JPS62141559A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JPS62141559A JPS62141559A JP60281101A JP28110185A JPS62141559A JP S62141559 A JPS62141559 A JP S62141559A JP 60281101 A JP60281101 A JP 60281101A JP 28110185 A JP28110185 A JP 28110185A JP S62141559 A JPS62141559 A JP S62141559A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- wafer
- light
- projection exposure
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70408—Interferometric lithography; Holographic lithography; Self-imaging lithography, e.g. utilizing the Talbot effect
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分計〕
この発明は、半導体のウニへ上にパターンを露光する投
影露光装置、より詳しくはマスク上の異物や欠陥のウェ
ハ上への転写防止に関するものである。
影露光装置、より詳しくはマスク上の異物や欠陥のウェ
ハ上への転写防止に関するものである。
第′２図は従来の投影露光装置を示す原理図である。図
において、（１）は光源、（２）はこの光源（１）から
出た光を平行光線にするレンズ、（３ｍ）はパターンが
記録されているマスク、（５）はこのマスク（３ａ）の
パターンが投影されるウェハである。
において、（１）は光源、（２）はこの光源（１）から
出た光を平行光線にするレンズ、（３ｍ）はパターンが
記録されているマスク、（５）はこのマスク（３ａ）の
パターンが投影されるウェハである。
従来の投影露光装置は上記のように構成され、光源（１
１によって照射された光は、ＣＡ Ｄ （Ｃｏｍｕｐｔ
−ｅｒ Ａｉｄｅｌ Ｄｅｓｉｇｎ）によ゛って画かれ
た図面から作製したマスク（３ａ）を透過する。この時
、クロムパターンのある部分は、光゛の進行を妨げ、ウ
ェハ（５）に光を照射さ□せない。逆に、クロムパター
ンのない部分は、光がマスク（３，ａ）をそのまま透過
し、ウェハ（５）を露光する。このことから、マスク（
３ａ）のパターンをそのまま、ウェハ（５）に露光する
ことができる。 ・ 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記のような従来の投影露光装置では、マスク（３ａ）
上に異物やパターン欠陥があった場合、そのままウェハ
（団に露光されてしまい、パターンの短絡や断線の原因
となるなどの問題点があっｔコ。
１によって照射された光は、ＣＡ Ｄ （Ｃｏｍｕｐｔ
−ｅｒ Ａｉｄｅｌ Ｄｅｓｉｇｎ）によ゛って画かれ
た図面から作製したマスク（３ａ）を透過する。この時
、クロムパターンのある部分は、光゛の進行を妨げ、ウ
ェハ（５）に光を照射さ□せない。逆に、クロムパター
ンのない部分は、光がマスク（３，ａ）をそのまま透過
し、ウェハ（５）を露光する。このことから、マスク（
３ａ）のパターンをそのまま、ウェハ（５）に露光する
ことができる。 ・ 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記のような従来の投影露光装置では、マスク（３ａ）
上に異物やパターン欠陥があった場合、そのままウェハ
（団に露光されてしまい、パターンの短絡や断線の原因
となるなどの問題点があっｔコ。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、従来通り、ＣＡＤによりマスクを設計できる
とともに、ウニへ上にマスク上の異物や欠陥がまったく
露光されない投影露、光装置を得ることを目的とする。
たもので、従来通り、ＣＡＤによりマスクを設計できる
とともに、ウニへ上にマスク上の異物や欠陥がまったく
露光されない投影露、光装置を得ることを目的とする。
この発明に係る投影露光装置は、ウニへ上にパターンを
露光する際、マスクとしてホログラムを用いたものであ
る。
露光する際、マスクとしてホログラムを用いたものであ
る。
この発明においては、光源より発した光線はレンズを通
って平行光束とされ、マスクを通過して回折光となり感
光剤を塗布したウニへ上にパターンを露光する。
って平行光束とされ、マスクを通過して回折光となり感
光剤を塗布したウニへ上にパターンを露光する。
第１図はこの発明の一実施例による投影露光装置の原理
図である。図において、（１）は従来の装置と全く同一
のインコヒーレントな光源、（２）は光源（１）より発
射され２光源を平行光線とするレンズ、（３）はパター
ンが画かれているレインボー・ホログラフィック・マス
ク、（４）はレインボー・ホログラフィック・マスク（
３）を通過した回折光、（５）はこの回折光（４）の干
渉によってレインボー・ホログラフィック・マスク（３
）上のパターンが再生されるウニ八、■は回折光の波長
がバイオレットであることを示し、Ｒはレッドの方向を
示している。
図である。図において、（１）は従来の装置と全く同一
のインコヒーレントな光源、（２）は光源（１）より発
射され２光源を平行光線とするレンズ、（３）はパター
ンが画かれているレインボー・ホログラフィック・マス
ク、（４）はレインボー・ホログラフィック・マスク（
３）を通過した回折光、（５）はこの回折光（４）の干
渉によってレインボー・ホログラフィック・マスク（３
）上のパターンが再生されるウニ八、■は回折光の波長
がバイオレットであることを示し、Ｒはレッドの方向を
示している。
上記のように構成された投影露光装置においては、光源
（１）から照射された光はレンズ（２を通ってレインボ
ー・ホログラフィック・マスク（３）を透過する。光源
（１）の光は、インコヒーレントな光であるため、レイ
ンボー・ホログラフィック・マスク（３）上で波長ごと
に分割される。これは、波長ごとの回折角が異なるため
に起こる。そこで、塗布したレジストの感光域に合わせ
てウニ八（５）を配置することにより、レインボー・ホ
ログラフィック・マスク（３）より生じる実像を露光す
ることができる。
（１）から照射された光はレンズ（２を通ってレインボ
ー・ホログラフィック・マスク（３）を透過する。光源
（１）の光は、インコヒーレントな光であるため、レイ
ンボー・ホログラフィック・マスク（３）上で波長ごと
に分割される。これは、波長ごとの回折角が異なるため
に起こる。そこで、塗布したレジストの感光域に合わせ
てウニ八（５）を配置することにより、レインボー・ホ
ログラフィック・マスク（３）より生じる実像を露光す
ることができる。
なお、上記実施例では、レインボー・ホログラフィック
？マスク（３）を設けたものを示したが、代わりにリッ
