JPS62145011A - 日焼け止めメークアップ化粧料 - Google Patents
日焼け止めメークアップ化粧料Info
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- JPS62145011A JPS62145011A JP28457885A JP28457885A JPS62145011A JP S62145011 A JPS62145011 A JP S62145011A JP 28457885 A JP28457885 A JP 28457885A JP 28457885 A JP28457885 A JP 28457885A JP S62145011 A JPS62145011 A JP S62145011A
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
- A61K8/29—Titanium; Compounds thereof
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
- A61K2800/41—Particular ingredients further characterized by their size
- A61K2800/412—Microsized, i.e. having sizes between 0.1 and 100 microns
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は疎水化された微粒子状酸化チク/l−配合して
なる日焼は止め化粧料に関する。
なる日焼は止め化粧料に関する。
皮膚に過度の紫外線が照射された場合、その皮膚には紅
斑、水泡、浮腫の発生に続いて色素沈着が起ることが知
られている。また紫外線は頭髪に対しても有害で、切れ
毛、抜毛の原因となる。特に波長290〜350mμの
紫外線は起炎作用が強く皮膚や頭髪に対する悪影響が大
である0従来よりこれらの障害を予防するため、各種の
紫外線吸収剤を配合した化粧料が開発され、市販されて
いる。従来配合されている紫外線吸収剤としては、p−
アミノ安息香酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾトリ
アゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、゛ケイ皮酸誘
導体等の合成紫外線吸収剤と、酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化鉄等の無機顔料が挙げられる。しかしながら、前者
の合成紫外線吸収剤には、溶解性から化粧料基剤への添
加量に制限があること、また皮膚に対する刺激、紫外線
吸収による変質、吸収力の低下、着色等化粧料原料とし
ては問題があった。
斑、水泡、浮腫の発生に続いて色素沈着が起ることが知
られている。また紫外線は頭髪に対しても有害で、切れ
毛、抜毛の原因となる。特に波長290〜350mμの
紫外線は起炎作用が強く皮膚や頭髪に対する悪影響が大
である0従来よりこれらの障害を予防するため、各種の
紫外線吸収剤を配合した化粧料が開発され、市販されて
いる。従来配合されている紫外線吸収剤としては、p−
アミノ安息香酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾトリ
アゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、゛ケイ皮酸誘
導体等の合成紫外線吸収剤と、酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化鉄等の無機顔料が挙げられる。しかしながら、前者
の合成紫外線吸収剤には、溶解性から化粧料基剤への添
加量に制限があること、また皮膚に対する刺激、紫外線
吸収による変質、吸収力の低下、着色等化粧料原料とし
ては問題があった。
一方、後者の無機顔料は、紫外線による変質力よ少なく
、経皮吸収されないため皮膚に対する刺激については問
題が少ない、しかし酸化チタンの場合、その粒子径が大
きいもの、例えば200mμのものは、紫外部から可視
部までその遮蔽効果に差がないために、紫外線を反射す
る錆で可視光線をも遮蔽してしまう。そのため、こf′
1.を配合した化粧?4を皮膚に適用した場合、隠蔽力
が強すぎ、白化ないしtニア色しすぎ、クリーム類など
