JPS62123004A - オゾン発生装置 - Google Patents
オゾン発生装置Info
- Publication number
- JPS62123004A JPS62123004A JP26347785A JP26347785A JPS62123004A JP S62123004 A JPS62123004 A JP S62123004A JP 26347785 A JP26347785 A JP 26347785A JP 26347785 A JP26347785 A JP 26347785A JP S62123004 A JPS62123004 A JP S62123004A
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- JP
- Japan
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- discharge
- electron beam
- negative electrode
- voltage
- cathode
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- Pending
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- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
C産業上の利用分野J
本発明は、湿式オゾン酸化同時脱硫脱硝ブラン1−1上
水の殺菌、尿尿処理装首における廃水の脱色などに使用
されるオゾン発生装置、とくに装置の小形化を図り且つ
電力効率の良い安定した放電を行い19るオゾン発生装
置に関するものである。
水の殺菌、尿尿処理装首における廃水の脱色などに使用
されるオゾン発生装置、とくに装置の小形化を図り且つ
電力効率の良い安定した放電を行い19るオゾン発生装
置に関するものである。
[従来の技術]
従来の、無声hり1式と呼ばれるオゾン発生装置は、第
4図に示すように10数KVの高圧交流電圧を印加した
電極a、b間にアーク放電を防止するためガラスなどの
誘電体Cを配置し、均一な無声放電を発生させるため電
極a、b間の間隔dを5mm以下に制限していた。なお
、図中、jは交流電源、「は原料ガス入口、Qは生成オ
ゾン含有ガス出口である。
4図に示すように10数KVの高圧交流電圧を印加した
電極a、b間にアーク放電を防止するためガラスなどの
誘電体Cを配置し、均一な無声放電を発生させるため電
極a、b間の間隔dを5mm以下に制限していた。なお
、図中、jは交流電源、「は原料ガス入口、Qは生成オ
ゾン含有ガス出口である。
[発明が解決しようとする問題点]
しかし、前述の構造によると、放電空間が小さいため原
料空気の流出が制限され、一定量のオゾンを生産するに
は電極面積を大きく設定する必要があり、その結果、装
置の外形寸法が大きくなる。また、無声放電における小
放電は、オゾン生成に有効であるが、放電終期にオゾン
生成にあまり寄与しないアーク放電に変わるため、大電
流を消費し電力効率が低い(約5%)などの問題点があ
った。
料空気の流出が制限され、一定量のオゾンを生産するに
は電極面積を大きく設定する必要があり、その結果、装
置の外形寸法が大きくなる。また、無声放電における小
放電は、オゾン生成に有効であるが、放電終期にオゾン
生成にあまり寄与しないアーク放電に変わるため、大電
流を消費し電力効率が低い(約5%)などの問題点があ
った。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、na述の問題点を解決するためになしたしの
で、その要旨は、相対する電極間に放電空間を形成し該
放電空間内に供給した酸素を含有する原料ガスまたは空
気から放電作用を利用してオゾンを生成するオゾン発生
装置において、パルス幅数10.AS以下の高電圧パル
スを発生する電源装置と、該電源装置のプラス側に接続
したプラス電極と、前記電源装置のマイナス側に接続さ
れ前記プラス電極に相対する部分に多数の孔を設けたマ
イナス電極と、課マイナス電極の反プラス電極側に設け
られ、マイナス電極に相対する部分に電子ビーム取出窓
を設けた真空容器および該容器内に配置したカソードを
有する電子ビーム発生装置と、前記電子ビーム取出窓お
よびマイナス電極を前記電源装置のマイナス側に接続す
る回路に配置され、前記カソードにパルス電圧を印加し
たのちカソードから放出された電子が放電空間内にほぼ
拡散したときに前記電子ビーム取出窓およびマイナス電
極にパルス電圧を印加するように遅延時間を設定した電
圧印加遅延回路とを備えたらのである。
で、その要旨は、相対する電極間に放電空間を形成し該
放電空間内に供給した酸素を含有する原料ガスまたは空
気から放電作用を利用してオゾンを生成するオゾン発生
装置において、パルス幅数10.AS以下の高電圧パル
スを発生する電源装置と、該電源装置のプラス側に接続
したプラス電極と、前記電源装置のマイナス側に接続さ
れ前記プラス電極に相対する部分に多数の孔を設けたマ
イナス電極と、課マイナス電極の反プラス電極側に設け
られ、マイナス電極に相対する部分に電子ビーム取出窓
を設けた真空容器および該容器内に配置したカソードを
有する電子ビーム発生装置と、前記電子ビーム取出窓お
よびマイナス電極を前記電源装置のマイナス側に接続す
る回路に配置され、前記カソードにパルス電圧を印加し
