JPS62122127A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS62122127A JPS62122127A JP60262098A JP26209885A JPS62122127A JP S62122127 A JPS62122127 A JP S62122127A JP 60262098 A JP60262098 A JP 60262098A JP 26209885 A JP26209885 A JP 26209885A JP S62122127 A JPS62122127 A JP S62122127A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- focus
- shielding plate
- pattern
- intensity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は縮小型投影露光装置（以下、ステッパーという
）の縮小レンズと被露光対象物とのギャップを一定に保
つ高さ測定機構と、縮小レンズの実際のフォーカスとの
一致を確認する機構に関する。
）の縮小レンズと被露光対象物とのギャップを一定に保
つ高さ測定機構と、縮小レンズの実際のフォーカスとの
一致を確認する機構に関する。
従来、この種のステッパーのフォーカス位置はレチクル
のパターンを露光、現像し、そのパターンの切れ具合を
見て確認する方法によっており、その位置に被露光物表
面が常にくる様に被露光物の高さを常に監視しなければ
ならない。ところで、被露光物表面の高さを監視する高
さ測定機構と、縮小レンズのフォーカス位置は別々に変
動する要因があるため、レンズのフォーカス位置を確認
し、高さ測定機構の調整を頻繁に行っている。
のパターンを露光、現像し、そのパターンの切れ具合を
見て確認する方法によっており、その位置に被露光物表
面が常にくる様に被露光物の高さを常に監視しなければ
ならない。ところで、被露光物表面の高さを監視する高
さ測定機構と、縮小レンズのフォーカス位置は別々に変
動する要因があるため、レンズのフォーカス位置を確認
し、高さ測定機構の調整を頻繁に行っている。
上述した従来の露光装置では高さ調整機構と、縮小レン
ズの実際のフォーカスとが一致しているかどうかを確認
するのにわざわざ露光、現像しなくてはならなかったた
め、時間がかがシ、又レノスト及び現像状況によっても
パターンニングが影響され、パターンニング状況の判定
が左右されてしまうという欠点があった。
ズの実際のフォーカスとが一致しているかどうかを確認
するのにわざわざ露光、現像しなくてはならなかったた
め、時間がかがシ、又レノスト及び現像状況によっても
パターンニングが影響され、パターンニング状況の判定
が左右されてしまうという欠点があった。
本発明はステツノ＜？−の縮小レンズのフォーカス位置
と高さ測定機構でセットする高さと全容易に一致させる
ことができる露光装置を提供するものである。
と高さ測定機構でセットする高さと全容易に一致させる
ことができる露光装置を提供するものである。
本発明は、移動調整可能なステージ上の被露光物にレチ
クルのパターンを露光する露光装置において、レチクル
のパターンを透過した光を受光する光電変換素子を前記
ステージ上に設け、該光電変換素子を遮光板で覆い、か
つ光電変換素子の真上を覆う遮光板に透孔を設けたこと
を特徴とする露光装置である。
クルのパターンを露光する露光装置において、レチクル
のパターンを透過した光を受光する光電変換素子を前記
ステージ上に設け、該光電変換素子を遮光板で覆い、か
つ光電変換素子の真上を覆う遮光板に透孔を設けたこと
を特徴とする露光装置である。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図において、ステージＳの直上にスリットパターン
１ａ・・・を有するレチクル１及び縮小レンズ２が設置
されている。ステージＳは左右方向に移動可能になって
いる。
１ａ・・・を有するレチクル１及び縮小レンズ２が設置
されている。ステージＳは左右方向に移動可能になって
いる。
本発明はレチクル１のスリットパターン１ａを透過した
光を受光する光電変換素子としての太陽電池４をステー
−）Ｓ上に備え、太陽電池４を遮光板３によシ覆い、か
つ太陽電池４の真上を覆う遮光板３にスリット３ａを開
口したものである。５は高さ測定機構の光源、６は高さ
測定機構の検出センサである。
光を受光する光電変換素子としての太陽電池４をステー
