JPS62126172A - 2,6−ビス(3−アミノフエノキシ)ピリジンの製造方法 - Google Patents
2,6−ビス(3−アミノフエノキシ)ピリジンの製造方法Info
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- JPS62126172A JPS62126172A JP26386085A JP26386085A JPS62126172A JP S62126172 A JPS62126172 A JP S62126172A JP 26386085 A JP26386085 A JP 26386085A JP 26386085 A JP26386085 A JP 26386085A JP S62126172 A JPS62126172 A JP S62126172A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業の利用分野)
本発明は、式(Ill)で表される2、6−ビス(3−
アミノフェノキシ)ピリジンの製造方法に関する。
アミノフェノキシ)ピリジンの製造方法に関する。
この2.6−ビス(3−7ミノフエノキシ)ピリジン(
以下、m−APPと略記する)はかって製造された例が
ないため既知の用途は知られていない。この化合物は本
発明者らが新規に製造し、ポリイミド樹脂の原料として
有用であることを見出したものである。
以下、m−APPと略記する)はかって製造された例が
ないため既知の用途は知られていない。この化合物は本
発明者らが新規に製造し、ポリイミド樹脂の原料として
有用であることを見出したものである。
また、ポリアミド樹脂、ビスマレイミドの原料およびエ
ポキシ樹脂の硬化剤にも利用できる。
ポキシ樹脂の硬化剤にも利用できる。
(発明の技術背景)
従来、ポリイミド樹脂においては、高性能である反面、
成形加工が難しいという欠点があった。
成形加工が難しいという欠点があった。
例えば、最も典型的な4,4−ジアミノジフェニルエー
テルとピロメリット酸無水物からなる芳香族ポリイミド
([]uPont社、商品名rVespelJ )
は不溶不融であるため、粉末焼結成形という特殊な方法
を用いる。
テルとピロメリット酸無水物からなる芳香族ポリイミド
([]uPont社、商品名rVespelJ )
は不溶不融であるため、粉末焼結成形という特殊な方法
を用いる。
この方法では複雑な形状の加工品が得られないために、
さらに切削等により加工しなければならないので、コス
トの上昇となり、成形が難しいことと併せて大きな欠点
と言える。
さらに切削等により加工しなければならないので、コス
トの上昇となり、成形が難しいことと併せて大きな欠点
と言える。
本発明者等は、この欠点を改善するために、鋭意検討を
おこなった。その結果、ポリイミド構造の直線性を解消
し、かつ、エーテル結合単位を増加させれば、耐熱性を
低下させることなく可撓性が向上し、成形加工が容易に
なることを知った。
おこなった。その結果、ポリイミド構造の直線性を解消
し、かつ、エーテル結合単位を増加させれば、耐熱性を
低下させることなく可撓性が向上し、成形加工が容易に
なることを知った。
このよう条件に適合する構造としては、m−位に複数の
エーテル結合を持つm−位のジアミン化合物を原料とす
るポリイミドである。
エーテル結合を持つm−位のジアミン化合物を原料とす
るポリイミドである。
従来このようなジアミン化合物としては1.3−ビス(
3−アミノフェノキシ)ヘンゼンが知られている。しか
しながら、このジアミン化合物は製造が容易でないこと
も知られている。
3−アミノフェノキシ)ヘンゼンが知られている。しか
しながら、このジアミン化合物は製造が容易でないこと
も知られている。
引火ば、レゾルシンと1−ブロモ−3−二トロベンゼン
を縮合させ、還元して製造する方法(西独特許2.46
2.112)および3−アミノフェノールと1.3−ジ
ブロモヘンゼンを縮合させて製造する方法(ヘルベチ力
・ヒミー・アクタ(flelν、Chim、Acta)
旦971 (1986) 、米国特許4.222.96
2)がしられているが、これらは、1−ブロモー3−ニ
トロヘンゼンや1.3−ジブロモヘンゼンのような比較
的反応性の低い化合物を原料として銅触媒とピリジンの