たのちカソードから放出された電子が放電空間内にほぼ
拡散したときに前記電子ビーム取出窓およびマイナス電
極にパルス電圧を印加するように遅延時間を設定した電
圧印加遅延回路とを備えたらのである。
[作 用コ
電子ビーム発生装置カソードにパルス電圧を印加すると
種電子が発生し、この種電子が放電空間内にほぼ拡散し
たときに故?1iffi極間にパルス電圧を印加するの
で、放電空間の全域に亘って電子ナダレ現象が均一に発
生し、安定した短時間放電を持続できる。従って、放電
終期に発生するアーク放電を抑制でき、また、電極間に
パルス電源を用いて高電圧を印加できる。従って、電力
消費を面域すると共に電極間隔を拡大でき装置の小形化
を図り1t3る。
種電子が発生し、この種電子が放電空間内にほぼ拡散し
たときに故?1iffi極間にパルス電圧を印加するの
で、放電空間の全域に亘って電子ナダレ現象が均一に発
生し、安定した短時間放電を持続できる。従って、放電
終期に発生するアーク放電を抑制でき、また、電極間に
パルス電源を用いて高電圧を印加できる。従って、電力
消費を面域すると共に電極間隔を拡大でき装置の小形化
を図り1t3る。
[実 施 例1
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。第1
図ないし第3図は本発明の一実施例を示すもので、図中
、1はパルス幅数1o/lLs以下の高電圧パルスを6
0〜1000H2で発生する電源装置、2は電源装置1
のプラス側に接続した棒状あるいは板状のプラス電極、
3はプラス電極2に平行に配置され相対する部分に多数
の孔4を網目状に穿ったマイナスN極、5はマイナス電
極3に関しプラス電極2と反対側に配置した電子ビーム
発生装置、6は放電空間、7は原料ガスまたは空気取入
口、8は生成オゾン含有ガス取出口で、マイナス電極3
は電圧印加遅延装置9を介して電源装置1のマイナス側
に接続され、この電源装置1のプラス側はアース10に
接続されている。
図ないし第3図は本発明の一実施例を示すもので、図中
、1はパルス幅数1o/lLs以下の高電圧パルスを6
0〜1000H2で発生する電源装置、2は電源装置1
のプラス側に接続した棒状あるいは板状のプラス電極、
3はプラス電極2に平行に配置され相対する部分に多数
の孔4を網目状に穿ったマイナスN極、5はマイナス電
極3に関しプラス電極2と反対側に配置した電子ビーム
発生装置、6は放電空間、7は原料ガスまたは空気取入
口、8は生成オゾン含有ガス取出口で、マイナス電極3
は電圧印加遅延装置9を介して電源装置1のマイナス側
に接続され、この電源装置1のプラス側はアース10に
接続されている。
電子ビーム発生装置5は、内部を真空に保持し前記マイ
ナス電極3に相対する部分にアルミ箔または、チタン箔
製の電子ビーム取出窓12を設けた密閉構造の容器13
と、この容器13内に配置したカソード14(熱陰極ま
たは冷陰1!i)などからなり、カソード14は電源装
置1のマイナス側に、また電子ビーム取出窓12はマイ
ナス電極3に接続されている。なお15は図示しない真
空ポンプに接続する空気吸引口である。
ナス電極3に相対する部分にアルミ箔または、チタン箔
製の電子ビーム取出窓12を設けた密閉構造の容器13
と、この容器13内に配置したカソード14(熱陰極ま
たは冷陰1!i)などからなり、カソード14は電源装
置1のマイナス側に、また電子ビーム取出窓12はマイ
ナス電極3に接続されている。なお15は図示しない真
空ポンプに接続する空気吸引口である。
電圧印加遅延装置9は、電源装置1が発生したパルス電
圧を所定の遅延115間t(10〜100ナノ秒)だけ
タイミングを送らせて負荷側に伝達するもので、所要の
インダクタンスおよび容量成分を有するネットワークま
たは所要良さのコードを用いてつくられる。
圧を所定の遅延115間t(10〜100ナノ秒)だけ
タイミングを送らせて負荷側に伝達するもので、所要の
インダクタンスおよび容量成分を有するネットワークま
たは所要良さのコードを用いてつくられる。
なお、符号16は電子ビーム発生装置5の支持部材、1
7はプラス電極2の支持部材、18は筒状の囲壁であり
、前記16.18は非導電材料で、また、11は導電性
材料でつくられる。
7はプラス電極2の支持部材、18は筒状の囲壁であり
、前記16.18は非導電材料で、また、11は導電性
材料でつくられる。
次に、本装置の作動について説明する。電源装置1を作
動させ、カソード14にパルス電圧19(第2図参照)
を印加づると、カソード14から電子20(以下、種電
子と呼ぶ)が放出され、この種電子2oは電子ビーム取
出窓12および孔4を通って放電空間6内に拡散する(
矢印h)。
動させ、カソード14にパルス電圧19(第2図参照)
を印加づると、カソード14から電子20(以下、種電
子と呼ぶ)が放出され、この種電子2oは電子ビーム取
出窓12および孔4を通って放電空間6内に拡散する(
矢印h)。
この種電子20が放電空間6内にほぼ拡散したとき、す
なわちカソード14に電圧を印加したのち10〜100
ノ一ノ秒経過したときに電圧印加遅延装置9を通った遅
延パルス電圧22(第2図参照)が電子ビーム取出窓1
2およびマイナス電極3に印加され、電子ビーム取出窓
12とアースされたプラス電1f!2間に極く短時間(
約207tS以下)の放電が起る。
なわちカソード14に電圧を印加したのち10〜100
ノ一ノ秒経過したときに電圧印加遅延装置9を通った遅
延パルス電圧22(第2図参照)が電子ビーム取出窓1
2およびマイナス電極3に印加され、電子ビーム取出窓