−）Ｓ上に備え、太陽電池４を遮光板３によシ覆い、か
つ太陽電池４の真上を覆う遮光板３にスリット３ａを開
口したものである。５は高さ測定機構の光源、６は高さ
測定機構の検出センサである。
レチクルｌの上方から光を当てると、遮光板３上に縮小
レンズ２により縮小されたレチクル１のパターン１ａが
投影される。第２図は、第１図のレチクルの縮小された
パターンが遮光板３上に投影されている状態を示す断面
図である。投影されているパターンｌａ’はわかシやす
い様に遮光板３の上部から少し離して図示しである。第
２図において、ステンＡ’−のステージＳを左右に動か
し、太陽電池４より出力を取り出す。その光強度の様子
を第３図に示す。グラフの横軸りはステージの動きを示
し、縦軸Ｅは太陽電池４からの出力を示している。グラ
フ上の図は、第２図でのＡ領域を拡大して示したもので
あり、投影されたパターン１ａと、遮光板３のスリブ）
３ａとの位置関係を示しておシ、それぞれの位置と出
力関係を対比させている。さらに遮光板３のスリブ）
３ａの位置が縮小レンズ２のフォーカス位置に一致する
かどうかによって投影されたパターンの光強度は第４図
に示す様になる。第４図は、投影されたパターンの明部
を領域７、暗部を斜線部領域８で示し、光強度をＥで表
わしである。この時、フォーカスが合っていれば、９の
様に明暗の光強度の変化は急激であるが、フォーカスが
合って１／−１なければ１０の様になだらかである。
レンズ２により縮小されたレチクル１のパターン１ａが
投影される。第２図は、第１図のレチクルの縮小された
パターンが遮光板３上に投影されている状態を示す断面
図である。投影されているパターンｌａ’はわかシやす
い様に遮光板３の上部から少し離して図示しである。第
２図において、ステンＡ’−のステージＳを左右に動か
し、太陽電池４より出力を取り出す。その光強度の様子
を第３図に示す。グラフの横軸りはステージの動きを示
し、縦軸Ｅは太陽電池４からの出力を示している。グラ
フ上の図は、第２図でのＡ領域を拡大して示したもので
あり、投影されたパターン１ａと、遮光板３のスリブ）
３ａとの位置関係を示しておシ、それぞれの位置と出
力関係を対比させている。さらに遮光板３のスリブ）
３ａの位置が縮小レンズ２のフォーカス位置に一致する
かどうかによって投影されたパターンの光強度は第４図
に示す様になる。第４図は、投影されたパターンの明部
を領域７、暗部を斜線部領域８で示し、光強度をＥで表
わしである。この時、フォーカスが合っていれば、９の
様に明暗の光強度の変化は急激であるが、フォーカスが
合って１／−１なければ１０の様になだらかである。
このことから、第３図のグラフは、遮光板３の位置がレ
ンズのフォーカス位置であれば、三角波になり、フォー
カス位置からずれていれば、三角波の山と谷の部分に丸
味をおびてくる。その変化によって縮小レンズのフォー
カス位置を明確にし、高さ測定機構をその高さにセット
させることができる。第５図は、本発明第２の実施例で
あり、第２図ではスリブ） ３ａを遮光板３に設けたが
、本実施例ではピンホールｌｌａを遮光板１１に設けで
ある。
ンズのフォーカス位置であれば、三角波になり、フォー
カス位置からずれていれば、三角波の山と谷の部分に丸
味をおびてくる。その変化によって縮小レンズのフォー
カス位置を明確にし、高さ測定機構をその高さにセット
させることができる。第５図は、本発明第２の実施例で
あり、第２図ではスリブ） ３ａを遮光板３に設けたが
、本実施例ではピンホールｌｌａを遮光板１１に設けで
ある。
７．８は投影されているレチクルパターンの明部及び暗
部である。
部である。
この場合、遮光板１１の位置がレンズのフォーカス位置
にあれば第６図に示す様に太陽電池４の出力波形は正弦
波であるが、フォーカス位置からずれた場合には、山と
谷の部分はさらに丸味を持つ。
にあれば第６図に示す様に太陽電池４の出力波形は正弦
波であるが、フォーカス位置からずれた場合には、山と
谷の部分はさらに丸味を持つ。
その変化を観察することで高さ測定機構をセットするこ
とができる。
とができる。
尚、遮光板３，１１にあるスリブ） ３ａの巾、又はピ
ンホールｌｌａの直径の大きさは投影されるスリットの
線巾と間隔に比べ小さければ、波形はそれぞれ異なるが
、この場合でも本発明の目的を達することができる。
ンホールｌｌａの直径の大きさは投影されるスリットの
線巾と間隔に比べ小さければ、波形はそれぞれ異なるが
、この場合でも本発明の目的を達することができる。
光を光電変換素子により受光し、その光変化に基いてス