ような臭気等から取り扱いに難点のある溶剤を多量に用
いて製造されている。この結果、収率も低く廃棄物や溶
剤の処理等に多大の経費と労力を要するため、ジアミン
化合物は極めて高価なものになっている。
を縮合させ、還元して製造する方法(西独特許2.46
2.112)および3−アミノフェノールと1.3−ジ
ブロモヘンゼンを縮合させて製造する方法(ヘルベチ力
・ヒミー・アクタ(flelν、Chim、Acta)
旦971 (1986) 、米国特許4.222.96
2)がしられているが、これらは、1−ブロモー3−ニ
トロヘンゼンや1.3−ジブロモヘンゼンのような比較
的反応性の低い化合物を原料として銅触媒とピリジンの
ような臭気等から取り扱いに難点のある溶剤を多量に用
いて製造されている。この結果、収率も低く廃棄物や溶
剤の処理等に多大の経費と労力を要するため、ジアミン
化合物は極めて高価なものになっている。
(発明が解決しようとする問題点)
このように1.3−ビス(3−アミノフェノキシ)ヘン
ゼンを用いたポリイミド樹脂は可撓性に優れ有用性が認
められるにもかかわらず高価であるというjl1点があ
り、このjlE点を克服して安価に成形加工性やl′i
i4熱性の良好な樹脂が供給されることを期待されてい
た。
ゼンを用いたポリイミド樹脂は可撓性に優れ有用性が認
められるにもかかわらず高価であるというjl1点があ
り、このjlE点を克服して安価に成形加工性やl′i
i4熱性の良好な樹脂が供給されることを期待されてい
た。
(問題点を解決するための手段)
本発明者等は、上述の課題を解決するために鋭意検討し
、その結果、種々のメタ系の芳香族ツバライ1′のうら
、反応性に冨み熱やその他の雰囲気に対して安定な2.
6−ジハロゲノピリジンと3−二トロフェノールから誘
導できるジアミン化合物が上記課題を達成できることを
見い出し、本発明を完成させた。
、その結果、種々のメタ系の芳香族ツバライ1′のうら
、反応性に冨み熱やその他の雰囲気に対して安定な2.
6−ジハロゲノピリジンと3−二トロフェノールから誘
導できるジアミン化合物が上記課題を達成できることを
見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は −m式(1)
(式中、Xはクロルまたはブロムを示す)で表される2
、6−ジハロゲノピリジンと3−二トロフェノールを塩
基の存在下、非プリ1ン性掻性溶剤中で反応させ、式(
II) で表される2、6−ビス(3−アミノフェノキシ)ピリ
ジンを得、これを還元することを特徴とする、式(I
I +) で表される2、6−ビス(3−アミノフェノキシ)ピリ
ジンの製造方法である。
、6−ジハロゲノピリジンと3−二トロフェノールを塩
基の存在下、非プリ1ン性掻性溶剤中で反応させ、式(
II) で表される2、6−ビス(3−アミノフェノキシ)ピリ
ジンを得、これを還元することを特徴とする、式(I
I +) で表される2、6−ビス(3−アミノフェノキシ)ピリ
ジンの製造方法である。
本発明の方法で製造されるm−ArPはそれぞれの芳香
族環のm−位に2−個所のエーテル結合と末端アミノ基
を持つ化合物である。
族環のm−位に2−個所のエーテル結合と末端アミノ基
を持つ化合物である。
さらに、分子内の中心にピリジン環を有する含窒素ジア
ミンであることが特徴の一つである。
ミンであることが特徴の一つである。
このため、ピロメリット酸二無水物および3.3’、4
.4°−ヘンシフエノンテトラカルポン酸二無水物と反
応させたポリイミド樹脂においては直線性が解消された
結果、ガラス転移温度(Tg)はそれぞれ219℃およ
び206℃であり、容易に成形加工が可能である。また
耐熱性も5χ重量減少が500℃以上であり、さらに分
子内の窒素原子に基づく影響としては、金属またはセラ
ミックス等との強力な接着性が認められ、この結果成形
材料以外の用途、即ち各種金属およびセラミックス類の
耐熱性接着剤としても広範囲に利用できる。
.4°−ヘンシフエノンテトラカルポン酸二無水物と反
応させたポリイミド樹脂においては直線性が解消された
結果、ガラス転移温度(Tg)はそれぞれ219℃およ
び206℃であり、容易に成形加工が可能である。また
耐熱性も5χ重量減少が500℃以上であり、さらに分
子内の窒素原子に基づく影響としては、金属またはセラ
