JPS62132871A - 新規チアゾ−ル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、下記一般式（Ｉ）で示される新規なチアゾー
ル誘導体及びその塩に関する。

［式中の記号は以下の意味を有する。

Ｒ５水素原子、ヒドロキシ低級アルキル基。

ヒドロキシイミノ低級アルキル基、低 級アルコキシイミノ低級アルキル基。

ホルミル基、カルボキシ基、シアン基。

ニトロ基、ハロゲン原子、チオシアす る基。

Ｒ２；水素原子、低級アルキル基、低級アルカノイル基
、又は低級アルコキシカル ボニル基。

Ａ１；低級アルキレン基。

Ｒ３及びＲ４；同−又は異って、水素原子、又は低級ア
ルキル基。但し、Ｒ３とＲ４とは窒素原子と一体とな、
す、ピロリジン環。

ピペリジン環２モルホリン環、４位窒素が低級アルキル
基で置換されていてもよいヒペラジン環を形成していて
もよい。

但し、Ｒ１が水素原子のときは、Ｒ２は低級アルカノイ
ル基、又は低級アルコキシカルボニル基を意味する。］ （発明の背景） 従来より２重篤な副作用のあるステロイド薬物に代替す
るものとして種々の非ステロイド系抗炎症剤が開発され
、市販されている。しかしながら、市販の非ステロイド
系抗炎症剤は、胃腸障害等なお好ましくない副作用が認
められる。

中でも、インドメタシンは非ステロイド系抗炎症剤とし
て最も強力な抗炎症活性を有しているにもかかわらず１
強度な胃腸障害等の副作用を有しており、その使用を困
難なものとしている。

本発明者らは、以前より優れた抗炎症、鎮痛。

解熱、抗関節炎、抗リウマチ、免疫調節等の作用を、有
し、かつ副作用のかなり軽減された好ましい治療効果を
発揮する化合物の提供を目的として、３，５−ジーｔｅ
ｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル置換のへテロ環
化合物を開発し、特許出願を行ってきた（特開昭５７−
１７５１７１号公報、特開昭６０−１５５１６６号公報
）。

本発明者らは、さらに優れた治療活性を有する医薬化合
物を開発すべく鋭意研究した結果。

頭記一般式（Ｉ）で示される文献未載の新規化合物が、
薬理活性の点でもインドメタシンと同等あるいはそれ以
上の作用を示し、極めて好適な治療活性を有するという
意外な新知見を得て本発明を完成した。

（化合物の具体的説明） 本明細書の一般式の定義において、特に断わらない限り
、「低級」なる用語は炭素数が１乃至６個の直鎖又は分
岐状の炭素鎖を意味する。

従って、「低級アルキル基」としては、具体的には例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基。

インプロピル基、ブチル基、イソブチル基、　５ｅｅ−
ブチル基、　　ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソ
ペンチル基、ネオペンチル基、　　ｔｅｒｔ−ペンチル
基、１−メチルブチル基、２−メチルブチルル基、１，
２−ジメチルプロピル基、ヘキシル基。

イソヘキシル基、１−メチルペ／チル基、２−メチルペ
ンチル基、３−メチルペンチル基、　　１゜１−ジメチ
ルブチル基、１．２−ジメチルブチル基、２．２−ジメ
チルブチル基、■、３−ジメチルブチル基、２，３−ジ
メチルブチル基、３．３−ジメチルブチル基、１−エチ
ルブチル基、２−エチルブチル基、１，１．２−）リメ
チルプロビル基。

１、２．２−　トリメチルグロビル基、１−エチル−１
−メチルグロビル基、１−エチル−２−メチルプロピル
基等が挙げられる。

また、「低級アルキレン基」としては、具体的にはメチ
レン基、エチレン基、メチルメチレトリエチレン基、２
−メチルトリメチレン基。

３−メチルトリメチレン基、１−エチルエチレン基、２
−エチルエチレン基、ペンタメチレン基、１−メチルテ
トラメチレン基、２−メチルテトラメチレン基、３−メ
チルテトラメチレン基、４−メチルテトラメチレン基、
ヘキサメチレン基等の炭素数が１乃至６個の直鎖又は分
岐状のアルキレン基が挙げられる。

また、「低級アルコキシ基」としては、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、インブトキシ基、　Ｓｅｅ−ブトキシ基、　　ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオ
キシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘンチルオ
キシ基、ヘキシルオキシ基環炭素数１乃至６個の直鎖又
は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。

また、低級アルカノイル基としては炭素数が２乃至６個
の直鎖又は分岐状のアルキルカルボニル基が挙げられ、
具体的にはアセチル基、グロピオニル基、ブチリル基、
イソブチリル基。

バレリル基、イソバレリル基、ヒバロイル基。

ヘキサノイル基等である。

さらに、「低級アルコキシカルボニル基」としては、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキ
シカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキ
シカルボニル基。

インブトキシカルボニル基、　　ｓｅｅ　−ブトキシカ
ルボニル基、　　ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ペ
ンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボ
ニル基、ネオペンチルオキシ力ルボニ＃基、　　ｔｅｒ
ｔ−ヘンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカル
ボニル基等炭素数１乃至６個の直鎖又は分岐状のアルコ
ールと、カルボキシ基とでエステル形成された基が挙げ
られる。

