JPS62149308A - 複合膜の製造方法 - Google Patents
複合膜の製造方法Info
- Publication number
- JPS62149308A JPS62149308A JP60288898A JP28889885A JPS62149308A JP S62149308 A JPS62149308 A JP S62149308A JP 60288898 A JP60288898 A JP 60288898A JP 28889885 A JP28889885 A JP 28889885A JP S62149308 A JPS62149308 A JP S62149308A
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- JP
- Japan
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- siloxane
- radiation
- porous support
- cured
- membrane
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/10—Supported membranes; Membrane supports
- B01D69/106—Membranes in the pores of a support, e.g. polymerized in the pores or voids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/125—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（Ａ＞産業上の利用分野
本発明は複合膜製造方法に関するものであり、特に空気
から酸素富化空気を得るための酸素富化膜及び希薄アル
コール溶液からアルコールを濃縮するためのアルコール
分離膜の！！！造方決方法するものであり、この膜を通
してｊｑられる酸素富化空気、濃縮アルコール溶液は、
燃焼、医療、醗酵等に利用される。
から酸素富化空気を得るための酸素富化膜及び希薄アル
コール溶液からアルコールを濃縮するためのアルコール
分離膜の！！！造方決方法するものであり、この膜を通
してｊｑられる酸素富化空気、濃縮アルコール溶液は、
燃焼、医療、醗酵等に利用される。
（Ｂ）従来の技術
混合気体からある特定の気体を選択的に分離、濃縮する
手段として高分子薄膜を用いた連続法が近年注目されて
いる。
手段として高分子薄膜を用いた連続法が近年注目されて
いる。
高分子薄膜を用いた連続的気体分離法は従来の蒸沼法、
深冷法などに比べて省エネルギー的であるが、実用化の
遅れている理由として、特定気体の透過性が大きく、か
つ他の気体をほとんど通さないほど選択性が高いような
優秀な膜が未だ開発されていないことが挙げられる。一
般に選択性を大きく覆ると気体透過性が悪くなる。この
関係を改善するために高分子膜を薄膜化し支持体と複合
化させた複合膜の製造方法が数多く検問されている。ガ
ス透過性については数多くの高分子が検討されているが
、中でもシリコンゴムと略称されるシロキサン化合物が
ジメチルシロキ“すン、メチルビニルシロキサン、メチ
ルビニルシロキサン及びだの他の変性化合物も含めて特
に秀れている。
深冷法などに比べて省エネルギー的であるが、実用化の
遅れている理由として、特定気体の透過性が大きく、か
つ他の気体をほとんど通さないほど選択性が高いような
優秀な膜が未だ開発されていないことが挙げられる。一
般に選択性を大きく覆ると気体透過性が悪くなる。この
関係を改善するために高分子膜を薄膜化し支持体と複合
化させた複合膜の製造方法が数多く検問されている。ガ
ス透過性については数多くの高分子が検討されているが
、中でもシリコンゴムと略称されるシロキサン化合物が
ジメチルシロキ“すン、メチルビニルシロキサン、メチ
ルビニルシロキサン及びだの他の変性化合物も含めて特
に秀れている。
例えばポリジメチルシロキサンは酸素の透過係数が１０
−８ｃｒｉ （ＳＴＰ） ・ｃｍ／ｃｒｒｔ−ｓｅｃ
＊ ＣｍＨ（１台で必り、従来知られている高分子膜の
中では最大の部類に属する。しかしながらこの膜は機械
