JPS62149733A - 連続プラズマ処理装置 - Google Patents
連続プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS62149733A JPS62149733A JP29649385A JP29649385A JPS62149733A JP S62149733 A JPS62149733 A JP S62149733A JP 29649385 A JP29649385 A JP 29649385A JP 29649385 A JP29649385 A JP 29649385A JP S62149733 A JPS62149733 A JP S62149733A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tube
- reaction tube
- gas
- treatment
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
- B29C59/142—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment of profiled articles, e.g. hollow or tubular articles
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「発明の目的」
（産業上の利用分野）
本発明は、高分子などの通気性多孔質チューブ内面へ連
続的にプラズマ処理するための装置に関するものである
。
続的にプラズマ処理するための装置に関するものである
。
（従来の技術）
近来プラズマ励起反応を用いて各種基材表面に機能性を
付与する研究開発が盛んである。細長いチューブ内面に
連続的にプラズマ処理する方法に関しても、安田らによ
って研究されている（Ｊ。
付与する研究開発が盛んである。細長いチューブ内面に
連続的にプラズマ処理する方法に関しても、安田らによ
って研究されている（Ｊ。
Ａｐｐｌ、 Ｐｏｌｙｍ、 Ｓｃｉ、 ： Ａｐｐｌ、
Ｐｏｌｙｍ、 Ｓｙｍ、、 ８８゜６５ （１９８４
） ）。 これはチューブの巻出し、巻取軸にモノマー
供給口と排気口を接続し、巻出し、巻取部の間に設けら
れた高周波発生部でプラズマ反応による重合膜コーティ
ングを行うものである。
Ｐｏｌｙｍ、 Ｓｙｍ、、 ８８゜６５ （１９８４
） ）。 これはチューブの巻出し、巻取軸にモノマー
供給口と排気口を接続し、巻出し、巻取部の間に設けら
れた高周波発生部でプラズマ反応による重合膜コーティ
ングを行うものである。
しかしながら、ここで用いられたシリコンチューブは、
長さ１３ｍのもので、長くなるほど圧力損失により、モ
ノマーの均一な供給が困難になることが予想される。一
方現在通気性の多孔質チューブ内面へのプラズマ処理が
望まれている。例えば人工血管の開発や分離膜の開発に
おいて、通気性多孔質チューブ内面にプラズマ処理で活
性点の付与や機能性重合膜のコーティングを行うことが
有効と考えられている。しかるにこれを連続的に行うこ
とは、未だ実施されていない。
長さ１３ｍのもので、長くなるほど圧力損失により、モ
ノマーの均一な供給が困難になることが予想される。一
方現在通気性の多孔質チューブ内面へのプラズマ処理が
望まれている。例えば人工血管の開発や分離膜の開発に
おいて、通気性多孔質チューブ内面にプラズマ処理で活
性点の付与や機能性重合膜のコーティングを行うことが
有効と考えられている。しかるにこれを連続的に行うこ
とは、未だ実施されていない。
（発明の目的）
本発明の目的は、通気性多孔質チューブ内面を連続的に
プラズマ処理することができる装置を提供することにあ
る。
プラズマ処理することができる装置を提供することにあ
る。
「発明の構成」
以下に本発明における装置を図面に示す実施例に基いて
詳細に説明する。
詳細に説明する。
１は反応管であって、内部を被処理チューブｌＯが、ガ
イドローラー類９を経て走行する。反応管は一般に石英
が好適に用いられる。反応管は、中央部を少くとも二つ
の隔壁によって区切られ、その囲まれた部分あるいはこ
れを含む部分の反応管外側にリード線１３を介して高周
波発振電源１４につながる電極３が設置されている。こ
の電極の一方は発振用であり、他方はアース用である。
イドローラー類９を経て走行する。反応管は一般に石英
が好適に用いられる。反応管は、中央部を少くとも二つ
の隔壁によって区切られ、その囲まれた部分あるいはこ
れを含む部分の反応管外側にリード線１３を介して高周
波発振電源１４につながる電極３が設置されている。こ
の電極の一方は発振用であり、他方はアース用である。
ここで隔壁は、はぼ中央に被処理チューブの走行が可能
なように、被処理チューブの外径よりわずかに大きい細
孔を有する。この細孔部は、ガスの流れができるだけ妨
げられる様にノズル状が好ましい。隔壁はガスの流入を
妨げるものであるから、必要により二つより多い数が設
置される。この隔壁で囲まれた部分に、他の部分の排気
を受けもつ装置と独立した排気装置（図示せず）に接続
する第２排気口６が設けられ、他の部分よりも一層低い
圧力が維持できるようになっている。他の部分の排気は
、巻出し室１１および巻取室１２に設けられた第１排気
口５よりなされる。
なように、被処理チューブの外径よりわずかに大きい細
孔を有する。この細孔部は、ガスの流れができるだけ妨
げられる様にノズル状が好ましい。隔壁はガスの流入を
妨げるものであるから、必要により二つより多い数が設
置される。この隔壁で囲まれた部分に、他の部分の排気
を受けもつ装置と独立した排気装置（図示せず）に接続
する第２排気口６が設けられ、他の部分よりも一層低い
圧力が維持できるようになっている。他の部分の排気は
、巻出し室１１および巻取室１２に設けられた第１排気
口５よりなされる。
Ｈｅ、Ａｒ、Ｎｇ、０２．Ｈ＋ などの無機ガス、あ
るいは重合体を形成する有機ガスなどの処理ガスは、処
理ガス導入口４から反応管に入り、反応管の前部ならび
に巻出し室に流れる。通気性多孔質体である被処理チュ
ーブは、巻出しボビン７より巻出されて、反応管内を走
行するが、この時雰囲気の処理ガスが被処理チューブの
孔より拡散して、チューブ内空に広がる。処理ガスは、
チューブ内空を反応管前部から後部に向って流路を形成
する。
るいは重合体を形成する有機ガスなどの処理ガスは、処