ミックス等との強力な接着性が認められ、この結果成形
材料以外の用途、即ち各種金属およびセラミックス類の
耐熱性接着剤としても広範囲に利用できる。
本発明の方法は、2.6−シハロゲノピリジンと3−二
トロフェノールを縮合させる第1段の反応、第1段の反
応で得られたジニトロ体を還元する第2段の反応から成
る。
トロフェノールを縮合させる第1段の反応、第1段の反
応で得られたジニトロ体を還元する第2段の反応から成
る。
第1段の反応で2.6−シハロゲノビリジンとしては2
.6−ジクロロピリジン、2.6−ジブロモピリジンで
あり、工業的には安価な2.6−ジクロロピリジンが好
ましい。この2.6−ジハロゲノピリジン類はピリジン
をハロゲン化することにより製造されている(第有機化
学(朝倉書店)、16巻、20頁)。
.6−ジクロロピリジン、2.6−ジブロモピリジンで
あり、工業的には安価な2.6−ジクロロピリジンが好
ましい。この2.6−ジハロゲノピリジン類はピリジン
をハロゲン化することにより製造されている(第有機化
学(朝倉書店)、16巻、20頁)。
3−二トロフェノールは2.6−シハロゲノピリジンに
対して2〜5倍モルを使用し、好ましくは2.1〜3倍
モルを使用する。
対して2〜5倍モルを使用し、好ましくは2.1〜3倍
モルを使用する。
本発明の方法で使用する塩基はアルカリ金属の水酸化物
、炭酸塩、重炭酸塩およびアルコキシド類であり、例え
ば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム
、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、重炭
酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸リチウム、カリ
ウムエトキシド、カリウムイソプロポキシド、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびリチウムエ
トキシド等があげられる。工業的にはカリウムおよびナ
トリウムの水酸化物、炭酸塩が使用される。これらは華
独は勿論、2種以上を併用してもとくに差支えない。
、炭酸塩、重炭酸塩およびアルコキシド類であり、例え
ば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム
、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、重炭
酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸リチウム、カリ
ウムエトキシド、カリウムイソプロポキシド、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびリチウムエ
トキシド等があげられる。工業的にはカリウムおよびナ
トリウムの水酸化物、炭酸塩が使用される。これらは華
独は勿論、2種以上を併用してもとくに差支えない。
これら塩基の使用量は、原料の3−二トロフェノールと
当量以上あればよく、好ましくは1〜1.5当量で十分
である。
当量以上あればよく、好ましくは1〜1.5当量で十分
である。
次に、この方法における反応溶剤としては、非プロトン
性極性溶剤類を使用する。
性極性溶剤類を使用する。
この非プロトン性極性溶剤類としては、N−メチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N−メチル
ピロリドン、N、N −ジメチルアセトアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキ
シド、リン酸へキサメチルトリアミド、ジメチルスルホ
ンおよびスルホラン等が挙げられる。これら溶剤の使用
量は、特に限定されないが、原料に対し1〜10重量倍
あれば十分である。
ムアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N−メチル
ピロリドン、N、N −ジメチルアセトアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキ
シド、リン酸へキサメチルトリアミド、ジメチルスルホ
ンおよびスルホラン等が挙げられる。これら溶剤の使用
