JPH03106735U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH03106735U JPH03106735U JP1664390U JP1664390U JPH03106735U JP H03106735 U JPH03106735 U JP H03106735U JP 1664390 U JP1664390 U JP 1664390U JP 1664390 U JP1664390 U JP 1664390U JP H03106735 U JPH03106735 U JP H03106735U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas piping
- vacuum
- return
- utility
- inert gas
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- Pending
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第1図は、この考案のSiO2ドライエツチヤ
の排気系統図、第2図は、従来のSiO2ドライ
エツチヤの排気系統図である。 1……プロセスチヤンバ、2……電極、3……
ウエーハ、4……トランスフア室、5……ガス配
管、6……バルブ、7……ヒータ、8……ゲート
バルブ、9……ポンプ、10……ポンプ。
の排気系統図、第2図は、従来のSiO2ドライ
エツチヤの排気系統図である。 1……プロセスチヤンバ、2……電極、3……
ウエーハ、4……トランスフア室、5……ガス配
管、6……バルブ、7……ヒータ、8……ゲート
バルブ、9……ポンプ、10……ポンプ。
Claims (1)
- プロセスチヤンバと接続しているトランスフア
ー室を真空から常圧まで戻すため、不活性ガスの
配管に、ヒータを設けたことを特徴とするドライ
エツチヤ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1664390U JPH03106735U (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1664390U JPH03106735U (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03106735U true JPH03106735U (ja) | 1991-11-05 |
Family
ID=31519901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1664390U Pending JPH03106735U (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03106735U (ja) |
-
1990
- 1990-02-20 JP JP1664390U patent/JPH03106735U/ja active Pending