JPS62149689A - ケイ素含有有機錫化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 車重よ尖旦里分野 本発明は、新規な有機錫化合物、更に詳しくは、非対称
トリオルガノ錫化合物およびそれを有効成分とする殺ダ
ニ剤および殺虫剤に関するものであ従来技術 植物体に寄生する害虫には様々な種類があるが、とりわ
け、ダニ類は広範な農作物あるいは園芸植物に甚大な被
害を与え、農業経済上、大きな問題になっている。この
種の害虫における薬剤の抵抗性の発達は比較的平いため
、常に新規で有効な殺ダニ剤の開発が要求されている。

従来から実用化されている有機化合物系殺ダニ剤として
は、シヘキサチン［ｃｙ）１６Ｘａｔｉｎ、プリクトラ
ン（ｐｌｉｃｔｒａｎ）’　、米国特許第３．２６４，
１７７号明細書］およびフェンブタンチンオキシド［ｒ
ｅｎｂｕｔａｔｉｎｏｘｉｄｅ、オサダン（Ｏ５ａｄａ
ｎ）ｏ、米国特許第３゜６’５７，４５１号明細書］な
どが挙げられる。しかし、従来品は、ダニの種類によっ
て効果の差があり、また、ある種のハダニ類に対しては
抵抗性を獲得しているために無効である、などの理由で
安定した殺ダニ効果をあげることができないという問題
点を有している。

本発明者らは、上記の如き実情に鑑み、有効な有機化合
物系段ダニ剤、特に、既存の殺ダニ剤に対して抵抗性を
有するハダニ類に対して有効な殺ダニ剤を開発すること
を目的として、有機錫系化合物について広く探索した結
果、一般式（Ｉ）：〔式中、Ｒ１はアルキル、シクロア
ルキルまたはアラルキル、Ｒ＊は、ＲＩがアルキルのと
きフルオロフェニルまたはトリフルオロメチルフェニル
、ＲＩがシクロアルキルのとき式： （式中、Ｒ２はハロゲン、トリフルオロメチルまたは低
級アルコキシを表わす） で示される基、ジクロロフェニル、ネオペンチル、トリ
メチルシリルメチルまたはジメチルフェニルノリルメチ
ル、Ｒ１がアラルキルのとき式：（式中、Ｒ３、Ｒ４お
よびＲ５は互に独立して水素、ハロゲン、トリフルオロ
メチル、低級アルキルまたは低級アルコキシを表わす） で示される基、２−チェニル、３−ヂエニル、ネオペン
デル、トリメチルシリルメチルまたはジメチルフェニル
シリルメチルを表わし、ｍは１または２、Ｘはｎが１の
ときハロゲン、−００ＯＲ１１゜−９ＳＣＮＲ７Ｒ’、
イミダゾリル、トリアゾリル、−ＮＧＯ，−ＮＣＳ、フ
ェニルチオあるいは式：（式中、Ｒ６はアルキル、Ｒ７
およびＲａは互に独立←て低級アルキルを表わし、Ｒ８
およびＲ１０は互いに独立して水素または低級アルキル
を表わす）で示される基を表わし、巾が２のとき酸素、
硫黄、硫酸基（−０ＳＯ，０−）または基−０ＣＯＣＨ
Ｂｒ一０ＣＯＣＨＢｒ を表わす〕 で示される非対称トリオルガノ錫化合物が優れた殺ダニ
作用および殺虫作用を有すること、特に、現在実用化さ
れている有機錫系殺ダニ剤に抵抗性を有するハダニ類に
対してすぐれた効果を奏することを見出し、本発明を完
成するに至った。

次に、本明細書中で使用する語句（ζついて定義する。

「アルキル」とは、直鎖または分枝鎖の飽和炭化水素残
基を指し、本明細書では特に炭素原子数ｌないし１２個
の基を意味する。適当なアルキル基には、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第
２級ブチル、第３級ブチル、ペンチル、イソペンチル、
第３級ペンチル、チルブチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル等が含まれる。

「低級アルキル」とは、上記のようなアルキル基の内、
炭素数が６個以下の残基を指す。

「アラルキル」とは、アルキル基にアリール基が置換し
た基であり、例えばベンジル、フェニルエチル、フェニ
ルプロピル、メチルベンジル、ネオフィル等が含まれる
。

「シクロアルキル」とは、炭素数３〜１０の環状飽和炭
化水素残基を指し、例えばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル
、シクロオクチル、シクロノニルおよびシクロデシル等
が含まれる。

「ハロゲン」には、塩素、臭素、沃素および弗素が含ま
れる。

本発明化合物の内、非対称トリオルガノ錫ハライド（ｒ
　ａ）は下記の製法に従って製造することが出来る。

第１工程 第２工程 ハロゲン Ｒ＊ｎ５ｎ（Ｒつｔ（Ｐｈｅ）ｔ−ｎ　　−）（ＩＶ） Ｒ’ Ｒ＊−５ｎ−Ｈａ（ （Ｉ　ａ） （式中、Ｒ＊およびＲ′は前記の定義と同意義であり、
ＨａＬＹ’およびＹ２はそれぞれ塩素、臭素または沃素
、ｎは１または２を表わす。ただし、ｎが１のときＲ＊
はケイ素含有基を表わし、ｎが２のときＲ＊はアリール
基またはネオペンチル基を表わす。） 第１工程 化合物（ＩＩ）とオルガノ錫ハライド（ＩＩＩ）を適当
な溶媒中、約５〜１００’Ｃの温度で反応させて、一般
式（［Ｖ）の非対称テトラオルガノ錫を得る。溶媒とし
てはエーテル類（ンエチルエーテル、ジブチルエーテル
、テトラヒドロフラン等）が好ましい。

化合物（ＩＩ）は通常のグリニヤール（Ｇ　ｒｉｇｎａ
ｒｄ）試薬調製の条件に従って製造される。

一般式（Ｒ’）！Ｓ　ｎ（ｐｈｅ）２−ｎ（Ｙ　２）ｎ
で示されるオルガノ錫ハライド（ＩＩＩ）はｎが２の時
は（Ｒ’）、５ｎ（Ｙ″）２であり、ジオルガノ錫シバ
ライドを示し、これは公知の方法に従い、対応する一般
式（Ｒ’）４Ｓｎ（ここにＲ１は前記と同意義である。

）で示される対称テトラオルガノ錫とハロゲン化第二錫
との再分配反応によって製造できる。又ｎが１の時は（
Ｒすｙ　Ｓ　ｎ（ｐｈｅ）　Ｙ　”で表わされるフェニ
ル−ジオルガノ錫ハライドであり、非対称トリオルガノ
錫ハライドを示す。これらの化合物は上記第１〜２工程
を経て製造できる。即ち、まず第１工程において、化合
物（ｎ）および（ＩＩＩ）にｎ＝２、Ｒ＊＝フェニル基
を採用して得られる化合物（■）：（Ｒ’）ｔｓ　ｎ（
ｐｈｅ）　ｔを製造し、次いでこのものに、以下に述べ
す る第２工程でハロゲンを作用させてＰｈｅ　−Ｓ　ｎ　
−Ｈａｌを製造することができる。

第２工程 一般式（ＩＶ）の非対称テトラオルガノ錫とハロゲンと
の反応は、通常、一般式（ＩＶ）の非対称テトラオルガ
ノ錫を適当な溶剤に溶解した溶液中に直接ハロゲンを加
えるか、あるいは溶剤に溶解したハロゲン溶液を、−５
０〜３０℃の温度を維持しながら加えることにより、行
なう。溶剤としては、クロロホルム、四塩化炭素、ベン
ゼン、トルエン、ヘプタン、ヘキサン等が使われる。特
に好ましい溶剤はクロロホルムおよび四塩化炭素である
。

