JPS62139884A - プラズマクリ−ニング装置 - Google Patents
プラズマクリ−ニング装置Info
- Publication number
- JPS62139884A JPS62139884A JP60282470A JP28247085A JPS62139884A JP S62139884 A JPS62139884 A JP S62139884A JP 60282470 A JP60282470 A JP 60282470A JP 28247085 A JP28247085 A JP 28247085A JP S62139884 A JPS62139884 A JP S62139884A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz tube
- plasma
- electrode
- plasma electrode
- high speed
- Prior art date
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- Granted
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、減圧ＣＶＤ装置などに用いるプラスマクリー
ニング装置に関するもので、更に述べると、プラズマに
より石英管内壁面をクリーニングする装置に関するもの
である。
ニング装置に関するもので、更に述べると、プラズマに
より石英管内壁面をクリーニングする装置に関するもの
である。
従来の技術
減圧ＣＶＤ装置でウエノ・を処理していると、該装置の
石英管内壁面に二酸化シリコンや７リコンナイトライト
などが付着する。
石英管内壁面に二酸化シリコンや７リコンナイトライト
などが付着する。
そして、この付着物は、石英管内壁面から剥離して、処
理中のウエノ・に付着し、不良品の原因となるので、石
英管内壁面をクリーニングする必要がある。
理中のウエノ・に付着し、不良品の原因となるので、石
英管内壁面をクリーニングする必要がある。
従来、このクリーニングは、第４図に示す様に、高周波
電圧用電極１と接地用電極２とを石英管３で囲み、この
石英管３をＣＶＤ装！４のプロセス石英管５に挿入した
後、電極１に高周波電圧を印加し、プラズマを発生させ
ることにより行なっている。
電圧用電極１と接地用電極２とを石英管３で囲み、この
石英管３をＣＶＤ装！４のプロセス石英管５に挿入した
後、電極１に高周波電圧を印加し、プラズマを発生させ
ることにより行なっている。
発明が解決しようとする問題点
従来例のプラズマクリーニング装置では、電極１．２間
に第４図鎖線Ａで示す様な電界が生じ、イオン鞘すなわ
ちイオンシースによる電極表面の電位降下が発生する。
に第４図鎖線Ａで示す様な電界が生じ、イオン鞘すなわ
ちイオンシースによる電極表面の電位降下が発生する。
しかし、プロセス石英管５近傍は、電圧が安定している
ので、この近傍のイオンは加速されず、浮いている様な
状態となる。
ので、この近傍のイオンは加速されず、浮いている様な
状態となる。
従って、イオンがプロセス石英管内壁面に衝突するのに
時間がかかるので、高速クリーニングは不可能であった
。
時間がかかるので、高速クリーニングは不可能であった
。
本発明は、上記事情に鑑み、プラズマクリーニングを高
速に行なうことを目的とする。
速に行なうことを目的とする。
問題点を解決するだめの手段
本発明は、外周面に外側プラズマ電極を設けた石英管に
、内側プラズマ電極を同心状に嵌着したことを特徴とす
るプラズマクリーニング装置でおる。
、内側プラズマ電極を同心状に嵌着したことを特徴とす
るプラズマクリーニング装置でおる。
作 用
石英管に内側プラズマ電極を同心状に低ルした後、該電
極に高周波電圧を印加し、石英管内にプラズマを発生さ
せる。
極に高周波電圧を印加し、石英管内にプラズマを発生さ
せる。
この時、内側プラズマ電極と外側プラズマ電極との間に
は電界が生じ、イオンシースによる電極表面の電圧降下
が発生するが、石英管は外側プラズマ電極のイオンシー
ス部に位置しているので、石英管付近のイオンは電圧降
下の影なにより加速され、石英管内壁面に高速で衝突し
、内壁面の付着物にぬりこむ。
は電界が生じ、イオンシースによる電極表面の電圧降下
が発生するが、石英管は外側プラズマ電極のイオンシー
ス部に位置しているので、石英管付近のイオンは電圧降
下の影なにより加速され、石英管内壁面に高速で衝突し
、内壁面の付着物にぬりこむ。
実施例
本発明の一実施例を添附図面に基き説明するが、同一図
面符号はその名称も機能も同一である０ １０は減圧ＣＶＤ装置の石英管で、この石英管１０の外
周面には、円筒状の外側プラズマ電極１１が配設されて
いる。この外側プラズマ電極１１は、接地されているの
で、シールド機能を有する。
面符号はその名称も機能も同一である０ １０は減圧ＣＶＤ装置の石英管で、この石英管１０の外
周面には、円筒状の外側プラズマ電極１１が配設されて
いる。この外側プラズマ電極１１は、接地されているの
で、シールド機能を有する。
１２は、高周波電圧を印加する内側プラズマ電極で円筒
状に形成されている。この内側プラズマ電極１２は、カ
バー用石英管１３により包囲されているので、ｔｌｌｔ
ｚのよごれは、石英管１０内に飛散することはない。
状に形成されている。この内側プラズマ電極１２は、カ
バー用石英管１３により包囲されているので、ｔｌｌｔ
ｚのよごれは、石英管１０内に飛散することはない。
カバー用石英管１３には、取手１４と真空フランジ１５
が設けられているが、この真空７ランジ１５は、プラズ
マクリーニング時に石英管１０内を真空に保持せしめる
。
が設けられているが、この真空７ランジ１５は、プラズ
マクリーニング時に石英管１０内を真空に保持せしめる
。
本実施例の作動につき説明すると、取手１４を把持し、
内側プラズマ電極１２を石英管ｌＯ内に同心状に挿入し
、真空フランジ１５で石英管１０をシールする。
内側プラズマ電極１２を石英管ｌＯ内に同心状に挿入し
、真空フランジ１５で石英管１０をシールする。
次に、内側プラズマ電極１２に高周波電圧を印加すると
、電極１１．１２間にプラズマが発生すると共に、同心
円状の等電位線１６と、半径方向の電界１７が生ずる。
、電極１１．１２間にプラズマが発生すると共に、同心
円状の等電位線１６と、半径方向の電界１７が生ずる。
そして、イオン１８は、イオンシースによる外側プラズ
マ電極１１衣面の電位降下の影響により加速され、石英
管内壁面１０ａに高速で衝突し、付着物１９、例えは、
二酸化シリコンやポリシリコン内にめシ込んでエツチン
グを行ない、石英管内壁面１０αの付着物１９を除去す
る。
マ電極１１衣面の電位降下の影響により加速され、石英
管内壁面１０ａに高速で衝突し、付着物１９、例えは、