「ヒドロキシ低級アルキル基」は、前記「低級アルキル
基」の任意の水素原子が水酸基で置換した基を意味し、
具体的には、ヒドロキシ基−ｆｋＬ　　１−ヒドロキシ
エチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプ
ロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシ
プロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基。

２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基１１−ヒドロキシ
ブチル基、２−ヒドロキシブチル基。

３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基、１
−ヒドロキシ−２−メチルプロピル基。

２−ヒドロキシ−２−メチルグロビル基、３−ヒドロキ
シ−２−メチルプロピル基、１−ヒドロキシペンチル基
、２−ヒドロキシペンチル基。

３−ヒドロキシペンチル基、４−ヒドロキシペンチル基
、５−ヒドロキシペンチル基、４−ヒドロキシ−３−メ
チルブチル基、６−ヒドロキシヘキシル基、５−ヒドロ
キシ−４−メチルエチル基等の炭素数１乃至６個の直鎖
又は分岐状のヒドロキシアルキル基が挙げられる。

「ヒドロキシイミノ低級アルキル基」は、前記「低級ア
ルキル基」の２個の水素原子がヒドロキシイミノ基（Ｈ
Ｏ−Ｎ＝　）で置換した炭素数が１乃至６個のヒドロキ
シイミノアルキル基を意味し、具体例としては、ヒドロ
キシイミノメチル基、■−ヒドロキシイミノエチル基、
２−ヒドロキシイミノエチル基、３−ヒドロキシイミノ
プロピル基、２−ヒドロキシイミノ−１−メチルエチル
基、４−ヒドロキシイミノブチル基。

３−ヒドロキシイミノ−２−メチルプロピル基。

５−ヒドロキシイミノペンチル基、４−ヒドロキシイミ
ノ−３−メチルブチル基、６−ヒドロキシイミノヘキシ
ル基等が挙げられる。

「低級アルコキシイミノ低級アルキル基」は。

上記「ヒドロキシイミノ低級アルキル基」のヒドロキシ
基の水素原子が前記「低級アルキル基」で置換した炭素
数が２乃至１２個の直鎖又は分岐状のアルコキシイミノ
アルキル基であり、その代表的な具体例を挙げれば、メ
トキシイミノメチル基、１−メトキシイミノエチル基、
２−メトキシイミノエチル基、３−メトキシイミノプロ
ピル基、４−メトキシイミノブチル基、５−メトキシイ
ミノペンチル基、６−メドキシイミノヘキシル基、エト
キシイミノメチル基、２−ニトキシイミノエチル基、３
−エトキシイミノプロビル基、４−エトキシイミノブチ
ル基、プロポキシイミノメチル基、２−プロポキシイミ
ノエチル基、３−プロポキシイミノプロピル基。

４−プロポキシイミノブチル基、インプロポキシイミノ
メチル基、２−イソプロポキシイミノエチル基、３−イ
ンプロポキシイミノプロビル基、４−イソプロポキシイ
ミノブチル基、ブトキシイミノメチル基、２−ブトキシ
イミノエチル基。

３−プトキシイミノグロビル基、４−ブトキシイミノブ
チル基、　　ｔｅｒｔ−ブトキシイミノメチル基、　　
２−　ｔｅｒｔ−ブトキシイミノエチル基、３−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシイミノエチル基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシ
イミノブチル基等である。

「ハロゲン原子」としては、具体的には塩素原子、臭素
原子等が挙げられる。

本発明化合物（Ｉ）において、ＲＩがヒドロキシイミノ
低級アルキル基や低級アルコキシイミノ低級アルキル基
であるときは、　　ｓｙｎ型、　　ａｎｔｉ型る。

また２本発明化合物（Ｄは、　　Ｒ’、　　Ｒ’として
不整炭素原子を含む置換基で置換した化合物であ本発明
には本発明化合物（Ｉ）の各種の立体異性体及びその混
合物の全てが含まれる。

なお、ケト−エノール型互変異性体について。

本明細書の一般式ではエノール型で表示しているが、エ
ノール型が安定であることを意味するものではなく、む
しろ室温下では一般的なケト−エノール型互変異性体と
同様ケト型がより安定である。

上記一般式（１）で示される本発明化合物は塩を形成す
る。本発明には化合物（Ｉ）の塩も含まれ、このような
塩としては塩酸、臭化水素酸。

硫酸、硝酸やリン酸などの無機酸や、ギ酸、酢酸、シュ
ウ酸、クエン酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、
酒石酸、メタンスルホン酸。

エタンスルホン酸などの有機酸との酸付加塩や。

置換基の種類によってはナトリウム、カリウム等の塩基
との塩やアンモニウム塩などが挙げられる。

本発明化合物（１）は種々の方法により合成することが
できる。代表的な製造法を以下に例示する。

（ａ）　　ホルミル化 （式中Ｒ２は前記の意味を有する。） 一般式（Ｉａ）で示されるホルミル化合物は、化合物（
ｎ）にオキシ塩化リン、オキザリルクロリドや塩化チオ
ニル等の存在下、メチルホルムアミド。

