試験装置を供す
るものである。
本発明は次の特徴を有する装置によって前記の問題を解
決したものである、すなわち、一方においてはその表面
の一方に固定された集積回路を支持しまた他方において
は同じ表面(前面と称する)に形成されたコプレーナラ
イン形の高周波ラインの回路網を支持し、集積回路の入
出力によって出された信号を基板の周辺に伝達するのに
適した幾何に従って配設された絶縁または誘電体基板で
構成された第1サブアセンブリと、集積回路とコプレー
ナ回路網とが設けられた基板を受ける第2サブアセンブ
リとを有し、この第2サブアセンブリは更に、該第2サ
ブアセンブリの大面積部表面上へのコプレーナ回路網の
大面稜部部分の圧力を発生する手段と、コプレーナ回路
網の中央導体と測ゞ゛      定装置に供給する同
軸コネクタの中心導体との間に良好且つ再現性ある接触
を形成する手段とを有する。
本発明の一実施態様では、この装置は次の特徴を有する
、すなわち、集積回路とコプレーナ回路網とが設けられ
た基板を受けるために、第2サブアセンブリは、平坦な
研磨面を有する第1部分と第2部分で主に構成され、こ
れ等の両面は、肩部が基板に対する凹部として用いられ
るのに適した第1部分に属する大面積部表面を形成し、
且つこの基板が肩部の平坦な研磨面と接するように互い
に対向して固定され、第2サブアセンブリは、測定装置
に供給する高周波ラインの同軸コネクタに対する切欠と
して用いるために、適当な幾何に従って前記の第1部分
と第2部分の周辺に沿って分布された、第1部分と第2
部分に設けられた、コプレーナラインの数に等しい数の
円形の開口部を有し、このため同軸コネクタの各中心導
体は、これ等の開口部の位置によって、コプレーナライ
ンの大面稜部部分だけが大面積部として役立つ肩部に接
し、一方コプレーナラインの中央導体は同軸タネフタの
中心導体の端と一致するようにされる。
したがって本発明の装置は特に次のような多くの利点を
有する。
−コプレーナラインを支持する基板の全周辺に沿った優
れた大面積部表面、 一コプレーナ線と測定装置間の接続を確実にするコプレ
ーナラインの中央導体と同軸コネクタの中心導体間の特
性インピーダンスの連続性、−コプレーナラインの中央
導体と同軸コネクタの中心導体間の良好且つ再現性ある
接触、−使用の大いなる簡便さ、コプレーナラインと破
滅集積回路とを有する基板の容易な取付けおよび取外し
、電気接続の良好な再現性、 −簡単でコストが安くしたがって集積回路の製造コスト
を増さない試験のやり方、 一最後に、チップに未だ容器が設けられていない製造段
階において集積回路チップに直接試験が行われることに
よる試験に対する極めて高い精度。
本発明を容易に実施することができるように以下に本発
明を添付の図面を参照して更に詳しく説明する。
本発明の試験装置は2つのサブアセンブリを有する。
、第1図に示した第1サブアセンブリは例えばアルミナ
の基体(補助支持体)10より構成され、その表面の一
方には、この表面の部分31内に配された破滅回路チッ
プの入出力に等しい数のコプレーナ形の高周波ラインが
形成されている。基板10として設計された前記の補助
支持体は方形でも円形でもよい。実際には、当業者なら
ば、基板が10よりも少ない多数のラインを有する場合
には直ちに方形を採り、その数が10を越える場合には
直ちに円形を採用するであろう。けれどもこの制限値は
決して絶対的なものではなく、その選択は全くユーザに
まかされる。
これに対し、基板10上に形成される高周波ライン10
1.102等は所謂コプレーナ形に選ばれるのが好まし
い。
“コプレーナライン”という言葉は、大面積部を形成す
る2つの大きな金属化表面の間にある幅誓、の金属化テ
ープの形のラインを意味するものとする。この金属化テ
ープはラインの中央導体を形成し、この場合大面積部表
面は距離−2によって分離されている。更に、中央導体
を形成する金属化テープと大面積部表面とは基vi、1
0の同じ面11に得られる。この状態において、このよ
うな高周波ラインの特性インピーダンスはW+/Wzに
よってだけ決まる。
この高周波ラインの実施例は非常に重要である。
先ず第1に、中央導体と主要部とは基板の同じ表面に形
成されるので、部分31に配設された集積回路とこれ等
ラインとの接続は、所謂トリウェーハ(tri−waf
er)またはバイファイラ技術(bifilartec
hnology)におけるように基板の一方の面から他
方の面に接続部を通す金属化孔を用いることなしに直接
に得ることができ、前記の技術では基板の両面が金属化
される。金属化孔を通る接続は電気分岐の割合を損なう
ので、このことは極めて有利である。
第2に、インピーダンスは比111+/Wzにだけ依存
し、前述した別の技術におけるように−/e(−は中央
導体のテープの幅、eは誘電体の厚さ)には依存しない
ので、たとえ狭いラインであってもコプレーナラインの
技術に従って例えば50Ωのような電流インピーダンス
を有するラインを形成することは容易である。したがっ
て、この技術によって、第1図に示すように集積回路チ
ップの直ぐ近くに例えば50Ωのような所望のインピー
ダンスをもった多数のラインを形成することは容易であ
る。このチップの入出力接点は、当業者の選択に従った
方法で中央導体101.102.103.104.10
5゜106等の端子41.42.、43.44.45.
