JPS62138712A - 磁性膜厚測定装置 - Google Patents
磁性膜厚測定装置Info
- Publication number
- JPS62138712A JPS62138712A JP60279623A JP27962385A JPS62138712A JP S62138712 A JPS62138712 A JP S62138712A JP 60279623 A JP60279623 A JP 60279623A JP 27962385 A JP27962385 A JP 27962385A JP S62138712 A JPS62138712 A JP S62138712A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic film
- film thickness
- state
- thickness
- ray
- Prior art date
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- Pending
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- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、フロッピィディスク生産ラインに咀み込まれ
、高分子ソート状原反に塗布される磁性膜厚を螢光Ｘ線
分析法により、連続的に、且つ迅速、非破壊的に測定し
、その未乾燥状態と乾燥状態の厚みの関係をフィードバ
ックすることにより塗膜厚を制ｉ１１する装置に関する
ものである。
、高分子ソート状原反に塗布される磁性膜厚を螢光Ｘ線
分析法により、連続的に、且つ迅速、非破壊的に測定し
、その未乾燥状態と乾燥状態の厚みの関係をフィードバ
ックすることにより塗膜厚を制ｉ１１する装置に関する
ものである。
ｒ発明のＪａ要〕
本発明は、シート状原反に磁性膜を連続塗布する工程に
おいて、乾燥２＝前後の未乾燥状ｆよ及び乾燥状態の塗
膜厚を夫々測定し、膜厚情報をフィードバックすること
により（ｆｆｉ性■り塗布ノズルの出力を調節し、塗膜
厚を制御することを特徴とする磁性膜厚測定装置である
。
おいて、乾燥２＝前後の未乾燥状ｆよ及び乾燥状態の塗
膜厚を夫々測定し、膜厚情報をフィードバックすること
により（ｆｆｉ性■り塗布ノズルの出力を調節し、塗膜
厚を制御することを特徴とする磁性膜厚測定装置である
。
従来、磁性膜厚の測定には、螢光Ｘ線分析法の反射型が
利用されているが、（５１性膜及び原反の高分子（例え
ば、ポリエステルフィルム等）ノートが非常に薄い為、
Ｌｎ性牧からの表面Ｘ線強度に裏面Ｘ線強度が影響を及
ぼし合い両面塗布膜の測定を行うことができず、片面を
７１離した後の片面塗布Ｈｉしか測定出来ず、更に通常
乾燥状態でしか測定しない為、生産工程に直結した磁性
膜の厚み制御には適していなかった。
利用されているが、（５１性膜及び原反の高分子（例え
ば、ポリエステルフィルム等）ノートが非常に薄い為、
Ｌｎ性牧からの表面Ｘ線強度に裏面Ｘ線強度が影響を及
ぼし合い両面塗布膜の測定を行うことができず、片面を
７１離した後の片面塗布Ｈｉしか測定出来ず、更に通常
乾燥状態でしか測定しない為、生産工程に直結した磁性
膜の厚み制御には適していなかった。
本発明の目的は、前述の問題点８解決し、磁性膜を測定
し、フィードバック制ｊ１１１により、塗布贋を調節し
、磁性膜の厚みを１１．す御する装置を提供することに
ある。
し、フィードバック制ｊ１１１により、塗布贋を調節し
、磁性膜の厚みを１１．す御する装置を提供することに
ある。
前述の問題点の解決手段は、表面塗布工程において磁性
膜塗布ノズルにより塗布され、ドライヤーにより乾燥さ
せる直前に、螢光Ｘ線分析用の透過型測定ヘッドを配置
し、未乾燥状態での透過Ｘ線強度を測定し、位置情報と