量は、特に限定されないが、原料に対し1〜10重量倍
あれば十分である。
なお、この反応では4級アンモニウム塩、4級リン塩、
クラウンエーテルの、ような大環状ポリエーテル、クリ
プテートのような含窒素大環状ポリエーテル、含窒素鎖
状ポリエーテル、ポリエチレングリコールおよびそのア
ルキルエーテルのような相間移動触媒、銅粉および銅塩
などを反応促進剤として加えてもよい。
クラウンエーテルの、ような大環状ポリエーテル、クリ
プテートのような含窒素大環状ポリエーテル、含窒素鎖
状ポリエーテル、ポリエチレングリコールおよびそのア
ルキルエーテルのような相間移動触媒、銅粉および銅塩
などを反応促進剤として加えてもよい。
以上の原料および反応剤を用いて弐(’mで表されるジ
ニトロ体を得る反応に於ける一般的な態様としては、所
定量の3−二トロフェノール、塩基および溶剤を装入し
、3−ニトロフェノールをアルカリ金属塩とした後、2
.6−シハロゲノピリジンを添加して反応させるか、あ
るいはあらかじめ2,6−シハロゲノピリジンを含む全
原料を同時に加え、そのまま昇温して反応させるか何れ
であってもよい。勿論これらに限定されるものではなく
、その他の態様により適宜実施される。
ニトロ体を得る反応に於ける一般的な態様としては、所
定量の3−二トロフェノール、塩基および溶剤を装入し
、3−ニトロフェノールをアルカリ金属塩とした後、2
.6−シハロゲノピリジンを添加して反応させるか、あ
るいはあらかじめ2,6−シハロゲノピリジンを含む全
原料を同時に加え、そのまま昇温して反応させるか何れ
であってもよい。勿論これらに限定されるものではなく
、その他の態様により適宜実施される。
反応系内に水が生成する場合の除去する方法として、窒
素ガス等を通気させることによって、反応中、徐々に系
外に排出させる方法があるが、一般的にはベンゼン、ト
ルエン、キソレン、クロロベンゼンを少量使用して共沸
により糸外へと取り除く方法が多用される。
素ガス等を通気させることによって、反応中、徐々に系
外に排出させる方法があるが、一般的にはベンゼン、ト
ルエン、キソレン、クロロベンゼンを少量使用して共沸
により糸外へと取り除く方法が多用される。
反応温度は120〜240℃の範囲であるが、好ましく
は、140〜200°Cの範囲である。
は、140〜200°Cの範囲である。
反応終了後、濃縮した後、あるいはそのまま水等に排出
して目的物を得る。
して目的物を得る。
この反応の終点は薄層クロマトグラフィーまたは高速液
体クロマトグラフィーにより未反応中間体の減少を見な
がら決定することができる。
体クロマトグラフィーにより未反応中間体の減少を見な
がら決定することができる。
次に、第一段の反応で得られた2、6−ビス(3−ニト
ロフェノキシ)ピリジンを還元して目的物のm−APP
を製造する第二の反応は、通常、ニトロ基をアミノ基に
還元する方法(例えば、新実験化学講座、15巻、酸化
と還元[11) 、丸善(1977) )を適用できる
が、工業的には接触還元またはヒドラジン還元が好まし
い。
ロフェノキシ)ピリジンを還元して目的物のm−APP
を製造する第二の反応は、通常、ニトロ基をアミノ基に
還元する方法(例えば、新実験化学講座、15巻、酸化
と還元[11) 、丸善(1977) )を適用できる
が、工業的には接触還元またはヒドラジン還元が好まし
い。
接触還元の場合、使用される還元触媒としては、一般に
接触還元に用いられる金属触媒、例えば、ニッケル、パ
ラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、ゴハルト、銅
などを使用することができる。
接触還元に用いられる金属触媒、例えば、ニッケル、パ
ラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、ゴハルト、銅
などを使用することができる。
工業的にはパラジウム触媒を使用するのが好ましい。こ
れらの触媒は、金属の状態でも使用することができるが
、通常は、カーボン、硫酸バリウム、シリカゲル、アル
ミナ、セライトなどの担体表面に担持させて用いたり、
またニッケル、コバルト、銅などはラネー触媒としても
用いられる。
れらの触媒は、金属の状態でも使用することができるが
、通常は、カーボン、硫酸バリウム、シリカゲル、アル