ジメチルホルムアミドを作用させてホルミル基を導入す
るヴイルスマイアー（Ｖｉｌｓｍｅｉｅｒ　）反応によ
り合成することができる。

反応は、ジメチルホルムアミド等にオキシ塩化リン等を
冷却下に加えた後、化合物（ＩＩ）を加えるか、あるい
は化合物（ｎ）をジメチルホルムアミド等に溶解し、こ
れにオ、キシ塩化リン等を滴下して行うのが好適である
。

ジメチルホルムアミドは溶媒をも兼ねることができるが
、さらに反応に不活性な他の有機溶媒例えばジクロロメ
タン、クロロホルム、ベンゼンやジクロロベンゼン等を
用いることもできる。

反応温度は室温乃至加温下に設定するのが望ましい。

（ｂ）オキシム化 （ｍ）　　　　　　　　　　　　（Ｉｂ）　　　　’（
式中　Ｒ２は前記の意味を有し　Ａ２は単結合又は炭素
数が１乃至５個の低級アルキレン基を。

Ｒ５は水素原子又は低級アルキル基を意味する）一般式
（Ｉｂ）で示されるオキシムは、一般式（ｍ）で示され
るアルデヒドに一般式（ｒＶ）で示されるヒドロキシル
アミン類を作用させることに製造することができる。

反応は、化合物（ｍ）と、化合物（ＩＩＩ）に対して等
モル乃至過剰モルの化合物（ＩＶ）とを、ジメチルホル
ムアミド、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホ
ルム、ピリジン、ベンゼン、酢酸エチル。

アセトニトリル、エーテル、メタノール、エタノール等
の反応に不活性な有機溶媒中、塩基の存在下２通常室温
下に行うのが好ましい。

用いられる塩基としては、ピリジン、ピコリン。

ルチジン、　　Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等が挙げられる。ピリジンは溶
媒を兼ねることができる。

（Ｃ）シアン化　、 （式中　Ｒ２は前記と同じ意味を有する。）一般式（Ｉ
ｃ）で示されるニトリル化合物は、一般式（Ｉｂ’）で
示されるオキシム化合物に脱水剤を作用させることによ
り製造される。

反応は、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホル
ム、ヒリジン、ベンゼン、酢酸エチル。

アセトニトリル、エーテル、ジオキサン等の有機溶媒中
、化合物（Ｉｂ’）に、オキザリルクロリド、塩化チオ
ニル等の脱水剤を加え、室温乃至加温下に実施するのが
有利である。ピリジン、ピコリン。

ルチジン、　　Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の塩基を添
加して実施することもできる。

なお、このニトリル化合物（Ｉｃ）は、一般式（Ｉａ）
で示されるホルミル化合物にヒドロキシルアミン鉱酸塩
を、オキシム化及び脱水反応に共通の有機溶媒中、脱水
剤の存在下で反応させることにより。

特にオキシム化合物を単離することなく、直接製造する
ことができる。この反応においてピリジン含有有機溶媒
を用いるときは、特に脱水剤を必要としない。

また、このニトリル化合物（Ｉｃ）は、オキザリルクロ
リドや塩化チオニル等がホルミル化における縮合剤と脱
水反応の脱水剤を兼ねることができ。

ホルミル化、オキシム化、脱水反応に共通の有機溶媒を
用いピリジンを添加し、かつヒドロキシルアミン鉱酸塩
を用いるときは、ホルミル化合物やオキシム化合物を特
に単離することなく化合物（ｎ）より直接製造すること
が可能である。

（ｄ）アミノメチル化 （式中、Ｒ２は前記の意味を有し　Ｒ６及びＲ７は一方
が水素原子又は低級アルキル基を、他方が同−又は相異
る低級アルキル基を意味する。但しＲ６及びＲ７は窒素
原子と一体となり、ピロリジン環。

ピペリジン環９モルホリン環、４位窒素が低級アルキル
基で置換されていてもよいピペラジン環を形成していて
もよい。） 一般式（！ｄ）で示されるモノ又はジ低級アルキルアミ
ノメチル化合物は、原料化合物（ｎ）にホルムアルデヒ
ドとモノ又はジ低級アルキルアミン類とを作用させるマ
ンニッヒ（Ｍａｎｎｉｃｈ　）反応により製造すること
ができる。

反応は、メタノール、エタノール、イソプロパツール等
のアルコール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、酢酸等の有機溶媒や水、あ
るいはこれらの混合溶媒中で。

室温乃至加温下好ましくは加熱還流下に行うのが有利で
ある。

（、）チオシアナート化 （ＩＩ）　　　　　　　　　　　　（Ｉｓ）　　・（式
中　Ｒ２は前記の意味を有する）　　′−一般式Ｉａ）
で示されろチオシアート化合物は原料化合物（ｎ）−に
チオシアン酸アルカリ傘′属塩−とハ、ロゲンとを作用
させることにより製造することができる。

反応はメタノール、エタノール、インプロパツール等の
アルコール、ベンゼン、酢酸等の有機溶媒中冷却下乃至
室温下に実施するのが好ましい。

（ｆ）ハロゲン化 （ＩＩ）　　　　　　　　　　　　（Ｉｆ）（式中Ｒ２
は前記の意味を有し、Ｘ′はハロゲン原子を意味する） 一般式（Ｉｆ）のハロゲン化合物は原料化合物（ＩＩ）
のチアゾール５位の反応性が高く、直接・・ロゲン化法
を適用して製造することもできる。