的強度が小さく比較的厚い膜を用いる必要があり、従っ
て透過係数が大きくしても透過速度を大きくする事かで
きない。
−８ｃｒｉ （ＳＴＰ） ・ｃｍ／ｃｒｒｔ−ｓｅｃ
＊ ＣｍＨ（１台で必り、従来知られている高分子膜の
中では最大の部類に属する。しかしながらこの膜は機械
的強度が小さく比較的厚い膜を用いる必要があり、従っ
て透過係数が大きくしても透過速度を大きくする事かで
きない。
これを解決する方法として米国特許３，１８９，６６２
号にはポリジメチルシロキサン／ポリカーボネー１〜ブ
ロック共重合体が報告されているが、ポリカーボネー１
〜構造を含むために耐薬品性に劣る。
号にはポリジメチルシロキサン／ポリカーボネー１〜ブ
ロック共重合体が報告されているが、ポリカーボネー１
〜構造を含むために耐薬品性に劣る。
また主鎖に芳香環を有するフェノール系樹脂とα。
ω−２官能性ポリシロキサンから得られる架橋型共Φ合
体（特開昭５６−２４０１９＞においては機械的強度の
改善はされているが気体透過能は低下している。
体（特開昭５６−２４０１９＞においては機械的強度の
改善はされているが気体透過能は低下している。
シロキサン化合物の低い機械的強度という問題は十分な
機械的強度を有する支持体との複合膜化という方法で解
決し得る。しかしこの場合でもシロキサン化合物と支持
体との接着性を考慮する必要がおると同時に高い気体透
過性を維持するためにシロキサン化合物の膜は可能な限
り薄い事が必要でおる。
機械的強度を有する支持体との複合膜化という方法で解
決し得る。しかしこの場合でもシロキサン化合物と支持
体との接着性を考慮する必要がおると同時に高い気体透
過性を維持するためにシロキサン化合物の膜は可能な限
り薄い事が必要でおる。
従来、気体選択透過性複合膜の製造方法としては支持体
上にポリマー溶液を塗イ「シた後に溶媒を乾燥除去する
方法、多孔質支持体をシリコーン含有の半浸透性膜形成
剤および架橋剤を含有するハロゲン置換エタン溶液に浸
漬後、加硫する方法（特開昭５９−３２０１号）、ポリ
オルガノシロキサン系重合体の非水系溶媒溶液を水面上
に展開して薄膜化し、多孔質支持体に付着せしめる方法
（例えば米国特許３，８７４，９８６号）及びざらに加
硫処理を施す方法（特開昭５８−９２４３０）、しかし
ながら、これらの方法ではシロキサン化合物の層を非常
に薄くするため欠点を生じやすい。
上にポリマー溶液を塗イ「シた後に溶媒を乾燥除去する
方法、多孔質支持体をシリコーン含有の半浸透性膜形成
剤および架橋剤を含有するハロゲン置換エタン溶液に浸
漬後、加硫する方法（特開昭５９−３２０１号）、ポリ
オルガノシロキサン系重合体の非水系溶媒溶液を水面上
に展開して薄膜化し、多孔質支持体に付着せしめる方法
（例えば米国特許３，８７４，９８６号）及びざらに加
硫処理を施す方法（特開昭５８−９２４３０）、しかし
ながら、これらの方法ではシロキサン化合物の層を非常
に薄くするため欠点を生じやすい。
また水面展開法に関しては装置及び操作の煩雑さといっ
た欠点が存在し良好な物性を有する複合膜を工業的に得
るための製造方法として必ずしも満足されるものではな
かった。特に多孔質支持体の表面は少なからず凸凹が存
在している事と、開孔部と平面部という本質的な凸凹が
存在しているために薄膜の多孔質支持体上に積層して圧
力を加えた場合表面の凸凹によって薄膜が破れる事はよ
くａｓこることである。このような薄膜の損傷を避ける
ために薄膜の上にざらに保護層を設ける特許も出されて
いるが（特開昭５１−１２１４８５＠）、結果的に膜厚
が厚くなり透過性の低下の原因となる。
た欠点が存在し良好な物性を有する複合膜を工業的に得
るための製造方法として必ずしも満足されるものではな
かった。特に多孔質支持体の表面は少なからず凸凹が存
在している事と、開孔部と平面部という本質的な凸凹が
存在しているために薄膜の多孔質支持体上に積層して圧
力を加えた場合表面の凸凹によって薄膜が破れる事はよ
くａｓこることである。このような薄膜の損傷を避ける
ために薄膜の上にざらに保護層を設ける特許も出されて
いるが（特開昭５１−１２１４８５＠）、結果的に膜厚
が厚くなり透過性の低下の原因となる。
（Ｃ）発明が解決しようとする問題点
本発明は選択分離性、透過性、強度のすべての物性を満
足する素材を得る事を目的とする。
