JPS59168314A - Ｘ線を利用した微小面積の膜厚測定方法 - Google Patents
Ｘ線を利用した微小面積の膜厚測定方法Info
- Publication number
- JPS59168314A JPS59168314A JP4375183A JP4375183A JPS59168314A JP S59168314 A JPS59168314 A JP S59168314A JP 4375183 A JP4375183 A JP 4375183A JP 4375183 A JP4375183 A JP 4375183A JP S59168314 A JPS59168314 A JP S59168314A
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- JP
- Japan
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- film thickness
- measured
- rays
- minute area
- minute
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、Ｘ線を利用した微小面積の膜厚測定方法に
関する。
関する。
一般に、Ｘ線を利用した膜厚測定法は、Ｘ線を被測定物
の皮膜に照射し、放出される皮膜特有のＸ線（２次Ｘ線
または螢光Ｘ線と呼ばれる。）を検出することによりそ
の膜厚を測定する方法であるが、この方法による測定可
能な面積は最小０．３ダである。これより微小面積の膜
厚を測定しようとすると、被測定面積が常に一定であれ
ばよいが、そうでなければ面積のバラツキによる測定値
ノ・ぐラツキや周辺部の螢光Ｘ線の影響により膜厚を正
確に測定できないという欠点がある。
の皮膜に照射し、放出される皮膜特有のＸ線（２次Ｘ線
または螢光Ｘ線と呼ばれる。）を検出することによりそ
の膜厚を測定する方法であるが、この方法による測定可
能な面積は最小０．３ダである。これより微小面積の膜
厚を測定しようとすると、被測定面積が常に一定であれ
ばよいが、そうでなければ面積のバラツキによる測定値
ノ・ぐラツキや周辺部の螢光Ｘ線の影響により膜厚を正
確に測定できないという欠点がある。
この発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、
微小面積の皮膜の膜厚を測定することができる方法を提
供することにある。
微小面積の皮膜の膜厚を測定することができる方法を提
供することにある。
この発明によれば、Ｘ線を照射するとその照射Ｘ線を吸
収する性質を有するアルミニウム板に０．３ Ｏ以下の
微小孔や微小スリットをあけてなるシールド板で被測定
物を覆うことにより、被測定面積を一定にすると共に周
辺部の螢光Ｘ線の影響を防ぎなから膜厚を正確に測定で
き、上記の目的を達成することができる。
収する性質を有するアルミニウム板に０．３ Ｏ以下の
微小孔や微小スリットをあけてなるシールド板で被測定
物を覆うことにより、被測定面積を一定にすると共に周
辺部の螢光Ｘ線の影響を防ぎなから膜厚を正確に測定で
き、上記の目的を達成することができる。
添付の図面は、この発明を実施している状態を示すだめ
の説明図であり、■はアルミニウム板に０．３り以下の
微小孔または微小スリットをあけてなる７−ルド板、２
は皮膜、３は素地、４はＸ線発生装置、５は螢光Ｘ線検
出器である。
の説明図であり、■はアルミニウム板に０．３り以下の
微小孔または微小スリットをあけてなる７−ルド板、２
は皮膜、３は素地、４はＸ線発生装置、５は螢光Ｘ線検
出器である。
図面に示されるように、この発明を実施するには螢光Ｘ
線膜厚計を測定面積０．３０でセットし、被測定物を測
定台にセットするときに上記ソールＰ板で被測定物、゛
を覆い、所定の膜厚測定を行なう。
線膜厚計を測定面積０．３０でセットし、被測定物を測
定台にセットするときに上記ソールＰ板で被測定物、゛
を覆い、所定の膜厚測定を行なう。
以上、この発明によれば、従来正確な膜厚測定ができな
かった問題を解決し、微小面積の膜厚測定が可能となる
ので、微小面積メッキ等の性能チェックにも利用するこ
とができる。
かった問題を解決し、微小面積の膜厚測定が可能となる
ので、微小面積メッキ等の性能チェックにも利用するこ
とができる。
図面は、この発明を実施している状態を示すための説明
図であり、アルミニウム板に０．３り以下の微小孔まだ
は微小スリットをあけてなるシールド板で被測定物を覆
ったときの断面と、Ｘ線発生装置、螢光Ｘ線検出器の位
置とを示すものである。 各符号はそれぞれ下記のものを示す。 ■・・・・・・−７−ルド板、２・・・・・・皮膜、３
・・・・・・素地、４・・・・・・Ｘ線発生装置、５・
・・・螢光Ｘ線発生装置。
図であり、アルミニウム板に０．３り以下の微小孔まだ
は微小スリットをあけてなるシールド板で被測定物を覆
ったときの断面と、Ｘ線発生装置、螢光Ｘ線検出器の位
置とを示すものである。 各符号はそれぞれ下記のものを示す。 ■・・・・・・−７−ルド板、２・・・・・・皮膜、３
・・・・・・素地、４・・・・・・Ｘ線発生装置、５・
・・・螢光Ｘ線発生装置。
Claims (1)
- アルミニウム板に微小面積の孔またはスリットをあけて
なる／−ルド板で被測定物を覆い、Ｘ線により前記被測
定物の皮膜の膜厚を測定することからなる微小面積の膜
厚測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4375183A JPS59168314A (ja) | 1983-03-15 | 1983-03-15 | Ｘ線を利用した微小面積の膜厚測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4375183A JPS59168314A (ja) | 1983-03-15 | 1983-03-15 | Ｘ線を利用した微小面積の膜厚測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59168314A true JPS59168314A (ja) | 1984-09-22 |
Family
ID=12672464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4375183A Pending JPS59168314A (ja) | 1983-03-15 | 1983-03-15 | Ｘ線を利用した微小面積の膜厚測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59168314A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4646341A (en) * | 1985-03-28 | 1987-02-24 | Upa Technology, Inc. | Calibration standard for X-ray fluorescence thickness |
| JPS62177405A (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-04 | Nec Corp | 薄膜厚さの計測方法 |
| JP2007502421A (ja) * | 2003-08-12 | 2007-02-08 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | パターン化された表面の分析のための開口マスクを備えるｘ線蛍光システム |
-
1983
- 1983-03-15 JP JP4375183A patent/JPS59168314A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4646341A (en) * | 1985-03-28 | 1987-02-24 | Upa Technology, Inc. | Calibration standard for X-ray fluorescence thickness |
| JPS62177405A (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-04 | Nec Corp | 薄膜厚さの計測方法 |
| JP2007502421A (ja) * | 2003-08-12 | 2007-02-08 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | パターン化された表面の分析のための開口マスクを備えるｘ線蛍光システム |
| JP4724662B2 (ja) * | 2003-08-12 | 2011-07-13 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | パターン化された表面の分析のための開口マスクを備えるｘ線蛍光システム |
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