反応は、化合物（ｎ）に塩素、臭素等のハロゲンガスあ
るいはスルフリルクロリドのようなハロゲン化剤を９例
えばクロロホルム、四塩化炭素、酢酸等反応に不活性で
・・ロゲン等に対して安定な有機溶媒中に作用させるこ
とによって行われる。

反応温度は冷却下乃至室温下に設定するのが望ましい。

（ｇ）　　ニトロ化 （ｎ）　　　　　　　　　　　　　　（Ｉｇ）（式中　
Ｒ２は前記の意味を有する） 一般式（Ｉｇ）で示されるニトロ化合物は、硝酸アセチ
ルによるニトロ化により製造することができる。

反応は、無溶媒でも進行するがアセトニトリル等の有機
溶媒中で行うのが好ましく原料化合物（ｎ）の有機溶媒
溶液に２発煙硝酸および無水酢酸の有機溶媒溶液を加え
て、冷却下乃至室温下に実施するのが有利である。

なお、収率や取扱いの煩雑さを無視すれば発煙硝酸と濃
硫酸との混酸や、硝酸、あるいはニトロマロン酸ジエチ
ル等を用いるニトロ化合物合成の一般的な合成法によっ
ても本発明化合物（Ｉｇ）を合成することはできる。

（ｈ）ヒドロキシメチル化合物の合成 （式中Ｒ２は前記の意味を有する） 一般式（Ｉｈ）のヒドロキシメチル化合物は（ａ）のホ
ルミル化によって合成されるホルミル化合物（Ｉａ）を
原料としてそれを還元することによって製造される。

反応はメタノール、エタノール、インプロパツール等の
アルコール、エーテル、テトラヒドロフラン等の反応に
不活性な有機溶媒中で行われ、還元剤としては通常水素
化ホウ素ナトリウム等のホウ素化合物を用いるのが有利
であるが、他の還元剤例えば水素化アルミニウムリチウ
ム等を用いたり。

あるいは他の一般的な還元方法を適用して本発明化合物
（Ｉｈ）を製造することができる。

（ｉ）　　エーテル化 （式中Ｉ　　Ｒ’は前記の意味を有し１Ｍは水素原子又
はアルカリ金属原子を、Ｒ８は低級アルキル基を、Ｘ２
は）・ロゲン原子又は有機スルホン酸残基を意味する。

） ここに、アルカリ金属原子としてはす）　ＩＪウム原子
やカリウム原子等が、ハロゲン原子としてはヨウ素原子
、臭素原子、塩素原子等が、有機スルホン酸残基として
は、メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキ
シ基等のアルカンスルホン酸残基、トルエンスルホニル
オキシ基（例１−Ｉ’　ｐ−）レニンスルホニルオキシ
基）。

ベンゼンスルホニルオキシ基等の芳香族スルホ酸 ン噌残基がそれぞれ挙げられる。

この反応は、化合物（Ｖ）と化合物（Ｖ）に対し等モル
乃至過剰モルの化合物（ＶＩ）とを用い、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、エーテル、ジメチルスルホキシド
、アセトン、メチルエチルケトン等の有機溶媒中で行な
われる。

化合物（Ｖ）として、ヒドロキシ化合物（Ｍ＝Ｈ）を用
いるときは、塩基の存在下に行なわれ、かかる塩基とし
てはブチルリチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水素化ナトリウム。

金属ナトリウム、炭酸力′リウムなどの塩基が好適に用
いられる。

反応温度は、用いられる原料化合物や塩基の種類等によ
って異なり２反応が激しいときは冷却下に、温和なとき
は室温下乃至加温下に設定される。

また、この反応においては、無水の条件下に実施するの
が有利である。

（ｊ）　　Ｏ−アシル化 （ＶＩＤ　　　　　　　　誘導体 （式中、Ｒ９は水素原子、シアノ基、ニトロ基。

級アルキル基又は低級アルコキシ基を意味し、　　ＡＩ
、Ｒ’、　Ｒ’は前記の意味を有する。〕一般式（Ｉｊ
）で示されるエステル化合物は。

対応するヒドロキシ化合物（■）又はその反応性誘導体
と、カルボン酸（■）又はその反応性誘導体とのエステ
ル化により製造される。

化合物（■）の反応性誘導体としては１次の一般式で示
されるハライド又は有機スルホネート類である。

（式中Ｒ９及びＸ２は前記の意味を有する）また、化合
物（■）の適当な反応性誘導体としては、酸無水物、酸
クロライド、酸ブロマイドの如き酸ハライド等が挙げら
れる。

反応において、アルコール成分として化合物（■）を用
いるときは、化合物（■１）と化合物（■）とを不活性
有機溶媒中酸触媒の存在下に反応させるか又は化合物（
■）と化合物（Ｓ・ＩＩＩ）の反応性誘導体とを不活性
有機溶媒中塩基の存在下に反応させる。