ミナ、セライトなどの担体表面に担持させて用いたり、
またニッケル、コバルト、銅などはラネー触媒としても
用いられる。
触媒の使用量は特に制限はないが、原料の2,6−ビス
(3−ニトロフェノキシ)とリジンに対して、金属とし
て0.01〜10重ff1Xの範囲であり、通常、金属
の状態で使用する場合は、2〜8重世%、担体に担持さ
せた場合では、°0.1〜5重量%の範囲である。
(3−ニトロフェノキシ)とリジンに対して、金属とし
て0.01〜10重ff1Xの範囲であり、通常、金属
の状態で使用する場合は、2〜8重世%、担体に担持さ
せた場合では、°0.1〜5重量%の範囲である。
反応溶媒としては、反応に不活性なものであれば、特に
限定されるものでなく、例えば、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール等のアルコール類、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類
、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチル
セロソルブ等のエーテル類が好んで用いられ、場合によ
ってはへキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢
酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン
、クロロホルム、四塩化炭素、1.2−ジクロロエタン
、1.1.2− )ジクロロエタン、テトラクロロエタ
ン等のハロゲン化炭化水素類およびN、N−ジメチルホ
ルムアミド等も使用できる。なお、水と混和しない反応
溶媒を使用した際に、反応の進行が遅い場合には四級ア
ンモニウム塩、四級ホスホニウム塩のような一般に使用
されている相間移動触媒を加えることによって速めるこ
とができる。
限定されるものでなく、例えば、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール等のアルコール類、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類
、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチル
セロソルブ等のエーテル類が好んで用いられ、場合によ
ってはへキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢
酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン
、クロロホルム、四塩化炭素、1.2−ジクロロエタン
、1.1.2− )ジクロロエタン、テトラクロロエタ
ン等のハロゲン化炭化水素類およびN、N−ジメチルホ
ルムアミド等も使用できる。なお、水と混和しない反応
溶媒を使用した際に、反応の進行が遅い場合には四級ア
ンモニウム塩、四級ホスホニウム塩のような一般に使用
されている相間移動触媒を加えることによって速めるこ
とができる。
溶媒の使用量は、原料を懸濁させるか、あるいは完全に
溶解させるに足る量であれば十分であり特に制限されな
いが、通常、原料に対して0.5〜IO重量倍で十分で
ある。
溶解させるに足る量であれば十分であり特に制限されな
いが、通常、原料に対して0.5〜IO重量倍で十分で
ある。
反応温度は特に限定はない。一般的には20〜200℃
の範囲、特に20〜100℃が好ましい、また反応圧力
は、通常、常圧〜50kg/ aJ−G程度である。
の範囲、特に20〜100℃が好ましい、また反応圧力
は、通常、常圧〜50kg/ aJ−G程度である。
反応、通常、原料を溶媒に溶解もしくは懸濁させた状態
で触媒を加え、ついで攪拌下に所定の温度で水素を導入
して還元反応を行う0反応の終点は水素吸収量によって
も、あるいは薄層クロマトグラフィーや高速液体クロマ
トグラフィーなどによっても決定できる。
で触媒を加え、ついで攪拌下に所定の温度で水素を導入
して還元反応を行う0反応の終点は水素吸収量によって
も、あるいは薄層クロマトグラフィーや高速液体クロマ
トグラフィーなどによっても決定できる。
一方、ヒドラジン還元の場合には、ヒドラジンは通常、
理論量に対して少過剰、好ましくは1.2〜2倍景を用