12とアースされたプラス電1f!2間に極く短時間(
約207tS以下)の放電が起る。
この際、種電子20を発起点として次に示す弐(1)
(2)および第3図に示すようにM鎖反応的に急激に電
子の数が増大するパ電子ナダレ″現象が窓間に均一に発
生して安定した放電が短時間持続されアーク放電が抑制
される。そして放電空間6を流れる酸素ガスまたは空気
からオゾンが生成され[式(3)式(4)参照1、取出
口8がら外部に取出される(矢印1) (1)原料ガスがM累ガスの場合の電子ナダレ現蒙e+
02→e+eI−02式(1) (2) IGi料ガスが空気の場合の電子ナダレ現蒙は
式(1)の他に e + N 2 →e + C+ N 2 式(
2)(3)オゾン生成の反応式 02 +e−*O+Q+e 式(3)0 +
02→03 式(4)なお、本発明は前
述の実施例にのみ限定されるものではなく、本発明の要
旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加え得ること
は勿論である。
(2)および第3図に示すようにM鎖反応的に急激に電
子の数が増大するパ電子ナダレ″現象が窓間に均一に発
生して安定した放電が短時間持続されアーク放電が抑制
される。そして放電空間6を流れる酸素ガスまたは空気
からオゾンが生成され[式(3)式(4)参照1、取出
口8がら外部に取出される(矢印1) (1)原料ガスがM累ガスの場合の電子ナダレ現蒙e+
02→e+eI−02式(1) (2) IGi料ガスが空気の場合の電子ナダレ現蒙は
式(1)の他に e + N 2 →e + C+ N 2 式(
2)(3)オゾン生成の反応式 02 +e−*O+Q+e 式(3)0 +
02→03 式(4)なお、本発明は前
述の実施例にのみ限定されるものではなく、本発明の要
旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加え得ること
は勿論である。
[発明の効果]
以上に述べたごとく本発明は次の優れた効果を発揮する
。
。
(+) 電子ビーム発生装置を用いて種電子を発生さ
せ、この種電子が放電空間にほぼ拡散したときに放電電
極間に電圧を印加するので、種電子を有効利用でき、放
電空間の全域に亘って均一な極く短時間の放電を持続で
きる。
せ、この種電子が放電空間にほぼ拡散したときに放電電
極間に電圧を印加するので、種電子を有効利用でき、放
電空間の全域に亘って均一な極く短時間の放電を持続で
きる。
(至) 第(1)項および第(ii)項の結果アーク放
電が抑制され電力効率の向上(従来の約5%を約10〜
15%まで向上)させることができる。
電が抑制され電力効率の向上(従来の約5%を約10〜
15%まで向上)させることができる。
00 パルス電源を用いて間欠的に電圧を印加するの
で、高電圧印加が可能となり、極間間隔を拡大〈従来の
51以下を50〜100 mmまで拡大)できる。従っ
て、¥:C置の小形化を図り得る。
で、高電圧印加が可能となり、極間間隔を拡大〈従来の
51以下を50〜100 mmまで拡大)できる。従っ
て、¥:C置の小形化を図り得る。
第1図ないし第3図は本発明の実施例を示し第1図は本
装置の切断側面図、第2図は第1図に示す遅延装置の作
用の説明図、第3図は電子ナダレ現象図、第4図は従来
のIffの説明図である。 図中、1は゛電源装置、2はプラス電極、3はマイナス
ミル、4は孔、5は電子ビーム発生装置、6は放電空間
、9は電圧印加遅延装置、12は電子ご−ム取出窓、1
3は容器、14はカソードを示す。 特 許 出 願 人 石川島II磨重工業株式会社
装置の切断側面図、第2図は第1図に示す遅延装置の作
用の説明図、第3図は電子ナダレ現象図、第4図は従来
のIffの説明図である。 図中、1は゛電源装置、2はプラス電極、3はマイナス
ミル、4は孔、5は電子ビーム発生装置、6は放電空間
、9は電圧印加遅延装置、12は電子ご−ム取出窓、1
3は容器、14はカソードを示す。 特 許 出 願 人 石川島II磨重工業株式会社
Claims (1)
- 1)相対する電極間に放電空間を形成し該放電空間内に
供給した酸素を含有する原料ガスまたは空気から放電作
用を利用してオゾンを生成するオゾン発生装置において
、パルス幅数10μs以下の高電圧パルスを発生する電
源装置と、該電源装置のプラス側に接続したプラス電極
と、前記電源装置のマイナス側に接続され前記プラス電
極に相対する部分に多数の孔を設けたマイナス電極と、
該マイナス電極の反プラス電極側に設けられ、マイナス
電極に相対する部分に電子ビーム取出窓を設けた真空容
器および該容器内に配置したカソードを有する電子ビー
ム発生装置と、前記電子ビーム取出窓およびマイナス電
極を前記電源装置のマイナス側に接続する回路に配置さ
れ、前記カソードにパルス電圧を印加したのちカソード
から放出された電子が放電空間内にほぼ拡散したときに
前記電子ビーム取出窓およびマイナス電極にパルス電圧
を印加するように遅延時間を設定した電圧印加遅延回路
とを備えたことを特徴とするオゾン発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26347785A JPS62123004A (ja) | 1985-11-22 | 1985-11-22 | オゾン発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26347785A JPS62123004A (ja) | 1985-11-22 | 1985-11-22 | オゾン発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62123004A true JPS62123004A (ja) | 1987-06-04 |