一般式（ＩＶ）の非対称テトラオルガノ錫とハロゲンと
の反応のモル比は、はぼ１：１であることが好ましい。

反応温度は一１Ｏ〜ｌＯ℃に維持する事が好ましい。

の完了によって終了する。反応生成物を常法により濃縮
し、必要ならば残渣を再結晶、減圧蒸留又はカラムクロ
マトグラフィーに付し、目的生成物を精製単離する。

この様にして得られた本発明の非対称トリオルガノ錫ハ
ライド（ｌ　ａ）は常温において液体又は固体である。

これらのハライドは、既知の反応により、容易にそのヒ
ドロキシドまたはビス（非対称トリオルガノ錫）オキシ
ドその他、次の反応式中に示した誘導体に変換される。

即ち、対応する非対称トリオルガノ錫ハライド（ｒ　ａ
）と、下記の反応式に示す反応剤とを反応させることに
より、所望の陰イオン性基または複素環基を導入するこ
とが出来る。

本発明化合物の製造工程を以下に総括して示す。

（式中、Ｒ＊、Ｒ１、Ｒ８、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ８、Ｒ１０
およびｌ−１ａｌは前記の定義と同意義であり、Ａｚは
１．３−イミダゾール−１−イルまたは１，２．４−ト
リアゾール−１−イルを表わす。）上記式に示した誘導
体を製造するための望ましい条件、例えば溶剤の温度、
反応時間等は公知である。これらに関する記載文献の一
例としてケミカル・レビューズ〔Ｒ，インハン、４５９
〜５３９．１９６０年１０月［ケミカル・レビューズ（
Ｃｈｅｍｉｃａｌ　　ｆｌｅｖｉｅｗｓ）、４５９〜５
３９．１９６０年、ＩＯ月〕を挙げる事が出来る。

本発明の作用効果 本発明の式（＋）で示される化合物はダニ目、鱗翅目、
半翅目、鞘翅目、直翅目、双翅目などに属する植物害虫
に対して優れた殺虫力を有する。

特に、本発明の化合物は各種植物に寄生して被害を与え
る広範なダニ類、たとえばミカンハダニ、リンゴハダニ
、オウトウハダニ、カンザワハダニ、ナミハダニ、ニセ
ナミハダニ、ブドウヒメハダニ、防除効果を示す。しか
も、本発明の化合物（１）は農作物および園芸作物に何
ら薬害をもたらさないか、または、薬害があっても、容
易に回復し得る程度である。

ある種のハダニ類（たとえば、カンザワハダニ）は、現
在実用化されているｃｙｈｅｘａｔｉｎ［プリクトラン
Φ（Ｐ　１ｉｃｔｒａｎΦ）、米国特許第３，２６４，
１７７号明細書、ダウ社］およびｆｅｎｂｕｔａｔｉｎ
　　ｏｘｉｄｅ［オサダ７ｏ（Ｏｓａｄａｎｅ）、米国
特許第３．６５７，４５１号明細書、シェル社）に対し
て抵抗性を有する。

後述する様に本発明化合物は、これらの殺ダニ剤抵抗性
個体群に対し、優れた防除効果を示した。

本発明の化合物（Ｉ）を有効成分とする殺虫剤は、該化
合物（【）を通常の農薬製剤の製造方法に従い、一種ま
たは二種以上の農薬添加物または補助剤と混合もしくは
組合わせて水和剤、乳剤、粉剤、フロアブル剤などの任
意の剤型に製剤化することにより製造することができる
。

上記添加剤または補助剤には、農薬製剤の製造の通常用
いられている有機溶媒、水または他の液状担体、界面活
性剤あるいは顆粒状および微細な固体か含まれろ。

本発明の化合物（１）をたとえば、クレー、タルク、ポ
ワイトカーボン、ケイソウ土、ベントナイトなどの固体
担体および高級アルコキンスルボネート、ボリオキノエ
ヂレンソルビクン、アルキルフェノキンポリエトキシエ
タノール、リグノスルホナートのようなイオン性あるい
は非イオン性の乳化剤または分散剤、さらに必要ならば
、湿潤剤、保護コロイドなどと混合、粉砕することによ
って水和剤を得ることができる。また本発明に係る化合
物を適当な有機溶媒に溶解させた後、上記界面活性剤を
適ｍ加えることによって乳剤を得ることもできる。この
濃縮物は油中水型の濃縮物としても、また、濃いマヨネ
ーズ様の濃度を有する水中面型濃縮物としても存在する
ことができる。

本発明における殺ダニ剤および殺虫剤は他の殺ダニ剤、
殺虫剤、殺菌剤あるいは植物成長調節剤、肥料などと混
合して使用することもできる。

製剤中の化合物（１）の含有量は、水和剤または乳剤で
は５〜７０重俄％、好ましくは２０〜５０重重％である
。その施用量は、施用方法、時期、場所、対象害虫らし
くは動物、作物の種類によって異なるが、通常、５００
〜１０，０００倍好ましくは１，０００〜５，０００倍
の濃度に希釈し、１９アール当たり２００〜６００Ｑの
範囲で散布する。

粉剤の場合の化合物（１）の含有量は０．５〜ｌＯ重量
％、好ましくは２〜５重量％であり、ｌＯアール当たり
３〜５に９の範囲で施用する。また微粉剤の場合は０．
５〜ＩＯ重量％、好ましくは１〜５重量％であり、１０
アール当たり１．５〜５に９の範囲で散布するのが適当
である。

以下に実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明する。

実施例１　シネオフイルメタトリフルオロメチルフェニ
ル錫フルオリド（化合物ｌ） ■）ジネオフィルジ（メタトリフルオロメチルフェニル
）錫 攪拌機、温度計、滴下ロート及び冷却器を備えたＩｆの
四つロフラスコに、マグネシウム１２．４ｇ　（０，５
Ｉ　ｍａｔ）を入れ、窒素置換した。メタトリフルオロ
メチルフェニルプロミド　ｌ１３．４ｇ（０゜５０４ｍ
ｏｌ）とテトラヒドロフラン２２０ｇとの混合液を滴下
ロートに入れ、その約３　ｍａｌを滴下した。加熱し、
内温か６０〜７０℃に昇温すると、白煙を生じて反応が
開始したので、以後、内温を６０℃に維持し、メタトリ
フルオロメチルフェニルプロミドのテトラヒドロフラン
溶液を約２時間で滴下した。

滴下終了後、加熱還流下で５時間反応を行なった後、室
温に冷却した。次いで、ンネオフィル錫ジクロリド８５
．６ｇ　（０，１８８ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２
００ｇに溶解した溶液を、１０〜２０℃の温度を維持し
ながら、滴下ロートより約３０分て滴下した。滴下終了
後、反応液を７時間、還流温度において反応させた。終
了後、室温に冷却し、飽和塩化アンモニウム水溶液２０
０Ｊを加えて水解した。何機層を分離し、水洗、Ｉ過し
減圧濃縮すると、かっ色の粘稠液体が得られた。

これにｎ−ヘキサン３００ｇおよび活性白土５０ｇを加
えて脱色し、シ濾過して減圧濃縮し、無色透明で粘稠な
液体のジネオフィルージ（メタトリフルオロメチルフェ
ニル）錫１１８ｇを得た。ガスクロマトグラフィー分析
の結果、純度は９５％であった。又錫含量は１７．２％
（理論値１７．６％）であった。

２）シネオフイル−メタトリフルオロメチルフェニル錫
フルオリド 攪拌機、温度計、滴下ロート及び冷却器を備えた５００
Ｊ四つロフラスコに、ｌ）で得たシネオフイル−ジメタ
トリフルオロメチルフェニル錫８０ｇ　（０、１１８ｍ
ｏｌ）及びクロロホルム２００ｇを入れた。