いて還元反応を実施する。
理論量に対して少過剰、好ましくは1.2〜2倍景を用
いて還元反応を実施する。
触媒としては、一般に接触還元に用いられている前記の
金属触媒を使用する。工業的には、パラジウム/カーボ
ン、白金/カーボン、または塩化第2鉄を活性炭に吸着
させた触媒が好ましい。触媒の使用量は特に制限はなく
、通常、原料の2.6−ビス(3−ニトロフェノキシ)
ピリジンに対して、金属として0.01〜30重tχの
範囲である。
金属触媒を使用する。工業的には、パラジウム/カーボ
ン、白金/カーボン、または塩化第2鉄を活性炭に吸着
させた触媒が好ましい。触媒の使用量は特に制限はなく
、通常、原料の2.6−ビス(3−ニトロフェノキシ)
ピリジンに対して、金属として0.01〜30重tχの
範囲である。
反応溶媒としては、接触還元の場合と同様の溶媒を用い
ることができる。
ることができる。
反応温度は特に限定はなく、一般的には20〜150℃
の範囲、特に40〜100℃が好ましい。
の範囲、特に40〜100℃が好ましい。
反応は、通常、原料を溶媒に溶解もしくは懸濁させた状
態で触媒を加え、ついで撹拌下に所定の温度でヒドラジ
ンを滴下して還元反応を行う。反応の終点は水素吸収量
によっても、あるいは’FANクロマトグラフィーや高
速液体クロマトグラフィーなどにより決定できる。
態で触媒を加え、ついで撹拌下に所定の温度でヒドラジ
ンを滴下して還元反応を行う。反応の終点は水素吸収量
によっても、あるいは’FANクロマトグラフィーや高
速液体クロマトグラフィーなどにより決定できる。
反応終了後、反応・液を熱濾過して触媒を除去した後、
必要に応じて溶媒を留去すると目的とする2、6−ビス
(3−アミノフェノキシ)ピリジンの粗製品が得られる
。この粗製品は再結晶もしくは塩酸塩として単離するこ
とにより精製できる。。
必要に応じて溶媒を留去すると目的とする2、6−ビス
(3−アミノフェノキシ)ピリジンの粗製品が得られる
。この粗製品は再結晶もしくは塩酸塩として単離するこ
とにより精製できる。。
(作用および効果)
本発明の方法は、成形加工性、接着性が著しく向上した
ポリイミド樹脂の原料となるm−APPの工業的な製造
方法を提供するものである。従来、このように芳香核内
に窒素原子を含有するポリイミド樹脂の原料は知られて
いないが、本発明者らによって初めてその有用性がみい
だされ、これを安価に製造する方法としてみいだしたも
のである。
ポリイミド樹脂の原料となるm−APPの工業的な製造
方法を提供するものである。従来、このように芳香核内
に窒素原子を含有するポリイミド樹脂の原料は知られて
いないが、本発明者らによって初めてその有用性がみい
だされ、これを安価に製造する方法としてみいだしたも
のである。
本発明の方法によると、高純度の目的物を高収率で製造
できる上に、公害の原因となるような廃棄物の処理も不
要であり、安価に製造できることと合わせてその経済的
効果は大きい。
できる上に、公害の原因となるような廃棄物の処理も不
要であり、安価に製造できることと合わせてその経済的
効果は大きい。
(実施例)
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例1
攪拌装置および水分離器を備えた2001 フラス’:
J ニ3−−− ) C10工/ −ル15.3g(0
,11モル) 、96Xフレーク状苛性カリウム6.4
g(0,11モル) 、1.3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン100m1およびベンゼン20a+ 1を装
入し、ベンゼンの還流状態で反応系内の水分を水分離器
により・除外した。次に、内温を100℃に下げた後、
2.6−ツクロロピリジン7.4g(0,05モル)を
装入し、窒素ガスを通気させながら再び昇温して内温を
170〜175℃に保った。
J ニ3−−− ) C10工/ −ル15.3g(0
,11モル) 、96Xフレーク状苛性カリウム6.4
g(0,11モル) 、1.3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン100m1およびベンゼン20a+ 1を装
入し、ベンゼンの還流状態で反応系内の水分を水分離器
により・除外した。次に、内温を100℃に下げた後、