基礎化粧品はもちろん、ファンディンヨ/1口紅などの
メイクアップを目的とした場合にも使用量に限界があっ
た。この問題点を解決するため、最近粒子径の極めて小
さい酸化チタノ(40mμ以下)を配合した化粧料が開
発されている(特開昭58−62106号)。しかし、
この粒子径の極めて小さい酸化チタンの遮蔽作用は、起
炎作用の強い波長の紫外線に対して選択的ではあるもの
の散乱される波長は低波長側にずれ、その効力が不充分
でるり、かつ隠蔽力が低いためメイクアップを目的とす
る化粧料への配合には問題があった。更に微粒子状の酸
化チタンは親水性で油性基剤には配合し難いこと。
、経皮吸収されないため皮膚に対する刺激については問
題が少ない、しかし酸化チタンの場合、その粒子径が大
きいもの、例えば200mμのものは、紫外部から可視
部までその遮蔽効果に差がないために、紫外線を反射す
る錆で可視光線をも遮蔽してしまう。そのため、こf′
1.を配合した化粧?4を皮膚に適用した場合、隠蔽力
が強すぎ、白化ないしtニア色しすぎ、クリーム類など
基礎化粧品はもちろん、ファンディンヨ/1口紅などの
メイクアップを目的とした場合にも使用量に限界があっ
た。この問題点を解決するため、最近粒子径の極めて小
さい酸化チタノ(40mμ以下)を配合した化粧料が開
発されている(特開昭58−62106号)。しかし、
この粒子径の極めて小さい酸化チタンの遮蔽作用は、起
炎作用の強い波長の紫外線に対して選択的ではあるもの
の散乱される波長は低波長側にずれ、その効力が不充分
でるり、かつ隠蔽力が低いためメイクアップを目的とす
る化粧料への配合には問題があった。更に微粒子状の酸
化チタンは親水性で油性基剤には配合し難いこと。
非常に表面活性が強いこと等から処方上かなり制限を受
けるという欠点がめった。
けるという欠点がめった。
本発明者らは、こうした実情にかんがみ上記欠点を解決
すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の粒子径全有する疎
水化された酸化チタンを特定量イヒ粧料基剤中に配合す
れば、波長890〜350fflμの紫外線を選択的か
つ強力に散乱して皮膚を紫外線から守り、透明感が高く
、化粧持ち1分散性、撥水性、使用性、安定性等に優れ
た化粧料が得られることを見い出し1本発明全完成した
。
すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の粒子径全有する疎
水化された酸化チタンを特定量イヒ粧料基剤中に配合す
れば、波長890〜350fflμの紫外線を選択的か
つ強力に散乱して皮膚を紫外線から守り、透明感が高く
、化粧持ち1分散性、撥水性、使用性、安定性等に優れ
た化粧料が得られることを見い出し1本発明全完成した
。
すなわち1本発明は平均粒子径40〜70mμの疎水化
された微粒子状酸化チタンを1〜20重量%配合するこ
とを特徴とする日焼は止め化粧料に関するものでbる。
された微粒子状酸化チタンを1〜20重量%配合するこ
とを特徴とする日焼は止め化粧料に関するものでbる。
本発明化粧iに配合される酸化チタンは、平均粒子径4
0〜70 mp ’!+−有する微粒子状であり、かつ
疎水化されたものである。
0〜70 mp ’!+−有する微粒子状であり、かつ
疎水化されたものである。
酸化チタンは、ルチル型であることが好ましく。
し1jえば湿式法によって製造される。すなわち、イル
メナイトヲ硫酸で処理して硫酸チメニルとし。
メナイトヲ硫酸で処理して硫酸チメニルとし。
これを加水分解して得られたメタチタン酸ヲ約t、oo
o℃でばい焼することによってルチル型酸化チタンが製
造される。粒径はルチル型酸化チタンを得た後の粉砕、
後記の疎水化処理後の粉砕によってもコントロールされ
るが、加水分解工程においてコントロールされるのが好
ましい。
o℃でばい焼することによってルチル型酸化チタンが製
造される。粒径はルチル型酸化チタンを得た後の粉砕、
後記の疎水化処理後の粉砕によってもコントロールされ
るが、加水分解工程においてコントロールされるのが好
ましい。
得られた平均粒子径40〜70mμの微粒子状酸化チタ
ンは、ンリコー/油、金属せつけん、ジアルキルリン酸
等で処理することにより疎水化される。疎水化によって
、酸化チタンのきしみ感が減少し、のび、耐水性などが
向上し、化粧品基剤中に安定に分散させることができる
。前記疎水化処理剤中、ンリコーン油、特にメチルハイ
ドロジエ/ボリンロキサ/、ジメチルボリンロキサン等