また、アルコール成分として化合物（■）の反応性誘導
体を用いるときは、その化合物（■）の反応性誘導体と
化合物（■）とを、不活性溶媒中塩基の存在下に反応さ
せるか、又はその化合物（■）の反応性誘導体と化合物
（Ｖｌｌ）の塩とを不活性溶媒中に反応させる。

原料化合物の使用量は、アルコール成分とカルボン酸成
分とをほぼ化学当量、あるいは一方を過剰モルとする。

不活性有機溶媒は２反応性誘導体の種類によシ若干異な
るものの、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテル
、クロロホルム、ジクロルエタン、ジクロルメタン、四
塩化炭素、酢酸エチル、アセトニトリル、ベンゼン、ト
ルエン。

キシレン等が用いられる。

酸触媒としては、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等が、塩基と
しては、ブチルリチウム。

水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
トリメチルアミン、トリエチルアミン。

Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、ピコリン。

ルチジン等が挙げられる。

反応温度は９反応条件によって異なり、冷却下、室温下
、又は加温下に設定される。

（ｋ＋　　直接メタル化によるカルボキン化合物の合成
（式中Ｒ１は前記の意味を有する〕 一般式（ｒｋ）で示されるカルボキシ化合物は。

化合物（１ｒ）の直接メタル化により合成することがで
きる。

反応は、化合物（ＪＬ）を反応に不活性な有機溶媒２例
えばエーテル、テトラヒドロフラン、１．２−ジメトキ
シエタン等中でｎ−ブチルリチウムやフェニルリチウム
等のアルキルまたはアリールリチウムと反応させ２次い
で二酸化炭素を作用させることにより行なわれる。

反応は通常冷却下に行なうのが好適である。

その他の製造法 （１）　　ヒドロキシ低級アルキル化合物の合成Ｒ１が
ヒドロキシ低級アルキル基である本発明化合物は、上記
（ｈ）製法と同様対応するアルデヒド化合物を還元する
ことによシ製造できる他対応するカルボン酸、エステル
、酸ハロゲン化物を還元する方法等通常のアルコール類
製造法を適用することによっても製造することができる
。

（２）　　アミン低級アルキル化合物の合成・　　　　
Ｈ Ｒ１か式　□＞Ｎ−Ａ−で示される基であるアミン低級
アルキル化合物は、対応するニトロ化合物。

酸アミド（第一アミン）、モノ低級アルキルアミノ低級
アルキル化合物を適宜の方法で還元する方法、ハロゲン
化合物をアンモニアで処理する方法やガブリエル（Ｇａ
ｂｒｉｅｌ　）法等通常の第一アミンを製造する方法を
適用して製造することができる。

（３）　　モノあるいはジー低級アルキルアミノ低級ア
ルキル化合物の合成 ０１．・Ｒ６ Ｒ１か・１．Ｒ，）Ｎ−Ａ−で示される基である化合物
は、上記（ｄ）のアミノメチル化法の他、対応する酸ア
ミド（第二、三アミン）や第三アミンを製造するための
第三アミンの還元、対応する／・ロゲン化合物をアミン
で処理する方法等通常の第二、三アミンを製造する方法
を適用することによって合成することができる。

上記に例示した種々の製造法によシ製造された本発明化
合物は遊離のまま、塩として製造されるときは塩のまま
あるいは遊離化合物を常法によりその塩となし単離され
精製される。

単離、精製はｆ取、抽出、再結晶、各種カラムクロマト
グラフィー等通常用いられる化学操作を適用してなされ
る。

（発明の効果） 本発明化合物（Ｉ）及びその塩は、特開昭５７−１７５
１７１号公報に記載された化合物と同様の作用を有する
ものの、その薬理活性の点で顕著に優れている。即ち９
本発明化合物は、ヒトリウマチの実験モデルとされるア
ジ−バンド関節炎に対して治療及び予防効果を示し、解
熱、鎮痛・抗炎症作用を示し、また生化学的にはグロス
タグランジン生合成阻害作用を有する。さらに９本発明
化合物は■型及び■型（遅延型）のアレルギー反応を顕
著に抑制すると共にリポキシゲナーゼ抑制作用やラジカ
ルスカベンジャーとしての性質を併有している。

本発明化合物は、殊に従来の非ステロイド系抗炎症剤の
中では抗炎症活性が最も強力であったインドメタシンに
比して、それと同等乃至それ以上に強力な抗炎症活性を
示した。

従って２本発明化合物は、従来公知の薬剤に比し顕著に
優れた治療活性を有する抗炎症剤、解熱剤、鎮痛剤、抗
関節炎剤、抗リウマチ剤及び免疫機能調整剤として有用
である。

本発明の薬理活性は以下に示す方法等によって確認され
たものである。

ｍｌの割合で懸濁し、オートクレーブで１２１℃１５分
間滅菌してアジュバントを作成した。このアジュバント
を７週齢の雄性ルイス（Ｌｅｔｖｉｓ）ラットに接種し
て関節炎を惹起した。被験薬物投与開始前と最終投与２
４時間後に両側後肢の中央部の厚さを測定し。

