JPS62119762A - 光磁気デイスク装置 - Google Patents

光磁気デイスク装置

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JPS62119762A JP60258535A JP25853585A JPS62119762A JP S62119762 A JPS62119762 A JP S62119762A JP 60258535 A JP60258535 A JP 60258535A JP 25853585 A JP25853585 A JP 25853585A JP S62119762 A JPS62119762 A JP S62119762A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気ディスク装置に係り、特に小さな起磁
力、小型の電磁コイルで記録、消去時に必要な補助外部
磁場を印加することができる光磁気ディスク装置に関す
る。
〔従来の技術〕
従来の、光磁気ディスク装置の外部磁場印加方式として
は、「アモルファス、スインフィルムディスク フォー
 マグネトオプティカルメモリ」”Amorphous
 thin film disk for magne
to opticalmemory”5PIE Vo 
Q 329°pp2080ptical DiscTe
chnology 1982記載の方式を挙げることが
できる。
この装置は第9図に示すように記録、再生光学系11と
電磁コイル10から構成されており、電磁コイル10は
ディスク1を挟んで絞り込みレンズ5と対向させて設置
されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕 この装置における外部磁場印加方式では第10図に示す
ように電磁コイル10が磁心101に巻線102を巻い
たのみ、あるいは巻線のみの形状をしているため、磁力
線分布103は広い空間に広がってしまい、ディスク上
の記録膜100に印加される外部磁VJIHexhの効
率が悪く、必要な磁場強度を得るために大きな起磁力が
必要となる。これは電磁コイルを小型化、低電力化する
上で問題であった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは、従来の外部磁場印加方式における上述の
如き問題を解消し、小さな起磁力で必要な磁場強度が得
られる小型かつ低電力の外部磁場印加方式を採用した光
磁気ディスク装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の目的は、電磁コイルに対向させて磁性体を配置す
ることによって、光スポットが絞り込まれるディスク面
上付近に磁場を集中させ、さらに電磁コイルの磁心材料
を巻線の外側にも配置することによって、達成される。
〔作用〕
電磁コイルに対向させて磁性体を配置すると、該電磁コ
イルで発生した磁場は該磁性体上に集中する。さらに、
該電磁コイル巻線の外側に磁心材料を配置し1巻線を磁
心材料中に埋め込んだ形状をとると、磁場が分布する空
間が少なくなるため、磁場の発生効率が向上し、小さな
起磁力でも大きな磁場を得ることができる。
〔実施例〕
以下、実施例とともに本発明を説明する。
第1図は本発明の光磁気ディスク装置の基本構成を示し
た図である。第1図において、1は光磁気ディスクであ
り、磁気光学効果を持つ垂直磁化膜を有している。半導
体レーザ2から出射された光はコリメートレンズ3によ
って平行光束に変換され、ビームスプリッタ4を介して
、絞り込みレンズ5に入射させ、ディスク1上に微小ス
ポットを形成する。絞り込みレンズ5はディスク1の上
下振れに追従して上下されるようにボイスコイル6に取
り付けられている。ディスク1からの反射光は、絞り込
みレンズ5を通ってビームスプリッタ4によって分離さ
れ、検光子7に導かれる。検光子7は、成る特定の偏光
面の光のみを通過させる性質を有している。したがって
ディスク1上の垂直磁化の上下方向に対応して、偏光面
の回転した光は、この検光子7によって、光量変化に変
換される。この後、レンズ8により光検出器9に集光さ
れ、電気信号に変換される。
情報を記録するには、半導体レーザ2を、情報信号に対
応して変調し、ディスク1上の垂直磁化膜の温度を局所
的に、キュリ一温度以上に加熱し、磁化を失なったとこ
ろへ、外部から、記録磁場を印加して行う。消去は、外
部磁場の方向を記録とは逆にして行う、外部磁場は、電
磁コイル10により発生する。さらに、電磁コイルに対
向させて赳 磁性体17が配置させている。第1図は本発明の一実施
例であり、電磁コイル形状および磁性体の配置としては
、後述する種々の構成をとることができる。
光へラド11は、情報の記録位置に、光スポットを位置
付けるためにディスクの半径方向に移動できるようにな
っている。この移動距離、あるいは現在位置は、モワレ
スケール13等によって知ることができる。第1図の倒
では、透過形スケールの場合を示しており、発光′d!