が好ましく、該ンリコーン油を用いて処理すれば。
ンは、ンリコー/油、金属せつけん、ジアルキルリン酸
等で処理することにより疎水化される。疎水化によって
、酸化チタンのきしみ感が減少し、のび、耐水性などが
向上し、化粧品基剤中に安定に分散させることができる
。前記疎水化処理剤中、ンリコーン油、特にメチルハイ
ドロジエ/ボリンロキサ/、ジメチルボリンロキサン等
が好ましく、該ンリコーン油を用いて処理すれば。
疎水化処理による酸化チタン粒子の凝集がなく、耐水性
も極めて向上する。
も極めて向上する。
疎水化処理は1例えば平均粒子径40〜7Qmμの酸化
チタンと溶剤に溶解したンリコーン油とを低速のプレン
ダーで加熱しながら十分混合し、その後溶剤を留去し、
90〜450℃に加熱処理することによシ行なわれる。
チタンと溶剤に溶解したンリコーン油とを低速のプレン
ダーで加熱しながら十分混合し、その後溶剤を留去し、
90〜450℃に加熱処理することによシ行なわれる。
ここで使用する溶媒(シリコーン油+溶剤)の量は、該
溶媒が酸化チタンを完全に覆う量、スラリー状程度、例
えば酸化チタンと同量を使用するのが好ましい。
溶媒が酸化チタンを完全に覆う量、スラリー状程度、例
えば酸化チタンと同量を使用するのが好ましい。
本発明化粧料には、上記の如くして得られた疎水化され
た微粒子状酸化チタンが1〜20重量%配合される。
た微粒子状酸化チタンが1〜20重量%配合される。
また1本発明化粧料には、波長320〜400nmの紫
外線に対し選択的に散乱・吸収作用のある平均粒径10
0〜aoomμの酸化亜鉛を、上記酸化チタンに加えて
、配合することもできる。
外線に対し選択的に散乱・吸収作用のある平均粒径10
0〜aoomμの酸化亜鉛を、上記酸化チタンに加えて
、配合することもできる。
本発明化粧料に配合される平均粒子径40〜70mμの
酸化チタンの紫外部ならびに可視部光線に対する散乱・
吸収効果について検討した結果を示す。
酸化チタンの紫外部ならびに可視部光線に対する散乱・
吸収効果について検討した結果を示す。
測定方法
媒液としてリンゴ酸イソステアリルを用い。
媒液に対して1重量%の酸化チタンを分散6−+!″、
その分散液を厚さ0.03藷の石英セルにサンドして分
光光度計(島津MPS−2000型)勿用いて250〜
700mμの波長領域の透過率?測定した。
その分散液を厚さ0.03藷の石英セルにサンドして分
光光度計(島津MPS−2000型)勿用いて250〜
700mμの波長領域の透過率?測定した。
結果
測定結果全第1図に示す。その結果、平均粒子径が大き
い(200frLμ)酸化チタンは、紫外線と可視光線
に対してほぼ同等の透過率を示した。−万、平均粒子径
が極めて小さい(15fflμ)酸化チタンは、紫外線
に対する選択性はあるものの、その効果は不充分であっ
た。これに対し。
い(200frLμ)酸化チタンは、紫外線と可視光線
に対してほぼ同等の透過率を示した。−万、平均粒子径
が極めて小さい(15fflμ)酸化チタンは、紫外線
に対する選択性はあるものの、その効果は不充分であっ
た。これに対し。
平均粒子径35〜75mμの酸化チタンは、紫外fp、
9に起炎作用が強い波長290〜350nmの紫外線に
対して選択的に優ね、た散乱・吸収作用を示(2,かつ
可視部の光線に対する遮蔽作用は弱いものでめった。就
中特に粒子径50mμの酸化チタンは、散乱強度が最も
高く、散乱波長も330 nmと適切なものであった。
9に起炎作用が強い波長290〜350nmの紫外線に
対して選択的に優ね、た散乱・吸収作用を示(2,かつ
可視部の光線に対する遮蔽作用は弱いものでめった。就
中特に粒子径50mμの酸化チタンは、散乱強度が最も
高く、散乱波長も330 nmと適切なものであった。
次に疎水化処理による酸化チタン粒子の紫外庫吸収作用
の変化について検討した結果を示す。
の変化について検討した結果を示す。
万 m
平均粒子径50〜60mμの酸化チタンとトリクロaエ
チレンVC溶解した疎水化剤とを低速のプレ/グーで加
熱しながら混合し、トリクo。
チレンVC溶解した疎水化剤とを低速のプレ/グーで加
熱しながら混合し、トリクo。
エチレンを留去した後150℃に加熱し念。得られた疎
水化酸化チタンの紫外銀吸収効果を前記測定方法と同様
にして測定した。
水化酸化チタンの紫外銀吸収効果を前記測定方法と同様
にして測定した。
結果
その結果を第2図に示す。第2図より、金属せつけん等
によって処理された酸化チタンは。
によって処理された酸化チタンは。