滴下ロートに臭素　１９ｇ　（０，２１６ｇ原子）とク
ロロホルム１００Ｊとの混液を入れ、フラスコ内容を一
５〜０℃に維持しながら、攪拌下、約２時間３０分で滴
下した。終了後、室温に戻し、ｒ過して減圧濃縮し、シ
ネオフイル−メタトリフルオロメチルフェニル錫プロミ
ドの粘稠液体７２．２ｇを得た。

ガスクロマトグラフィ分析に基く、純度は９３％であっ
た。

得られた粗ジネオフィルーメタトリフルオロメチルフｊ
ニル錫プロミド　７２．２ｇ　、ベンゼン１２０ｇ１弗
化カリウム１４ｇ及び水５６ｇを５００　ｍｆｌ三つロ
フラスコに入れ、２時間加熱還流し、反応を行なった。

反応終了後、水層を分離除去し、有機層を水洗、Ｉ過し
た後、減圧濃縮し、残渣をｎ−ヘキサンを用い一２０℃
の温度で結晶化して、シネオフイル−トリフルオロフェ
ニル錫フルオリド３３．８ｇを得た。

このものは室温下では液体であり、屈折率はｎ”１．５
５５５、銅含量は２１．１％（理論値２１．６％）であ
った。

実施例２　ビス（ジネオフィルーメタトリフルオロメチ
ルフェニル錫）オキシド（化合物３）実施例Ｉで得たシ
ネオフイル−メタトリフルオロメチルフェニル錫フルオ
リドＩ　３ｇ　（２３，７ｃｍｍｏｌ　）をベンゼン６
０ｇに溶解した。この溶液に２０％水酸化ナトリウム水
溶液７．２ｇを加え、７５〜８０℃で１時間反応を行な
った。反応終了後、水層を分離除去し、有機層を水洗、
Ｉ過し、減圧下でベンゼンを留去し、淡黄色粘稠液体の
ビス（ジネオフィルーメタトリフルオロメチルフェニル
錫）オキシド　１１．８ｇを得た。

屈折率ｎ”　＝１　、５６５１　％賜金ｆｉｌ−２１，
９％（理論値２２，１％）。

実施例３　シネオフイル−メタトリフルオロメチルフェ
ニル錫アセテート（化合物５）実施例２で得たビス（シ
ネオフイル−メタトリフルオロフェニル錫）オキシド６
　ｇ（５、５７ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン３０ｇに溶解
した。この溶液に氷酢酸０．６７ｇ　（１１，１６ｍｍ
ｏｌ）を加え７０〜７５℃の温度で１時間共沸脱水反応
を行なった。

反応終了後、ｒ過し、ｎ−ヘキサンを留去して淡黄色粘
稠液体のシネオフイル−メタトリフルオロメチルフェニ
ル錫アセテート　６．４ｇを得た。

屈折率ｎ”＝　１．５４６５、賜金ｆｌ−２０，１％（
理論値２０．１％）。

実施例４　シネオフイル−メタトリフルオロメチルフェ
ニル錫ツメチルジチオカーバメート（化合物６） 実施例１で得たジネオフィルーメタトリフルオロメチル
フェニル錫フルオリド　１０ｇ　（１８，２ｍｍｏｌ　
）をベンゼン５０ｇに溶解した。この溶液にンメチルジ
チオカルバミン酸ナトリウムの２水和物３．９ｇ　（２
１，８ｍｍｏｌ）を水　１５．６ｇに溶解した溶液を加
え、７５〜８０℃の温度で１時間反応を行なった。反応
終了後、水層を分離除去し、有機層を水洗Ｉ過し、減圧
下でベンゼンを留去し、残部を石油エーテルで再結晶し
、白色固体のシネオフイル−メタトリフルオロメチルフ
ェニル錫ジメチルジチオカーバメート　［１，４ｇを得
た。

融点−９６〜９７℃、賜金ｆｆｔ＝１８．Ｉ％（理論値
１８．２％）。

実施例５　シネオフイル−オルソトリフルオロメチルフ
ェニル錫クロリド（化合物２５）メタトリフルオロメチ
ルフェニルプロミドの代ｆ　Ｉ　３．４ｇ　（０，５０
２ｍｏｌ）を用い、実施例１と同じ仕込量、同一条件下
、同様に操作して淡黄色粘稠液体のジネオフィルージオ
ルソトリフルオロメチルフェニル錫１１３ｇを得た。ガ
スクロマトグラフィー分析の結果、純度は９６１３％で
あった。又賜金潰は　１７．３％（理論値　１７．６％
）であった。

上記の如くにして得られたジネオフィルージオルソトリ
フルオロメチルフェニル錫８０ｇ（０，１０８ｍｏｌ）
をクロロホルム２００ｇに溶解した溶液をＯ℃〜５℃に
維持し、塩素ガス　７．６ｇ　（０，２１６ｇ原子）を
導入し、反応を行なった。終了後、反応液を減圧濃縮し
、残渣をメタノールにて再結晶し、白色固体のシネオフ
イル−オルソトリフルオロメチルフェニル錫クロリド６
１．１ｇを得た。

ガスクロマトグラフィー分析の結果、純度は９７゜３％
であった。

融点＝４９〜５０℃、銅含量＝２１．０％（理論値２１
．０％）。

”４ＫｍｌＲＩ　Ａ　　）’　？　　（’ｊ　’ｌ＋Ｍ
　／　ＩＬ−＋　ｌＬ’７　ｋ　ｌｆ　Ｍルオロメチル
フェニル錫）オキシド（化合物１６）実施例５て得たジ
ネオフィルーオルソトリフルオロメチルフェニル錫クロ
リド１３．４ｇ（２３゜７ｍｍｏｌ）を、実施例２に示
した方法に準じ、同一条件下で同様に操作して加水分解
した後、ｎ−ヘキサノで再結晶し、ビス（ジネオフィル
ーオルソトリフルオロメチルフェニル錫）オキシド　１
２゜１ｇを得た。

融点−４２〜４４℃、場合ｆｆ１＝２１．８％（理論値
２２．１％）。

実施例７　シネオフイル−（オルソトリフルオロメチル
フェニル）−（＋、２．４トリアゾールー１−イル）錫
（化合物７） 実施例６で得たビス（ジネオフィルーオルソトリフルオ
ロメチルフェニル錫）オキシド６ｇ（５５７ｍｍｏｌ）
および１，２．４−）リアゾール０゜７７ｇ　（Ｉ　１
．Ｉｍｍｏｌ）をトルエン３０ｇに溶解した混合液を、
１１０〜１１２℃において１時間共沸脱水反応させた。

反応終了後、濾過し、トルエンを留去し、淡黄色粘稠液
体の（シネオフイル）−（オルソトリフルオロメチルフ
ェニル）−（１，２゜４トリアゾール−１−イル）錫６
，５ｇを得た。

屈折率ｎ”＝　１．５６９０、賜金量＝２０．７％（理
論値１９．８％）。

実施例８　ビス（シネオフイル−オルソトリフルオロメ
チルフェニル錫）サルフェート（化合物実施例６で得た
ビス（シネオフイル−オルソトリフルオロメチルフェニ
ル錫）オキシド２．７ｇ（２゜５１　ｍｍｏｌ　）をベ
ンゼン３０Ｊに溶解した溶液に、５０％農度の硫酸水溶
液５　Ｊを加え、室温下で１５分間攪拌し、反応させた
。

水層を分肢除去し、有機層を水洗、濾過した後、減圧濃
縮し、淡黄色粘稠液体のビス（シネオフイル−オルソト
リフルオロメチルフェニル錫）サルフェート　２．８ｇ
を得た。

