JPS62119124A - ガラスの製造方法 - Google Patents

ガラスの製造方法

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Publication number
JPS62119124A
JPS62119124A JP25817885A JP25817885A JPS62119124A JP S62119124 A JPS62119124 A JP S62119124A JP 25817885 A JP25817885 A JP 25817885A JP 25817885 A JP25817885 A JP 25817885A JP S62119124 A JPS62119124 A JP S62119124A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sol
time
dispersion
silica particles
hydrolysis
Prior art date
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Pending
Application number
JP25817885A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiko Yajima
矢島 明彦
Sadao Kanbe
貞男 神戸
Motoyuki Toki
元幸 土岐
Satoru Miyashita
悟 宮下
Hirohito Kitabayashi
北林 宏仁
Tetsuhiko Takeuchi
哲彦 竹内
Yoshihiro Nakajima
好啓 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP25817885A priority Critical patent/JPS62119124A/ja
Publication of JPS62119124A publication Critical patent/JPS62119124A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はゾル−ゲル法による石英ガラスの製造方法に関
する。
〔発明の概要〕
ゾル−ゲル法による石英ガラスの製造方法とは金属アル
コキシドや、シリカ微粒子を原料とし、ゲル化し乾燥さ
せてドライゲルとし焼結するものである。
本発明は、ゾル−ゲル法による石英ガラスの製造方法に
おいて、ゾール調整工程の原料投入時から、攪拌と超音
波照射を併用しながら加水分解反応を行うことにより、
反応を促進させ、さらに混合したシリカ微粒子の分散を
も同時進行させるため、効率的であり、プロセスの時間
短縮を可能にしたものである。
〔従来の技術〕
従来のゾル−ゲル法による石英ガラスの製造方法は、(
特開昭58−237577)の様にゾル調整工程におい
て加水分解終了後、超音波照射を行ったものであった。
〔発明から解決しようとする問題点及び目的〕しかし、
前述の従来技術では、加水分解反応終了後、超音波照射
を行なうため、効率が悪く、また分散にも時間がかかっ
た。
そこで本発明はこのような問題を解決するものでその目
的とするところは、原料投入時から、攪拌に超音波分散
を併用し、分散の効率化、プロセスの時間的短縮を提供
するところにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点を解決するために、本発明の石英ガラスの製
造方法は、ゾル調整工程の原料投入時から、攪拌と超音
波分散を併用しながら加水分解反応を行うことを特徴と
する。
〔作用〕
本発明の上記の構成によれば、加水分解反応の促進、微
粒子分散の効率化によるプロセスの時間的短縮が可能で
ある。また、従来の方法によればアルユキシド、水およ
びシリカ微粒子と触媒としての塩酸を混合し加水分解反
応させたあと、超音波照射を行っていたが、加水分解が
発熱反応であるため、シリカ微粒子の疑集がおこってし
まい後工程である分散時の条件が悪くなっていた。しか
し、本発明によれば、加水分解中に超音波を照射するた
め、反応中の粒子の疑集を防ぐ効果がある。
また、さらに超音波を照射することにより、加水分解反
応が促進されるという効果もある。
〔実施例〕
エチルシリケート14.6kg、水10.7kgおよび
塩酸11 gをSUS容器中で攪拌し、これに微粉末シ
リカ(Aerosil  0X−50+ デグサ社製)
5kgを加えた。超音波振動子をSUS容器の底面に接
する様に、2基置いた。直ちに超音波を最大出力で照射
しはじめ、同時に激しく攪拌した。加水分解反応であり
、しかも超音波振動子自体も発熱するため、冷却しなが
ら反応を行った。
加水分解反応終了後(ピーク温度経過後)、分散効率を
上げるため、低速攪拌を断続しながら超音波照射を6時
間行なった。ゾル温度は25℃〜30℃に保った。ゾル
中のシリカ微粒子の平均粒子径は加水分解反応終了時で
0.19μm1分散工程終了時で0.15μmであった
更に得られたゾル溶液を遠心分離機にとり、350Gの
遠心力で1時間処理し、粗粒および不純物を分離した後
、うわずみ液を濾過した。濾過は10μm、7μm、3
μm、1μm、メンプラン5μmの順で行った。
得られたゾル溶液を0.1規定アンモニア水を加えるこ
とにより、pH3,8に調整してから、さらに遠心処理
を350Gで30 m i n行った。
うわずみ液をとり、メンプラン5μmのフィルターで処
理した後、ポリプロピレン製容器(30CIIX20c
mX10cm)に600 m A仕込んだ。三日間密閉
状態で放置したところ、線収縮率で5%程収縮した。続
いて、開口率0.5%の穴のあいたふたに換え、55℃
の乾燥室で乾燥を始めた。20日間この状態で乾燥を行
った。
得られた乾燥ゲルを雰囲気炉に仕込み、昇温速度50℃
/時で300℃まで昇温し五時間保持して脱水を行った
。再び昇温速度60℃/時で1050℃まで昇温し、炉
内をヘリウム雰囲気にかえ、5時間保持した0次に同じ
昇温速度で1100℃に昇温し、10時間保持し、11
50℃に昇温し、15時間保持した。さらに、1175
℃、1200℃に昇温し、それぞれ10時間保持した後
、1250℃に昇温し、1時間保持し、自然放冷した。
得られた石英ガラス前駆体を大気炉に入れ、200℃/
時で1100℃に昇温した後、90’C/時で1350
℃まで昇温し、2時間保持した。次にOFF状態で12
00℃まで降lユさせ、さらに60℃/時で1000℃
まで降温させた後、自然放冷したところ、石英ガラスが
得られた。
〔発明の効果〕
本発明は以上説明したように、ガラスの製造において、
ゾル調整工程の原料投入時から攪拌と超音波を併用しな
がら加水分解反応および分散を行うことにより、反応を
促進させ、さらに混合したシリカ微粒子の分散をも同時
進行させるため、効率的であり、プロセスの時間的短縮
を可能にしたものである。
以  上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 少なくとも微粒子を用いるゾル−ゲル法によるガラスの
    製造方法において、原料投入時から攪拌と超音波照射を
    用いながら加水分解反応から分散までを行うことを特徴
    とするガラスの製造方法。
JP25817885A 1985-11-18 1985-11-18 ガラスの製造方法 Pending JPS62119124A (ja)

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Cited By (4)

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