厚さの増加に対する抑制効果を以下の２つの方法で検討
した。なお、被験薬物は全て０．５％メチルセルロース
（ＭＣ）にて懸濁し１日１回連日経口投与した。

（１）治療実験；アジュバントをラット尾皮下に０、１
　ｍｔ注射して（ｄａｙｏ）ｙ約２週後発症を確認した
ラットに被験薬物を約１０日間投与した。結果は中足部
の厚さの増加（△ＦＴ）でその効果を確認した。

（２）予防実験；アジュバントをラット左後肢足踏皮内
に０．０５　ｃａｌ注射した（ｄａｙｏ）。被験薬物は
ｄａｙ　Ｏから３週間投与した。結果はｄａｙ　２１　
におけるアジュバント接種足（ＦＴＬ）、非接種足（Ｆ
ＴＲ）各々の中央部の厚さと、各々の増加の０．５％Ｍ
ｅ投与群に対する抑制率（１％）でその効果を確認した
。

本発明化合物（１）又はその塩の１種又は２種以上を有
効成分として含有する製剤は１通常用いられる製薬用担
体、賦形剤その他の添加剤を用いて。

錠剤、散剤、細粒剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤。

液剤、軟膏、坐剤、注射剤等に調製され、経口的または
非経口的に投与される。投与量は投与ルート、患者の体
重９年令、症状等により適宜調整されるが９例えば経口
投与の場合２通常成人１日当９０．１〜１０００ｍｇで
あり、これを１回であるいは２〜４回に分けて投与する
。

（実施例） 以下に実施例を掲記し９本発明を更に詳細に説明する。

実施例　ｌ ジメチルホルムアルデヒド７、５　ｍｌ及び無水クロロ
ホルム５０！ＩＩＺの溶液に５℃以下でオキシ塩化リン
５．５ｇを滴下する。滴下終了後室温にて１時間攪拌し
た後ｒ　４　　（３，Ｄ−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−
ヒドロキシフェニル）　−２（３Ｈ）−チアゾロン７ｇ
をジメチルホルムアミド３０ｍｔＫ溶かした溶液を滴下
する。その後２時間加熱還流する。冷却後１０％炭酸カ
リウム水溶液２００ｍＺに分散し、　１５分間攪拌する
。クロロホルムにて抽出、乾燥、ｍ縮径残渣をシリカゲ
ルクロマトに付す。クロロホルム−メタノールたて溶出
し、４−（３，５−ジ〜ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロ
キシフェニル）−５−ホルミル−２（３Ｈ）−チアゾロ
ン３．５ｇを得た。

さらにエタノールより再結晶し融点２６４〜２６５℃の
精製物を得た。

元素分析　（Ｃ，、Ｈ，、ＮＯ，Ｓとして）Ｃ（彌　　
Ｈ（−Ｎ（％） 理論値　　６４．８４　　６．９５　　４．２０実験値
　　６５．２２　　７．２５　　３．９２実施例２ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチル−４−しドロキシ
フェニル）　−２（３Ｈ）−チアゾロン３ｇ、５０％ジ
メチルアミン水溶液３．６ｇ、３５％ホルマリン２．４
ｇ、酢酸６　ｍｌ及びジオキサン４０ｍ１の混液な６〜
７時間加熱還流する。冷却後、溶媒を減圧留去する。残
渣をベンゼンに溶解し、希塩酸で抽出する。塩酸層を炭
酸カリウムで塩基性とした後、りロロホルムで抽出する
。抽出液は乾燥後、減圧濃縮して４−（３，５−ジーｔ
ｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）−５−ジメ
チルアミノメチル−２（３Ｈ）−チアゾロン１．７ｇを
得た。さらにシクロヘキサン−ｎ−ヘキサンより再結晶
し融点１８８〜１９０℃の精製物を得た。

元素分析　（Ｃ２０Ｈ３ｏ　Ｎ２０２　Ｓとして）Ｃ（
％）　　　Ｈ（％）　　　Ｎ（％）理論値　　６６．２
６　　８．３４　　７．７３実験値　　６６．０５　　
８．０７　　７．５３実施例　３ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）　−２（３Ｈ）−チアゾロン１．５ｇに酢酸
３０ｍ１及びメタノール１０　ｍｌの混液にチオシアン
酸ナトリウム０．７ｇを加えた後、水冷下に臭素０．７
ｇを滴下する。１時間室温で攪拌した後、水へ分散し生
じた沈殿をｒ取する。沈殿をベンゼン−ｎ−ヘキサンよ
り再結晶し融点１９０〜１９２℃の４−（３，５−ジー
ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）−５−チ
オシアナート−２（３Ｈ）−チアゾロン０．８ｇを得た
。

元素分析　（Ｃ＋５Ｈ２ｚＮ２０ｚＳｔとして）Ｃ（％
）　　　Ｈ（＠Ｎ（伺 理論値　　５９，６４　　６．１２　　７．７３実験値
　　５９．４８　　６．３６　　７．３０実施例４ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）−５−ホルミル−２（３Ｈ）−チアゾロン０
．５５ｇをメタノール３０ｍ乙に溶解した溶液に水素化
ホウ素ナトリウム０．１ｇを加える。３０分間攪拌した
後、希塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出する。

抽出液を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトに付
す。クロロホルム−メタノールにて溶出し。

４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）−５−ヒドロキシメチル−２（３Ｈ）　−チ
アゾロン０．２ｇを得た。さらにエタノールより再結晶
し融点２２４〜２２７°Ｃの精製物を得た。