屈折率ｎ”＝　１．５７００、賜金景＝２１．０％（理
論値２０．５％）。

実施例９　シネオフイル−ｐ−フルオロ・フェニル錫フ
ルオリド（化合物９） メタトリフルオロメチルフェニルプロミドの代りにバラ
フルオロフェニルプロミド８９．３ｇ　（０，５１ｍｏ
ｌ）を用いる外は、実施例１と同一仕込量、同一条件下
、同様の操作により、無色粘稠液体のジネオフィルージ
パラフルオロフェニル錫Ｉ００゜９ｇを得た。

ガスクロマトグラフィー分析による純度は９６゜９％で
あった。又賜金量は２０．６％（理論値２０．６％）で
あった。

上記の如くにして得られたジネオフィルージ（バラフル
オロフェニル）錫６２．１ｇ　（０，１０８ｍｏｌ　）
をクロロホルム２００ｇに溶解した溶液を冷却下、−１
５〜−２０°Ｃに維持し、塩素ガス７．６ｇ（０，２１
６ｇ原子）を導入し、反応を行なった。終了後、反応液
を減圧濃縮し、シネオフイル−パラフルオロフェニル錫
クロリドの淡黄色液体５６ｇを得た。ガスクロマトグラ
フィー分析による純度は８７．５％であった。

得られた粗ジネオフィルーバラフルオロフェニｌＬ４：
［７７＋’ｌ＋ｌ＊Ｃ；ｎ５Ｊ−１１！／レ−Ｊ−＋ｌ
ｌｒ息フッ「デＱ（１／１１１ｍｏｌ）とを、ベンゼン
１２０ｇ及び水２３ｇ中で２時間加熱し、反応を行なっ
た。次いで、水層を分離し、有機層を水洗、濾過し、減
圧濃縮して得られた残渣を石油エーテルで再結晶し、白
色固体のシネオフイル−パラフルオロフェニル錫フルオ
リド３８．５ｇを得た。

融点＝５９〜６２℃、賜金量＝２３．２％（理論値２３
．８％）。

実施例１Ｏビス（シネオフイル−バラフルオロフェニル
錫）サルファイド（化合物５８）実施例９で得たシネオ
フイル−バラフルオロフェニル錫フルオリドロｇ　（１
２ｍｍｏｌ）をベンゼン３０ｍ１に溶解し、硫化カリウ
ムＩｇ　（１７，７ｍｍｏｌ）を水４ｇに溶かした溶液
を加え、２時間還流温度で反応した。

反応終了後、水層を分離除去し、水洗、濾過し、減圧下
でベンゼンを留去し淡黄色粘稠液体のビス（シネオフイ
ル−パラフルオロフェニル錫）サルファイド６．４ｇを
得た。

屈折率ｎ”＝　１．６１５５、錫含量＝２３．１％（理
論値２３９％）。

実施例１１　　ビス（シネオフイル−パラフルオロフェ
ニル錫）オキシド（化合物１７）実施例９で得たシネオ
フイル−パラフルオロフェニル錫フルオリドＩ　５ｇ（
３０ｍｍｏｌ　）を２０％カセイソーダ水溶液９ｇを用
い、実施例２に示した方法と同様の操作にて白色固体の
ビス（シネオフイル−パラフルオロフェニル錫）オキシ
ドを得た。

融点＝８４〜８６°Ｃ１錫含量−２４，５％（理論値２
４．３％）。

実施例１２　シネオフイル−（パラフルオロフェニル）
−（１，３−イミダゾール−１−イル）錫（化合物５４
） 実施例１１で得たビス（シネオフイル−パラフルオロフ
ェニル錫）オキシド６ｇ　（６，１４ｍｍｏｌ）および
１．３−イミダゾール０．８３ｇ　（１２，３ｍｍｏｌ
）をトルエン３０ｇに溶解し、１１０〜１１２℃におい
て１時間共沸脱水反応を行なった。

反応終了後、Ｉ過し、トルエンを留去し、得られた固体
残渣をｎ−ヘキサンで再結晶し、シネオフイル−（パラ
フルオロフェニル）−（１，３−イミダゾール）錫５　
、１．　ｇを得た。

融点＝１２３〜１２７℃、賜金量＝２１２％（理論値２
１．７％）。

実施例１３　ジシクロへキシル−パラフルオロフェニル
錫フルオリド（化合物１４） メタトリフルオロメチルフェニルプロミド及びシネオフ
イル錫ジクロリドの代りに、それぞれパラフルオロフェ
ニルプロミド８９．３ｇ（０，５１ｍｏｌ）及びジシク
ロヘキシル錫ジクロリド７６゜９ｇ　（０，２１６ｍｏ
ｌ）を用いる外は実施例１　（１）と同様にして、ジシ
クロヘキシルージパラフルオロフェニル錫（イソプロパ
ツールにて再結晶）８５．２ｇを得た。ガスクロマトグ
ラフィーによる純度は　９８．６％であった。

融点＝８８〜９０℃、賜金ｆｆ１＝２５．１％（理論値
２５．０％）。

次いで、上記のテトラ体２０ｇ　（０，０４２ｍｏｌ）
を用い、実施例１　（２）の方法に従い、まず臭素を反
応させて粗ジシクロへキシル−バラフルオロフェニル錫
プロミドを得た後、このものに、フッ化ソーダを作用さ
せて、白色固体のジシクロヘキシル−バラフルオロフェ
ニル錫フルオリドｌｌ、７ｇを得た。

融点−２３４〜２４０℃（分解）、賜金量＝２９．９％
（理論値２９．７％）。

実施例１４　シネオフイル−オル゛ソトリフルオロメチ
ルフェニル錫イソシアネート（化合物６０）実施例５で
得たシネオフイル−オルソトリフルオロメチルフェニル
錫クロリド６　ｇ（１０、６ｍｍｏｌ）。

シアン酸ナトリウム１．１ｇ（１５，９ｍｍｏｌ）およ
びアセトン４０９を反応フラスコに入れ、３時間、加熱
還流した。反応終了後ベンゼン５０ｇと水３０９を加え
分液して有機層を取り出し、更に水洗して濾過した。

減圧下でベンゼンを留去し、無色粘稠液体のシネオフイ
ル−オルソトリフルオロメチルフェニル錫イソンアネー
ト５．６ｇを得た。

屈折率ｎ３０＝　１．５６０９、賜金量＝２１．０％（
理論値２０．７％）。

実施例１５　シネオフイル−オルソトリフルオロメチル
フェニル錫イソチオシアネート（化合物実施例５で得た
ジネオフィルーオルソトリプルオロメチルフェニル錫ク
ロリド６　ｇ（１０、６ｍｍｏｌ）。

チオシアン酸カリウム１．５９（１５，９ｍｍｏｌ）、
ベンゼン４０ｇおよび水１０ｇを反応フラスコに入れ、
２時間加熱還流した。反応終了後水層を分離除去し、有
機層を水洗、濾過し、減圧下でベンゼンを留去して、無
色粘稠のシネオフイル−オルソトリフルオロメチルフェ
ニル錫イソチオソアネート６゜０ｇを得た。

屈折率ｎ”＝　１．５７８７、賜金ｆｉ−２０，５％（
理論値２０．２％）。

実施例Ｉ６　ジネオフィルーオルソトリフルオロメチル
フェニル錫メチルサルファイド（化合物実施例５で得た
シネオフイル−オルソトリフルオロメチルフェニル錫ク
ロリド６．０９（１０，６ｍｍｏ１）、ソジウムメチル
サルファイドの１５％水溶液７．４？（１５，９ｍｍｏ
ｌ）およびベンゼン４０ｇを反応フラスコに入れ、２時
間加熱還流した。反応終了後水層を分離除去し、何機層
を水洗、濾過した。