2.6−ツクロロピリジン7.4g(0,05モル)を
装入し、窒素ガスを通気させながら再び昇温して内温を
170〜175℃に保った。
同温度で10時間反応を行って終了した。反応液を冷却
後、水500 mlに排出すると茶褐色の粉末が析出し
た。これを濾過、水洗後、乾燥してill 2 、6−
ビス(3−ニトロフェノキシ)ピリジン16.3gを得
た(収率92.3%)。
後、水500 mlに排出すると茶褐色の粉末が析出し
た。これを濾過、水洗後、乾燥してill 2 、6−
ビス(3−ニトロフェノキシ)ピリジン16.3gを得
た(収率92.3%)。
この粗2.6−ビス(3−ニトロフェノキシ)ピリジン
をエタノールで再結晶して微褐色針状品の結晶を得た。
をエタノールで再結晶して微褐色針状品の結晶を得た。
融点は94〜96℃で元素分析の結果はつぎのとおりで
あった。
あった。
元素分析値(CIHIIN20h)
HN
計算値(χ) 57.79 3.14 11.89
分析値(χ’) 57.36 3.32 11.7
9つぎに攪拌装置、温度計を備えた密閉型反応器に上記
2.6−ヒス(3−ニトロフェノキシ)ピリジン7.1
g(0,02モル)、5χPd/C触媒0.1gおよび
イソプロパツール251を装入し、激しく攪拌しながら
水素ガスを導入した0反応を温度60〜70℃で4時間
行ったところ、2705m1の水素を吸収し、これ以上
の吸収が認められなくなったので、反応を終了した。反
応終了後、同温度でただちに熱濾過し、濾液に水25m
lを加え放冷すると白色針状晶の2,6−ビス(3−
アミノフェノキシ)ピリジンが析出した。
分析値(χ’) 57.36 3.32 11.7
9つぎに攪拌装置、温度計を備えた密閉型反応器に上記
2.6−ヒス(3−ニトロフェノキシ)ピリジン7.1
g(0,02モル)、5χPd/C触媒0.1gおよび
イソプロパツール251を装入し、激しく攪拌しながら
水素ガスを導入した0反応を温度60〜70℃で4時間
行ったところ、2705m1の水素を吸収し、これ以上
の吸収が認められなくなったので、反応を終了した。反
応終了後、同温度でただちに熱濾過し、濾液に水25m
lを加え放冷すると白色針状晶の2,6−ビス(3−
アミノフェノキシ)ピリジンが析出した。
濾過、洗浄後、乾燥して5.2gの目的物を得た(収率
88.7%)。
88.7%)。
融点は118.0〜119.5℃で元素分析の結果はつ
ぎのとおりであった。
ぎのとおりであった。
元素分析値(CI ? H+ + N x O□)CH
N 計算値(χ) 69.91 5.15 14.33
分析値(χ) 69.86 5.10 14.28
実施例2 実施例1の反応で溶剤をスルホラン100 mlに、塩
基を96%苛性ソーダ4.6gに替え、反応を180〜
190℃で8時間行った以外は同様に行い粗2,6−ビ
ス(3−ニトロフェノキシ)ピリジン16.0gを得た
(収率90.6%)。
N 計算値(χ) 69.91 5.15 14.33
分析値(χ) 69.86 5.10 14.28
実施例2 実施例1の反応で溶剤をスルホラン100 mlに、塩
基を96%苛性ソーダ4.6gに替え、反応を180〜
190℃で8時間行った以外は同様に行い粗2,6−ビ
ス(3−ニトロフェノキシ)ピリジン16.0gを得た
(収率90.6%)。
この中間体化合物と塩化第2銖0.1g、活性炭1gお
よび70%メチルセロソルブ水溶液25m1を反応器に
装入し、温度85〜95℃でヒドラジン水和物9gを2
時間で滴下した。引き続き同温度で5時間反応を行って
終了した。濾過して触媒を除き水25m1を加え放冷す
ると結晶が析出した。これを濾過、洗浄後、乾燥して1
0.3gの2,6−ビス(3−ニトロフェノキシ)ピリ
ジンを得た(ii!l算収率70.3%)。融点は11
7.5〜119℃。
よび70%メチルセロソルブ水溶液25m1を反応器に
装入し、温度85〜95℃でヒドラジン水和物9gを2
時間で滴下した。引き続き同温度で5時間反応を行って
終了した。濾過して触媒を除き水25m1を加え放冷す
ると結晶が析出した。これを濾過、洗浄後、乾燥して1
0.3gの2,6−ビス(3−ニトロフェノキシ)ピリ
ジンを得た(ii!l算収率70.3%)。融点は11
7.5〜119℃。
実施例2
攪拌装置を備えた反応器に3−二トロフェノール15.
