JPS63147813U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63147813U JPS63147813U JP4014387U JP4014387U JPS63147813U JP S63147813 U JPS63147813 U JP S63147813U JP 4014387 U JP4014387 U JP 4014387U JP 4014387 U JP4014387 U JP 4014387U JP S63147813 U JPS63147813 U JP S63147813U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor manufacturing
- vacuum chamber
- vacuum
- vent
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の第１の実施例の構成図、第２
図は本考案の第２の実施例の構成図である。 １……真空室、２……高速排気バルブ、３……
スロー排気バルブ、４……ベントガスバルブ、５
……マスフローコントローラ、６……真空ポンプ
、７……ガスフイルター、８……ウエハー、９…
…ウエハー置台、１３……排気バルブ、１４……
バルブ駆動機構。
図は本考案の第２の実施例の構成図である。 １……真空室、２……高速排気バルブ、３……
スロー排気バルブ、４……ベントガスバルブ、５
……マスフローコントローラ、６……真空ポンプ
、７……ガスフイルター、８……ウエハー、９…
…ウエハー置台、１３……排気バルブ、１４……
バルブ駆動機構。
Claims (1)
- 真空室にウエハーを中心として対向した位置に
ベントガス導入口と排気口を持つ半導体製造装置
において、真空室を真空状態から大気圧に戻す際
、真空室内のガスの流れを一定方向に制御するベ
ント機構を有することを特徴とする半導体製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4014387U JPS63147813U (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4014387U JPS63147813U (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63147813U true JPS63147813U (ja) | 1988-09-29 |
Family
ID=30853963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4014387U Pending JPS63147813U (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63147813U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0530160U (ja) * | 1991-10-03 | 1993-04-20 | 日新電機株式会社 | 真空ベント装置 |
-
1987
- 1987-03-18 JP JP4014387U patent/JPS63147813U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0530160U (ja) * | 1991-10-03 | 1993-04-20 | 日新電機株式会社 | 真空ベント装置 |