46等に接続され、この場合集積回路チップは部分31
に配される。
第1図の形は勿論例として示したものに過ぎない。集積
回路チップの形状と寸法および入出力の数に適応した数
多くのその他の形態が可能である。
集積回路チップの入出力の試験は、各ライン101゜1
02、103等の端51.52.53等で基板10上に
形成されたラインによって行われる。
この目的に対し、本発明の装置は、測定装置に信号を供
給する普通の同軸コネクタによって前記のラインに信顛
性ある且つ再現性ある接触を形成することのできる第2
サブアセンブリを有する。
第2図はこの第2サブアセンブリを簡略化した形で示す
。この第2サブアセンブリは1と2で示した互いに接触
する大面積部より成り、これ等の大面積部は例えば同心
的で、基板10が円形の場合には回転体(body o
f revolution)を形成することができる。
前記の2つの大面積部の最も重要な部分は、部分1の平
らな表面30と部分2の平らな表面40である。
これ等の表面30と40は、平坦さおよび研磨面の状態
の両方に関して高精度に機械加工される。この等の表面
は次いで互いに対向して配される。
部分2の内径は、表面30の一部が、適当な方法でライ
ンと大面積部に接続された集積回路チップを有する基板
10の表面11を受けることができるように、部分1の
内径よりも大きく選ばれる。
中央導体10L 102.103等を支持する表面11
の部分と一致するように、切欠が部分1およびこれに対
向した部分2に形成される。
この場合普通のタイプの同軸コネクタ4が部分1と2間
の前記の切欠中に延在し、中央導体101゜102等に
向けてその近くに動かされる。
部分1と2に形成された切欠は、同軸コネクタ4が高い
側方精度でこの切欠内に位置するような精度でつくられ
る。
第3図はこの装置を詳細に示す。調節の成る程度の自由
度は同軸コネクタに対する側方向位置決めに残されてい
る。
中心導体を5で示した同軸コネクタ4は、支持部20と
ねじ21によって部分1と2に対して保持される。
同軸コネクタ4の中心導体5の基板の前面に直角方向の
位置決めは、ねじ6によって精密に行われるが、このほ
しは、中心導体5の自然弾性変形により、表面11で支
持された中央導体101または102等への中心導体5
の圧力の調節を行う。この調節は、装置の最初の使用時
一度行わねばならない。
試験位置では、基板10の表面11は低い比誘電率を有
する部分7によって部分1の表面30に圧押される。こ
の部分7は例えばプレキシガスラより成るものでもよい
前記の部分7を形成するために選ばれる材料は、容量結
合を避けるために低い比誘電率を必ずもたねばならない
。この場合、高周波ラインによる高周波測定に関するも
のであることに留意すべきで、このことは、従来の公知
の試験装置ではなかった本発明の特異性につながるもの
である。
前記の部分7は更に、この部分7で及ぼされる圧力が、
表面11を支持する表面30と対向した区域でだけ基板
に与えられるように中央凹入部を有する。
最後に、部分7と同様に前述の理由で絶縁性でなければ
ならない部分8は部分■内を自由に滑動し、基板10が
部分7に押付けられるようにばね9で支持されて基板1
0の表面11を押圧する。
本発明の試験装置の使用方法は次のステップより成る。
一集積回路チツブは、中央導体101.102.103
等および大面積部100を支持する基板10の表面11
の区域31に位置決めし、集積回路の入出力を中央導体
の端41.42.43等と接続する、−中央導体が切欠
に対向して位置しまた大面積部100が部分1の表面3
0に対向して位置するうよに表面11が部分8と対向さ
れるようにして基板10を位置決めし、 一中央導体101.102等を同軸コネクタ4の中心導