Family
ID=17390051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26347785A Pending JPS62123004A (ja) | 1985-11-22 | 1985-11-22 | オゾン発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62123004A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9089319B2 (en) | 2010-07-22 | 2015-07-28 | Plasma Surgical Investments Limited | Volumetrically oscillating plasma flows |
US9913358B2 (en) | 2005-07-08 | 2018-03-06 | Plasma Surgical Investments Limited | Plasma-generating device, plasma surgical device and use of a plasma surgical device |
US11882643B2 (en) | 2020-08-28 | 2024-01-23 | Plasma Surgical, Inc. | Systems, methods, and devices for generating predominantly radially expanded plasma flow |
-
1985
- 1985-11-22 JP JP26347785A patent/JPS62123004A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9913358B2 (en) | 2005-07-08 | 2018-03-06 | Plasma Surgical Investments Limited | Plasma-generating device, plasma surgical device and use of a plasma surgical device |
US10201067B2 (en) | 2005-07-08 | 2019-02-05 | Plasma Surgical Investments Limited | Plasma-generating device, plasma surgical device and use of a plasma surgical device |
US12075552B2 (en) | 2005-07-08 | 2024-08-27 | Plasma Surgical, Inc. | Plasma-generating device, plasma surgical device and use of a plasma surgical device |
US9089319B2 (en) | 2010-07-22 | 2015-07-28 | Plasma Surgical Investments Limited | Volumetrically oscillating plasma flows |
US10463418B2 (en) | 2010-07-22 | 2019-11-05 | Plasma Surgical Investments Limited | Volumetrically oscillating plasma flows |
US10492845B2 (en) | 2010-07-22 | 2019-12-03 | Plasma Surgical Investments Limited | Volumetrically oscillating plasma flows |
US10631911B2 (en) | 2010-07-22 | 2020-04-28 | Plasma Surgical Investments Limited | Volumetrically oscillating plasma flows |
US12023081B2 (en) | 2010-07-22 | 2024-07-02 | Plasma Surgical, Inc. | Volumetrically oscillating plasma flows |
US11882643B2 (en) | 2020-08-28 | 2024-01-23 | Plasma Surgical, Inc. | Systems, methods, and devices for generating predominantly radially expanded plasma flow |
US12058801B2 (en) | 2020-08-28 | 2024-08-06 | Plasma Surgical, Inc. | Systems, methods, and devices for generating predominantly radially expanded plasma flow |
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