テッパーの縮小レンズのフォーカス位置ト高さ測定機構
でセットする高さとを容易に一致させることができる効
果がある。
テッパーの縮小レンズのフォーカス位置ト高さ測定機構
でセットする高さとを容易に一致させることができる効
果がある。
第１図は本発明の一実施例を用いたステッパー断面図、
第２図は第１図の遮光板及び太陽電池の関係を示す拡大
断面図、第３図は第２図のＡ領域での投影されたレチク
ルパターンとスリットの位置関係によシスリットから入
射する光強度の状態を示す図、第４図は縮小レンズのフ
ォーカス位置の合っている場合と合っていない場合の投
影ノやターンの明部、暗部における光強度の状態を示す
図、第５図は本発明の第２の実施例を示す平面図、第６
図はピンホール部から入射する光強度の状態を第３図と
同じ様に投影パターンとの位置関係によシ示す図である
。 １・・・スリットツクターンを有するレチクル、２・・
・縮小レンズ、３，１１・・・遮光板、３ａ・・・スリ
ット、４・・・太陽電池（光電変換素子）、ｌｌａ・・
・ピンホール。
第２図は第１図の遮光板及び太陽電池の関係を示す拡大
断面図、第３図は第２図のＡ領域での投影されたレチク
ルパターンとスリットの位置関係によシスリットから入
射する光強度の状態を示す図、第４図は縮小レンズのフ
ォーカス位置の合っている場合と合っていない場合の投
影ノやターンの明部、暗部における光強度の状態を示す
図、第５図は本発明の第２の実施例を示す平面図、第６
図はピンホール部から入射する光強度の状態を第３図と
同じ様に投影パターンとの位置関係によシ示す図である
。 １・・・スリットツクターンを有するレチクル、２・・
・縮小レンズ、３，１１・・・遮光板、３ａ・・・スリ
ット、４・・・太陽電池（光電変換素子）、ｌｌａ・・
・ピンホール。
Claims (1)
- （１）移動調整可能なステージ上の被露光物にレチクル
のパターンを露光する露光装置において、レチクルのパ
ターンを透過した光を受光する光電変換素子を前記ステ
ージ上に設け、該光電変換素子を遮光板で覆い、かつ光
電変換素子の真上を覆う遮光板に透孔を設けたことを特
徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60262098A JPS62122127A (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60262098A JPS62122127A (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62122127A true JPS62122127A (ja) | 1987-06-03 |
Family
ID=17371006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60262098A Pending JPS62122127A (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62122127A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58179834A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-21 | Canon Inc | 投影露光装置及び方法 |
| JPS5918950A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-31 | パ−キン−エルマ−・ツエンゾ−ル・アンシユタルト | 加工片上へのマスクの投影転写装置およびその調整方法 |
-
1985
- 1985-11-21 JP JP60262098A patent/JPS62122127A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58179834A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-21 | Canon Inc | 投影露光装置及び方法 |
| JPS5918950A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-31 | パ−キン−エルマ−・ツエンゾ−ル・アンシユタルト | 加工片上へのマスクの投影転写装置およびその調整方法 |
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