A12と、光検知器14によりモワレスケール13を挟
み込み、スケ−ルのパターン数を計数することにより位
置を認識する。15は、計数回路である。計数回路15
によって現在の光ヘッドの位置を知ることにより、ドラ
イブ回路16を動作させ、光ヘッドを所望の位置に移動
させる。
本実施例では電磁コイル1oの設置方法について特に図
示していないが1例えば、ディスクカバーの裏面に固定
設置するか、または可動式アームに設置し、ディスク着
脱時には、邪魔にならないようにディスクの上面から外
へ移動できるようにしておくのが良い。
さて、第2図を用いて電磁コイル10の構成を詳しく説
明する。Wt磁ココイル10例えばフエラル形状では、
磁力線の分布する空間が広く、コイルに電流を流すこと
によって得られる磁場のエネルギーが広い空間に分散し
てしまうため、ディスク上の記録膜に印加される磁場強
度は小さい。同一の起磁力でより大きな磁場強度を得る
ためには磁力線の分布する空間を少なくする必要がある
ディスクに対して垂直方向の磁場成分Hew上を減少さ
せることなく、磁力線分布の空間を少なくするためには
、第2図(a)に示すように巻線の周囲を磁心で囲む構
造をとればよい。これにより、磁力線の分布する空間は
同図のように小さくなるため、磁場のエネルギー密度が
増加し、小さな起磁力、あるいは小さな駆動電流で必要
な強度の磁場を得ることができる。さらに、磁心先端部
分を鋭がらせることによってその部分に磁場を集中させ
る構造として同図(b)〜(d)なども考えられる。
次に第3図を用いて、f/1磁コ磁片イル性体の配置に
ついて詳しく説明する。これは絞り込みレンズ5の鏡筒
502を磁性体で形成した場合である。
この時電磁コイル2で発生した磁場は絞り込みレンズの
鏡筒502に集中させるため記録膜100に印加される
磁場のディスク面に垂直方向成分の強度は、レンズ鏡筒
が磁性体でない場合よりも大きくなる。
第4図に電磁コイルと磁性体の配置に関する他の例を示
す。これは絞り込みレンズ501上に例えば塗布あるい
は蒸着などによって磁性体層17を形成した例である。
例えば光透過性をもった強磁性の多成分ガラスをレンズ
表面に塗布してもよい。また光透過性のない強磁性体の
場合は同図(b)のようにレンズのふちに蒸着すること
によって磁性体層を形成することができる。
第5図に電磁コイルと磁性体の配置に関するさらに他の
例を示す。これは絞り込みレンズ501自体を例えば前
述の、光透過性のある強磁性多成分ガラスを用いて形成
した例である。
第6図に電磁コイルと磁性体の配置に関するさらに別の
例を示す、これは絞り込みレンズアクチュエータの上ぶ
た部分601を磁性体で形成した例である。この場合、
上ぶたに磁性体を、例えば塗布あるいは蒸着などの方法
によって形成させても良い、この構成を用いれば、絞り
込みレンズを動かすためにアクチュエータ内部に設置さ
れている磁石からの漏れ磁場に遮蔽することもできる。
第7図に電磁コイルと磁性体の配置に関するさらに他の
例を示す、これは記録膜100を挟んで電磁コイル10
と対向する側のディスク面に透明な強磁性体層17を形
成した例である。またこの場合強磁性体層17は記録膜
100に接していてもかまわない、さらに、ディスク基
板自体を透明な強磁性体で形成しても良い。
以上の説明では、電磁コイルの大きさについては何ら制
限を加えていないが、以下に示すようにディスク半径方
向に細長に構成を用いてもかまわない。
第8図(a)は光磁気ディスク装置をディスク1の面に
垂直な方向から見た図である。ディスク半径方向に細長
い電磁コイル10を、ディスク1を挟んで絞り込みレン
ズ5と対向させて配置する。
同図(b)は断面AA’を示している。電磁コイル10
の半径方向の長さLは、記録領域すなわち絞り込みレン
ズの移動領域全体に均一な磁場が印加される様な長さで
ある。また同図(c)は断面BB’を示しており、電磁
コイルの幅Qは、スポットが絞り込まれる位置におれる
BB’方向の磁場強度が均一になる様に選定される0以
上の様な構成をとることにより、絞り込みレンズの移動
に伴ない電磁コイルを移動させる必要がなくなり。
光ヘッドの高速アクセスが可能となる。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明によれば、記録膜を挟んで電
磁コイルと対向する位置に強磁性体が配置されているた
め、電磁コイルで発生する磁場が光スポットの絞り込ま
れる位置付近に集中する。
さらに、電磁コイルの巻線外側にも磁心材料を設置する
ことによって、磁場の分布する空間が小さくなり、磁場
のエネルギー密度が高くなるために、少ない起磁力で必
要な磁場強度を得ることができ、外部磁場発生用電磁コ
イルの小型化、低電力化が実現できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の全体構成図、第2図は第1
図における電磁コイルの形状を示す図、第3図及至第7
図は各々第1図における磁性体の設置方法を示す図、第
8図は第1図における電磁コイル設置方法の一例を示す
図、第9図は従来のけ 光磁気ディスク装置にお状る外部磁場印加方式を示す図
、第10図は第9図における電磁コイルの磁力線分布を
示す図である。 1・・・ディスク、2・・・半導体レーザ、5・・・絞
り込みレンズ、6・・・アクチュエータ、10・・・電
磁コイル、17・・・磁性体、1oO・・・記録膜、1
01・・・磁心、102・・・巻線、103・・・磁力
線、502・・・鏡、601・・・アクチュエータ上ぶ
た。 f 1  図 篤 2 図 /ρ2 ′fJ J 図 5I/ ■ 4 図 f 5 口 tρ2 ¥J 6 図 冨 g  口 不 7  図 Tq図 罵lθ図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、磁気光学効果を利用した光磁気ディスク装置であつ
    て、情報の記録および消去を行なう際の補助外部磁場発
    生用の電磁コイルに対向させて、磁性体を設置したこと
    を特徴とする光磁気ディスク装置。 2、上記磁性体が絞り込みレンズの鏡筒であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の光磁気ディスク装
    置。 3、上記磁性体が絞り込みレンズ上に形成された磁性体
    層であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    光磁気ディスク装置。 4、絞り込みレンズ自体を透明な磁性体によつて形成し
    たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光磁気
    ディスク装置。 5、上記磁性体が絞り込みレンズアクチュエータの上ぶ
    たであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    光磁気ディスク装置。 6、上記磁性体がディスク上に形成された磁性体層であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光磁気
    ディスク装置。 7、上記電磁コイルとして、ディスクの半径方向に細長
    くかつ該ディスク上において情報を記録する領域全てに
    均一な磁場が印加される様な長さをもつた1個の電磁コ
    イルを設け、該電磁コイルを該ディスクを挟んで、光ス
    ポット照射用レンズアクチュエータと対向させて配置し
    たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光磁気
    ディスク装置。 8、上記電磁コイルは磁心と巻線から成り、該磁心が巻
    線の周囲にも配置されていることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の光磁気ディスク装置。
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