減圧下ベンゼンを留去し、無色粘稠液体のシネオフイル
−オルソトリフルオロメチルフェニル錫メチルサルファ
イド４．６ｇを得た。

屈折率ｎ３０＝１．５８０４、賜金ｆｆ１＝２０．９％
（理論値２０，６％）。

実施例１７　ジネオフィルーオルソトリフルオロメチル
フェニル錫フェノキシト（化合物６８）実施例６で得た
ビス（ジネオフィルーオルソトリフルオロメチルフェニ
ル錫）オキサイド６．０ｇ（５、６ｍｍｏｌ）、フェノ
ールｌ　、Ｏｇ（Ｉ　ｌ　、２ｍｍｏｌ）およびトルエ
ン４０ｇを反応フラスコに入れ、実施例７と同様に反応
した後、トルエンを留去し、残渣を石油エーテルで再結
晶して白色固体のジネオフィルーオルソトリフルオロメ
チルフェニル錫フエノキンド４，４２を得た。

融点＝６９〜７１’Ｃ１錫含量＝１９．１％（理論値１
９．０％）。

実施例１８　　ｕネオフィル−オルソトリフルオロメチ
ルフェニル錫フェニルサルファイド（化合物６９） 実施例６で得たビス（シネオフイル−オルソトリフルオ
ロメチルフェニル錫）オキサイド６．０ｇ（５，６ｍｍ
ｏｌ）、チオフェノール１．２９（ｌ　１．２ｍｍｏｌ
）およびトルエン４０ｇを実施例１７と同様に反応処理
し、ｎ−ヘキサンで再結晶して、白色固体のジネオフィ
ルーオルソトリフルオロメチルフェニル錫フェニルサル
ファイド５．２ｇを得た。

融点＝Ｓｔ〜８２℃、賜金量−＝１８．７％（理論値１
８．６％）。

実施例ｔｊ　　Ｓ−（シネオフイル−オルソトリフルオ
ロメチルフェニル錫）０．０−ジエチルジチオホスフェ
ート（化合物７１） 実施例６で得たビス（シネオフイル−オルソトリフルオ
ロメチルフェニル錫）オキサイド６．８ｇ（６，４ｍｍ
ｏｌ）、Ｏ，Ｏ−ジエチルジチオホスフェート２゜２９
（１２，８ｍｍｏｌ）およびトルエン４０ｇを実施例７
と同様に反応、処理し、無色粘稠液体のＳ−（シネオフ
イル−オルソトリフルオロメチルフェニル錫）０．０−
ジエチルジチオホスフェート８．０ｇを得た。

屈折率ｎ３０−１．５７５９ 実施例２０　シネオフイル−（４−クロル−３−トリフ
ルオロメチルフェニル）錫プロミド（化合物７４） メタトリフルオロメチルフェニルプロミドの代イつりに
４−クロル−３−トリフルオロメチルフェニルプロミド
ｌ　３１．０９（０，５０４ｍｏｌ）を用い、実施例１
−１）と同じ仕込量、同一条件下、同様に操作して淡黄
色粘稠液体のジネオフィルージ（４−クロル−３−トリ
フルオロメチルフェニル）錫１２５．８ｇを得た。ガス
クロマトグラフィー分析の結果、純度は９８５％であっ
た。又賜金量は１５．６％（理論値１５．９％）であっ
た。

」二足の如くにして得られたジネオフイルージ（４−ク
ロル−３−１・リフルオロメチルフェニル）錫８７．８
９（０，１１８ｍｏｌ）を用いて実施例ｌ−２）と同様
に臭素と反応させ、淡黄色の固体１９．２９を得−た。

これをメタノール２００ｇで再結晶し、白色固体のシネ
オフイル−クロル−３−トリフルオロメチルフェニル錫
プロミド６５．７９を得た。

ガスクロマトグラフィー分析の結果、純度９９゜０％、
融点、７２〜７４℃、賜金量、１８．３％（理論値１８
，４％）であった。

実施例２Ｉ　シネオフイル−２，４−ジフルオロフェニ
ル錫フルオリド（化合物７９）メタトリフルオロメチル
フェニルプロミドの代わりに２．４−ジフルオロフェ、
−ルブロミド９８゜４　ｇ（０、５１ｍｏｌ）を用いる
外は実施例１−１）と同一仕込量、同一条件下、同様に
操作して無色粘稠液体のジネオフィルージ（２，４−ジ
フルオロフェニル）錫１０７．９９を得た。ガスクロマ
トグラフィーによる純度、９５．５％、賜金量、１９．
０％（理論値１９．４％）であった。

次いで上記のテトラ体７２．１９（０，１１８ｍｏりを
用い、実施例１−２）の方法に従って、まず臭素を反応
させて粗シネオフイルー２．４−ジフルオロフェニル錫
プロミドを得た後、このものにフッ化ソーダを作用させ
、ｎ−ヘキサンで再結晶して白色固体のシネオフイル−
２，４−ジフルオロフェニル錫フルオリド３０．６ｇを
得た。

融点＝６０〜６５°Ｃ１錫含ｉ１　＝　２２　、６　％
（理論値２２．９％）。

実施例２２　シネオフイル−２，４，５−トリフルオロ
フェニル錫クロリド（化合物９２）メタトリフルオロメ
チルフェニルプロミドの代わりに２．．１．５−トリフ
ルオロフェニルプロミド１０５．９ｇ（０，５０２ｍｏ
ｌ）を用い５．実施例１と同じ佳込債、同一条件下、同
様に操作して淡黄色粘稠液体のジネオフィルージ（２，
４，５−トリフルオロフェニル）錫１１３．１９を得た
。ガスクロマトグラフィーの分析結果、純度は９６．０
％であった。又錫含量は１７．８％（理論値１８．３％
）であった。

次いで上記のテトラ体７６．４９（０，１１８ｍｏｌ）
を用い、実施例５の方法に従って、塩素ガスを反応させ
て同様に処理操作を行ない、ヘキサンで再結晶して白色
固体のシネオフイル−２，４，５−１−リフルオロフェ
ニル錫クロリド３９．３９を得た。

ガスクロマトグラフィー分析の結果、純度は９９゜９％
であった。

融点＝６５〜６７℃、錫含量−２１，７％（理論値２１
．５％）。

実施例２３　シネオフイル−パラクロルフェニル錫フル
オリド（化合物１０８） メタトリフルオロメチルフェニル錫の代わりにメタクロ
ルフェニルブロマイド９７．４９（０，５１ｍｏ１．）
を用いて実施例１と同一仕込量、同一条件下、同様に操
作して、無色粘稠な液体のシネオフイル−ジーパラクロ
ルフェニル錫１０７．５９を得た。

ガスクロマトグラフィーによる純度は９７．５％、賜金
ｆｉ１９．１％（理論値１９．５％）であった。

次いで上記のテトラ体７１．８ｇ（０，１１８ｍｏｌ）
を用い、実施例１−２）の方法に従って臭素を反応させ
、祖シネオフイルーメタクロルフェニル錫プロミドを得
た後、このものにフッ化ソーダを作用させ、ｎ−ヘキサ
ンで再結晶して白色固体のシネオフイル−メタクロルフ
ェニル錫フルオリド３２．７９を得た。