足する素材を得る事を目的とする。
一般に多孔質支持体と薄膜とを積層して複合膜を作製す
る場合、透過性を良くするという点からはＪ￥膜層は薄
ければ薄いほど良いが一方強度の点からは薄膜層は薄け
れば薄いほど薄膜層自身は損傷し易くピンホールや破裂
の影響を受【ツヤすく選択分離性が低下するという結果
を導きやすい。特に薄膜の厚さが１μ以下のような場合
は、支持体と薄膜との間に存在するゴミなどの安物や、
多孔質支持体が木質的に持つ凸凹なども積層して圧力を
かＧプだ際に薄膜を１０傷する原因となる。
る場合、透過性を良くするという点からはＪ￥膜層は薄
ければ薄いほど良いが一方強度の点からは薄膜層は薄け
れば薄いほど薄膜層自身は損傷し易くピンホールや破裂
の影響を受【ツヤすく選択分離性が低下するという結果
を導きやすい。特に薄膜の厚さが１μ以下のような場合
は、支持体と薄膜との間に存在するゴミなどの安物や、
多孔質支持体が木質的に持つ凸凹なども積層して圧力を
かＧプだ際に薄膜を１０傷する原因となる。
このにうな薄膜と多孔質支持体からなる複合膜において
相反する性質がある中で本発明においては多孔質支持体
の孔内のみに一定の厚さで薄膜を形成する方法を鋭利追
求した結果、放射線重合法を用いて良好な性質を有する
複合膜の開発に成功した。
相反する性質がある中で本発明においては多孔質支持体
の孔内のみに一定の厚さで薄膜を形成する方法を鋭利追
求した結果、放射線重合法を用いて良好な性質を有する
複合膜の開発に成功した。
（Ｄ＞問題点を解決するための手段
敢銅線照射により硬化可能な不飽和結合を有する液状の
シロキサン化合物を多孔性支持体の片面から含浸し、他
の片面から紫外線または電子線照射により孔内部のシロ
キサン化合物を重合により硬化し、未重合シロキサン化
合物を溶媒洗浄ににり除去する事を特徴とする複合膜の
製造方法。
シロキサン化合物を多孔性支持体の片面から含浸し、他
の片面から紫外線または電子線照射により孔内部のシロ
キサン化合物を重合により硬化し、未重合シロキサン化
合物を溶媒洗浄ににり除去する事を特徴とする複合膜の
製造方法。
本発明における選択透過性複合膜は薄膜層が選択性、透
過性を有し、多孔質−支持体層が強度を有し、薄膜層は
多孔質支持体の孔内に固定されている構造となっている
。（第１図参照） 多孔質支持体は強度の他に耐薬品性、耐熱性及び孔径安
定性を有する素材である事か好ましく、市販の多孔性高
分子素材や紙、不織イ［へどから目的に合ったものを選
ぶ。上記の多孔質支持体と組み合わせる薄膜の原料とし
ては高分子鎖の末端にビニル基、アクリル酸エステル基
やメタクリル酸エステル基のような不飽和カルボキシエ
ステル基、アクリルアミド基などを１個以上有するシロ
キサン化合物を用いる。このような高分子材料は多孔性
支持体の孔内に含浸させた後で電子線を照射することに
より、または多孔質支持体が透明であれば光開始剤と共
に紫外線照射することにより容易に重合反応が進み硬化
し成膜化する。
過性を有し、多孔質−支持体層が強度を有し、薄膜層は
多孔質支持体の孔内に固定されている構造となっている
。（第１図参照） 多孔質支持体は強度の他に耐薬品性、耐熱性及び孔径安
定性を有する素材である事か好ましく、市販の多孔性高
分子素材や紙、不織イ［へどから目的に合ったものを選
ぶ。上記の多孔質支持体と組み合わせる薄膜の原料とし
ては高分子鎖の末端にビニル基、アクリル酸エステル基
やメタクリル酸エステル基のような不飽和カルボキシエ
ステル基、アクリルアミド基などを１個以上有するシロ
キサン化合物を用いる。このような高分子材料は多孔性
支持体の孔内に含浸させた後で電子線を照射することに
より、または多孔質支持体が透明であれば光開始剤と共
に紫外線照射することにより容易に重合反応が進み硬化
し成膜化する。
電子線照射による硬化においては電子線の透過深さは透
過物の密度と加速電圧によって決まるため多孔質支持体
の孔内のシロキサン化合物の硬化厚みを加速電圧と照射
量のコントロールする事により任意に調節することがで
きる。
過物の密度と加速電圧によって決まるため多孔質支持体
の孔内のシロキサン化合物の硬化厚みを加速電圧と照射
量のコントロールする事により任意に調節することがで
きる。
放射線の照射は多孔質支持体表面においてシロキサン化