ともに記憶しておき次に、ドライヤー１ＪＴＩ過後の他
方の透過型測定ヘッドにより、乾燥状態でのｉ３過Ｘ線
強度を測定し、既知検量線で演算することにより、乾燥
状態でのＥ’Ａ性膜厚を求め、その位置に相当する未乾
燥状態での透過Ｘ線強度を対応させ、未乾燥状態の透過
Ｘ線強度と乾燥後の推定磁性膜厚の検量線を作成し、こ
の時点で得られる未乾燥状態での透過Ｘ線強度によって
前記推定磁性膜厚検量線を適用して、磁性膜厚管理値と
比較することにより、磁性膜厚ノズルの出力を制御する
ものである。更に、表面塗布工程終了後、裏面塗布工程
において、前記位置情報及び前記表面乾燥状態透過Ｘ線
強度を補正値として利用し、前述と同様の手段により裏
面Ｃｉｌ性膜のＰ７ｃ７ｊをげり定し、裏面（〃性膜の
厚めを制御Ｊすることに基づく。
膜塗布ノズルにより塗布され、ドライヤーにより乾燥さ
せる直前に、螢光Ｘ線分析用の透過型測定ヘッドを配置
し、未乾燥状態での透過Ｘ線強度を測定し、位置情報と
ともに記憶しておき次に、ドライヤー１ＪＴＩ過後の他
方の透過型測定ヘッドにより、乾燥状態でのｉ３過Ｘ線
強度を測定し、既知検量線で演算することにより、乾燥
状態でのＥ’Ａ性膜厚を求め、その位置に相当する未乾
燥状態での透過Ｘ線強度を対応させ、未乾燥状態の透過
Ｘ線強度と乾燥後の推定磁性膜厚の検量線を作成し、こ
の時点で得られる未乾燥状態での透過Ｘ線強度によって
前記推定磁性膜厚検量線を適用して、磁性膜厚管理値と
比較することにより、磁性膜厚ノズルの出力を制御する
ものである。更に、表面塗布工程終了後、裏面塗布工程
において、前記位置情報及び前記表面乾燥状態透過Ｘ線
強度を補正値として利用し、前述と同様の手段により裏
面Ｃｉｌ性膜のＰ７ｃ７ｊをげり定し、裏面（〃性膜の
厚めを制御Ｊすることに基づく。
実際の測定にるいて、第１図に示した実施例により行う
。
。
磁性膜塗布ノズルの直後に、それぞれ１３過型の測定へ
、ドを配置する。夫々のＸ線発生器は表面側に、又、夫
々のＸ線検出器は裏面側に設置する。
、ドを配置する。夫々のＸ線発生器は表面側に、又、夫
々のＸ線検出器は裏面側に設置する。
第２図（ａｌは磁性膜未乾燥状態での測定原理図であり
、ｔｂ＋は透過Ｘ線強度と♂ＩＩ定位置の間の関係図で
ある。
、ｔｂ＋は透過Ｘ線強度と♂ＩＩ定位置の間の関係図で
ある。
第３図（ａｌは磁性膜乾燥状態での測定原理図であり、
ｆｂｌは乾燥状態の既知厚みと透過Ｘ線強度の検量線で
あり、測定した透過Ｘ線強度と（ｂｌの検量線により、
夫々の位置での乾燥状態の厚みを求める。
ｆｂｌは乾燥状態の既知厚みと透過Ｘ線強度の検量線で
あり、測定した透過Ｘ線強度と（ｂｌの検量線により、
夫々の位置での乾燥状態の厚みを求める。
乾燥状態と未乾燥状態での位置情報を対応させて、乾燥
状態での磁性ｎり厚みと未乾燥状態での透過Ｘ線強度の
関係で検量線を作成すると（Ｃ１のようになる。ＦＣ＋
検量線と未乾燥状態での透過Ｘ線強度によって乾燥状態
の膜厚を推定し、管理値との関係を判断し、磁性膜塗布
ノズルの出力を調節する。
状態での磁性ｎり厚みと未乾燥状態での透過Ｘ線強度の
関係で検量線を作成すると（Ｃ１のようになる。ＦＣ＋
検量線と未乾燥状態での透過Ｘ線強度によって乾燥状態
の膜厚を推定し、管理値との関係を判断し、磁性膜塗布
ノズルの出力を調節する。
次に、前述と同様の手法により裏面塗布工程での塗布膜
ｒｙ−測定と未乾燥状態での制御を行う。
ｒｙ−測定と未乾燥状態での制御を行う。
但し、この際、表面塗布工程で塗布された乾燥状態の磁
性膜が存在するので、前記位置情報と乾燥状態での前記
透過Ｘ線強度によって、夫々の位置での強度補正を行う
。又、螢光Ｘ線の透過法による場合、高分子シート原反
の厚み変動による影ツが考えられるが、実際にはロット
毎によく管理されていることから、その厚みを入力する
ことにより補正を行うことが可能である。
性膜が存在するので、前記位置情報と乾燥状態での前記