二酸化シリコンやポリシリコン内にめシ込んでエツチン
グを行ない、石英管内壁面１０αの付着物１９を除去す
る。
このエツチングは、両電極１１．１２が同心状に設けら
れているので、均等に、すなわち、バラツキなく行なう
ことができる。
れているので、均等に、すなわち、バラツキなく行なう
ことができる。
又、外側プラズマ電極１１は、接地されているので、プ
ラズマのノイズがシールドされる。
ラズマのノイズがシールドされる。
従って、ＣＶＤ装置の中央処理装置（ＣＰＵ）などが、
プラズマのノイズにより誤作動するのを防止できる。
プラズマのノイズにより誤作動するのを防止できる。
内側プラズマ電極１２は、カバー用石英管１３によシ覆
われているので、電極１２のよごれは石英管１０内に飛
散することはない。
われているので、電極１２のよごれは石英管１０内に飛
散することはない。
発明の効果
本発明は以上の様に、外周面に外側プラズマ電極を設け
た石英管に内側プラズマ電極を同心状に嵌着したので、
イオンは、イオンシースによシ加速され、石英管内壁面
に高速で衝突し、そして、エツチングが行なわれる。
た石英管に内側プラズマ電極を同心状に嵌着したので、
イオンは、イオンシースによシ加速され、石英管内壁面
に高速で衝突し、そして、エツチングが行なわれる。
従って、プラズマクリー二／グを高速で行なうことがで
きる。
きる。
第１図〜第３図は、本発明の実施例を示す図で、第１図
は、その縦断面図、第２図は、内９１；ｊプラズマ電極
を示す斜視図、第３図は、第１図の一部拡大図、萼４因
ＩＶル（り°）乞不■口である。 １０・・・・・・・・・石英管
は、その縦断面図、第２図は、内９１；ｊプラズマ電極
を示す斜視図、第３図は、第１図の一部拡大図、萼４因
ＩＶル（り°）乞不■口である。 １０・・・・・・・・・石英管
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、外周面に外側プラズマ電極を設けた石英管に、内側
プラズマ電極を同心状に嵌着したことを特徴とするプラ
ズマクリーニング装置。 ２、外側プラズマ電極は、接地されていることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のプラズマクリーニング
装置。 ３、内側プラズマ電極は、高周波電圧印加用電極である
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のプラズマ
クリーニング装置。 ４、内側プラズマ電極は、カバー用石英管で覆われてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のプラズ
マクリーニング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60282470A JPS62139884A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | プラズマクリ−ニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60282470A JPS62139884A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | プラズマクリ−ニング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62139884A true JPS62139884A (ja) | 1987-06-23 |
| JPH0118147B2 JPH0118147B2 (ja) | 1989-04-04 |
Family
ID=17652844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60282470A Granted JPS62139884A (ja) | 1985-12-16 | 1985-12-16 | プラズマクリ−ニング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62139884A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS648285A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Fujitsu Ltd | Dry washing method of quartz pipe |
| JPH02175876A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-09 | Tel Sagami Ltd | プラズマ処理方法及び装置 |
| US5547512A (en) * | 1989-07-21 | 1996-08-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Continuous atomspheric pressure CVD coating of fibers |
| KR100514105B1 (ko) * | 2002-11-25 | 2005-09-09 | 한미반도체 주식회사 | 상압 플라즈마 발생장치 |
-
1985
- 1985-12-16 JP JP60282470A patent/JPS62139884A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS648285A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Fujitsu Ltd | Dry washing method of quartz pipe |
| JPH02175876A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-09 | Tel Sagami Ltd | プラズマ処理方法及び装置 |
| US5547512A (en) * | 1989-07-21 | 1996-08-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Continuous atomspheric pressure CVD coating of fibers |
| KR100514105B1 (ko) * | 2002-11-25 | 2005-09-09 | 한미반도체 주식회사 | 상압 플라즈마 발생장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0118147B2 (ja) | 1989-04-04 |
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