体5と一致させ、 −ねじ3により基板10を押圧する部分7を、中心導体
5と中央導体101.102−m=等の間の電気接続な
らびに金属化された大面積部100と金属表面30の間
の電気接続が確立される迄ばね9を圧縮することにより
表面30上に位置決めする。異なる部分間の圧力は、2
つのコプレーナライン間の高周波結合を測定する限りに
おいて、この結合の値が最小である時に理想的であるこ
とがわかった。クランプ力は、この最小結合が得られる
以前に除くことはできないが、それ以後にも最早維持す
べきではない、というのは、さもなければ基板10が破
損し易いからである。
第3図の実施例では、測定の精度と再現性は最終的にク
ランプ力によって決まるので、ブラケット13とねじ3
とより成る簡単なシステムが、絶対に得ねばならない精
度をもってこのクランプ力を発生させる。
ブラケット13および部分1と2は、図面を簡単にする
ため図示してないブロッキングシステムによって互いに
固定することがきできる。
更に装置の一実施例では、部分1と2は青銅よりつくる
ことができる。
この場合表面30と40は、再現性ある電気接点を、 
     保証するために金めっきされる。
同軸ライン4は、例えば、バイファイラまたはトリウェ
ーハマイクロリボン形のラインと接続するのに公知のよ
うに用いられる例えば登録商標RADIALLのような
トランケーテド形(trancated type)の
ものである。
同軸ラインの正確な位置決めは次の操作によってRh+
的に保証される。
一同軸コネクタ4を支持体20とねじ21によって大、
体位1決めする、 一表面11を例えば金めつきによって完全に金属化した
基準基板10を部分l上に位置決めし、ねじ3でクラン
プして表面11を表面30に押圧する。
この場合洛中心導体5の高さを、同軸コネクタの中心導
体5と全面金属化された表面11間に電気接触ができる
迄その垂直調節ねじ6によって調節する。この場合中心
導体5は、金属化表面11がさもなければ大面積部を形
成する表面30と接触するので、大面積部電位と接触す
る。
−基準基板の金属面ll上への中心導体5の圧力はこの
場合接触が丁度得られた位置に対して僅かに増加される
。例えば、この僅かな圧力増加は、ねじ6が約0.2鰭
の距離進められるようにこのねじを回すことによって得
ることができる。中心導体はこの時彎曲状態にある。こ
の彎曲状態によって、再現性のある接触を得ることので
きる約100グラムの圧力が確実につくられる。
同軸コネクタ4の中心導体5の圧力のこの予備調節は、
基準基板IOによって、装置に用いられているすべての
中心導体に行われる。
したがって本発明の試験装置は、破滅集積回路と、既に
述べたすべての利点をもって信号を測定装置に供給する
同軸コネクタとの間の接続の確立を可能にする。
接触は、大面積部表面30が平坦性に関して高い精度で
形成されているので優れている。表面30の平坦性に関
するこの精度は、表面30のアセンブリが機械加工およ
び研磨加工を受けこれ等の加工を受けるのは部分1と2
の肩部の形の頂部だけでないことによって得られるもの
で、若し部分1と2が一体の部分を形成するとすればこ
のような精度は得られない。
最後に、この装置のアセンブリは組立てが容易であるだ
けでなく取外しも容易である、というのは、この場合中
心導体5の調節を調整することは全く必要なく、ばね9
が基板10を装置の出力に押し戻すからである。
【図面の簡単な説明】
第1図は基板上のコプレーナラインの実施例を示す一部
の上面図。 第2図は試験装置の模型的断面図、 第3図は試験装置の詳細を示す一部断面図である。 1・・・第1部分     2・・・第2部分3.6.