凝集全生起し、紫外線透過度が著しく犬きくなっている
のに対し、/リコー7処理(メチルハイドロジエンポリ
70キサ/2%)による酸化テクノは、未処理のものと
ほぼ同等の紫外線散乱作用を保持していることがわかる
。なお、得られた疎水化酸化チタンは、跡面活性が低下
し、化粧料基剤への分散性の極めてよいものであった0 〔発明の効果〕 以上の如く1本発明化粧料は皮膚を紫外馴から選択的か
つ強力に保護し、かつ透明感が高く、化粧持ち1分散性
、撥水性、使用性、安定性に優れたものでめる。
のに対し、/リコー7処理(メチルハイドロジエンポリ
70キサ/2%)による酸化テクノは、未処理のものと
ほぼ同等の紫外線散乱作用を保持していることがわかる
。なお、得られた疎水化酸化チタンは、跡面活性が低下
し、化粧料基剤への分散性の極めてよいものであった0 〔発明の効果〕 以上の如く1本発明化粧料は皮膚を紫外馴から選択的か
つ強力に保護し、かつ透明感が高く、化粧持ち1分散性
、撥水性、使用性、安定性に優れたものでめる。
次に実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例1 日焼は止めクリーム
組 成:
・マイクロクリスタリ/ワックス 8.0(重量
%)・バラフイ72.0 ・ミンロウ 2.0・
ワセリン 3.0・水添
ラノリン 9.0・スフワラ
7 32.0−へキサデ/ルア
ジビン酸エステル 60・グリセリルモノオレイン
酸エステル 4.0φポリオキシエチレンンルピタン
モノ オVイ/eニスfルc 20E、O,) 1.0
−グロビレングリコール 3.0・精製
水 20.0・メチル
ハイドロジエ/ボリンロキサン1.0%で疎水化された
ルチル型微粒子酸化チタン(平均粒子径50〜60m1
l) 10.0・香料
at 製 法: 精製水にプaビレングリコールヲ加え、加熱して70℃
に保つ。(水相)他の成分−全混合し加熱溶解して、7
0℃とする(油相)。
%)・バラフイ72.0 ・ミンロウ 2.0・
ワセリン 3.0・水添
ラノリン 9.0・スフワラ
7 32.0−へキサデ/ルア
ジビン酸エステル 60・グリセリルモノオレイン
酸エステル 4.0φポリオキシエチレンンルピタン
モノ オVイ/eニスfルc 20E、O,) 1.0
−グロビレングリコール 3.0・精製
水 20.0・メチル
ハイドロジエ/ボリンロキサン1.0%で疎水化された
ルチル型微粒子酸化チタン(平均粒子径50〜60m1
l) 10.0・香料
at 製 法: 精製水にプaビレングリコールヲ加え、加熱して70℃
に保つ。(水相)他の成分−全混合し加熱溶解して、7
0℃とする(油相)。
この油相に、先の水相音訓え予備乳化を行った後、ホモ
ミキサーで均一に乳化し、その後、攪拌を続けながら冷
却する。
ミキサーで均一に乳化し、その後、攪拌を続けながら冷
却する。
実施列2 日焼は止めクリーミイファンデーション組成
: 1、ステアリン酸 5.0(
重量%)2、グリセリルモノステアリン酸エステル 3
.03、セトステアリルアルコール 1.
54、モノラウリン酸プロピV/グリコール 2.55
、流動パラフィン5.。
: 1、ステアリン酸 5.0(
重量%)2、グリセリルモノステアリン酸エステル 3
.03、セトステアリルアルコール 1.
54、モノラウリン酸プロピV/グリコール 2.55
、流動パラフィン5.。
6、ミリスチン酸イングロピル 6゜7、
バラオキン安息香酸ブチル 適 量8・精製
水 52.09、トリエタ
ノールアミ/ 1゜OIO,ツルピン
ト 2.011、バラオキ
ン安息香酸メチル 適 量12.酸化チタン
5.013、メチルハイド
ロジエンボリンロキサ/2.0%で疎水化されたルチル
型微粒子酸化チタン(平均粒子径50〜60m1l’l
l O,014、セリサイト
適 清tS、メルク
3.016、酸化鉄(赤)o、
3 17、 // (黄)1.0 ts、 II (黒) 0.
0519、香料 適量 製 法: 成分12お工び14〜ts6混合粉砕する。
バラオキン安息香酸ブチル 適 量8・精製
水 52.09、トリエタ
ノールアミ/ 1゜OIO,ツルピン
ト 2.011、バラオキ
ン安息香酸メチル 適 量12.酸化チタン
5.013、メチルハイド
ロジエンボリンロキサ/2.0%で疎水化されたルチル
型微粒子酸化チタン(平均粒子径50〜60m1l’l
l O,014、セリサイト
適 清tS、メルク
3.016、酸化鉄(赤)o、
3 17、 // (黄)1.0 ts、 II (黒) 0.
