JPS6212945U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6212945U JPS6212945U JP4076886U JP4076886U JPS6212945U JP S6212945 U JPS6212945 U JP S6212945U JP 4076886 U JP4076886 U JP 4076886U JP 4076886 U JP4076886 U JP 4076886U JP S6212945 U JPS6212945 U JP S6212945U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- gas supply
- serves
- frequency power
- parallel plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Description
第1図は本考案のプラズマ堆積装置の構成を示
す図、第2図は従来のプラズマ堆積装置の構成を
示す図である。 1……基板、2……支持体(電極)、3……容
器、4A,4B……ガス供給ブロツク(電極)、
5……ガス吹き出し孔、6A,6B……ガス供給
配管、7A,8A,7B,8B……流量設定装置
、9……排気ポンプ、10,13,14,15A
,15B,16A,17A,16B,17B……
バルブ、11,12……ボンベ、18A,18B
……ガスラインフイルター。
す図、第2図は従来のプラズマ堆積装置の構成を
示す図である。 1……基板、2……支持体(電極)、3……容
器、4A,4B……ガス供給ブロツク(電極)、
5……ガス吹き出し孔、6A,6B……ガス供給
配管、7A,8A,7B,8B……流量設定装置
、9……排気ポンプ、10,13,14,15A
,15B,16A,17A,16B,17B……
バルブ、11,12……ボンベ、18A,18B
……ガスラインフイルター。
Claims (1)
- 真空排気可能な容器と、同容器内に収納配置さ
れ、複数枚の基板が載置可能で高周波電力印加用
平行平板電極の一方を兼ねる支持体と、これと対
向して配置されるとともに複数個の分離されたガ
ス供給ブロツクより構成され、さらに、高周波電
力印加用平行平板電極の他方を兼ねるガス供給器
とを備え、前記ガス供給ブロツクが、独立に流量
制御が可能な複数個の堆積用ガス系に各別に接続
されていることを特徴とするプラズマ堆積装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986040768U JPS6236280Y2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1986040768U JPS6236280Y2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6212945U true JPS6212945U (ja) | 1987-01-26 |
JPS6236280Y2 JPS6236280Y2 (ja) | 1987-09-16 |
Family
ID=30855146
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1986040768U Expired JPS6236280Y2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6236280Y2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01109714A (ja) * | 1987-10-22 | 1989-04-26 | Nec Corp | 気相成長装置 |
JPH07130731A (ja) * | 1993-10-29 | 1995-05-19 | Nec Corp | 半導体装置ならびにその製造方法および製造装置 |
JP2013159798A (ja) * | 2012-02-02 | 2013-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマcvd装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4980975A (ja) * | 1972-12-08 | 1974-08-05 | ||
JPS5391665A (en) * | 1977-01-24 | 1978-08-11 | Hitachi Ltd | Plasma cvd device |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP1986040768U patent/JPS6236280Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4980975A (ja) * | 1972-12-08 | 1974-08-05 | ||
JPS5391665A (en) * | 1977-01-24 | 1978-08-11 | Hitachi Ltd | Plasma cvd device |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01109714A (ja) * | 1987-10-22 | 1989-04-26 | Nec Corp | 気相成長装置 |
JPH07130731A (ja) * | 1993-10-29 | 1995-05-19 | Nec Corp | 半導体装置ならびにその製造方法および製造装置 |
JP2013159798A (ja) * | 2012-02-02 | 2013-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマcvd装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6236280Y2 (ja) | 1987-09-16 |
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