融点＝Ｉ　０４〜１０５℃、錫含量＝２３．０％（理論
値２３．０％）。

実施例２４　シネオフイル−フェニル錫フルオリド（化
合物１４４） メタトリフルオロメチルフェニルプロミドの代わりにフ
ェニルプロミド７８．８ｇ（０，５０２ｍｏｌ）を用い
、実施例！−１）と同様にして無色粘稠液体のノネオフ
ィルージフェニル錫１０８．９ｇを得た。ガスクロマト
グラフィーによる純度９７．８％、錫含量２１．７％（
理論値２２．０％）。

次いで上記のテトラ体８０ｇ（０、１２８ｍｏｌ）を用
い実施例１−２）の方法に従い白色固体のシネオフイル
−フェニル錫フルオリド３９．６９を得た。

融点−３７〜４０°Ｃ１錫含量−２４，９％（理論値２
４．７％）。

実施例２５　シネオフイル−オルソメトキシフェニル錫
クロライド（化合物１３３） メタトリフルオロメチルフェニルプロミドの代わ？）に
オルソアニシルブロミド９３．８ｇ（０，５０２ｍｏｌ
）を用い、実施例１−１）と同様にして、無色粘稠な液
体のシネオフイル−ジーオルソメトキシフェニル錫１０
５．９９を得た。ガスクロマトグラフィーによる純度は
９６．５％であった。錫含量−１９，５％（理論値１９
％）。

次いで上記テトラ体７０．７９（０，１１８ｍｏｌ）お
よび塩素を用い、実施例５の方法と同様にして白色固体
のシネオフイル−オルソメトキシフェニル錫クロリド３
０．１ｇを得た。ガスクロマトグラフィーによる純度は
９９．５％であった。

融点＝６９〜７２°Ｃ１錫含量＝２２．７％（理論値２
２．５％）。

実施例２６　シネオフイル−３−チェニル錫フルオリド
（化合物２１５） ■）　シネオフイル−ジー３−チェニル錫撹拌機、温度
計、滴下ロート及び冷却器を備えたｌＱ四ツロフラスコ
に、３−チェニルブロマイド７５ｇ（０，４６１ｍｏｌ
）とエーテル（無水）２００９とを入れて一５０°Ｃに
冷却した。滴下ロートに入れたｎ−ブチルリチウム１８
５．３９（１５％へキサン溶液）を同温度以下で滴下し
た。滴下終了後同温度以下で約１０分撹拌した後シネオ
フイル錫ジクロリド７３．５９（０，１６１ｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン１４０ｇに溶解した溶液を−５０〜
−６０°Ｃて約３０分かけて、滴下ロートから滴下した
。

滴下終了後、同温度で約２時間撹拌した後、室温にらど
じ、更に約１時間撹拌した。反応終了後、水１２０ｍρ
を加えて水解し、有機層を分離し、ヘキサン２００９を
加えて、水洗濾過し、減圧濃縮４〜ろとかっ色の粘稠液
体が得られた。これにｎ　−ヘキサン３００ｇ、活性白
土４０９を加えて脱色し、濾過して減圧濃縮し、無色透
明で粘稠な液体のシネオフイル−ジー３−チェニル錫８
１．７９を得た。

ガスクロマトグラフィー分析の結果、純度は９５゜０％
であった。又場合ｆｆ１２１．０％（理論値２＋。

６％）であった。

２）　シネオフイル−３−チェニル錫フルオリド 」二Ｓ己で得たシネオフイル−ジー３−ヂエニル錫８０
ｇ（０，１４５ｍｏりを用い、実施例１　、（２）の方
法に従い、まず臭素を反応させて徂シネオフイルー３−
チェニル錫プロミドを得た後、このものにフッ化ソーダ
を作用させてｎ−ヘキサンで再結晶すると、白色固体の
シネオフイル−３−ヂエニル錫フルオリド２１．５ｇを
得た。融点：＝８５〜９０℃、賜金塁−２４，７％（理
論値２４．４％）。

実施例２７　ジシクロへキシルーパラトリフルオロメチ
ルフェニル錫クロリド（化合物１６４）メタトリフルオ
ロメチルフェニルプロミド及びシネオフイル錫ジクロリ
ドの代わりにそれぞれパラトリフルオロメチルフェニル
プロミド１１３゜４９（０，５０４ｍｏｌ）およびジシ
クロヘキシル錫ジクロリド６６．９ｇ（０，１８８ｍｏ
ｌ）を用いる外は実施例１−１）と同様にして白色固体
の粗ジシクロヘキシルージーパラトリフルオロメチルフ
ェニル錫１０１．７９を得た。ガスクロマトグラフィー
による純度は９３．３％であった。

次いで上記のテトラ体６０ｇ（０，１０５ｍｏｌ）を用
い、実施例５の方法に従って塩素と反応させて処理し、
白色固体のジシクロへキシル−パラトリフルオロメチル
フェニル錫クロリド３１．５ｇを得た。ガスクロマトグ
ラフィーによる純度は９９゜０％であった。

融点＝７４〜７５℃、賜金量＝２５．８％（理論値２５
．５％）。

実施例２８　ビス（ジシクロへキシル−パラトリフルオ
ロメチルフェニル錫）オキシド（化合物１実施例２７で
得たジシクロへキンルーバラトリフルオロメチルフェニ
ル錫クロリド１５．０ｇ（３２、２ｍｍｏｌ）を実施例
６と同様に処理し、白色固体のビス（ノンクロヘキシル
ーパラトリフルオロメチルフェニル錫）オキシド１１．
３ｇを得た。

融点＝８６〜８９℃、賜金量＝２６．８％（理論値２７
．１％）。

実施例２９　シンクロへキンルーパラトリフルオロメチ
ルフェニルＳＱ　−ｎ−ブチルチオグリコレート（化合
物１６７） 実施例２８で得たビス（ジシクロヘキシルーパ’ｙ　Ｌ
　ＩＩ　７１じナロメ壬ルファニル矩）オキシド６９（
６、８ｍｍｏｌ）およびチオグリコール酸ｎ−ブチル２
．０９（１３、６＋＋＋ｍｏｌ）をトルエン３０ｇに溶
解し１１０〜１１２℃において１時間共沸脱水反応を行
なった。反応後トルエンを減圧下留去し、淡黄色液体７
．８ｇを得た。

屈折率ｎ”−１，５３３７、場合ｆｌｌ＝２０．４％（
理論値２０．６％）。

実施例３０　ジシクロへキシル−３，４−ジシクロフェ
ニル錫フルオリド（化合物１９０）メタトリフルオロメ
チルフェニルプロミド及びシネオフイル錫クロリドの代
わりにそれぞれ３゜４−ジクロルフェニルプロミド１１
３．８９（０，５Ｑ　４　ｍｏｌ）、およびジシクロヘ
キシル錫ジクロリド６６．９ｇ（０，１８８ｍｏｌ）を
用いる外は実施例１−１）と同様にして無色粘稠なジシ
クロヘキシル−ジー（３，４−ジクロルフェニル）錫１
０１．９ｇを得た。ガスクロマトグラフィーによる純度
は９５゜９％、場合！１２０．２％（理論値２０．６％
）であった。

上記で得たジシクロヘキシルーパ（３，４−ジクロルフ
ェニル）錫８６．５ｇ（０，１５０ｍｏｌ）を用い、実
施例１−２）の方法と同様に反応、処理して白色固体の
シンクロヘキシル−３，４−ジクロルフェニル錫フルオ
リド３５．５ｇを得た。