元素分析　（Ｃ＋ａＨ２ｓＮＯ３Ｓとして）Ｃ（＠Ｈ（
彌　　Ｎ（＠ 理論値　　６４，４５　　７，５１　　４．１８実験値
　　６４．４６　　７．７３　　３．９６実施例　５ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）　−２（３Ｈ）−チアゾロン１．５ｇを？）
ラヒドロフラン３０ｍ１に溶かす。室温にて臭素０．８
ｇをクロロホルム５　ｍｌに溶かした溶液を加える。３
０分間攪拌した後、水へ分散し、酢酸エチルで抽出する
。抽出液を乾燥、濃縮し、残渣をトルエンより再結晶し
て５−ブロモ−４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー
４−ヒドロキシフェニル）−２（３Ｈ）−チアゾロン０
．９４ｇを得た。融点２０４〜２０５℃。

元素分析　（Ｃ，７Ｈ，，２Ｎｏ２ＳＢｒとして）Ｃ（
チ）Ｈ（％）Ｎ（＠ 理論値　　５３．１３　　５，７７　　３゜６４実験値
　　５３．２１　　５，８５　　３．７３実施例　６ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）　−２（３Ｈ）−チアゾロン１．５ｇ及び塩
化スルフリル０．７ｇより実施例５と同様にしてトルエ
ンより再結晶し、５−クロロ−４−（３，５−シー　ｔ
ｅｒｔ　　７’チル−４−ヒドロキシフェニル）−２（
３Ｈ）−チアゾロン０．４５ｇを得た。融点２００〜２
０２℃。

元素分析　（Ｃ，、Ｈ２２Ｎｏ、ＳＣＩとして）Ｃ（＠
Ｈ（＠Ｎ　（チ） 理論値　　６０．０８　　６．５２　　４．１２実験値
　　６０．３１　　６．７０　　４．０２実施例　７ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）　−２（３Ｈ）−チアゾロン１．４ｇをテト
ラヒドロ７ラン４０ｍ１に溶解した後、０℃以下に冷却
する。無水酢酸Ｉ　ｌｌｌ１及び発煙硝酸０．６ｇの混
液を０℃以下で滴下する。室温建て終夜攪拌した後、水
へ分散し酢酸エチルで抽出する。抽出後を乾燥、濃縮し
、残渣をシリカゲルクロマトに付す。

クロロホルムにて溶出し、４−（３，５−ジーｔｃｒｔ
−フチルー４−ヒドロキシフェニル）−５−ニトロ−２
（３Ｈ）−チアゾロｙｏ、５３ｇを得た。　さらにベン
ゼンより再結晶し、融点２１３〜２１５℃の精製品を得
た。

元素分析　（ａｔ□Ｈ２□Ｎ２０４Ｓとして）Ｃ（＠Ｈ
（チ）　　　Ｎ（ｃＡ 理論値　　５８．２７　　６．３３　　７．９９実験値
　　５８．６０　　６．４３　　７．５８実施例　８ ｓｙｎ、　ａｎｔｉの混合物 ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）−５−ホルミル−２（３Ｈ）−チ７ソロン０
１６５ｇ、ジメチルホルムアルデヒド５ｍｌ、ピリジン
０．２ｇ及びヒドロキシルアミン塩酸塩０．１５ｇの混
液を室温で２〜３時間攪拌する。水へ分散し生じた沈殿
物をｒ取する。乾燥後、沈殿物を酢酸エチルより再結晶
し、４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロ
キシフェニル）−５−ヒドロキシイミノメチル−２（３
Ｈ）−チアゾロン０．３４ｇを得た。マススペクトル　
ｍ／ｉ　：　３４８元素分析　（Ｃ，８Ｈ，、Ｎ、０．
Ｓ−’Ａ　ＣＨ３ＣＯ０Ｃ２Ｈ，として）ＣＣ９８Ｈ（
（６）　　Ｎ（チ） 理論値　　６１．２０　　７．１９　　７．１４実験値
　　６１，１７　　７．２０　　７．１６実施例９ ｓｙｎ＋　ａｎｔｔの混合物 ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）−５−ホルミル−２（３Ｈ）−チアゾロン０
．７ｇ、　　ジメチルホルムアミド５ｍｉ　　ピリジン
０．２ｇ及びメトキシヒドロキシルアミン塩酸塩０．２
ｇより実施例８と同様にし、酢酸エチルより再結晶して
４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）−５−メトキシイミノメチル−２（３）１）
−チアゾロン０．４４ｇを得た。

マススペクトル；　ｍ／ｚ　Ｍ”３６２元素分析　（Ｃ
ｌ９Ｈ２６Ｎ２０３８として）Ｃ（％）　　　Ｈ（＠Ｎ
（チ） 理論値　　６２．９６　　７．２３　　７．７３実験値
　　６２．７１　　７．４２　　７．４３実施例１０ ４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ
フェニル）　−２（３Ｈ）−チアゾロン１．５ｇを乾燥
テト０．５ｇを加えた後徐々に室温まで反応温度をあげ
る。