0519、香料 適量 製 法: 成分12お工び14〜ts6混合粉砕する。
成分8〜llを混合溶解したものに先の粉砕した顔料全
分散させた後75℃に加熱する。
分散させた後75℃に加熱する。
別に成分1〜7および13i混合し、so℃に加熱溶解
しておき、これを先の水相に攪拌しながら加え、乳化し
た後、冷却し50℃で成分19を加え、さらに攪拌しな
がら室温まで冷却する。
しておき、これを先の水相に攪拌しながら加え、乳化し
た後、冷却し50℃で成分19を加え、さらに攪拌しな
がら室温まで冷却する。
実施例3 日焼は止めケーキ型ファ/デーショ/組
成: ・酸化チタ7 (200〜300tnp )
6.0 (重t%)・メチルハイドロジエ/ポリンa
キサ/1.5%で疎水化されたルチル型微粒子酸化チタ
ン 10.0・セリサイト
25・0・タルク 4
0.0、・酸化鉄(赤)0.8 ・ II(黄)2.1 ・ II (黒)0,2 ・流動バラフイ/8.O eリンゴ酸イソステアリル 2.0−セ
スキオレイン酸ソルビタン 3.0・グリセ
リン3.0 ・香料 適量 製 法: 粉体を混合し粉砕機で粉砕処理する。これを高速ブレン
ダーにて結合剤を加えて混合均一にする。これを再度粉
砕機で粉砕処理して。
成: ・酸化チタ7 (200〜300tnp )
6.0 (重t%)・メチルハイドロジエ/ポリンa
キサ/1.5%で疎水化されたルチル型微粒子酸化チタ
ン 10.0・セリサイト
25・0・タルク 4
0.0、・酸化鉄(赤)0.8 ・ II(黄)2.1 ・ II (黒)0,2 ・流動バラフイ/8.O eリンゴ酸イソステアリル 2.0−セ
スキオレイン酸ソルビタン 3.0・グリセ
リン3.0 ・香料 適量 製 法: 粉体を混合し粉砕機で粉砕処理する。これを高速ブレン
ダーにて結合剤を加えて混合均一にする。これを再度粉
砕機で粉砕処理して。
メツシュに通した後、全血などの容器中に圧縮成型する
。
。
実施例4 日焼は止めパウダーファンデーション組
成: ・酸化チメ/(200〜300mμ) 5.
0 (重量%)・メチルハイドロジエンボリア0キサン
2%で疎水化されたルチル型機粒子酸化チタ7 1
2.0・セリサイト
適 量・メルク 20
.0・酸化鉄(赤)0.6 ・ II (黄)■、9 ・ n (黒)0.l ・流動パラフィン 4.0・パ
ラフィンワックス 2.0拳リンゴ
酸インステアリル 2.0・香料
0.1 製 法: 粉体を混合し粉砕機で粉砕処理する−0これを高速プレ
ンダーにて、結合剤を加えて混合均一にする。これを再
度粉砕機で粉砕処理して、メン・/−Lに通した後、全
血などの容器中に圧縮成型する。
成: ・酸化チメ/(200〜300mμ) 5.