21・・・ねじ   4・・・同軸コネクタ5・・・中
心導体     7・・・第3部分8・・・第4部分 
    9・・・ばね10・・・基板       1
3・・・プラケット20・・・支持部      30
・・・第1部分の表面40・・・第2部分の表面 41〜46・・・中央導体端部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、試験装置に適合した適合特性インピーダンスの高周
    波ラインにより高周波集積回路の出入力を伝達する高周
    波集積回路チップの試験装置において、一方においては
    その表面の一方に固定された集積回路を支持しまた他方
    においては同じ表面(前面と称する)に形成されたコプ
    レーナ形の高周波ラインの回路網を支持し、集積回路の
    入出力によって出された信号を基板の周辺に伝達するの
    に適した幾何に従って配設された絶縁または誘電体基板
    で構成された第1サブアセンブリと、集積回路とコプレ
    ーナ回路網とが設けられた基板を受ける第2サブアセン
    ブリとを有し、この第2サブアセンブリは更に、該第2
    サブアセンブリの大面積部表面上へコプレーナ回路網へ
    の大面積部部分の圧力を発生する手段と、コプレーナ回
    路網の中央導体と測定装置に供給する同軸コネクタの中
    心導体との間に良好且つ再現性ある接触を形成する手段
    とを有することを特徴とする高周波集積回路チップの試
    験装置。 2、集積回路とコプレーナ回路網とが設けられた基板を
    受けるために、第2サブアセンブリは、平坦な研摩面を
    有する第1部分と第2部分で主に構成され、これ等の両
    面は、肩部が基板に対する凹部として用いられるのに適
    した第1部分に属する大表面部表面を形成し且つこの基
    板が肩部の平坦な研磨面と接するように互いに対向して
    固定され、第2サブアセンブリは、測定装置に供給する
    高周波ラインの同軸コネクタに対する切欠として用いら
    れるために、適当な幾何に従って前記の第1部分と第2
    部分の周辺に沿って分布された、第1部分と第2部分に
    設けられた、コプレーナラインの数に等しい数の円形の
    開口部を有し、このため、同軸コネクタの各中心導体は
    、これ等の開口部の位置によって、コプレーナラインの
    大面積部部分だけが大面積部として役立つ肩部に接し一
    方コプレーナラインの中心導体は同軸コネクタの中心導
    体と接するようにして、コプレーナラインの中心導体の
    端と一致するようにされた特許請求の範囲第1項記載の
    装置。 3、肩部によって形成された大面積部へのコプレーナラ
    インの大面積部の圧力発生手段は、クランプ手段によっ
    て大面積部と接触する領域で基板の背面に押圧される剛
    直な誘電体材料でつくられた第3部分によって形成され
    、コプレーナラインと同軸コネクタ間の電気接触を確立
    するための手段は、これ等同軸コネクタの中心導体を弾
    性圧力によってコプレーナラインの中央導体上に維持す
    るように同軸コネクタをクランプする手段である特許請
    求の範囲第2項記載の装置。 4、第3部分をクランプする手段は、装置の第1部分の
    凹入部内を装置の対称軸に平行に滑動する第4部分であ
    り、この第4部分は、前記の第1部分の凹入部の底に一
    端が接するばねによって基板の前面に押圧され、一方前
    記の手段は更に前記の第2部分の端に固定されたブラケ
    ットを有し、このブラケットには、対向して配設された
    大面積部部分の最適圧力を得るために第3部分の圧力を
    基板の背面に及ぼすねじが設けられた特許請求の範囲第
    3項記載の装置。 5、同軸コネクタをクランプする手段は、第1部分内で
    回り且つその先端が同軸コネクタの外被と接するねじで
    ある特許請求の範囲第3項または第4項記載の装置。 6、第1部分と第2部分とは青銅より成り、研磨面は金
    めっきされた特許請求の範囲第2項から第5項の何れか
    の1項記載の装置。 7、基板は例えばアルミナのようなセラミック材料より
    成る特許請求の範囲第1項から第6項の何れかの1項記
    載の装置。 8、基板は円形である特許請求の範囲第1項から第7項
    の何れかの1項記載の装置。 9、部分は回転体である特許請求の範囲第8項記載の装
    置。
JP61299013A 1985-12-20 1986-12-17 高周波回路チップの試験装置 Expired - Lifetime JPH07113653B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8518921A FR2592175B1 (fr) 1985-12-20 1985-12-20 Dispositif de test pour pastille de circuit integre hyperfrequences
FR8518921 1985-12-20

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JPS62151772A true JPS62151772A (ja) 1987-07-06
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EP (1) EP0232564B1 (ja)
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