合物が硬化することを防ぐためにシロキサン化合物を密
着させた多孔質支持体の面とは逆の面より実行する。
合物が硬化することを防ぐためにシロキサン化合物を密
着させた多孔質支持体の面とは逆の面より実行する。
シロキサン化合物は単独でも、また数種類混合しても硬
化させる事ができるし、さらに仙にスチレンなどの低分
子量の七ツマ−を加えてら硬化可能である。膜厚及び重
合度をコントロールするための加速電圧、照射量などの
条件は使用する多孔質支持体およびシロキサン化合物に
よって異なるか、今回の実施例においては加速電圧１５
０〜２００ＫＶ、照射ｆｆ１１〜２０Ｍｒａｄの範囲内
で硬化可能である。放射線硬化により孔内部のシロ主１
ノン化合物を硬化成膜した複合膜は過剰のシロキサン化
合物を直らに溶媒により洗浄して除去する。
化させる事ができるし、さらに仙にスチレンなどの低分
子量の七ツマ−を加えてら硬化可能である。膜厚及び重
合度をコントロールするための加速電圧、照射量などの
条件は使用する多孔質支持体およびシロキサン化合物に
よって異なるか、今回の実施例においては加速電圧１５
０〜２００ＫＶ、照射ｆｆ１１〜２０Ｍｒａｄの範囲内
で硬化可能である。放射線硬化により孔内部のシロ主１
ノン化合物を硬化成膜した複合膜は過剰のシロキサン化
合物を直らに溶媒により洗浄して除去する。
このようにしてｊ７られた複合膜は強度的に弱いシロキ
サン薄膜が多孔質支持体内部で保護されているため多孔
質支持体表面の異物や凸凹によって損傷することはなく
、また単なる積層膜に比べて取り扱いも便利である。
サン薄膜が多孔質支持体内部で保護されているため多孔
質支持体表面の異物や凸凹によって損傷することはなく
、また単なる積層膜に比べて取り扱いも便利である。
このようにして得られた複合膜はこのまま選択性分離膜
として用いる事も出来るし、要求に応じて他の機能を有
する膜を多孔質支持体上に積層することも可能である。
として用いる事も出来るし、要求に応じて他の機能を有
する膜を多孔質支持体上に積層することも可能である。
放射線重合による薄膜が多孔質支持体の開孔部をふさい
で無孔性となっているため積層すべき材料の粘性が低く
ても毛管現染による濃度のムラヤ材料の１１失はおこら
ないという利点がある。
で無孔性となっているため積層すべき材料の粘性が低く
ても毛管現染による濃度のムラヤ材料の１１失はおこら
ないという利点がある。
（Ｅ）作用
上記のように作成された選択性分離複合膜は強固な支持
体層の働きで衝撃力、破断力に対して強い耐性を有する
。また放射線重合によりシロキサン化合物が均一な薄膜
を形成しているため高い透過性を持ち、空気に関して言
えば窒素に比べて酸素の透過性か大きいために酸素富化
作用がある。
体層の働きで衝撃力、破断力に対して強い耐性を有する
。また放射線重合によりシロキサン化合物が均一な薄膜
を形成しているため高い透過性を持ち、空気に関して言
えば窒素に比べて酸素の透過性か大きいために酸素富化
作用がある。
また放射線重合により生成した薄膜は多孔質支持体の内
部にあるため簿膜と多孔質支持体との摩１察による薄膜
の損傷が極力抑えられている。また多孔性支持体の内部
を、放射線ｍ合により生成した薄膜が満たし無孔性とな
っているため、ざらに積層膜を生成する際に均一膜を作
りやすくしている。゛（Ｆ）実施例 実施例１ 多孔性支持体としてシェラガード２５０２ （ハイフラ
ックスタイプ、ポリプラスデック社製ポリプロピレンマ
イクロポーラスフィルム）を支持用ガラス板上にバーコ
ーターで展開した末端ビニル変性ポリジメチルシロキサ
ン（ＰＳＩ社１ｓ４４５）の上におき、ロールを数回往
復させて気泡を除き次に電子線照射装置（ＥＳＩ社製、
エレク１〜ロカーテン）内に支持用ガラス板ごと導入し
、照射室内を窒素で置換し酸素濃度を１５０ｐＩ）ｍと
し、加速電圧１７５ＫＶで１〜２０Ｍｒａｄの電子線を
照射した。このようにして得られた複合膜から未架橋の
シロキサン化合物をスチレンクロライドを用いてソック
スレー抽出して除去し第１図に示すような積層膜を得た
。この積層膜の気体透過速度をｃｒｉ （ＳＴＰ） ／
ｍ−２４ｈｒ−ａｔｍ （７）単位で表わすと０２は１
２．５Ｘ１０５、Ｎｚは６．Ｏｌ！×１０５であった。
部にあるため簿膜と多孔質支持体との摩１察による薄膜