プマン・ホログラムを用いてもよい。
？マスク（３）を設けたものを示したが、代わりにリッ
プマン・ホログラムを用いてもよい。
また、上記実施例では投影露光装置について説明したが
、マスク欠陥検査装置や他の欠陥検査装置であってもよ
（、上記実施例と同様の効果を奏する。つまり、異物や
欠陥のまったくないリファレンス・マスクとして、レイ
ンボー・ホログラムを用い、通常のマスター・マスクと
比較検査することにより、欠陥検査を行うこともできる
。
、マスク欠陥検査装置や他の欠陥検査装置であってもよ
（、上記実施例と同様の効果を奏する。つまり、異物や
欠陥のまったくないリファレンス・マスクとして、レイ
ンボー・ホログラムを用い、通常のマスター・マスクと
比較検査することにより、欠陥検査を行うこともできる
。
なお、レインボー・ホログラフィック・マスク（３）は
光学系を用いて製作することができるが、この発明にお
いてはこの光学系をコンピュータを用いてシュミレーシ
ョンして製作した。換言すればキャド（ＣＡＤ）により
シージ−エッチ（ＣＧＩ（＝Ｃｏａ＋ｕｐｕｔｅｒ Ｇ
ｅｎｅｒａｔｅｄ Ｉ（ｏｌｏｇｒａｍの略）によって
マスクを製作した。
光学系を用いて製作することができるが、この発明にお
いてはこの光学系をコンピュータを用いてシュミレーシ
ョンして製作した。換言すればキャド（ＣＡＤ）により
シージ−エッチ（ＣＧＩ（＝Ｃｏａ＋ｕｐｕｔｅｒ Ｇ
ｅｎｅｒａｔｅｄ Ｉ（ｏｌｏｇｒａｍの略）によって
マスクを製作した。
以上のように、この発明によれば、従来のマスクの代わ
りにホログラムを用いることにより、マスク上の異物や
欠陥は、ウニへ上にまったく露光されないという効果が
ある。
りにホログラムを用いることにより、マスク上の異物や
欠陥は、ウニへ上にまったく露光されないという効果が
ある。
第１図はこの発明の一実施例による投影露光装置の原理
図、第２図は従来の投影露光装置の原理図である。 図において、（１）は光源、（２）はレンズ、（３）は
レインボー・ホログラフィック・マスク、（４）は回折
光、（５）はウニ八である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
図、第２図は従来の投影露光装置の原理図である。 図において、（１）は光源、（２）はレンズ、（３）は
レインボー・ホログラフィック・マスク、（４）は回折
光、（５）はウニ八である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (3)
- （１）ウェハ上にパターンを露光する際、マスクとして
ホログラムを用いたことを特徴とする投影露光装置。 - （２）ホログラムはレインボー・ホログラムであること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の投影露光装置
。 - （３）ホログラムはキヤド（ＣＡＤ）により作製された
ものであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60281101A JPS62141559A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60281101A JPS62141559A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62141559A true JPS62141559A (ja) | 1987-06-25 |
Family
ID=17634357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60281101A Pending JPS62141559A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62141559A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4034539A1 (de) * | 1989-10-30 | 1991-05-02 | Toyoda Gosei Kk | Lenkrad mit luftsackvorrichtung |
| US5198629A (en) * | 1989-10-30 | 1993-03-30 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Steering wheel having insert molded membrane switch |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50112021A (ja) * | 1974-02-01 | 1975-09-03 | ||
| JPS5150578A (ja) * | 1974-08-29 | 1976-05-04 | Siemens Ag | |
| JPS55144232A (en) * | 1979-04-27 | 1980-11-11 | Seiko Epson Corp | Holography exposure device |
| JPS60156087A (ja) * | 1984-01-09 | 1985-08-16 | Toppan Printing Co Ltd | 浮上りパタ−ン作製方法 |
-
1985
- 1985-12-16 JP JP60281101A patent/JPS62141559A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50112021A (ja) * | 1974-02-01 | 1975-09-03 | ||
| JPS5150578A (ja) * | 1974-08-29 | 1976-05-04 | Siemens Ag | |
| JPS55144232A (en) * | 1979-04-27 | 1980-11-11 | Seiko Epson Corp | Holography exposure device |
| JPS60156087A (ja) * | 1984-01-09 | 1985-08-16 | Toppan Printing Co Ltd | 浮上りパタ−ン作製方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4034539A1 (de) * | 1989-10-30 | 1991-05-02 | Toyoda Gosei Kk | Lenkrad mit luftsackvorrichtung |
| US5198629A (en) * | 1989-10-30 | 1993-03-30 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Steering wheel having insert molded membrane switch |
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