JPS62141616A - 巻線型薄膜磁気ヘツド - Google Patents

巻線型薄膜磁気ヘツド

Info

Publication number
JPS62141616A
JPS62141616A JP28395685A JP28395685A JPS62141616A JP S62141616 A JPS62141616 A JP S62141616A JP 28395685 A JP28395685 A JP 28395685A JP 28395685 A JP28395685 A JP 28395685A JP S62141616 A JPS62141616 A JP S62141616A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alloy
thin film
magnetic core
magnetic
magnetic head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28395685A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryoji Namikata
量二 南方
Tsuneo Nakamura
恒夫 中村
Naoki Koide
小出 直樹
Toru Kira
吉良 徹
Mitsuhiko Yoshikawa
吉川 光彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP28395685A priority Critical patent/JPS62141616A/ja
Publication of JPS62141616A publication Critical patent/JPS62141616A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は高密度記録に優れた薄膜磁気ヘッドの製造方法
に関ずろ。特に本発明はPc−ΔJl−Si合金薄膜を
用いて浸れた磁気コア特性を汀する薄膜磁気ヘッドの製
造方法に関する。
(従来技術) 電磁誘導型の巻線型薄膜磁気ヘッドにおいて、高密度記
録を達成するためにヘットの狭トラツク化と決ギャップ
化等が行なわれている。また、同時に記録媒体の高抗磁
力化に伴い磁気コア材として飽和磁化Msの大きなもの
が要求されるようになってきている。従って、飽和磁化
の大きなNiFe5Fe−Afl−Si、またはco系
アモルフコア等の金属軟磁性薄膜が磁気コアとして用い
られるようになってきた。これらの金属軟磁性薄膜のう
りで、特に、Fe−Ajij−Si合金は熱的に最ら安
定でガラス溶岩か可能であり、固有抵抗が高く高周波特
性に優れ、しかも、耐1f粍性ら良好なことから高密度
記録用の薄膜磁気ヘットの磁気コア材としてa望視され
ている。
第1図に巻線型薄膜磁気ヘッドの一態様の側断面概略図
を示す。同図において(1)は耐摩耗性に浸れた結晶化
ガラス等の堰板、(2)はPc−Al−Si合金の軟磁
性薄膜よりなる下部磁気コア、(3)はSiOz、へ乏
、03等よりなる電気絶縁層、(4)はCu、Ajij
等よりなる信号導体、(5)は(2〕と同じ<Pc−A
jL−Si合金の軟磁性薄膜よりなる断面台形状の」二
部磁気コア、(6)は磁気ギャップである。このような
構造の巻線型薄膜磁気ヘッドでは信号導体(4)および
層間絶縁層(3)のためにフロント磁気ギャップ部およ
び後部の上下磁気コア接続部では磁気コアは傾斜を有す
る部分上に形成されることになる。一般にこのような傾
斜部に軟磁性薄膜を形成した場合には、基板に堆積する
粒子が斜めに入り、を乙たらし、結果として軟磁性特性
が劣化する。従って、磁気ヘッドの磁気回路を形成する
磁気コアの一部の磁気抵抗が増加し、磁気へy Fの効
率か低下するという問題が生じる。
(発明の目的) 本発明は」二部磁気コアの材質と、傾斜部の角度を制限
ずろことにより、磁気コアの軟磁性特性の劣化を防止し
、浸れた性能の巻線型薄膜磁気ヘッドを提供する。
(発明の構成) 即ち、本発明は上部磁気コアと平坦な下部磁気コアとの
間に形成された断面台形状の空間に、導電体(材料より
なるコイルを挟設してなる巻線型薄膜磁気ヘッドにおい
て、両磁気コアがPe−Ajij−Si合金、Fe−A
、J−3i−Cr合金またはFe−A、J−Si−Ti
合金で形成され、かつ、上部磁気コアの傾斜部の傾斜角
が40°以下である巻線型薄膜磁気ヘッドを提供する。
本発明の磁気コア(2,5)は上・下ともFC−A+4
−Si合金、Fe−Al−Si−Cr合金、Fe−Aj
l−Si−Ti合金が用いられる。これらの合金は前述
のように、固有抵抗が高く高周波特性に優れ、しから耐
摩耗性も良好であり、巻線型薄膜磁気ヘッドの磁気コア
材料に好適である。磁気コア(2,5)は通常蒸着ある
いはスパッタリング等の常套の方法により、基板(1)
あるいは電気絶縁層(4)上に形成される。尚、電気絶
縁層(6)も通常蒸着あるいはスパッタリング等により
形成される。
本発明によれば、上部磁気コア(5)の傾斜部分の傾斜
frlは40゛以下に、好ましくは20”〜35°に形
成される。電気絶縁層(4)の傾斜角も同様40°以下
に形成され、その上に磁気コアが蒸着あるいはスパッタ
リングにより形成されることになる。傾斜角が40”を
越えると、抗磁力Hcは急激に増加し、磁気特性が劣化
する。
本発明はいかなるタイプの巻線型薄膜磁気ヘラ!・にら
応用てきる。代表的な巻線型薄膜磁気ヘットは第2図に
示すように、スパイラル形薄膜磁気l\ソト(第2図(
a))、ジクザグ型薄膜磁気ヘッド(第2図(b))、
および多層ヘリカル形薄膜磁気ヘッド(第2図(C))
が挙げられる。
本発明を実施例により更に詳細に説明ずろ。
(実施例) カラス括仮(1)七に直流3極スパツタ法でFc−7\
!−Si合金の下部磁気コア(2)を作成した。
このコア(2)」二にSi02電気絶縁層(3)および
Cu導体コイル(1)を作成しf為この絶縁層(3)」
二に直流3極スパツタ法により]二部磁気コア(5)(
Fe−AjfニーSi合金)を作成した。スパッタ条件
は、アルゴン圧0 、6 P asツタ−ット電圧70
0■、ターゲット電流0.6A、基板温度(水冷)であ
った。
第3図は直流3極スパツタ法で形成したFe−AjL−
Si合金膜の抗磁力(Hc)と基板の傾斜角度との関係
を示す図である。また、Fe−A4−Si合金膜はスパ
ッタ時の基板温度が低い場合、優れた軟磁性特性を得る
には、スパゾタ後熱処理する必要があるため、第3図で
は上述のヘッドを更に真空中で600℃、3時間熱処理
した後の磁気特性(抗磁力)を示している。第3図より
明らかなように、基板の傾斜角度が30°まては平坦な
基板上とほとんど同じ磁気特性を示すが、30°を越え
ろと抗磁力(+−IC)は次第に増加し、40°以上で
急激に増加し、磁気特性が劣化することがわかる。
従って、第1図のような構造の一5V膜磁気ヘッドにお
いて傾斜部の傾斜角を40°以下にすることにより、傾
斜部上においてら磁気コアの軟磁性特性は劣化すること
なく、憂れた薄膜磁気ヘッドを得ることかできる。
(発明の効果) 以上詳述した如く本発明によれば、磁気コアの形成され
る下地の傾斜角を一定値以下とすることにより、磁気コ
アとなるFe−Ajij−Si合金膜の本来の優れた軟
磁性特性を引き出すことができ、従って、効率の良い優
れた薄膜磁気ヘッドを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は薄膜磁気ヘッドの構造例を示す。第2図は巻線
型薄膜磁気ヘッドの代表例の平面図である。第3図は本
発明のFe−A1−Si合金膜の抗磁力Hcと基板の傾
斜角度との関係を示す図である。 図中の番号は以下の
通りである。 (1)・・・支持基数、   (2)・・・下部磁気コ
ア、(3)・・絶縁層、     (4)・・・信号導
体、(5)・・上部磁気コア、  (6)・・磁気ギャ
ップ。 第1図 第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、上部磁気コアと平坦な下部磁気コアとの間に形成さ
    れた断面台形上の空間に、導電体材料よりなるコイルを
    挟設してなる巻線型薄膜磁気ヘッドにおいて、両磁気コ
    アがFe−Al−Si合金、Fe−Al−Si−Cr合
    金またはFe−Al−Si−Ti合金で形成され、かつ
    、上部磁気コアの傾斜部の傾斜角が40°以下である巻
    線型薄膜磁気ヘッド。 2、上部磁気コアおよび下部磁気コアと、コイルとの間
    の空間が絶縁体から成る第1項記載の巻線型薄膜磁気ヘ
    ッド。
JP28395685A 1985-12-16 1985-12-16 巻線型薄膜磁気ヘツド Pending JPS62141616A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28395685A JPS62141616A (ja) 1985-12-16 1985-12-16 巻線型薄膜磁気ヘツド