の損傷が極力抑えられている。また多孔性支持体の内部
を、放射線ｍ合により生成した薄膜が満たし無孔性とな
っているため、ざらに積層膜を生成する際に均一膜を作
りやすくしている。゛（Ｆ）実施例 実施例１ 多孔性支持体としてシェラガード２５０２ （ハイフラ
ックスタイプ、ポリプラスデック社製ポリプロピレンマ
イクロポーラスフィルム）を支持用ガラス板上にバーコ
ーターで展開した末端ビニル変性ポリジメチルシロキサ
ン（ＰＳＩ社１ｓ４４５）の上におき、ロールを数回往
復させて気泡を除き次に電子線照射装置（ＥＳＩ社製、
エレク１〜ロカーテン）内に支持用ガラス板ごと導入し
、照射室内を窒素で置換し酸素濃度を１５０ｐＩ）ｍと
し、加速電圧１７５ＫＶで１〜２０Ｍｒａｄの電子線を
照射した。このようにして得られた複合膜から未架橋の
シロキサン化合物をスチレンクロライドを用いてソック
スレー抽出して除去し第１図に示すような積層膜を得た
。この積層膜の気体透過速度をｃｒｉ （ＳＴＰ） ／
ｍ−２４ｈｒ−ａｔｍ （７）単位で表わすと０２は１
２．５Ｘ１０５、Ｎｚは６．Ｏｌ！×１０５であった。
実施例２
放！、１１線硬化樹脂を末端メタクリロキシプロピル変
性ポリジメチルシロキサン（ＰＳＩ社’ＮＰ３５８３）
を用い実施例１と同様な処理により積層膜を得た。気体
透過速度をｃｒｔｉ （ＳＴＰ） ／ｒｒｔ ・２４ｈ
ｒ・ａｔｎｌの単位で用いて表わずと０２は９．６７
Ｘ１０５、Ｎ２は４．２８Ｘ’ｌＯ５であった。
性ポリジメチルシロキサン（ＰＳＩ社’ＮＰ３５８３）
を用い実施例１と同様な処理により積層膜を得た。気体
透過速度をｃｒｔｉ （ＳＴＰ） ／ｒｒｔ ・２４ｈ
ｒ・ａｔｎｌの単位で用いて表わずと０２は９．６７
Ｘ１０５、Ｎ２は４．２８Ｘ’ｌＯ５であった。
実施例３
シリコンゴム（ＬＳ６３ＬＪ、トーレシリコーン製）に
過酸化物（１〜−レＲＣ−２＞を１．５＠量％添加し、
そのものにトルエンを８５車Φ％になるように加え１０
時間攪拌して均一溶液を得る。実施例２で１ｑられた電
子線処理した複合膜の表面にバーコーターで塗布した後
、１２０℃で１０分間加熱する。このようにして得られ
た複合膜から未架（ｎのシロキサン化合物をメヂレンク
ロライドを用い、除去し第２図に示すような積層膜を得
た。
過酸化物（１〜−レＲＣ−２＞を１．５＠量％添加し、
そのものにトルエンを８５車Φ％になるように加え１０
時間攪拌して均一溶液を得る。実施例２で１ｑられた電
子線処理した複合膜の表面にバーコーターで塗布した後
、１２０℃で１０分間加熱する。このようにして得られ
た複合膜から未架（ｎのシロキサン化合物をメヂレンク
ロライドを用い、除去し第２図に示すような積層膜を得
た。
この積層膜の気体透過速度をｃｉ（ＳＴＰ）／尻・２４
ｈｒ −ａｔｍの単位を用いて表わすと０２で４．５５
Ｘ１０５、Ｎ２で２．４１Ｘ１０５であった。
ｈｒ −ａｔｍの単位を用いて表わすと０２で４．５５
Ｘ１０５、Ｎ２で２．４１Ｘ１０５であった。
（Ｇ）発明の効果
本発明の方法に基づいて作成した積層膜をステンレス製
の気体透過測定セルに保持し一方から酸素２１％、窒素
７９％の標準空気をｌ Ｋｇ ／ ｃｎｉの圧力でｈｎ
圧し摸を透過した気体をガスクロマトグラフィーにより
分析したところ酸素の濃度か３５％以上に高められてい
る串が確認され酸素富化の効果を有する事が確かめられ
た。
の気体透過測定セルに保持し一方から酸素２１％、窒素
７９％の標準空気をｌ Ｋｇ ／ ｃｎｉの圧力でｈｎ
圧し摸を透過した気体をガスクロマトグラフィーにより
分析したところ酸素の濃度か３５％以上に高められてい
る串が確認され酸素富化の効果を有する事が確かめられ
た。
本発明の複合膜は、放射線の照剣によってシロキサン化
合物を硬化成膜ざじるため、膜厚は薄く、均一で透過性
、選択分離性、膜強度等の諸物性に優れた複合膜である
。
合物を硬化成膜ざじるため、膜厚は薄く、均一で透過性
、選択分離性、膜強度等の諸物性に優れた複合膜である
。
第１図は本発明の実施例１および実施例２におＣプる複
合膜の断面図を示す。 第２図は本発明の実施例３にお（プる複合膜の断面図を
示す。 １・・・・・・多孔質支持体 ２・・・・・・放射線硬化による薄膜層３・・・・・・
放射線硬化法またはそれ以外の方法ににって積層される
膜