室温で３０分間攪拌した後、希塩酸中へ分散し酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲ
ルクロマトに付す。クロロホルムにて溶出して　４−　
（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェ
ニル）−２−（エトキシカルボニルオキシ）チアゾール
１．０　ｇを得た。さらにシクロヘキサンより再結晶し
融点１４８〜１４９℃の精製品を得た。

元素分析　（Ｃ２ｏＨ，７Ｎ　Ｏ，Ｓとして）Ｃ（％）
　　　Ｈ（％）　　Ｎ（％） 理論値　　６３．６３　　７．２１　　３．７１実験値
　　６３．５４　　７，２８　　３．７２実施例１１ オキザリルクロライド０．９　ｇとエチレンクロライド
５ＩＩＩｔの混液を、１０℃以下で、ジメチルホルムア
ミド。

０．５ｇとメチレンクロライド１０ｍ７の混液に加える
。

室温で３０分間攪拌した後　４−（３，５−ジーｔｅｒ
ｔ−フチルー４−ヒドロキシフェニル）　−２（３Ｈ）
−チアゾロン１．５ｇを加える。室温で２時間攪拌する
。ヒドロキシルアミン塩酸塩０．７　ｇ　、ピリジン０
．７ｍｌ及びジメチルホルムアミド４ｍｌの混液を加え
て５〜６時間加熱攪拌する。冷却後、１０％炭酸カリウ
ム溶液に分散し１５分間攪拌する。クロロホルムにて抽
出する。抽出液を乾燥、濃縮し、残渣をジオキサンより
再結晶して　５−シアノ−４−（３，５−シー　ｔｅｒ
ｔ　−７’チル−４−ヒドロキシフェニル）−２（３Ｈ
）−チアゾロンＯ’、５ｇを得た。融点２７０〜２７１
°Ｃ元素分析　（Ｃ，、Ｈ２２Ｎ、０．Ｓ　、　　ｏ”
ｂとして）Ｃ（％）　　　　Ｈ（％）　　Ｎ（％）理論
値　　６２．３１　　７．４１　　６．０６実験値　　
６２．０４　　７．４０　　６．２０実施例１２ ｓｙｎ、ａｎｔｉの混合物　　　　　　　　ｓｙｎ、ａ
ｎｔｉの混合物４−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー
４−ヒドロキシフェニル）−５−ヒドロキシイミノメチ
ル−２（３Ｈ）−チアゾロン０．７　ｇ及び無水テトラ
ヒドロフラン２　ｍｌの混液をアルゴン気流中で一７０
°Ｃに冷却する。２．３５規定の　ｎ−ブチルリチウム
１．７　ｍｌを加え３０分間攪拌する。ヨウ化メチル０
．３　ｇと無水テトラヒドロフラン５ｍｌの混液を加え
た後ゆっ（りと室温まで上げる。室温で５時間攪拌した
抜水へ分散し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を乾燥。

濃縮し、粗生成物０．６　ｇを得た。粗生成物０．３　
ｇをシリカゲルクロマトに付し、クロロホルムにて溶出
した後、酢酸エチルより再結晶して　４−（３，５−シ
ーｔｅｒｔ−７’チルー４−ヒドロキシフェニル）−５
−ヒドロキシイミノメチル−２−メトキシチアゾール０
．１６　ｇを得た。マススペクトルｍ／ｚ　：　３６２
元素分析　（Ｃ＋ｏＨ２ａＮ２０．Ｓとして）Ｃ（％）
　　　Ｈ（％）　　　Ｎ（％）理論値　　６２．９６　
　７．２３　　７．７３実験値　　６２．８２　　７．
３６　　７．８１実施例１３ ０フラン１０ｍｔ及び無水エーテル２０ｍｔの混液に室
温にて塩化チオニル０．５　ｇを加える。１〜２時間攪
拌した後、水へ分散し、酢酸エチルで抽出する。抽出液
を乾燥、濃縮した後、残渣をシリカゲルクローｒトに付
ｆ。クロロホルム−メタノールにて溶出し、シクロヘキ
サンより再結晶して、５−シアノ−４−（３，５−ジー
ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）−２−メ
トキシチアゾールｏ、１ｇヲｉた。融点１９４〜１９５
°Ｃ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中の記号は以下の意味を有する。 Ｒ＾１；水素原子、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロ
   キシイミノ低級アルキル基、低 級アルコキシイミノ低級アルキル基、 ホルミル基３カルボキシ基、シアノ基、 ニトロ基、ハロゲン原子、チオシアナ ート基、又は式▲数式、化学式、表等があります▼で示
   される 基、 Ｒ＾２；水素原子、低級アルキル基、低級アルカノイル
   基、又は低級アルコキシカル ボニル基、 Ａ＾１；低級アルキレン基、 Ｒ＾３及びＲ＾４；同一又は異って、水素原子、又は低
   級アルキル基。但しＲ＾３とＲ＾４とは窒素原子と一体
   となり、ピロリジン環、ピ ペリジン環、モルホリン環、４位窒素が低 級アルキル基で置換されていてもよいピペ ラジン環を形成していてもよい。 但し、Ｒ＾１が水素原子であるときは、Ｒ＾２は低級ア
   ルカノイル基、又は低級アルコキシカ ルボニル基を意味する。］ で示されるチアゾール誘導体又はその塩。