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28395685A JPS62141616A (ja) 1985-12-16 1985-12-16 巻線型薄膜磁気ヘツド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62141616A true JPS62141616A (ja) 1987-06-25

Family

ID=17672400

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28395685A Pending JPS62141616A (ja) 1985-12-16 1985-12-16 巻線型薄膜磁気ヘツド

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62141616A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0261571A (ja) * 1988-08-26 1990-03-01 Toyobo Co Ltd 非接触式磁気センサー

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0261571A (ja) * 1988-08-26 1990-03-01 Toyobo Co Ltd 非接触式磁気センサー

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0520802B2 (ja)
JPH0778858B2 (ja) 薄膜磁気ヘッド
JPH07254116A (ja) 薄膜磁気ヘッドの熱処理方法
US4943879A (en) Thin film magnetic head including magnetic layers having high saturation magnetic flux density and metal film for avoiding deterioration during manufacturing
JPS62141616A (ja) 巻線型薄膜磁気ヘツド
JP2702215B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPS61178710A (ja) 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法
JPH0462162B2 (ja)
JP2535819B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPH1116120A (ja) 薄膜磁気ヘッド及び磁気記録再生装置
JP2816199B2 (ja) 多層磁性薄膜およびこれを用いた磁気ヘッド
JP2649209B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP2702997B2 (ja) 薄膜磁気ヘツド及び磁気デイスク装置
JPH05290329A (ja) 薄膜磁気ヘッド
JP2971212B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPH05128440A (ja) 薄膜磁気ヘツド
JP2747216B2 (ja) 薄膜磁気ヘッド
JPH0264910A (ja) 薄膜滋気ヘッド久びその製造方法
JP2000114041A (ja) 薄膜積層体、薄膜積層体の製造方法、並びにこの薄膜積層体を用いた薄膜トランス、薄膜インダクタ、および薄膜磁気ヘッド
JP3336681B2 (ja) 薄膜磁気抵抗効果型ヘッド及びその製造方法
JP3175277B2 (ja) 薄膜磁気ヘッド
JPH03278409A (ja) 積層軟磁性薄膜
JPH103611A (ja) 薄膜磁気ヘッド及び磁気記録再生装置
JPH04245010A (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPH0817022A (ja) 複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法