合膜の断面図を示す。 第２図は本発明の実施例３にお（プる複合膜の断面図を
示す。 １・・・・・・多孔質支持体 ２・・・・・・放射線硬化による薄膜層３・・・・・・
放射線硬化法またはそれ以外の方法ににって積層される
膜
Claims (1)
- （１）放射線照射により硬化可能な不飽和結合を有する
液状のシロキサン化合物を多孔性支持体の片面から含浸
し、他の片面から紫外線または電子線照射により孔内部
のシロキサン化合物を重合により硬化し、未重合のシロ
キサン化合物を溶媒洗浄により除去する事を特徴とする
複合膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60288898A JPS62149308A (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | 複合膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60288898A JPS62149308A (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | 複合膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62149308A true JPS62149308A (ja) | 1987-07-03 |
| JPH0244575B2 JPH0244575B2 (ja) | 1990-10-04 |
Family
ID=17736211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60288898A Granted JPS62149308A (ja) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | 複合膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62149308A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6756085B2 (en) | 2001-09-14 | 2004-06-29 | Axcelis Technologies, Inc. | Ultraviolet curing processes for advanced low-k materials |
| EP1741481A2 (de) | 2005-07-05 | 2007-01-10 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Kompositmembran |
| WO2011136977A1 (en) * | 2010-04-29 | 2011-11-03 | 3M Innovative Properties Company | Electron beam cured siliconized fibrous webs |
| US8541481B2 (en) | 2008-10-29 | 2013-09-24 | 3M Innovative Properties Company | Gentle to skin adhesive |
| US8822560B2 (en) | 2008-10-29 | 2014-09-02 | 3M Innovative Properties Company | Electron beam cured silicone release materials |
| US9359529B2 (en) | 2008-10-29 | 2016-06-07 | 3M Innovative Properties Company | Electron beam cured silicone materials |
-
1985
- 1985-12-20 JP JP60288898A patent/JPS62149308A/ja active Granted
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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