0 (重量%)・メチルハイドロジエンボリア0キサン
2%で疎水化されたルチル型機粒子酸化チタ7 1
2.0・セリサイト
適 量・メルク 20
.0・酸化鉄(赤)0.6 ・ II (黄)■、9 ・ n (黒)0.l ・流動パラフィン 4.0・パ
ラフィンワックス 2.0拳リンゴ
酸インステアリル 2.0・香料
0.1 製 法: 粉体を混合し粉砕機で粉砕処理する−0これを高速プレ
ンダーにて、結合剤を加えて混合均一にする。これを再
度粉砕機で粉砕処理して、メン・/−Lに通した後、全
血などの容器中に圧縮成型する。
冥施例5 日焼は止めパウダーファンデーション組 成
: 製 法: 上記表の粉体を混合し粉砕機で粉砕処理する0これを高
速プンングーにて結合剤を加えて混合し均一にする。こ
れを再度粉砕機で粉砕処理してメツシュに通した後、全
血などの容器中に圧縮成型する。
: 製 法: 上記表の粉体を混合し粉砕機で粉砕処理する0これを高
速プンングーにて結合剤を加えて混合し均一にする。こ
れを再度粉砕機で粉砕処理してメツシュに通した後、全
血などの容器中に圧縮成型する。
得られたファンデーンヨ/および種々の市販品フアンデ
ーシヨンについて前記測定方法に従って光透過率を測定
した。ただし、媒液リンゴ酸ジイソスオアリルに対し、
各ファ/デー7ヨ710wt%を分散させた液を用いた
0結果を第3図に示す。
ーシヨンについて前記測定方法に従って光透過率を測定
した。ただし、媒液リンゴ酸ジイソスオアリルに対し、
各ファ/デー7ヨ710wt%を分散させた液を用いた
0結果を第3図に示す。
またこれらについて、サンプロチクティングファクター
(SPF)t−測定した。SPF測定は、被験者10名
にエリ、クリーム状のものは2pl/ad、パウダーま
たはケーキ型のものはL In9/ad皮膚に塗布して
行い、光源にはウルトラービタルクスランプ([Jlt
ra −Vitalux Lamp ) k使用した。
(SPF)t−測定した。SPF測定は、被験者10名
にエリ、クリーム状のものは2pl/ad、パウダーま
たはケーキ型のものはL In9/ad皮膚に塗布して
行い、光源にはウルトラービタルクスランプ([Jlt
ra −Vitalux Lamp ) k使用した。
結果は第1表に示す。
第1表および第3図より、光透過率とSPFとの間にほ
ぼ相関が認められ1本発明品(実施列4)が紫外部領域
では最も効果が浸れていることがわかる。
ぼ相関が認められ1本発明品(実施列4)が紫外部領域
では最も効果が浸れていることがわかる。
第1図は種々の粒子径を有する酸化チタノの250〜7
00 nmの波長の光に対する透過率を示す図面である
。 第3図は、各種フアンデーシヨンの250〜+od、3
nm の波長の光に対する透過率を示す図面である。 以上
00 nmの波長の光に対する透過率を示す図面である
。 第3図は、各種フアンデーシヨンの250〜+od、3
nm の波長の光に対する透過率を示す図面である。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、平均粒子径40〜70mμの疎水化された微粒子状
酸化チタンを1〜20重量%配合することを特徴とする
日焼け止め化粧料。 2、疎水化処理がメチルハイドロジエンポリシロキサン
またはジメチルポリシロキサンで行なわれるものである
特許請求の範囲第1項記載の日焼け止め化粧料。 3、微粒子状酸化チタンの結晶形がルチル型である特許
請求の範囲第1項または第2項記載の日焼け止め化粧料
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28457885A JPS62145011A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 日焼け止めメークアップ化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28457885A JPS62145011A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 日焼け止めメークアップ化粧料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62145011A true JPS62145011A (ja) | 1987-06-29 |
JPS6328408B2 JPS6328408B2 (ja) | 1988-06-08 |
Family
ID=17680276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28457885A Granted JPS62145011A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 日焼け止めメークアップ化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62145011A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01175920A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-12 | Nonogawa Shoji:Kk | メイクアップ化粧料 |
JPH01180819A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-18 | Pola Chem Ind Inc | 化粧料 |
JPH02258712A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-19 | Kao Corp | 油中水型乳化化粧料 |
JP2015229652A (ja) * | 2014-06-05 | 2015-12-21 | 株式会社ディーエイチシー | メイクアップ化粧料 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49450A (ja) * | 1972-04-17 | 1974-01-05 | ||
JPS5767681A (en) * | 1980-10-14 | 1982-04-24 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | Ultraviolet absorber |
JPS59172415A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-29 | Pola Chem Ind Inc | 日焼け防止剤 |
-
1985
- 1985-12-18 JP JP28457885A patent/JPS62145011A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49450A (ja) * | 1972-04-17 | 1974-01-05 | ||
JPS5767681A (en) * | 1980-10-14 | 1982-04-24 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | Ultraviolet absorber |
JPS59172415A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-29 | Pola Chem Ind Inc | 日焼け防止剤 |
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---|---|---|---|---|
JPH01175920A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-12 | Nonogawa Shoji:Kk | メイクアップ化粧料 |
JPH01180819A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-18 | Pola Chem Ind Inc | 化粧料 |
JPH02258712A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-19 | Kao Corp | 油中水型乳化化粧料 |
JP2015229652A (ja) * | 2014-06-05 | 2015-12-21 | 株式会社ディーエイチシー | メイクアップ化粧料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6328408B2 (ja) | 1988-06-08 |
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