融点−１９３℃（分解）、賜金量−２６，０％（理論値
２６，４％）。

実施例３１　　ジシクロへキシル−フェニル錫クロリド メタトリフルオロメチルプロミド及びシネオフイル錫ジ
クロリドの代わりにそれぞれフェニルプロミド１５６．
２１？（１，００８ｍｏｆ）およびジシクロヘキシル錫
ジクロリドＩ　３３．８ｇ（０，３７６ｍｏｌ）を用い
て実施例１．（１）と同様に反応、処理して白色固体の
ジシクロヘキシルージ（フェニル）錫１５５．２ｇを得
た。ガスクロマトグラフィーによる純度は９４．９％で
あった。このテトラ体１５０．８１？（０、３４３ｍｏ
ｌ）を用いて、実施例５と同様に反応、処理し、ｎ−ヘ
キサンで再結晶して、白色固体のシンクロへキシル−フ
ェニル錫クロリド８６゜０９を得た。ガスクロマトグラ
フィーによる純度は９８，８％であった。

融点５０〜５２℃、賜金量３０．２％（理論値２９．９
％）。

実施例　３２　ジシクロへキシル−トリメチルシリルメ
チル錫クロリド（化合物２３２）メタトリフルオロメチ
ルフェニルプロミドの代わりにトリメチルシリルメチル
クロリド３０．８９（０，２５１ｍｏｌ）、シネオフイ
ル錫ジクロリドの代わりに実施例３１で得たジシクロへ
キシル−フェニル錫クロリド７４．７９（０，１８８ｍ
ｏｌ）を用い、またマグネシウムの量を６．　Ｉｆ（０
，２５１ｍｏｌ）、トリメチルシリルメチルクロリドを
希釈するテトラヒドロフランの量を１１０９として、実
施例１−１）と同様に反応、処理し、無色粘稠液体のジ
シクロへキシル−フェニル−トリメチルシリルメチル錫
７９．４ｇを得た。ガスクロマトグラフィーによる純度
は９７．５％であった。

次に上記で得たテトラ体４８．５ｇ（０，１０８ｍｏｌ
）を用い、実施例５に従い、塩素と反応させ、濃縮して
残渣をｎ−ヘキサンにて再結晶し、白色固体のシネオフ
イル−トリメチルシリルメチル錫クロリド３５．２ｇを
得た。ガスクロマトグラフィーによる純度は９９．０％
であった。融点＝７４℃。

実施例３３　ビス（ジシクロへキンルートリメチルシリ
ルメチル）錫オキシド（化合物２３３）実施例３２で得
たジシクロヘキシルートツメチルンリルメチル錫クロリ
ド２５．３９（０，０６２ｍａｔ）を用いて実施例２と
同様に反応、処理し、白色固体のビス（ジシクロへキシ
ル−トリメチルシリルメチル）錫オキシド２１．２９を
得た。融点は１５１〜１５３℃であった。

実施例３４　０−（ジシクロヘキシルートツメチルシリ
ルメチル錫）０．０−ジブチルホスフェート（化合物２
３７） 実施例３３て得たビス（ジンクロヘキシルートツメチル
シリルメチル）錫オキシド６．８９（８，９ｍｍｏｌ）
、０．０−ジブチルホスフェ”ト、３．７９（１７゜８
ｍｍｏｌ）およびトルエン４０ｇを実施例７に従って反
応させ、トルエンを留去し、残渣をメタノール；アセト
ニトリルの混合溶媒で再結晶して白色固体のＯ−（ジシ
クロへキシル−トリメチルシリルメチル）錫０．０−ジ
ブチルホスフェート８．３９を得た。融点１３０〜１３
２℃であった。

前記の実施例と実質上同様にして、各種の有機錫化合物
を製造した。

下記の表１に各実施例で得られた化合物、その性状並び
に特性値を示す。

本明細書において用いた略語は次の意味を有する。

Ｍｅ：メチル Ｅｔ：エチル Ｂｕニブチル Ｏｃｔ：オクチル ｐｈｅ　：フェニル ＡＣ＝アセチル 以下に、実施例に従って得た化合物を有効成分として含
有する、本発明の殺虫剤の製剤例を示す。

製剤例１　水和剤 化合物（２Ｂ）５０部、クレー４０．５部、ホワイトカ
ーボン５部、ポリオキシアルキレンアルキルアリルエー
テルサルフェート３部およびアルキルベンゼンスルホン
酸塩１．５部を混合粉砕して水和剤とする。使用の際に
は水に懸濁して散布する。

製剤例２　乳剤 化合物（２５）２５部、アルキル了りルスルホネート３
部およびポリオキシアルキレンアルキルアリルエーテル
１０部をキシレン４２部およびジメチルホルムアミド２
０部に均一に溶解して乳剤とする。使用の際には水で希
釈して散布する。

製剤例３　微粉剤 化合物（３３）１５部、ホワイトカーボン２０部、イソ
プロピルアシドホスフェート０．３部および微粉クレー
６４．７部を混合粉砕してジェットマイザー粉砕機で微
粉剤とずろ。使用の際にはそのまま散布する。

製剤例４　粉剤 化合物（４９）５部、クレー９１．７部、ホワイトカー
ボン３部およびトール油０．３部を混合粉砕して粉剤と
する。使用の際にはそのまま散布する。

本発明化合物の殺虫効果を以下の実験例に示す方法で試
験した。

実験例１ 〔検ＫｊＬ調製法〕 化合物（１）の少量をＤＭＦ（ジメチルホルトアミド）
に溶かし、トウィーン２０をＩ　ＯＯｐｐｍの濃度で含
む蒸留水を加えて所定濃度にする。

〔試験方法〕

Ａ、ハスモンヨトウ殺幼虫試験 ７部７ｃｍのキャベツ葉片を検液中に浸漬後風乾した。

これを直径９ｃｘのペトリ皿に２枚ずつ入れ３全幼虫１
０頭を放生して２５°Ｃに保ち、４８時間後の殺虫率を
求めた。

Ｃ，コナガ段幼虫試験 ７Ｘ７ｃｍのキャベツ葉片を検液中に浸漬後風乾した。

これを直径９ｃｘのペトリ皿に１枚ずつ入れ、３令幼虫
ＩＯ頭を放虫して２５℃に保ち、４８時間後の殺虫率を
求めた。

Ｄ、コカクモンハマキ殺幼虫試験 チャｍ（全英）を検液中に浸漬後風乾した。これを直径
６ｃ１、深さ４ｃｙ、のポリエチレンカップに３枚ずつ
入れ、４令幼虫ｌＯ頭を放虫し、２５℃に保ち、４８時
間後の殺虫率を求めた。

Ｅ、Ｆ、ツマグロヨコバイ殺成虫試験（Ｅ、感受性、Ｆ
、抵抗性） １．５〜２葉令の水稲苗６〜７本を束ねてスポンジで根
際部を巻き、少量の水を入れた直径６ｃｍ、深さ４ｃｍ
のポリエチレンカップ中に固定した。これを回転式散布
塔に入れて検液２ｒｔｒ（ｌを茎葉部に噴霧処理後風乾
した。次に、処理菌を透明プラスチック円筒で覆い、雌
成虫をｌＯ０頭放虫て２５℃に保ち、４８時間後の殺虫
率を求めた。

１、Ｊ、モモアカアブラムシ殺仔虫（殺幼虫）試験（１
，感受性、Ｊ、抵抗性） 直径６ｃｍ深さ＋ｉｃｉのポリエチレンカップに０゜３
％素寒天ゲルを満たし、この上に３×３Ｇ１１のハクサ
イ葉片を置いた。ハクサイ葉片上に前屈成虫１頭を放虫
し、２５℃に２４時間保って産仔させた。成虫を除去し
た後、回転式散布塔下で検液２ｙｎＱを葉片上から噴霧
処理した。処理後、２５℃に保ち４８時間後の殺虫率を
求めた。