透過Ｘ線強度によって、夫々の位置での強度補正を行う
。又、螢光Ｘ線の透過法による場合、高分子シート原反
の厚み変動による影ツが考えられるが、実際にはロット
毎によく管理されていることから、その厚みを入力する
ことにより補正を行うことが可能である。
本発明の磁性Ｖ厚測定装置では、未乾燥状態において乾
燥状態にした場合の膜厚を推定できることがら膜厚制御
を迅速なフィードハックにより精度良く行うことができ
る効果を有する。
燥状態にした場合の膜厚を推定できることがら膜厚制御
を迅速なフィードハックにより精度良く行うことができ
る効果を有する。
第１図は本発明の実施例のブロック図であり、第２図、
第３図は表面塗布工程での原理図であり第４図は工面塗
布工程での原理図である。 １・・・磁性膜塗布ノズル ２・・・乾燥器 ３・・・Ｘ線発生器 ４・・・Ｘ線検出器 ５・・・ＡＭＰ ６・・・■１０ ７・・・ＣＰＵ ８・・・巻き取りロール ９・・・未乾燥磁性膜 ｌＯ・・・乾燥磁性膜 １１・・・高分子シート原反 ＋ｓ−・・・未乾燥磁性膜での透過Ｘ線強度ＩｓＤ・・
・乾燥磁性膜での透過Ｘ線強度以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 本売朗の突先４判ブロック図 謳１０ （へ 長里布工乏の厚遜口 雨２図 （０ン 慶７布工理の原理図 ：、ＣｊＢ 図
第３図は表面塗布工程での原理図であり第４図は工面塗
布工程での原理図である。 １・・・磁性膜塗布ノズル ２・・・乾燥器 ３・・・Ｘ線発生器 ４・・・Ｘ線検出器 ５・・・ＡＭＰ ６・・・■１０ ７・・・ＣＰＵ ８・・・巻き取りロール ９・・・未乾燥磁性膜 ｌＯ・・・乾燥磁性膜 １１・・・高分子シート原反 ＋ｓ−・・・未乾燥磁性膜での透過Ｘ線強度ＩｓＤ・・
・乾燥磁性膜での透過Ｘ線強度以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 本売朗の突先４判ブロック図 謳１０ （へ 長里布工乏の厚遜口 雨２図 （０ン 慶７布工理の原理図 ：、ＣｊＢ 図
Claims (1)
- シート状原反に磁性膜を連続塗布する工程において、乾
燥器前後の未乾燥状態及び乾燥状態の塗膜厚を夫々測定
し、膜厚情報をフィードバックすることにより磁性膜塗
布ノズルの出力を調節し、塗膜厚を制御することを特徴
とする磁性膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60279623A JPS62138712A (ja) | 1985-12-12 | 1985-12-12 | 磁性膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60279623A JPS62138712A (ja) | 1985-12-12 | 1985-12-12 | 磁性膜厚測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62138712A true JPS62138712A (ja) | 1987-06-22 |
Family
ID=17613557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60279623A Pending JPS62138712A (ja) | 1985-12-12 | 1985-12-12 | 磁性膜厚測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62138712A (ja) |
-
1985
- 1985-12-12 JP JP60279623A patent/JPS62138712A/ja active Pending
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