3g(0,11モル)、2.6−ジプロモピリジン11
.9g(0,05モル)、無水炭酸ナトリウム8.5g
(0,08モル)およびN−メチルピロリドン100
mlを装入し、攪拌下に窒素ガスを通気させながら昇温
し、反応を温度160〜175℃で15時間行った。反
応後の処理は実施例1と同様に行って、16.5gの2
.6−ビス(3−ニトロフェノキシ)ピリジンを得た(
収率93.4%)。
3g(0,11モル)、2.6−ジプロモピリジン11
.9g(0,05モル)、無水炭酸ナトリウム8.5g
(0,08モル)およびN−メチルピロリドン100
mlを装入し、攪拌下に窒素ガスを通気させながら昇温
し、反応を温度160〜175℃で15時間行った。反
応後の処理は実施例1と同様に行って、16.5gの2
.6−ビス(3−ニトロフェノキシ)ピリジンを得た(
収率93.4%)。
これをメタノール35cc中、5z白金カーボン触媒0
.3gを用い実施例1と同様に還元反応および後処理を
行った。得られた2、6−ビス(3−ニトロフェノキシ
)ピリジンは11.4g(通算収率77.8%)で、融
点は117.5〜119℃であった。
.3gを用い実施例1と同様に還元反応および後処理を
行った。得られた2、6−ビス(3−ニトロフェノキシ
)ピリジンは11.4g(通算収率77.8%)で、融
点は117.5〜119℃であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Xはクロルまたはブロムを示す)で表される2
,6−ジハロゲノピリジンと3−ニトロフェノールを塩
基の存在下、非プロトン性極性溶剤中で反応させ、式(
II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で表される2,6−ビス(3−ニトロフェノキシ)ピリ
ジンを得、これを還元することを特徴とする、式(III
) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) で表される2,6−ビス(3−アミノフェノキシ)ピリ
ジンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26386085A JPS62126172A (ja) | 1985-11-26 | 1985-11-26 | 2,6−ビス(3−アミノフエノキシ)ピリジンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26386085A JPS62126172A (ja) | 1985-11-26 | 1985-11-26 | 2,6−ビス(3−アミノフエノキシ)ピリジンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62126172A true JPS62126172A (ja) | 1987-06-08 |
JPH0550511B2 JPH0550511B2 (ja) | 1993-07-29 |
Family
ID=17395240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26386085A Granted JPS62126172A (ja) | 1985-11-26 | 1985-11-26 | 2,6−ビス(3−アミノフエノキシ)ピリジンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62126172A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9127127B2 (en) | 2012-10-03 | 2015-09-08 | Sabic Global Technologies B.V. | Polyetherimide compositions, methods of manufacture, and articles formed therefrom |
US10676571B2 (en) | 2013-12-02 | 2020-06-09 | Sabic Global Technologies B.V. | Polyetherimides with improved melt stability |
-
1985
- 1985-11-26 JP JP26386085A patent/JPS62126172A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9127127B2 (en) | 2012-10-03 | 2015-09-08 | Sabic Global Technologies B.V. | Polyetherimide compositions, methods of manufacture, and articles formed therefrom |
US10676571B2 (en) | 2013-12-02 | 2020-06-09 | Sabic Global Technologies B.V. | Polyetherimides with improved melt stability |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0550511B2 (ja) | 1993-07-29 |
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