Ｍ、ニセナミハダニ殺成虫試験、Ｏ，ナミハダニ殺成虫
試験 直径６ｃｘ深さ４Ｃ肩のポリエチレンカップに０゜３％
素寒天ゲルを満たし、この上に直径２ｃｍのインゲンマ
メ葉片を置いた。インゲンマメ葉片上に雌成虫約１２頭
を放虫し、２５℃に２４時間保った後先成虫および衰弱
成虫を除去し、回転式散布塔下て検液２ｙ（ｌを葉片お
よび成虫の上から噴霧処理した。処理後、２５°Ｃに保
ち４８時間後の殺虫率を求めた。

Ｘ、ニセナミハダニ殺幼虫試験、Ｙ、ナミハダニ殺幼虫
試験 直径６ｃｘ深さ４ｃ１１のポリエチレンカップにＯ５３
％素寒天ゲルを満たし、この上に直径２ｃｍのインゲン
マメ葉片を置いた。インゲンマメ葉片上に雌成虫７頭を
放虫し、２５℃に２４時間保って、産卵させた。成虫を
除去後、回転式散布塔下で検液２１１１２を葉片上から
噴霧処理した。処理後、２５℃に保ち、７日後の瞬化虫
数のうち死亡した酢化虫数より殺虫率を求めた。

Ｎ、ニセナミハダニ殺卵試験、Ｐ、ナミハダニ殺卵試験 ＸおよびＹの場合と同様に処理し、処理後２５℃に保ち
７日後岬化しなかった数、即ち死卵数上り殺卵率を求め
た。

Ｔ、ニジュウヤホシテントウ殺成虫試験６Ｘ６Ｃｊｌナ
ス葉片１枚ずつを検液中に浸漬後風乾した。これを直径
９ｃｒｚのベトリ皿に入れ、成虫を葉片あたり５頭放虫
して２５℃に保ち４８時間後の殺虫率を求めた。

Ｒ，ワモンゴキブリ殺幼虫試験 直径９ｃｍのペトリ皿に敷いた濾紙に検液を浸漬した後
、ペトリ旧内に４４）−後１〜７日目の幼虫を５頭放虫
して２５℃に保ち、４８時間後の殺虫率を求めた。

Ｗ、アズキゾウムシ殺成虫試験 蓋および底にステンレス網を張った直径１．８Ｃ１高さ
５ｃｍのスクリュウ管に羽化２４時間以内の成虫をｌθ
頭入れた。スクリュウ管を検液中に保って４８時間後の
殺虫率を求めた。

Ｋ、ミカンハダニ殺成虫試験 インゲンマメ葉片の代わりにレモンの葉片を使用する以
外は前記のＭおよびＯと同様の方法で行った。

Ｑ、カンザワハダニ殺成虫試験 ＭおよびＯと同様の試験方法で行った。

本発明で得た化合物に関する上記の試験結果を表Ｈに示
す。

また、参考例として、市販されているオサダンΦおよび
、プリクトランΦに関する同様の試験の結果をも示した
。

ｉ＋、　ｌＩｔ度はｐｐｍで示されている。

注２．Ａはハスモンヨトウ（幼虫） Ｃはコナガ（幼虫） Ｄはコカクモンハマキ（幼虫） Ｅはツマグロヨコバイ（感受性成虫） Ｉはモモアカアブラムシ（感受性幼若虫）Ｊはモモアカ
アブラムシ（抵抗性幼若虫）Ｋはミカンハダニ（成虫） Ｉ７はミカンハダニ（卵） Ｍはニセナミハダニ（成虫） Ｎはニセナミハダニ（卵） ０はナミハダニ（成虫） Ｐはナミハダニ（卵） Ｑはカンザワハダニ（抵抗性成虫） Ｒはワモンゴキブリ（幼虫） ′ｒはニジュウヤホシテントウ（成虫）Ｗはアズキゾウ
ムシ（成虫） Ｘはニセナミハダニ（卵−幼虫） Ｙはナミハダニ（卵−幼虫） に対する殺ダニ、殺虫効果であり、数字は致死率（％）
を示す。

注３．　資料中Ｑ（カンザワハダニ）の検定には、静岡
県谷口原、岡田原のオサダン　、ブリクトラン　抵抗性
成虫を試供した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１はアルキル、シクロアルキルまたはアラ
   ルキル、Ｒ＾＊は、Ｒ＾１がアルキルのときフルオロフ
   ェニルまたはトリフルオロメチルフェニル、Ｒ＾１がシ
   クロアルキルのとき式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２はハロゲン、トリフルオロメチルまたは
   低級アルコキシを表わす） で示される基、ジクロロフェニル、ネオペンチル、トリ
   メチルシリルメチルまたはジメチルフェニルシリルメチ
   ル、Ｒ＾１がアラルキルのとき式：▲数式、化学式、表
   等があります▼ （式中、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５は互に独立して水
   素、ハロゲン、トリフルオロメチル、低級アルキルまた
   は低級アルコキシを表わす） で示される基、２−チエニル、３−チエニル、ネオペン
   チル、トリメチルシリルメチルまたはジメチルフェニル
   シリルメチルを表わし、ｍは１または２、Ｘはｍが１の
   ときハロゲン、−ＯＣＯＲ＾６、−ＳＳＣＮＲ＾７Ｒ＾
   ６、イミダゾリル、トリアゾリル、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ
   、フェニルチオあるいは式：▲数式、化学式、表等があ
   ります▼、−ＳＣＨ＿２ＣＯＯＲ＾６、−ＳＲ＾７、▲
   数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式
   、表等があります▼ （式中、Ｒ＾６はアルキル、Ｒ＾７およびＲ＾８は互に
   独立して低級アルキルを表わし、Ｒ＾９およびＲ＾１＾
   ０は互いに独立して水素または低級アルキルを表わす）
   で示される基を表わし、ｍが２のとき酸素、硫黄、硫酸
   基（−ＯＳＯ＿２Ｏ−）または基▲数式、化学式、表等
   があります▼を表わす〕 で示される有機錫化合物。 ２、一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１はアルキル、シクロアルキルまたはアラ
   ルキル、Ｒ＾＊は、Ｒ＾１がアルキルのときフルオロフ
   ェニルまたはトリフルオロメチルフェニル、Ｒ＾１がシ
   クロアルキルのとき式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２はハロゲン、トリフルオロメチル、低級
   アルキルまたは低級アルコキシを表わす）で示される基
   、ジクロロフェニル、ネオペンチル、トリメチルシリル
   メチルまたはジメチルフェニルシリルメチル、Ｒ＾１が
   アラルキルのとき式：▲数式、化学式、表等があります
   ▼ （式中、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾５は互に独立して水
   素、ハロゲン、トリフルオロメチル、低級アルキルまた
   は低級アルコキシを表わす） で示される基、２−チエニル、３−チエニル、ネオペン
   チル、トリメチルシリルメチルまたはジメチルフェニル
   シリルメチルを表わし、ｍは１または２、Ｘはｍが１の
   ときハロゲン、−ＯＣＯＲ＾６、−ＳＳＣＮＲ＾７Ｒ＾
   ８、イミダゾリル、トリアゾリル、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ
   、フェニルチオあるいは式：▲数式、化学式、表等があ
   ります▼、−ＳＣＨ＿２ＣＯＯＲ＾６、−ＳＲ＾７、▲
   数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式
   、表等があります▼ （式中、Ｒ＾６はアルキル、Ｒ＾７およびＲ＾８は互に
   独立して低級アルキルを表わし、Ｒ＾９およびＲ＾１＾
   ０は互いに独立して水素または低級アルキルを表わす）
   で示される基を表わし、ｍが２のとき酸素、硫黄、硫酸
   基（−ＯＳＯ＿２Ｏ−）または基▲数式、化学式、表等
   があります▼を表わす〕 で示される有機錫化合物を有効成分として含有する殺ダ
   ニ・殺虫剤。