理ガス導入口４から反応管に入り、反応管の前部ならび
に巻出し室に流れる。通気性多孔質体である被処理チュ
ーブは、巻出しボビン７より巻出されて、反応管内を走
行するが、この時雰囲気の処理ガスが被処理チューブの
孔より拡散して、チューブ内空に広がる。処理ガスは、
チューブ内空を反応管前部から後部に向って流路を形成
する。
次に被処理チューブは、隔壁を通過して一反応管中央部
に入る。ここで高周波の励起により放電を生じるが、チ
ューブの内−外圧の差によりチューブ内空に優先的に放
電が起り、チューブ内面が効果的にプラズマ処理される
。この反応管中央部の内径は、他の部分と同径でもよい
が、小さくする（但し被処理チューブの外径よりは、大
きくする）ことにより、一層チューブ内空への放電を起
しやすくすることができる。高周波電力は、反応管の外
部に、例えばリング状の電極をセットして印加される。
に入る。ここで高周波の励起により放電を生じるが、チ
ューブの内−外圧の差によりチューブ内空に優先的に放
電が起り、チューブ内面が効果的にプラズマ処理される
。この反応管中央部の内径は、他の部分と同径でもよい
が、小さくする（但し被処理チューブの外径よりは、大
きくする）ことにより、一層チューブ内空への放電を起
しやすくすることができる。高周波電力は、反応管の外
部に、例えばリング状の電極をセットして印加される。
それは被処理チューブの内径の小さい程、高い電力が必
要である。この放電領域で内面プラズマ処理された被処
理チューブは、ガイドローラーを経て、駆動系（図示せ
ず）に連結した巻取ボビン８に巻取られる。
要である。この放電領域で内面プラズマ処理された被処
理チューブは、ガイドローラーを経て、駆動系（図示せ
ず）に連結した巻取ボビン８に巻取られる。
「発明の効果」
本発明による装置は、反応管が少くとも二つ以上の隔壁
で区分され、反応管前部には、処理ガスの導入口が、ま
た隔壁で囲まれた反応管中央部には独立した排気機構が
設けられていることから、通気性多孔質体である被処理
チューブは、反応管内を連続的に走行する間に、内面が
効果的にプラズマ処理されることになり、工業的規模で
の処理が可能となる。
で区分され、反応管前部には、処理ガスの導入口が、ま
た隔壁で囲まれた反応管中央部には独立した排気機構が
設けられていることから、通気性多孔質体である被処理
チューブは、反応管内を連続的に走行する間に、内面が
効果的にプラズマ処理されることになり、工業的規模で
の処理が可能となる。
表口面の簡単な説明
第１図は、本発明によりなる処理装置の実施例を示した
断面説明図である。
断面説明図である。
ｌは反応管、２は隔壁、３は電極、■４は高周波発振電
源である。
源である。
Claims (2)
- （１）通気性多孔質チューブを連続的に通過せしめるこ
とができ、かつ処理ガスが充たされているプラズマ反応
管の一部分に、処理ガスの流入を妨たげる隔壁が少くと
も２ケ所設けられ、その隔壁で囲まれた部分には、他の
部分の排気装置と独立した排気装置が接続され、かつ該
隔壁で囲まれたあるいはこれを含む反応管部分の外側両
端に高周波発振電源につながる発振電極とアース電極が
設置されていることを特徴とする通気性多孔質チューブ
内面の連続プラズマ処理装置。 - （２）隔壁で囲まれた反応管部分の内径が、被処理チュ
ーブの外径より大きいが、反応管の他の部分の内径より
は、小さいことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の連続プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29649385A JPS62149733A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | 連続プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29649385A JPS62149733A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | 連続プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62149733A true JPS62149733A (ja) | 1987-07-03 |
Family
ID=17834266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29649385A Pending JPS62149733A (ja) | 1985-12-24 | 1985-12-24 | 連続プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62149733A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006022779A1 (en) * | 2004-07-30 | 2006-03-02 | Exatec, Llc | Plasma coating system for coating of substrates |
-
1985
- 1985-12-24 JP JP29649385A patent/JPS62149733A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006022779A1 (en) * | 2004-07-30 | 2006-03-02 | Exatec, Llc | Plasma coating system for coating of substrates |
| US7645492B2 (en) | 2004-07-30 | 2010-01-12 | Exatec Llc | Plasma coating system for accommodating substrates of different shapes |
| US8628619B2 (en) | 2004-07-30 | 2014-01-14 | Exatec Llc | Plasma coating system for accommodating substrates of different shapes |
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